JPH07188219A - 環状アセタールおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【目的】 種々の置換サリチル酸誘導体の提供。 【構成】 一般式Ｉの環状アセタールならびにその製造
法。 〔式中ＹはＯ又はＳであり；ＡはＯＨ、ハロゲン、Ｏ−
ＳＯ_２Ｒ^３，Ｏ−ＳＯ_２ＦＣＮ，ＮＯ_２，ＣＨＯ、フェ
ニル基、４個までのヘテロ原子を有する５員もしくは６
員のヘテロ芳香環基、Ｃ_１〜Ｃ_８−アルキル基、Ｃ_３〜
Ｃ_８−シクロアルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_４−アルコキシ基等
であり；Ｒ^１，Ｒ^２はＨ，Ｃ_１〜Ｃ_４−アルキル基、フ
ェニル基、もしくは両方の基が一緒になってＣ_２〜Ｃ_６
−アルキレン鎖であり；Ｒ^３はＣ_１〜Ｃ_４−（ハロ）ア
ルキル基である〕

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、次式Ｉの環状アセター
ルに関する。

【０００２】

【化２】

【０００３】式中、置換基は次の意味である：Ｒ¹ 、Ｒ
² は水素；Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルキル、この基はそれぞれ１
〜５個のハロゲン原子および／または１〜２個のＣ₁ 〜
Ｃ₄ −アルコキシ基を有することができ；フェニル、こ
の基はそれぞれ１〜５個のハロゲン原子および／または
１〜２個のＣ₁ 〜Ｃ₄ −アルキル、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルコ
キシ、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −ハロゲンアルキルまたはニトロの各
基を有することができ；さらに、両方の基は一緒になっ
て、１〜５個のハロゲン原子および／またはＣ₁ 〜Ｃ₄
−アルキル基により置換されていてもよいＣ₂ 〜Ｃ₆ −
アルキレン鎖であることができ；Ｙは酸素または硫黄；
Ａは基Ａ¹ 〜Ａ⁶ ；Ａ¹ はヒドロキシ；Ａ² はハロゲン
原子、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −ハロゲンアルキルスルホニルオキ
シ、Ｃ₁ 〜Ｃ₄−アルキルスルホニルオキシまたはフル
オルスルホニルオキシ；Ａ³ はシアノ、ニトロ、ホルミ
ル；Ａ⁴ はフェニル環、または５個までの基Ｒ³¹〜Ｒ³⁵
により置換されていてもよい環中に窒素、硫黄、酸素の
群から選ばれた４個までのヘテロ原子を有する５員もし
くは６員の飽和または不飽和の複素環；ナフチル、また
は５個までの基Ｒ³¹〜Ｒ³⁵により置換されていてもよい
環中に窒素、硫黄、酸素の群から選ばれた１〜３個のヘ
テロ原子を有するベンゾ縮合した５員もしくは６員のヘ
テロ芳香族環；Ａ⁵ は７個までの置換基Ｒ³¹〜Ｒ³⁷を有
していてもよい、Ｃ₂ 〜Ｃ₆ −アルケニル、Ｃ₃ 〜Ｃ₈
−シクロアルケニル、Ｃ₅ 〜Ｃ₈ −シクロアルカジエニ
ルまたはＣ₂〜Ｃ₆ −アルキニルの各基；Ａ⁶ は７個ま
での置換基Ｒ³¹〜Ｒ³⁷を有していてもよい、Ｃ₁ 〜Ｃ₈
−アルキル基またはＣ₃ 〜Ｃ₈ −シクロアルキル基；Ｒ
³¹、Ｒ³²、Ｒ³³、Ｒ³⁴、Ｒ³⁵、Ｒ³⁶、Ｒ³⁷は ａ）１〜３個のＣ₁ 〜Ｃ₄ −アルキル基を有することが
できるＣ₃ 〜Ｃ₈ −シクロアルキル基； ｂ）１〜５個のハロゲン原子および／または１種の次の
基：Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルコキシ、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −ハロゲンア
ルコキシ、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルキルチオ、シアノ、Ｃ₃ 〜
Ｃ₈ −シクロアルキルまたはジ−Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルキル
アミノを有することができるＣ₁ 〜Ｃ₈ −アルキル基； ｃ）１〜５個のハロゲン原子および／または１種の次の
基：Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルコキシ、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −ハロゲンア
ルコキシ、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルキルチオ、Ｃ₃ 〜Ｃ₈ −シ
クロアルキルまたはジ−Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルキルアミノを
有することができる、Ｃ₁ 〜Ｃ₈ −アルコキシ基または
Ｃ₃ 〜Ｃ₅ −シクロアルコキシ基； ｄ）１〜５個のハロゲン原子および／または１種の次の
基：Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルコキシ、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −ハロゲンア
ルコキシ、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルキルチオ、Ｃ₃ 〜Ｃ₈ −シ
クロアルキルまたはジ−Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルキルアミノを
有することができるＣ₁ 〜Ｃ₄ −アルキルチオ基； ｅ）ジ−Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルキルアミノ基、ジ−Ｃ₁ 〜Ｃ
₄ −アルキルアミノオキシ基、Ｃ₅ 〜Ｃ₈ −シクロアル
カンイミノオキシ基またはＣ₁ 〜Ｃ₁₀−アルカンイミノ
オキシ基； ｆ）１〜５個のハロゲン原子および／または１種の次の
基：Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルコキシ、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −ハロゲンア
ルコキシまたはＣ₁ 〜Ｃ₄ −アルキルチオを有すること
ができるＣ₂ 〜Ｃ₆ −アルケニル基またはＣ₂ 〜Ｃ₆ −
アルキニル基； ｇ）水素； ｈ）ニトロ、ハロゲン、シアノ、トリ−Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −ア
ルキルシリル；ただし、Ｒ¹ およびＲ² の両方が水素を
意味するか、またはＲ¹ が水素でＲ²がフェニルを意味
するとき、Ａはヒドロキシ基ではない。

【０００４】

【従来の技術】上記の化合物は特に植物防護剤、例えば
従来技術（例えば独国特許出願公開第３９１９４３５
号、欧州特許出願公開第３４６７８９号、同第４９００
６０号、ＰＣＴ国際公開ＷＯ９３／０３０１７号、欧州
特許出願公開第２４９７０８号、同第２８７０７２号、
同第２８７０７９号および同第３１５８８９号）によれ
ば、良好な除草剤および／または生物調節剤作用を有す
る置換サリチル酸誘導体の製造のための中間体として用
いられる。しかし、この化合物はそれ自体でも良好な除
草剤効果を示す。

【０００５】１，３−ベンゾジオキソールおよびベンゾ
ジオキサン誘導体の製造法は、Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ａｂ
ｓｔｒａｃｔｓ ９１（２３）：１９３２３８ｕ（Ｌ．
Ｂｏｎｓｉｇｎｏｒｅ他、Ｒｅｎｄ．Ｓｅｍｉｎ．Ｓｃ
ｉ．Ｕｎｉｖ．Ｃａｇｌｉａｒｉ、４８巻、２７５〜２
８３頁、（１９７８年））に記載されている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、種々
の置換サリチル酸誘導体、例えば上記刊行物に記載され
る化合物を容易に得ること、およびこのような化合物の
自由に使用可能で有利な製造法を提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】この課題に対応して、前
記の環状アセタールＩを見出した。さらに、このアセタ
ールＩを生物活性な有効物質に変換する有利な方法を見
出した。さらにまた、本発明はアセタールＩ、この化合
物を含有する除草剤の化学的に特色のある製造法および
これを望ましくない植物成長を抑制するために使用する
ことにある。

【０００８】本明細書において、下記の置換基は好まし
くは次の意味である。

【０００９】Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルキル：メチル、エチル、
１−プロピル、２−プロピル、２−メチル−２−プロピ
ル、２−メチル−１−プロピル、１−ブチル、２−ブチ
ル； Ｃ₁ 〜Ｃ₈ −アルキル：Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルキル、ならび
にペンチル、１−メチルブチル、２−メチルブチル、３
−メチルブチル、１，２−ジメチルプロピル、１，１−
ジメチルプロピル、２，２−ジメチルプロピル、１−エ
チルプロピル、ヘキシル、１−メチルペンチル、２−メ
チルペンチル、３−メチルペンチル、４−メチルペンチ
ル、１，２−ジメチルブチル、１，３−ジメチルブチ
ル、２，３−ジメチルブチル、１，１−ジメチルブチ
ル、２，２−ジメチルブチル、３，３−ジメチルブチ
ル、１，１，２−トリメチルプロピル、１，２，２−ト
リメチルプロピル、１−エチルブチル、２−エチルブチ
ル、１−エチル−２−メチルプロピル； Ｃ₁ 〜Ｃ₂ −ハロゲンアルキル：フルオルメチル、ジフ
ルオルメチル、トリフルオルメチル、クロルジフルオル
メチル、ジクロルフルオルメチル、トリクロルメチル、
１−フルオルエチル、２−フルオルエチル、２，２−ジ
フルオルエチル、２，２，２−トリフルオルエチル、２
−クロル−２，２−ジフルオルエチル、２，２−ジクロ
ル−２−フルオルエチル、２，２，２−トリクロルエチ
ルおよびペンタフルオルエチル； Ｃ₁ 〜Ｃ₂ −ハロゲンアルコキシ：ジフルオルメトキ
シ、トリフルオルメトキシ、クロルジフルオルメトキ
シ、１−フルオルエトキシ、２−フルオルエトキシ、
２，２−ジフルオルエトキシ、１，１，２，２−テトラ
フルオルエトキシ、２，２，２−トリフルオルエトキ
シ、２−クロル１，１，２−トリフルオルエトキシおよ
びペンタフルオルエトキシ； Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルコキシ：メトキシ、エトキシ、プロポ
キシ、１−メチルエトキシ、ブトキシ、１−メチルプロ
ポキシ、１，１−ジメチルエトキシ、特にメトキシ、エ
トキシ、１−メチルエトキシ； Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルキルチオ：メチルチオ、エチルチオ、
プロピルチオ、１−メチルエチルチオ、ブチルチオ、１
−メチルプロピルチオ、２−メチルプロピルチオ、１，
１−ジメチルエチルチオ、特にメチルチオおよびエチル
チオ； Ｃ₃ 〜Ｃ₆ −アルケニル：２−プロペニル、２−ブテニ
ル、３−ブテニル、１−メチル−２−プロペニル、２−
メチル−２−プロペニル、２−ペンテニル、３−ペンテ
ニル、４−ペンテニル、１−メチル−２−ブテニル、２
−メチル−２−ブテニル、３−メチル−２−ブテニル、
１−メチル−３−ブテニル、２−メチル−３−ブテニ
ル、３−メチル−３−ブテニル、１，１−ジメチル−２
−プロペニル、１，２−ジメチル−２−プロペニル、１
−エチル−２−プロペニル、２−ヘキセニル、３−ヘキ
セニル、４−ヘキセニル、５−ヘキセニル、１−メチル
−２−ペンテニル、２−メチル−２−ペンテニル、３−
メチル−２−ペンテニル、４−メチル−２−ペンテニ
ル、３−メチル−３−ペンテニル、４−メチル−３−ペ
ンテニル、１−メチル−４−ペンテニル、２−メチル−
４−ペンテニル、３−メチル−４−ペンテニル、４−メ
チル−４−ペンテニル、１，１−ジメチル−２−ブテニ
ル、１，１−ジメチル−３−ブテニル、１，２−ジメチ
ル−２−ブテニル、１，２−ジメチル−３−ブテニル、
１，３−ジメチル−２−ブテニル、１，３−ジメチル−
３−ブテニル、２，２−ジメチル−３−ブテニル、２，
３−ジメチル−２−ブテニル、２，３−ジメチル−３−
ブテニル、１−エチル−２−ブテニル、１−エチル−３
−ブテニル、２−エチル−２−ブテニル、２−エチル−
３−ブテニル、１，１，２−トリメチル−２−プロペニ
ル、１−エチル−１−メチル−２−プロペニルおよび１
−エチル−２−メチル−２−プロペニル； Ｃ₃ 〜Ｃ₆ −アルキニル：２−プロピニル、２−ブチニ
ル、３−ブチニル、１−メチル−２−プロピニル、２−
ペンチニル、３−ペンチニル、４−ペンチニル、１−メ
チル−３−ブチニル、２−メチル−３−ブチニル、１−
メチル−２−ブチニル、１，１−ジメチル−２−プロピ
ニル、１−エチル−２−プロピニル、２−ヘキシニル、
３−ヘキシニル、４−ヘキシニル、５−ヘキシニル、１
−メチル−２−ペンチニル、１−メチル−３−ペンチニ
ル、１−メチル−４−ペンチニル、２−メチル−３−ペ
ンチニル、２−メチル−４−ペンチニル、３−メチル−
４−ペンチニル、４−メチル−２−ペンチニル、１，１
−ジメチル−２−ブチニル、１，１−ジメチル−３−ブ
チニル、１，２−ジメチル−３−ブチニル、２，２−ジ
メチル−３−ブチニル、１−エチル−２−ブチニル、１
−エチル−３−ブチニル、２−エチル−３−ブチニルお
よび１−エチル−１−メチル−２−プロピニル； ハロゲン：塩素、臭素、沃素、フッ素； Ｃ₃ 〜Ｃ₈ −シクロアルケニル：シクロプロペニル、シ
クロブテニル、シクロペンテニル、シクロヘキセニル、
シクロヘプテニル、シクロオクテニル、特に好ましくは
シクロペンテニル、シクロヘプテニルおよびシクロオク
テニル； Ｃ₅ 〜Ｃ₈ −シクロアルカジエニル：シクロペンタジエ
ニル、１，３−シクロヘキサジエニル、１，４−シクロ
ヘキサジエニル、１，３−シクロヘプタジエニル、１，
４−シクロヘプタジエニル、１，３−シクロオクタジエ
ニル、１，４−シクロオクタジエニル、１，５−シクロ
オクタジエニル； Ｃ₃ 〜Ｃ₈ −シクロアルキル：シクロプロピル、シクロ
ブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプ
チル、特に好ましくはシクロプロピル、シクロペンチル
およびシクロヘキシル； ジ−Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルキルアミノオキシ：ジメチルアミ
ノオキシ、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノオキシ、ジエ
チルアミノオキシ、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミノオ
キシ、Ｎ−エチル−Ｎ−プロピルアミノオキシ、ジプロ
ピルアミノオキシ、ジイソプロピルアミノオキシ、Ｎ−
イソプロピル−Ｎ−メチルアミノオキシ、Ｎ−エチル−
Ｎ−イソプロピルアミノオキシ、Ｎ−イソプロピル−Ｎ
−プロピルアミノオキシ、ジブチルアミノオキシ、ジ−
２−メチルプロピルアミノオキシ、ジ−１−メチルプロ
ピルアミノオキシ、Ｎ−ブチル−Ｎ−メチルアミノオキ
シおよび異性体、Ｎ−ブチル−Ｎ−エチルアミノオキシ
および異性体、Ｎ−ブチル−Ｎ−プロピルアミノオキシ
および異性体； Ｃ₁ 〜Ｃ₁₀−アルカンイミノオキシ：メタンイミノオキ
シ、エタンイミノオキシ、１−プロパンイミノオキシ、
２−プロパンイミノオキシ、１−ブタンイミノオキシ、
２−ブタンイミノオキシ、２−メチルプロパン−１−イ
ミノオキシ、１−ペンタンイミノオキシ、２−ペンタン
イミノオキシ、３−ペンタンイミノオキシ、３−メチル
ブタン−２−イミノオキシ、３−メチルブタン−１−イ
ミノオキシ、２−メチルブタン−１−イミノオキシ、
２，２−ジメチルプロパン−１−イミノオキシ、ヘキサ
ンイミノオキシおよび異性体、ヘプタンイミノオキシお
よび異性体、オクタンイミノオキシおよび異性体、ノナ
ンイミノオキシおよび異性体、デカンイミノオキシおよ
び異性体；特に極めて好ましいものは２−プロパンイミ
ノオキシ、２−ブタンイミノオキシ、２−ペンタンイミ
ノオキシ、３−ペンタンイミノオキシ、２−ヘキサンイ
ミノオキシ、３−ヘキサンイミノオキシおよび２，２−
ジメチルプロパン−１−イミノオキシ； Ｃ₅ 〜Ｃ₈ −シクロアルカンイミノオキシ：シクロペン
タンイミノオキシ、シクロヘキサンイミノオキシ、シク
ロヘプタンイミノオキシ、シクロオクタンイミノオキ
シ； ジ−Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルキルアミノ：ジメチルアミノ、Ｎ
−メチル−Ｎ−エチルアミノ、ジエチルアミノ、Ｎ−メ
チル−Ｎ−プロピルアミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−プロピル
アミノ、ジプロピルアミノ、ジイソプロピルアミノ、Ｎ
−イソプロピル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−
イソプロピルアミノ、Ｎ−イソプロピル−Ｎ−プロピル
アミノ、ジブチルアミノ、ジ−２−メチルプロピルアミ
ノ、ジ−１−メチルプロピルアミノ、Ｎ−ブチル−Ｎ−
メチルアミノおよび異性体、Ｎ−ブチル−Ｎ−プロピル
アミノおよび異性体； 最終生成物（例えばサリチル酸誘導体ＩＶ）の特定の用
途に関して、置換基が次の意味である式Ｉの化合物は中
間体として好ましい。

【００１０】Ｒ¹ 、Ｒ² は水素 Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルキル、この基はそれぞれ１〜５個のハ
ロゲン原子および／または１〜２個のＣ₁ 〜Ｃ₄ −アル
コキシ基を有することができ、特に極めて好ましくはメ
チルおよびエチルであり；フェニル、この基はそれぞれ
１〜５個のハロゲン原子および／または１〜２個のＣ₁
〜Ｃ₄ −アルキル、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルコキシ、Ｃ₁ 〜Ｃ
₄ −ハロゲンアルキル、特にＣ₁ 〜Ｃ₄ −ハロゲンアル
キルまたはニトロの各基を有することができ，極めて好
ましくはフェニルであり；さらに、両方の基は一緒にな
って、Ｃ₂ 〜Ｃ₆ −アルキレン鎖、例えば１，２−エチ
レン、１，３−プロピレン、１，４−ブチレン、１，５
−ペンチレンまたは１，６−ヘキセンの各基であること
ができ、これらの基は１〜５個のハロゲン原子および／
またはＣ₁ 〜Ｃ₄ −アルキル基により置換されていても
よく、極めて好ましくは１，４−ブチレン基および１，
５−ペンチレン基であり；Ａは基Ａ¹ 〜Ａ⁶ ；Ａ¹ はヒ
ドロキシ；Ａ² はハロゲン原子、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −ハロゲン
アルキルスルホニルオキシ、Ｃ₁ 〜Ｃ₄−アルキルスル
ホニルオキシまたはフルオルスルホニルオキシ；Ａ³ は
シアノ、ニトロ、ホルミル；Ａ⁴ はフェニル環、または
環中に窒素、硫黄、酸素の群から選ばれた４個までのヘ
テロ原子を有する５員もしくは６員の飽和または不飽和
の複素環、例えばフェニル、ピリジン−２−イル、ピリ
ジン−３−イル、ピリジン−４−イル、ピリミジン−２
−イル、ピリミジン−４−イル、ピリミジン−５−イ
ル、ピラジン−２−イル、ピリダジン−３−イル、ピリ
ダジン−４−イル、１，３，５−トリアジン−２−イ
ル、１，２，４−トリアジン−３−イル、１，２，４−
トリアジン−５−イル、１，２，４−トリアジン−６−
イル、１，２，４，５−テトラジン−３−イル、テトラ
ヒドロチオピラン−２−イル、テトラヒドロチオピラン
−３−イル、テトラヒドロチオピラン−４−イル、テト
ラヒドロピラン−２−イル、テトラヒドロピラン−３−
イル、テトラヒドロピラン−４−イル、ジヒドロピラニ
ル、ジヒドロチオピラニル、ピペリジン−２−イル、ピ
ペリジン−３−イル、ピペリジン−４−イル、モルホリ
ン−２−イル、モルホリン−３−イル、フラン−２−イ
ル、フラン−３−イル、２−チエニル、３−チエニル、
テトラヒドロフラン−２−イル、テトラヒドロフラン−
３−イル、２，３−ジヒドロフラン−３−イル、２，３
−ジヒドロフラン−２−イル、２，３−ジヒドロフラン
−４−イル、２，３−ジヒドロフラン−５−イル、３，
４−ジヒドロフラン−２−イル、３，４−ジヒドロフラ
ン−３−イル、２，３−ジヒドロチエン−３−イル、
２，３−ジヒドロチエン−２−イル、２，３−ジヒドロ
チエン−４−イル、２，３−ジヒドロチエン−５−イ
ル、３，４−ジヒドロチエン−２−イル、３，４−ジヒ
ドロチエン−３−イル、テトラヒドロチエン−２−イ
ル、テトラヒドロチエン−３−イル、２−ピロリル、３
−ピロリル、２−ピロリジニル、３−ピロリジニル、イ
ミダゾール−２−イル、イミダゾル−４−イル、イミダ
ゾル−５−イル、ピラゾル−３−イル、ピラゾル−４−
イル、ピラゾル−５−イル、１，２，３−トリアゾル−
４−イル、１，２，３−トリアゾル−５−イル、１，
２，４−トリアゾル−３−イル、１，２，４−トリアゾ
ル−５−イル、テトラゾル−５−イル、１，２，３−チ
アジアゾル−４−イル、１，２，３−チアジアゾル−５
−イル、１，２，５−チアジアゾル−３−イル、１，
３，４−チアジアゾル−２−イル、１，２，４−チアジ
アゾル−３−イル、１，２，４−チアジアゾル−５−イ
ル、１，２，３−オキサジアゾル−４−イル、１，２，
３−オキサジアゾル−５−イル、１，２，５−オキサジ
アゾル−３−イル、１，３，４−オキサジアゾル−２−
イル、１，２，４−オキサジアゾル−３−イル、１，
２，４−オキサジアゾル−５−イル、１，３−ジオキソ
ラン−２−イル、１，３−ジオキソラン−４−イル、
１，３−ジチオラン−２−イル、１，３−ジチオラン−
４−イル、オキサゾル−２−イル、オキサゾル−４−イ
ル、オキサゾル−５−イル、オキサゾリン−２−イル、
オキサゾリン−４−イル、オキサゾリン−５−イル、イ
ソオキサゾル−２−イル、イソオキサゾル−４−イル、
イソオキサゾル−５−イル、イソオキサゾリン−２−イ
ル、イソオキサゾリン−４−イル、イソオキサゾリン−
５−イル、チアゾル−２−イル、チアゾル−４−イル、
チアゾル−５−イル、チアゾリン−２−イル、チアゾリ
ン−４−イル、チアゾリン−５−イル、イソチアゾル−
２−イル、イソチアゾル−４−イル、イソチアゾル−５
−イル、イソチアゾリン−２−イル、イソチアゾリン−
４−イル、イソチアゾリン−５−イル、これらの基はそ
れぞれ５個までの置換基Ｒ³¹〜Ｒ³⁵により置換されてい
てもよく；ナフチル、または環中に窒素、硫黄、酸素の
群から選ばれた１〜３個のヘテロ原子を有するベンゾ縮
合した５員もしくは６員のヘテロ芳香族環、例えばベン
ゾフラニル、ベンゾチエニル、２，１，３−ベンゾチア
ジアゾリル、インドリル、インダゾリル、ベンゾトリア
ゾリル、１，２，３−ベンゾチアジアゾリル、ベンゾオ
キサゾリル、ベンゾイソオキサゾリル、ベンゾチアゾリ
ル、ベンゾイソチアゾリル、キノリニル、シンノリニ
ル、キノオキサリニル、フタラジニルまたはベンゾフロ
オキサニル、これらの基はそれぞれ５個までの置換基Ｒ
³¹〜Ｒ³⁵により置換されていてもよく；Ａ⁵ は７個まで
の置換基Ｒ³¹〜Ｒ³⁷を有していてもよいＣ₂ 〜Ｃ₆ −ア
ルケニル、Ｃ₃ 〜Ｃ₈ −シクロアルケニル、Ｃ₅ 〜Ｃ₈
−シクロアルカジエニルまたはＣ₂〜Ｃ₆ −アルキニル
の各基；Ａ⁶ は７個までの置換基Ｒ³¹〜Ｒ³⁷を有してい
てもよいＣ₁ 〜Ｃ₈ −アルキル基またはＣ₃ 〜Ｃ₈ −シ
クロアルキル基；Ｒ³¹、Ｒ³²、Ｒ³³、Ｒ³⁴、Ｒ³⁵、
Ｒ³⁶、Ｒ³⁷は ａ）１〜３個のＣ₁ 〜Ｃ₄ −アルキル基を有することが
できるＣ₃ 〜Ｃ₈ −シクロアルキル基； ｂ）１〜５個のハロゲン原子および／または１種の次の
基：Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルコキシ、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −ハロゲンア
ルコキシ、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルキルチオ、シアノ、Ｃ₃ 〜
Ｃ₈ −シクロアルキルまたはジ−Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルキル
アミノを有することができるＣ₁ 〜Ｃ₈ −アルキル基； ｃ）１〜５個のハロゲン原子および／または１種の次の
基：Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルコキシ、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −ハロゲンア
ルコキシ、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルキルチオ、Ｃ₃ 〜Ｃ₈ −シ
クロアルキルまたはジ−Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルキルアミノを
有することができる、Ｃ₁ 〜Ｃ₈ −アルコキシ基または
Ｃ₃ 〜Ｃ₅ −シクロアルコキシ基； ｄ）１〜５個のハロゲン原子および／または１種の次の
基：Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルコキシ、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −ハロゲンア
ルコキシ、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルキルチオ、Ｃ₃ 〜Ｃ₈ −シ
クロアルキルまたはジ−Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルキルアミノを
有することができるＣ₁ 〜Ｃ₄ −アルキルチオ基； ｅ）ジ−Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルキルアミノ基、ジ−Ｃ₁ 〜Ｃ
₄ −アルキルアミノオキシ基、Ｃ₅ 〜Ｃ₈ −シクロアル
カンイミノオキシ基またはＣ₁ 〜Ｃ₁₀−アルカンイミノ
オキシ基； ｆ）１〜５個のハロゲン原子および／または１種の次の
基：Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルコキシ、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −ハロゲンア
ルコキシまたはＣ₁ 〜Ｃ₄ −アルキルチオを有すること
ができるＣ₂ 〜Ｃ₆ −アルケニル基またはＣ₂ 〜Ｃ₆ −
アルキニル基； ｇ）水素； ｈ）ニトロ、ハロゲン、シアノ、トリ−Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −ア
ルキルシリル； Ｙは酸素または硫黄である。

【００１１】Ａ＝Ａ¹ 、Ａ² 、Ａ³ およびＡ⁶ を有する
環状アセタールの製造は、基礎となる６−ヒドロキシ安
息香酸（Ｙ＝Ｏ）または６−メルカプト安息香酸（Ｙ＝
Ｓ）と化合物Ｏ＝ＣＲ¹ Ｒ² とを酸性触媒の存在下に反
応して行われる：

【００１２】

【化３】

【００１３】この出発物質は一般に知られているか、ま
たは通常公知の方法で得ることができる。

【００１４】反応の際に生じる水を結合するために、そ
れが反応を促進するならば、脱水剤、例えばモルシー
ブ、酸無水物例えば無水トリフルオル酢酸、無水酢酸、
硫酸ナトリウム、塩化カルシウムを用いることができ
る。化合物Ｏ＝ＣＲ¹ Ｒ² の反応性アセタール、例えば
ジメチルアセタール、ジエチルアセタール、エチレンア
セタールまたはプロピレンアセタールも適当である。触
媒としては、特に酸性イオン交換体、プロトン酸例えば
トルエンスルホン酸、硫酸、りん酸等、またはルイス酸
例えば塩化アルミニウム、四塩化チタン、塩化亜鉛、塩
化カルシウム、塩化マグネシウム、塩化錫等が適する。
しばしば、生成した水またはアセタールから生成したア
ルコールは反応混合物から直接留去される。Ａ＝Ａ¹ で
ある環状アセタールはヒドロキシル基においてさらに変
性され、例えばスルホン酸無水物またはスルホン酸ハロ
ゲン化物と反応させられる（合成例参照）。

【００１５】Ａ＝Ａ⁴ またはＡ⁵ である環状アセタール
は、次の反応式に従って、触媒作用を有するパラジウム
化合物の存在下にＡ＝Ａ² である化合物Ｉと化合物Ｘ−
Ａ⁴またはＸ−Ａ⁵ とを反応させることにより特に有利
に得ることができる。

【００１６】

【化４】

【００１７】式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、ＹおよびＡ⁴ またはＡ
⁵ は前記の意味であり、Ａ² は、例えば塩素、臭素、沃
素、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −ハロゲンアルキルスルホニルオキシ、
特にトリフルオルメチルスルホニルオキシ、Ｃ₁ 〜Ｃ₄
−アルキルスルホニルオキシまたはフルオルメチルスル
ホニルオキシである。

【００１８】Ｘは、特にＡがＡ⁵ であるとき水素、トリ
アルキルスタンニル、例えばトリメチルスタンニル、ト
リエチルスタンニル、トリプロピルスタンニル、トリブ
チルスタンニル、トリペンチルスタンニルもしくはトリ
ヘキシルスタンニルのようなトリ−Ｃ₁ 〜Ｃ₈ −アルキ
ルスタンニル、ジヒドロキシボラニル、ジアルコキシボ
ラニル、例えばジメトキシボラニル、ジエトキシボラニ
ル、ジプロポキシボラニル、ジイソプロポキシボラニル
もしくはジブトキシボラニルのようなジ−Ｃ₁〜Ｃ₄ −
アルコキシボラニルまたは異性体またはアルキレンジオ
キシボラニル、例えばエチレンジオキシボラニルもしく
は１，３−プロピレンジオキシボラニルのようなＣ₁ 〜
Ｃ₄ −アルキレンジオキシボラニルを意味する。使用す
るホウ素化合物または錫化合物は公知であるかまたは公
知の化合物と同様にして製造することができる。

【００１９】このような新規方法において、触媒作用の
パラジウム化合物が用いられる。反応混合物に少なくと
も一部溶解する任意のパラジウム塩またはパラジウム錯
体が適当である。パラジウムの酸化段階は０または２に
なることができる。パラジウム塩においては、とりわけ
次の対イオン：塩化物、臭化物、沃化物、硫酸塩、酢酸
塩、トリフルオル酢酸塩、アセチルアセトナートまたは
ヘキサフルオロ−２，４−ペンタジオナートが挙げられ
る。多くの異なるパラジウム錯体を用いることができ
る。前提条件はただパラジウムの配位子が反応条件下で
基体から排除されえないことである。ホスフィン配位
子、例えばメチルジフェニルホスフィン、イソプロピル
ジフェニルホスフィン等のアリルアルキルホスフィン、
トリフェニルホスフィン、トリトリルホスフィン、トリ
キシリルホスフィン等のトリアリルホスフィン、トリフ
リルホスフィン等のヘトアリルホスフィン、または二量
体ホスフィンが特に適当である。オレフィン配位子、例
えば、とりわけジベンジリデンアセトンもしくはその
塩、シクロオクタ−１，５−ジエンまたはアミン、例え
ばトリアルキルアミン例えばトリエチルアミン、テトラ
メチルエチレンジアミン、Ｎ−メチルモルホリンまたは
ピリジンが適して良好である。

【００２０】用いる錯体は反応の際に直接装入すること
ができる。例えばテトラキストリフェニルホスフィンパ
ラジウム（０）、ビストリフェニルホスフィンパラジウ
ムジクロリド、ビストリフェニルホスフィンパラジウム
アセタート、ジベンジリデンアセトン−パラジウム
（０）錯体、テトラキスメチルジフェニルホスフィンパ
ラジウム（０）またはビス（１，２−ジフェニルホスフ
ィノエタン）パラジウムジクロリドを用いてそのように
行うことができる。また、パラジウム塩および加えてま
ずその場所で触媒活性錯体を形成する適当な配位子を用
いることができる。このような処理法は、例えば上記の
塩およびホスフィン配位子、例えばトリフリルホスフィ
ンもしくはトリトリルホスフィンの場合に考慮の対象と
なる。例えばトリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラ
ジウム、ビス（ジベンジリデンアセトン）パラジウムま
たは１，５−シクロオクタジエンパラジウムジクロリド
のようなパラジウム錯体を、トリフリルホスフィンもし
くはトリトリルホスフィン等の配位子の添加によりさら
に活性化することもできる。

【００２１】通常、化合物Ｘ−Ａ⁴ またはＸ−Ａ⁵ に対
して０．００１〜１０モル％、特に０．００５〜５モル
％のパラジウム化合物（塩または錯体）を使用する。よ
り多量に用いることも可能であるが、むしろ不経済とな
る。

【００２２】出発物質Ｉ−Ａ² （Ａ＝Ａ² であるＩ）に
対するＸ−Ａ⁴ またはＸ−Ａ⁵ の量は一般的に０．８〜
３、好ましくは０．９５〜１．５モル当量である。

【００２３】反応に対して、それ自身が使用基体と反応
しない全ての溶媒が適当である。極性溶媒は反応を促進
する。エーテル、例えばジエチルエーテル、メチル−ｔ
ｅｒｔ．−ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン、アミド、例えばジメチルホ
ルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリ
ドン、ジメチルプロピレン尿素、またはアミン、例えば
トリエチルアミンは特に適する。しばしば、混合物、例
えばエーテルとアミドの混合物、または上記の溶媒と水
もしくは脂肪族アルコールとの混合物を使用することが
有利である。テトラアルキルアンモニウムハロゲン化物
またはアルカリ金属ハロゲン化物、例えば塩化リチウム
の添加はしばしば有効であり、特にＡ² がスルホニルオ
キシ基であるとき勧めることができる。

【００２４】Ｘが水素であるとき、反応混合物に無機ま
たは有機塩基、例えば炭酸カルシウム、炭酸ナトリウ
ム、りん酸ナトリウム、りん酸カリウム、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、炭酸カルシ
ウム、ピリジン、トリエチルアミン等を添加するのがし
ばしば有利である。

【００２５】反応温度は−２０と２００℃の間、好まし
くは５０と１６０℃の間である。反応時間は通常数分と
５０時間の間、大抵は０．５〜１０時間である。低沸点
溶媒を使用する場合は、反応をオートクレブ中で自己圧
力のもとに実施するのが時として有益である。

【００２６】場合により、そのように得られたＡがＡ⁴
またはＡ⁵ である式Ｉの生成物はさらに反応させられ、
ＡがＡ⁴ またはＡ⁵ である式Ｉの他の中間体に変換する
ことができる。そこで、保護基を脱離させることが必要
となる。例えば、表１の化合物Ｎｏ．１．０１７はテト
ラブチルアンモニウムフルオリドの存在のもとに表１の
化合物Ｎｏ．１．００１からトリメチルシリル基を加水
分解脱離して製造することができる。

【００２７】Ａ＝Ａ⁴ である中間体Ｉの他の可能な製造
法は、次の反応式に従いジエン、ヘテロジエンまたは
１，３−双極子へＡ＝Ａ⁵ である環状アセタールＩを環
化付加して行われる：

【００２８】

【化５】

【００２９】Ａ⁵ に対しては前記のアルケンおよびアル
キンが挙げられ、極めて好ましくはビニルおよびエチニ
ルである。

【００３０】（ヘテロ）ジエン成分および可能な１，３
−極性化合物に関しては、Ｇ．Ｍａｒｃｈ、Ａｄｖａｎ
ｃｅｄ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ、２版、
１９７７年、７５８〜７９８頁に示されている。

【００３１】特に好ましいジエンはシクロペンタジエン
および３−スルホレンである。１，３−双極子として
は、Ｒ³¹により置換された酸化ニトリルが特に適する。
このような方法で、式Ｉの異なるイソオキサゾール誘導
体およびイソオキサゾリン誘導体を得ることができる
（製造例Ｎｏ．６参照）。

【００３２】前記の反応時間、温度および溶媒はここで
も適当であり、さらに非極性溶剤、例えばヘキサン、ヘ
プタン等のような炭化水素、トルオールもしくはクロル
ベンゾールのような芳香族、または塩素化炭化水素が考
慮される。多くの場合に触媒としてプロトン酸またはル
イス酸を添加するのが有効である。

【００３３】環状アセタールＩはそれ自体除草活性であ
り、または次の反応式に従って、塩Ｒ⁵⁰−Ｍおよび複素
環体ＩＩＩと反応させて、植物保護有効物質、例えば式
ＩＶのものを製造するために用いられる：

【００３４】

【化６】

【００３５】式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、ＹおよびＡは前記の意
味であり、その他の基は次の意味である：Ｍはアルカリ
金属陽イオン、例えばリチウム、ナトリウム、カリウ
ム、または当量のアルカリ土類金属陽イオン、、例えば
マグネシウム、カルシウム、バリウム；Ｒ⁴¹はハロゲ
ン、例えば、フッ素、塩素、臭素、沃素、アルキルスル
ホニル、特にメチルスルホニル、またはハロゲンアルキ
ルスルホニル、特にトリフルオルメチルスルホニル；Ｒ
⁵⁰は ａ）窒素原子で結合する５員のヘテロ芳香族、例えばピ
ロリル、ピラゾリル、イミダゾリルおよびトリアゾリル
であり、これらは１〜２個のハロゲン原子、特にフッ素
および塩素、および／または次の基：Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アル
キル；Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −ハロゲンアルキル、特にＣ₁ 〜Ｃ₂
−ハロゲンアルキル；Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −ハロゲンアルコキ
シ、特にＣ₁ 〜Ｃ₂ −ハロゲンアルコキシ；Ｃ₁ 〜Ｃ₄
−アルコキシ；Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルキルチオを有すること
ができ； ｂ）基−（Ｏ）ｍ−ＮＲ⁶ Ｒ⁷ 、式中においてｍは０ま
たは１であり、Ｒ⁶ およびＲ⁷ は同じかまたは異なり、
次の意味をもつ：水素；Ｃ₁ 〜Ｃ₈ −アルキル，特にＣ
₁ 〜Ｃ₄ −アルキル；Ｃ₃ 〜Ｃ₆ −アルケニル、特に２
−プロペニル、２−ブテニル、３−メチル−２−ブテニ
ルおよび３−メチル−２−ペンテニル；Ｃ₃ 〜Ｃ₆ −ア
ルキニル、好ましくは２−プロピニル、２−ブチニル、
１−メチル−２−プロピニルおよび１−メチル−２−ブ
チニル、特に２−プロピニル；Ｃ₃ 〜Ｃ₈ −シクロアル
キル、例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペ
ンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチルおよびシクロ
オクチルであり、これらのアルキル、シクロアルキル、
アルケニルおよびアルキニルの各基は、それぞれ１〜５
個、特に１〜３個のハロゲン原子、好ましくはフッ素ま
たは塩素、および／または１〜２個の次の基を有するこ
とができる：Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルキル、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アル
コキシ、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルキルチオ、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −ハロ
ゲンアルコキシ、Ｃ₃ 〜Ｃ₆ −アルケニルオキシ、Ｃ₃
〜Ｃ₆ −アルケニルチオ、Ｃ₃ 〜Ｃ₆ −アルキニルオキ
シ、Ｃ₃ 〜Ｃ₆ −アルキニルチオであり、これらの基に
あるアルケニルおよびアルキニル要素は好ましくは前記
の意味に相当し；Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルキルカルボニル、例
えば特にメチルカルボニル、エチルカルボニル、プロピ
ルカルボニル、１−メチルエチルカルボニル、ブチルカ
ルボニル、１−メチルプロピルカルボニル、２−メチル
プロピルカルボニル、１，１−ジメチルエチルカルボニ
ル；Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルコキシカルボニル、例えばメトキ
シカルボニル、エトキシカルボニル、プロピルオキシカ
ルボニル、１−メチルエトキシカルボニル、ブチルオキ
シカルボニル、１−メチルプロピルオキシカルボニル、
２−メチルプロピルオキシカルボニル、１，１−ジメチ
ルエトキシカルボニル；Ｃ₃ 〜Ｃ₆ −アルケニルカルボ
ニル、Ｃ₃ 〜Ｃ₆ −アルキニルカルボニル、Ｃ₃ 〜Ｃ₆
−アルケニルオキシカルボニルおよびＣ₃ 〜Ｃ₆ −アル
キニルオキシカルボニルであり、アルケニル基またはア
ルキニル基は好ましくは前記の定義のとおりであり；フ
ェニル、場合によりハロゲン、ニトロ、シアノ、Ｃ₁ 〜
Ｃ₄ −アルキル、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −ハロゲンアルキル、Ｃ₁
〜Ｃ₄ −アルコキシ、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −ハロゲンアルコキ
シ、またはＣ₁ 〜Ｃ₄ −アルキルにより１または多置換
され、例えば２−フルオルフェニル、３−クロルフェニ
ル、４−ブロムフェニル、２−メチルフェニル、３−ニ
トロフェニル、４−シアノフェニル、２−トリフルオル
メチルフェニル、３−メトキシフェニル、４−トリフル
オルエトキシフェニル、２−メチルチオフェニル、２，
４−ジクロルフェニル、２−メトキシ−３−メチルフェ
ニル、２，４−ジメトキシフェニル、２−ニトロ−５−
シアノフェニル、２，６−ジフルオルフェニル；ジ−Ｃ
₁ 〜Ｃ₄ −アルキルアミノ、例えば、特にジメチルアミ
ノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、Ｎ−プロピル
−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−プロピル−Ｎ−エチルアミ
ノ、ジイソプロピルアミノ、Ｎ−イソプロピル−Ｎ−メ
チルアミノ、Ｎ−イソプロピル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ
−イソプロピル−Ｎ−プロピルアミノ；さらに、Ｒ⁶ お
よびＲ⁷ は１個または多数の次の基で置換されていても
よい：ハロゲン、ニトロ、シアノ、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルキ
ル、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −ハロゲンアルキル、特にＣ₁ 〜Ｃ₂ −
ハロゲンアルキル、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルコキシ、Ｃ₁ 〜Ｃ
₄ −ハロゲンアルコキシ、特にＣ₁ 〜Ｃ₂ −ハロゲンア
ルコキシまたはＣ₁ 〜Ｃ₄ −アルキルチオ；またはＲ⁶
およびＲ⁷ は一緒に環状になり、酸素、硫黄または窒素
の群から選ばれたヘテロ原子を含有することができる、
置換または非置換のＣ₄ 〜Ｃ₇ −アルキレン鎖、例えば
−（ＣＨ₂ ）₄ −_、 −（ＣＨ₂ ）₅ −_、 −（ＣＨ₂ ）₆
−_、−（ＣＨ₂ ）₇ −_、 −（ＣＨ₂ ）₂ −Ｏ−（ＣＨ
₂ ）₂ −_、 −ＣＨ₂ −Ｓ−（ＣＨ₂ ）₃ −_、 −（ＣＨ
₂ ）₂ −Ｏ−（ＣＨ₂ ）₃ −_、 −ＮＨ−（ＣＨ₂ ）₃ −
_、−ＣＨ₂ −ＮＨ−（ＣＨ₂ ）₂ −_、 −ＣＨ₂ −ＣＨ＝
ＣＨ−ＣＨ₂ −、−ＣＨ＝ＣＨ−（ＣＨ₂ ）₃ −を形成
し、置換基として特にＣ₁ 〜Ｃ₄ −アルキル基を挙げる
ことができ； ｃ）さらに、基

【００３６】

【化７】

【００３７】式中、ｋは０、１または２、ｐは１、２、
３または４であり、Ｒ⁸ は特にＲ⁶ およびＲ⁷ に対して
記したように、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルキル、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −ハ
ロゲンアルキル、Ｃ₃ 〜Ｃ₆ −アルケニル、Ｃ₃ 〜Ｃ₆
−アルキニル、または場合により置換したフェニルであ
り； ｄ）さらに、基ＯＲ⁹ 、式中のＲ⁹ は次の意味であり： １）前記のようなＣ₃ 〜Ｃ₈ −シクロアルキルであっ
て、これは１〜３個のＣ₁ 〜Ｃ₄ −アルキル基を有する
ことができ、特にシクロプロピル、シクロペンチル、シ
クロヘキシル、メチルシクロヘキシル； ２）Ｃ₁ 〜Ｃ₈ −アルキルであって、これは１〜５個の
ハロゲン原子、特にフッ素および塩素、および／または
次の基を有することができ：Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルコキシ、
Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルキルチオ、シアノ、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アル
キルカルボニル、Ｃ₃ 〜Ｃ₈ −シクロアルキル、Ｃ₁ 〜
Ｃ₄ −アルコキシカルボニル、フェニル、１個または複
数のハロゲン、ニトロ、シアノ、Ｃ₁ 〜Ｃ₄-アルキル、C₁ 〜
Ｃ₄ −ハロゲンアルキル、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルコキシ、Ｃ
₁ 〜Ｃ₄ −ハロゲンアルコキシおよび／またはＣ₁ 〜Ｃ
₄ −アルキルチオによって置換されたフェニルまたはフ
ェノキシ； ３）Ｃ₁ 〜Ｃ₈ −アルキル基であって、これは１〜５
個、好ましくは１〜３個のハロゲン原子、特にフッ素お
よび／または塩素を有することができ、かつ次の基の１
種：１〜３個の窒素原子を含有する５員のヘテロ芳香
族、または窒素原子および酸素または硫黄原子を含有す
る５員のヘテロ芳香族、例えばＣ原子または可能な場合
はＮ原子で結合された、ピラゾリル、イミダゾリル、ベ
ンズイミダゾリル、トリアゾリル、ベンズトリアゾリ
ル、イソオキサゾリル、オキサゾリル、チアゾリルを有
し、ヘテロ芳香族は１〜４個のハロゲン原子および／ま
たは１〜２個の次の基を有することができ：ニトロ、シ
アノ、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルキル、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −ハロゲンア
ルキル、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルコキシ、フェニル、Ｃ₁ 〜Ｃ
₄ −ハロゲンアルコキシおよび／またはＣ₁ 〜Ｃ₄ −ア
ルキルチオであり、特に１−ピラゾリル、３−メチル−
１−ピラゾリル、３，５−ジメチル−１−ピラゾリル、
３−フェニル−１−ピラゾリル、４−フェニル−１−ピ
ラゾリル、４−クロル−１−ピラゾリル、４−ブロム−
１−ピラゾリル、１−イミダゾリル、１−ベンズイミダ
ゾリル、１，２，４−トリアゾル−１−イル、３−メチ
ル−１，２，４−トリアゾル−１−イル、５−メチル−
１，２，４−トリアゾル−１−イル、１−ベンズトリア
ゾリル、３−イソプロピルイソオキサゾル−５−イル、
３−メチルイソオキサゾル−５−イル、オキサゾル−２
−イル、チアゾル−２−イル、イミダゾル−２−イル、
３−エチルイソオキサゾル−５−イル、３−フェニルイ
ソオキサゾル−５−イル、３−フェニルイソオキサゾル
−５−イル、３−ｔｅｒｔ．−ブチルイソオキサゾル−
５−イル； ４）Ｃ₂ 〜Ｃ₆ −アルキル基であって、これは２位に次
の基：Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルコキシイミノ、Ｃ₃ 〜Ｃ₆ −ア
ルキニルオキシイミノ、Ｃ₃ 〜Ｃ₆ −ハロゲンアルケニ
ルオキシイミノまたはベンジルオキシイミノを有し； ５）Ｃ₃ 〜Ｃ₆ −アルケニル基またはＣ₃ 〜Ｃ₆ −アル
キニル基であって、これらの基は１〜５個のハロゲン原
子を有することができ； ６）さらに、Ｒ⁹ はフェニル基であって、１〜５個のハ
ロゲン原子および／または１〜３個の次の基：特に前記
のような、ニトロ、シアノ、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルキル、Ｃ
₁ 〜Ｃ₄ −ハロゲンアルキル、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルコキ
シ、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −ハロゲンアルコキシおよび／またはＣ
₁ 〜Ｃ₄ −アルキルチオを有することができ； ７）１〜３個の窒素原子を含有し、窒素原子で結合した
５員のヘテロ芳香族、例えば、ピラゾリル、イミダゾリ
ル、ベンズイミダゾリル、トリアゾリル、ベンズトリア
ゾリルであり、好ましくは１位で結合されたものであ
り、ヘテロ芳香族は１〜２個のハロゲン原子および／ま
たは１〜２個の次の基を有することができ：Ｃ₁ 〜Ｃ₄
−アルキル、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −ハロゲンアルキル、Ｃ₁ 〜Ｃ
₄ −アルコキシ、フェニル、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −ハロゲンアル
コキシおよび／またはＣ₁ 〜Ｃ₄ −アルキルチオであ
り、特に１−ピラゾリル、３−メチル−１−ピラゾリ
ル、４−メチル−１−ピラゾリル、３，５−ジメチル−
１−ピラゾリル、３−フェニル−１−ピラゾリル、４−
フェニル−１−ピラゾリル、４−クロル−１−ピラゾリ
ル、４−ブロム−１−ピラゾリル、１−イミダゾリル、
１−ベンズイミダゾリル、１，２，４−トリアゾル−１
−イル、３−メチル−１，２，４−トリアゾル−１−イ
ル、５−メチル−１，２，４−トリアゾル−１−イル、
１−ベンズトリアゾリル、３，４−ジクロルイミダゾル
−１−イル； ８）さらに、Ｒ⁹ は基−Ｎ＝ＣＲ¹⁰Ｒ¹¹であって、Ｒ¹⁰
およびＲ¹¹は同じか、異なってもよく、次の意味であ
り：Ｃ₁ 〜Ｃ₁₂−アルキル、Ｃ₃ 〜Ｃ₆ −アルケニル、
Ｃ₃ 〜Ｃ₆ −アルキニル、Ｃ₃ 〜Ｃ₈ シクロアルキルで
あり、これらの基は、特に前記のようにＣ₁ 〜Ｃ₄−ア
ルコキシ、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ アルキルチオおよび／または場合
により置換されたフェニル基を有することができ；フェ
ニルであって、１個または複数の次の基：ハロゲン、ニ
トロ、シアノ、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルキル、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −ハ
ロゲンアルキル、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルコキシ、Ｃ₁ 〜Ｃ₄
−ハロゲンアルコキシまたはＣ₁ 〜Ｃ₄ −アルキルチオ
によって置換されていてもよく；または、Ｒ¹⁰およびＲ
¹¹は一緒になってＣ₃ 〜Ｃ₁₂−アルキレン鎖を形成し、
これは、特にＲ₆ およびＲ₇ で記したように、１〜３個
のＣ₁ 〜Ｃ₄ −アルキルをもち、かつ酸素、硫黄および
窒素から選ばれたヘテロ原子を含有することができる。

【００３８】ｅ）または、Ｒ⁵⁰は基−ＮＨ−ＳＯ₂ −Ｒ
₁₂を形成し、Ｒ₁₂は次の意味であり： 特にＲ¹ で記し
たように、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルキル、Ｃ₃ 〜Ｃ₆ −アルケ
ニル、Ｃ₃ 〜Ｃ₆ −アルキニル、Ｃ₃ 〜Ｃ₈ シクロアル
キルであり、これらの基は、特に前記のようにＣ₁ 〜Ｃ
₄ −アルコキシ、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ アルキルチオおよび／また
はフェニルの各基を有することができ；特に前記したよ
うに、場合により置換されたフェニルであり；Ｒ⁴²は、
前に詳細に記した、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルキル、Ｃ₁ 〜Ｃ₄
−ハロゲンアルキル、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルコキシ、Ｃ₁ 〜
Ｃ₄ −ハロゲンアルコキシ、Ｃ₁ 〜Ｃ₄−アルキルチオ
およびハロゲン原子、特に塩素、メチル、メトキシ、エ
トキシ、ジフルオルメトキシ、トリフルオルメトキシ、
特に好ましくはメトキシ；Ｗは、窒素またはＣＲ¹³であ
って、Ｒ¹³は、好ましくは水素を意味するか、またはＲ
⁴³と一緒になって、メチレン基が酸素によって置き替わ
る４〜５員のアルキレン鎖またはアルケニレン鎖、例え
ば−ＣＨ₂ −ＣＨ₂ −Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｏ−、−Ｃ
Ｈ₂ −ＣＨ₂ −ＣＨ₂−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ₂ Ｏ
−、特に、水素および−ＣＨ₂ −ＣＨ₂ −Ｏ−を形成す
る；Ｒ⁴³は、ハロゲン、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルキル、Ｃ₁ 〜
Ｃ₄ −ハロゲンアルキル、とりわけＣ₁ 〜Ｃ₂ −ハロゲ
ンアルキル、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルコキシ、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −ハ
ロゲンアルコキシ、とりわけＣ₁ 〜Ｃ₂ −ハロゲンアル
コキシ、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルキルチオ基、特に塩素、フッ
素、メチル、メトキシ、エトキシ、ジフルオルメトキ
シ、トリフルオルメトキシ、特に好ましくはメトキシ、
またはＲ¹³と一緒に上記のように４〜５員環に結合す
る。

【００３９】環状アセタールＩと塩Ｒ⁵⁰Ｍとの反応およ
びさらに式ＩＩＩの複素環体との反応は、一つの反応容
器中で直接に有効物質ＩＶになるまで行うことができ
る。この場合に、最初に塩Ｒ⁵⁰Ｍを装入するが、この塩
はその場で化合物Ｒ⁵⁰Ｈと塩基とから製造することもで
きる。続いて複素環体ＩＩＩを追加する。反応の第１段
階の塩Ｒ⁵⁰Ｍの中間体Ｉへの付加が十分に終了したとき
に、はじめてＩＩＩの装入を行うのが有利である。これ
は数分から二三時間の間継続され、反応温度は−４０℃
と２００℃の間、大抵は０℃と１３０℃の間で行われ
る。

【００４０】第１段階後に反応を打ち切り、中間体Ｖを
分離することも可能である。

【００４１】

【化８】

【００４２】化合物Ｖは、例えば、初めに挙げた公開公
報に記載されるような公知の方法に従ってさらに反応さ
せることができる。

【００４３】両方の場合に、使用した塩基または塩Ｒ⁵⁰
Ｍによりそれ自体が脱プロトン化されず、かつ反応に加
わらないことを前提条件として、通常の溶媒が適する。
特に極性溶媒、例えばエーテル、例えばジエチルエーテ
ル、メチル−ｔｅｒｔ．−ブチルエーテル、ジメトキシ
エタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アミド、例
えばジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ
−メチルピロリドン、ジメチルプロピレン尿素またはジ
メチルスルホキシドが非常に適する。反応を促進すると
きは、相移動触媒、例えばクラウンエーテルまたは第四
級アンモニウム塩を添加することができる。

【００４４】反応温度は−４０〜２００℃、好ましくは
０〜１６０℃である。反応時間は通常数分から５０時
間、大抵は０．５〜１０時間である。

【００４５】出発物質Ｉの１モル当たり、一般に０．８
〜３、特に０．９〜１．５モル当量の化合物ＩＩ（Ｒ⁵⁰
Ｍ）が用いられる。複素環体の量は、同様に目的にかな
うように、Ｉに対して０．８〜３、特に０．９〜１．５
モル当量である。

【００４６】反応は連続的または非連続的に；大気圧
で、好ましくは加圧または低圧で優先して行われる。

【００４７】可能な精製法は多種であり、個々の場合に
おいて、使用する溶媒への生成物の溶解性に、ならびに
溶媒と水との混合性および溶媒の沸点に依存する。水性
と同じく非水性の精製も可能である。

【００４８】適当な精製法は、例えば、反応混合物と水
とを混合すること、および生成物を濾過または有機溶媒
で抽出することであり、前もって、反応混合物から溶媒
を部分的にまたは完全に蒸発することができる。

【００４９】

【実施例】

合成例 実施例１ ａ）

【００５０】

【化９】

【００５１】５−ヒドロキシ−２，２ージメチル−４Ｈ
−（１，３）ベンゾジオキシン−４−オン １００ｇ（０．６６モル）の２，６−ジヒドロキシ安息
香酸を８００ｍｌのトリフルオル酢酸に先ず入れ、１０
０ｍｌのアセトンならびに２１６ｇ（１．９８モル）の
無水トリフルオル酢酸を添加する。還流下に２時間沸騰
し、次いでさらに５．５時間の間還流下で、アセトン５
０ｍｌ／時間を滴下した（合計反応時間７．５時間、合
計アセトン添加量３７５ｍｌ）。反応混合物を約５５℃
で真空濃縮し、トルエンを３回補充し、再び濃縮した。
最後に４５℃で１時間油ポンプにより乾燥した。

【００５２】油状生成物を２リットルのメチル−ｔｅｒ
ｔ．−ブチルエーテル中に取り入れ、２リットルの水お
よび２リットルの飽和ＮａＨＣＯ₃ 溶液をれて、１．５
時間攪拌した。水相を分離し、メチル−ｔｅｒｔ．−ブ
チルエーテルで１回抽出し、まとめた有機相を熱塩溶液
で洗浄し、乾燥し、真空濃縮した。残留物を２００ｍｌ
のｎ−ペンタンと一緒に攪拌し、吸引濾過し、真空乾燥
した。

【００５３】収量：１１５ｇ（９０％） 融点：６０〜６２℃ ｂ）

【００５４】

【化１０】

【００５５】２，２−ジメチル−５−トリフルオルメチ
ルスルホニルオキシ−４Ｈ−（１，３）ベンゾジオキシ
ン−４−オン ８０ｇ（０．４１モル）の５−ヒドロキシ−２，２−ジ
メチル−４Ｈ−（１，３）ベンゾジオキシン−４−オン
を１．５リットルの塩化メチレンに溶解し、０℃で１２
９ｇ（１．２８モル）のトリエチルアミンを添加し、２
時間以内に３１４ｇ（１．１１モル）のトリフルオルメ
チルスルホン酸無水物を滴下した。１０℃に加温し、こ
の温度で１０分攪拌し、次いで混合物を攪拌しながら０
℃で１．５リットルの水に添加した。有機相を分離し、
塩化メチレンで抽出し、まとめた有機相を水および飽和
熱塩溶液で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、真空濃
縮した。残留物を２００ｍｌのｎ−ペンタンと一緒に攪
拌し、吸引濾過し、ｎ−ペンタンで後洗浄し、４０℃で
油ポンプにより乾燥した。

【００５６】収量：１１８ｇ（８８％） 融点：１１５℃ ｃ）

【００５７】

【化１１】

【００５８】２，２−ジメチル−５−（２−メトキシピ
リジン−５−イル）−４Ｈ−（１，３）ベンゾジオキシ
ン−４−オン ８．７ｇの２，２−ジメチル−５−トリフルオルメチル
スルホニルオキシ−４Ｈ−（１，３）ベンゾジオキシン
−４−オン、２３．２ｇの２−メトキシ−５−トリブチ
ルスタンニルピリジン、３．４ｇの塩化リチウム、０．
６ｇのテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム⁰
および７０ｍｇの２，６−ジ−ｔ．−ブチル−４−メチ
ルフェノールを１５０ｍｌのジオキサンに溶解し、オー
トクレーブ中、１４０℃で３時間攪拌した。真空濃縮
し、２００ｍｌのｎ−ペンタンと一緒に攪拌し、少量の
ケイ酸ゲル−６０で濾過し、ｎ−ペンタンで後洗浄し、
生成物を酢酸エチルエステルで溶離した。濃縮後、融点
１６０℃の残留物１０．３ｇを得た。

【００５９】ｄ） ２−（４，６−ジメトキシピリミジ
ン−２−イルオキシ）−６−（２−メトキシピリジン−
５−イル）−安息香酸アセトンオキシムエステル ３０ｍｌのトルオールに溶解した０．６７ｇのアセトン
オキシムに１．６６ｇの３０％ナトリウムメチラート−
メタノール溶液を入れ、真空濃縮した。３５ｍｌのジメ
チルホルムアミドおよび次いで２．５ｇの２，２−ジメ
チル−５−（２−メトキシピリジン−５−イル）−４Ｈ
−（１，３）ベンゾジオキシン−４−オンを添加し、室
温で１５分攪拌し、最後に１．９ｇの４，６−ジメトキ
シ−２−メチルスルホニルピリミジンを追加した。夜通
し攪拌し３００ｍｌの水に注入し、メチル−ｔ．−ブチ
ルエーテルで抽出し、水および飽和熱塩溶液で徹底的に
洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、真空濃縮した。粗
生成物をケイ酸ゲル−６０でのクロマトグラフィによ
り、ｎ−ヘキサン／酢酸エチルエステルを用いて精製し
た。

【００６０】¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ）：δ＝１．６
５（ｓ）；１．９５（ｓ）；３．８５（ｓ）；３．９８
（ｓ）；５．７８（ｓ）；６．７７（ｄ）；７．３−
７．７（ｍ）；８．２５（ｄ）。

【００６１】実施例２ ａ） ２，２−ジメチル−５−（６−メトキシピリジン
−２−イル）−４Ｈ−（１，３）ベンゾジオキシン−４
−オン １０．９ｇの２，２−ジメチル−５−トリフルオルメチ
ルスルホニルオキシ−４Ｈ−（１，３）ベンゾジオキシ
ン−４−オン、１６．０ｇの６−メトキシ−２−トリブ
チルスタンニルピリジン、４．２５ｇの塩化リチウム、
０．７８ｇのテトラキストリフェニルホスフィンパラジ
ウム⁰ および４０ｍｇの２，６−ジ−ｔ．−ブチル−４
−メチルフェノールを１２０ｍｌのジオキサンに溶解
し、オートクレブ中１４０℃で４時間攪拌した。真空濃
縮し、生成物をケイ酸ゲル−６０、酢酸エチルエステル
／トルオールを用いクロマトグラフにかけた。融点１３
０〜１３２℃の固体９．１ｇ（９５％）を得た。

【００６２】ｂ） ２−（４，６−ジメトキシピリミジ
ン−２−イルオキシ）−６−（６−メトキシピリジン−
２−イル）−安息香酸ベンジルエステル ５０ｍｌのジメチルホルムアミドに溶解した１．３６ｇ
のベンジルアルコールに３８０ｍｇの水素化ナトリウム
（パラフィン油中８０％濃度）を入れた後、室温で１時
間攪拌した。３．０ｇの２，２−ジメチル−５−（６−
メトキシピリジン−２−イル）−４Ｈ−（１，３）ベン
ゾジオキシン−４−オンを添加し、室温で３時間攪拌
し、最後に２．６５ｇの４，６−ジメトキシ−２−メチ
ルスルホニルピリミジンを追加した。室温で２時間、８
０℃で１．５時間および１１５℃で３時間攪拌し、りん
酸酸性氷水に注入し、酢酸エチルエステルで抽出し、水
で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、真空濃縮した。
粗生成物をクロマトグラフにより、ケイ酸ゲル−６０
で、シクロヘキサン／トルオール／酢酸エチルエステル
を用いて精製した。

【００６３】¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ）：δ＝３．８
０（ｓ）；３．８９（ｓ）；５．０２（ｓ）；５．７２
（ｓ）；６．６７（ｄ）；６．９−７．７（ｍ）。

【００６４】実施例３ ａ） ２，２−ジメチル−５−フェニル−４Ｈ−（１，
３）ベンゾジオキシン−４−オン ５０ｍｌのジメチルホルムアミド中に２．９３ｇ（９ミ
リモル）の２，２−ジメチル−５−トリフルオルメチル
スルホニルオキシ−４Ｈ−（１，３）ベンゾジオキシン
−４−オンを含む溶液に、窒素下０．２３ｇ（０．２ミ
リモル）のテトラキストリフェニルホスフィンパラジウ
ムを添加し、数分間攪拌し、次いで２．９７ｇ（１４ミ
リモル）のりん酸カリウムおよび２．０４ｇ（９．９ミ
リモル）のフェニルほう酸ジイソプロピルエステルを追
加した。反応が完了するまで（約１６時間）１００℃で
加熱した。冷却後、反応溶液を２５０ｍｌの水および６
ｇのオルトりん酸からなる混合物に注入し、メチル−ｔ
ｅｒｔ．−ブチルエーテルで３回抽出し、まとめた有機
相を水および飽和熱塩溶液でで洗浄し、硫酸ナトリウム
上で乾燥し、濃縮した。２．６ｇの暗色の油が残った。
これをクロマトグラフにより、ケイ酸ゲル−６０で、ト
ルオール／アセトンを用いて処理した。１．３ｇ（５７
％）の無色の固体を得た。融点１５８〜１６３℃（ヘキ
サンから再結晶）。

【００６５】ｂ） ａ）に記載の化合物を、上記使用のほう酸エステルの代
わりにフェニルほう酸の１．２１ｇ（９ミリモル）を用
いて同様に製造した。収量１．７ｇ（７４％）、物理的
データおよび純度はａ）のものと同様であった。

【００６６】実施例４ ２，２−ジメチル−５−（３，４−（エチレンジオキ
シ）−１−フェニル）−−４Ｈ−（１，３）ベンゾジオ
キシン−４−オン ５０ｍｌのジメチルホルムアミド中に４．２４ｇ（１
３．６ミリモル）の２，２−ジメチル−５−トリフルオ
ルメチルスルホニルオキシ−４Ｈ−（１，３）ベンゾジ
オキシン−４−オンを含む溶液に、窒素下０．３５ｇ
（０．３ミリモル）のテトラキストリフェニルホスフィ
ンパラジウムを添加し、数分間攪拌し、次いで４．２４
ｇ（２０ミリモル）のりん酸カリウムおよび２．７０ｇ
（１５ミリモル）の３，４−（エチレンジオキシ）−１
−フェニルほう酸を追加した。反応が完了するまで（約
１６時間）１００℃で加熱した。冷却後、反応溶液を２
５０ｍｌの水および８ｇのオルトりん酸からなる混合物
に注入し、メチル−ｔｅｒｔ．−ブチルエーテルで３回
抽出し、まとめた有機相を水および飽和熱塩溶液でで洗
浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、濃縮した。７．６ｇ
の暗色の油が残った。これを、ケイ酸ゲル−６０、トル
オール／アセトンを用いてクロマトグラフ処理した。無
色の油を得た。ＮＭＲは表のＮｏ．１．０４０を参照。

【００６７】実施例５ ２，２−ジメチル−５−（３−メチル−３−ブテン−１
−イニル）−４Ｈ−（１，３）ベンゾジオキシン−４−
オン １５０ｍｌのジメチルホルムアミド中に１５．０ｇ（４
６ミリモル）の２，２−ジメチル−５−トリフルオルメ
チルスルホニルオキシ−４Ｈ−（１，３）ベンゾジオキ
シン−４−オンを含む溶液に、窒素下０．６４ｇ（０．
９２ミリモル）のビストリフェニルホスフィン−パラジ
ウムジクロリド、４．４ｍｌ（４６ミリモル）の３−メ
チル−３−ブテン−１−インおよび２４ｍｌのトリエチ
ルアミンを添加した。次いで、１１５℃で０．５時間加
熱し、この温度で１時間以内に６．６ｍｌの３−メチル
−３−ブテン−１−インを添加し、１５分間攪拌した。
冷却後、反応溶液を５００ｍｌのりん酸酸性（ｐＨ
３）水に０℃で注入し、メチル−ｔｅｒｔ．−ブチルエ
ーテルで抽出し、まとめた有機相を水および飽和熱塩溶
液で念入りに洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、濃縮
した。１４ｇの暗色の油が残った。これを、ケイ酸ゲル
−６０、ｎ−ヘキサン／酢酸エチルを用いてクロマトグ
ラフ処理した。７．０ｇの無色結晶を得た。融点６０℃
（表１のＮｏ．１．００９参照）。

【００６８】実施例６ ２，２−ジメチル−５−（３−イソオキサゾル−５−イ
ル）−４Ｈ−（１，３）ベンゾジオキシン−４−オン まず初めに、アセトアルドキシムを遊離塩素で塩素化し
て、１２０ｍｌのメチル−ｔｅｒｔ．−ブチルエーテル
中に約０．１８モルの１−クロル−１−（Ｎ−ヒドロキ
シイミノ）−エタンを含有する溶液を用意した。

【００６９】４００ｍｌのメチル−ｔｅｒｔ．−ブチル
エーテル中に８．０ｇの２，２−ジメチル−５−（エチ
ニル）−４Ｈ−（１，３）ベンゾジオキシン−４−オン
を含有する溶液に、０℃で攪拌下に、５３ｍｌの上記の
１−クロル−１−（Ｎ−ヒドロキシイミノ）−エタン溶
液および６．３ｍｌのトリエチルアミンを添加し、室温
となし、夜通し攪拌した。再度５３ｍｌの上記の１−ク
ロル−１−（Ｎ−ヒドロキシイミノ）−エタン溶液およ
び６．３ｍｌのトリエチルアミンを添加し、室温で２４
時間攪拌した。次いで、反応溶液をりん酸酸性（ｐＨ
４）水に０℃で注入し、メチル−ｔｅｒｔ．−ブチルエ
ーテルで抽出し、まとめた有機相を水で念入りに洗浄
し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、濃縮した。８．８ｇの
粗生成物が残った。これを、ケイ酸ゲル−６０、ｎ−ヘ
キサン／酢酸エチルを用いてクロマトグラフ処理した。
４．１ｇの無色結晶を得た。融点７４℃（表１のＮｏ．
１．０２０参照）。

【００７０】実施例７ ａ） ５−クロル−２，２−ジメチル−４Ｈ−［３，
１］ベンゾオキサチイン−４−オン ２０ｇ（１０６ミリモル）の２−クロル−６−メルカプ
ト安息香酸、２６ｍｌ（２１２ミリモル）の２，２−ジ
メトキシプロパンおよび２ｇのアンバーリスト１５（強
酸性イオン交換樹脂）をトルオール中で３時間還流下に
加熱した。２時間内に１００ｍｌだけ留去し、１０ｍｌ
の２，２−ジメトキシプロパンを追加し、短時間さらに
沸騰し、室温で夜通し攪拌し、濾過し、真空濃縮した。
収量：２２．４ｇ（９２％）油、¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ
ｌ₃ ）：δ＝１．８２（ｓ）；７．１８−７．４０
（ｍ）。

【００７１】ｂ） ５−クロル−２−フェニル−４Ｈ−
［３，１］ベンゾオキサチイン−４−オン これはベンズアルデヒドジメチルアセタールを使用し、
実施例７ａと同様にして製造することができる（融点９
７〜１０３℃）。

【００７２】実施例８ ２，２−ジメチル−５−（ピリジン−２−イル）−４Ｈ
−（１，３）ベンゾジオキシン−４−オン ６．０ｇ（１８．４ミリモル）の２，２−ジメチル−５
−トリフルオルメチルスルホニルオキシ−４Ｈ−（１，
３）ベンゾジオキシン−４−オン、７．０ｇ（１９．０
ミリモル）の２−トリブチルスタンニルピリジン、２．
３ｇ（５５．２ミリモル）の塩化リチウムおよび４２０
ｍｇ（０．３６ミリモル）のテトラキストリフェニルホ
スフィンパラジウムを６０ｍｌのジオキサンおよび９０
ｍｌのジメチルホルムアミドに溶解し、還流下（反応温
度約１２０℃）に１．５時間加熱した。１．４リットル
の水に入れて０℃で攪拌し、メチル−ｔｅｒｔ．−ブチ
ルエーテルで抽出し、水および飽和熱塩溶液で洗浄し、
硫酸ナトリウム上で乾燥し、真空濃縮した。６０ｍｌの
酢酸エチルエステルに取り入れ、８ｇのふっ化カリウム
を添加し、夜通し攪拌した。濾別し、十分な酢酸エチル
エステルで後洗浄し、濾液を真空濃縮した。粗生成物を
クロマトグラフにより、ケイ酸ゲル−６０、ヘキサン／
酢酸エチルを用いて精製した。収量：２．３９ｇ（５１
％）、融点：１４２℃。

【００７３】実施例９ ２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルオキ
シ）−６−（エチニル）−安息香酸−（２，２，２−ト
リフルオルエチル）エステル ２．０ｇの２，２，２−トリフルオルエタノールを８０
ｍｌのジメチルホルムアミド中に先ず入れ、室温で０．
６０ｇの８０％水素化ナトリウムを添加した。１時間
後、透明な溶液が形成され、５．０ｇの２，２−ジメチ
ル−５−（トリメチルシリルエチニル）−４Ｈ−（１，
３）ベンゾジオキシン−４−オンを室温で添加した。２
０分後に、４．０ｇの４，６−ジメトキシ−２−メチル
スルホニルピリミジンを添加し、夜通し室温で攪拌し
た。次いで、反応溶液を４００ｍｌのりん酸酸性（ｐＨ
３）水に０℃で注入し、メチル−ｔｅｒｔ．−ブチル
エーテルで抽出し、まとめた有機相を水で洗浄し、硫酸
ナトリウム上で乾燥し、濃縮した。６．４ｇの粗生成物
が残った。これをケイ酸ゲル−６０、ｎ−ヘキサン／酢
酸エチルを用いてクロマトグラフ処理した。無色の油
（１．２ｇ）を得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ）：δ
＝３．３３（ｓ）；３．８３（ｓ）；４．５５（ｑ）；
５．８０（ｓ）；７．２５−７．５０（ｍ）。

【００７４】実施例１０ ２，２−ジメチル−５−（２−クロルピリジン−４−イ
ル）−４Ｈ−（１，３）ベンゾジオキシン−４−オン ａ） ２，２−ジメチル−５−（１−オキソピリジン−
４−イル）−４Ｈ−（１，３）ベンゾジオキシン−４−
オン ３００ｍｇの２，２−ジメチル−５−（ピリジン−４−
イル）−４Ｈ−（１，３）ベンゾジオキシン−４−オン
を２０ｍｌの塩化メチレンに先ず入れ、室温で２６０ｍ
ｇの３−クロル過安息香酸を添加し、夜通し攪拌した。
反応混合物を直接に、ケイ酸ゲル−６０、塩化メチレン
／メタノールを用いてクロマトグラフ処理した。収量２
００ｍｇ。¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ）：δ＝１．８０
（ｓ）；６．９５（ｄ）；７．０７（ｄ）；７．２５
（ｄ）；７．６０（ｔ）；８．２５（ｄ）。

【００７５】ｂ） ２，２−ジメチル−５−（２−クロ
ルピリジン−４−イル）−４Ｈ−（１，３）ベンゾジオ
キシン−４−オン ８５０ｍｇの２，２−ジメチル−５−（１−オキソピリ
ジン−４−イル）−４Ｈ−（１，３）ベンゾジオキシン
−４−オンを２０ｍｌのＰＯＣｌ₃ に先ず入れ、４時間
１０５℃で攪拌した。揮発成分を真空で除き、５０ｍｌ
の氷水および３０ｍｌのメチル−ｔｅｒｔ．−ブチルエ
ーテルの混合物に注入し、炭酸水素ナトリウム溶液でｐ
Ｈ値７．５に調節し、メチル−ｔｅｒｔ．−ブチルエー
テルで抽出した。抽出液を熱塩溶液で洗浄し、硫酸ナト
リウム上で乾燥し、真空濃縮した。収量：４９０ｍｇ．
¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ）：δ＝１．８０（ｓ）；
６．９５（ｄ）；７．０７（ｄ）；７．１６（ｄ）；
７．２７（ｓ）；７．５９（ｔ）；８．４０（ｄ）。

【００７６】表１に提示される化合物Ｉは実施例におい
て、それぞれに示される合成例と同様にして製造するこ
とができる。

【００７７】

【表１】

【００７８】

【表２】

【００７９】

【表３】

【００８０】

【表４】

【００８１】

【表５】

【００８２】

【表６】

【００８３】

【表７】

【００８４】

【表８】

【００８５】

【表９】

【００８６】

【表１０】

【００８７】

【表１１】

【００８８】

【表１２】

【００８９】

【表１３】

【００９０】

【表１４】

【００９１】

【表１５】

【００９２】

【表１６】

【００９３】

【表１７】

【００９４】

【表１８】

【００９５】

【表１９】

【００９６】

【表２０】

【００９７】

【表２１】

【００９８】

【表２２】

【００９９】

【表２３】

【０１００】

【表２４】

【０１０１】

【表２５】

【０１０２】

【表２６】

【０１０３】

【表２７】

【０１０４】

【表２８】

【０１０５】

【表２９】

【０１０６】

【表３０】

【０１０７】

【表３１】

【０１０８】

【表３２】

【０１０９】

【表３３】

【０１１０】

【表３４】

【０１１１】

【表３５】

【０１１２】

【表３６】

【０１１３】

【表３７】

【０１１４】

【表３８】

【０１１５】

【表３９】

【０１１６】

【表４０】

【０１１７】

【表４１】

【０１１８】化合物Ｉまたはこれを含有する除草剤、な
らびにそのアルカリ金属、アルカリ土類金属またはアン
モニアおよびアミン等の環境適合性塩またはこれを含有
する除草剤は、小麦、稲、トウモロコシ、大豆および綿
の木等の栽培において、栽培植物をさほど損傷すること
なしに雑草および有害草を非常に良好に防除できる。こ
のような効果はとりわけ少ない使用量において得られ
る。

【０１１９】施用法の多様性を考慮して、化合物Ｉおよ
びこれを含有する薬剤を、望ましくない植物を除去する
ために、栽培植物に対して使用することもできる。例え
ば、以下に述べる植物に対して使用することができる。

【０１２０】タマネギ（Ａｌｌｉｕｍ ｃｅｐａ） パイナップル（Ａｎａｎａｓ ｃｏｍｏｓｕｓ） ナンキンマメ（Ａｒａｃｈｉｓ ｈｙｐｏｇａｅａ） アスパラガス（Ａｓｐａｒａｇｕｓ ｏｆｆｉｃｉｎａ
ｌｉｓ） フダンソウ（Ｂｅｔａ ｖｕｌｇａｒｉｓ ｓｐｐ．ａ
ｌｔｉｓｓｉｍａ） サトウジシヤ（Ｂｅｔａ ｖｕｌｇａｒｉｓ ｓｐｐ．
ｒａｐａ） アブラナ（変種カブラ）（Ｂｒａｓｓｉｃａ ｎａｐｕ
ｓ ｖａｒ．ｎａｐｕｓ） カブカンラン（変種ナポプラシーカ）（Ｂｒａｓｓｉｃ
ａ ｎａｐｕｓ ｖａｒ．ｎａｐｏｂｒａｓｓｉｃａ） テンサイ（変種シルベストリス）（Ｂｒａｓｓｉｃａ
ｒａｐａ ｖａｒ．ｓｉｌｖｅｓｔｒｉｓ） トウツバキ（Ｃａｍｅｌｌｉａ ｓｉｎｅｎｓｉｓ） ベニバナ（Ｃａｒｔｈａｍｕｓ ｔｉｎｃｔｏｒｉｕ
ｓ） キヤリーヤイリノイネンシス（Ｃａｒｙａ ｉｌｌｉｎ
ｏｉｎｅｎｓｉｓ） レモン（Ｃｉｔｒｕｓ ｌｉｍｏｎ） ナツミカン（Ｃｉｔｒｕｓ ｓｉｎｅｎｓｉｓ） コーヒー〔Ｃｏｆｆｅａ ａｒａｂｉｃａ（Ｃｏｆｆｅ
ａ ｃａｎｅｐｈｏｒａ，Ｃｏｆｆｅａ ｌｉｂｅｒｉ
ｃａ）〕 キユウリ（Ｃｕｃｕｍｉｓ ｓａｔｉｖｕｓ） ギヨウギシバ（Ｃｙｎｏｄｏｎ ｄａｃｔｙｌｏｎ） ニンジン（Ｄａｕｃｕｓ ｃａｒｏｔａ） アブラヤシ（Ｅｌａｅｉｓ ｇｕｉｎｅｅｎｓｉｓ） イチゴ（Ｆｒａｇａｒｉａ ｖｅｓｃａ） 大豆（Ｇｌｙｃｉｎｅ ｍａｘ） 木棉〔Ｇｏｓｓｙｐｉｕｍ ｈｉｒｓｕｔｕｍ（Ｇｏｓ
ｓｙｐｉｕｍ ａｒｂｏｒｅｕｍ、Ｇｏｓｓｙｐｉｕｍ
ｈｅｒｂａｃｅｕｍ、Ｇｏｓｓｙｐｉｕｍｖｉｔｉｆ
ｏｌｉｕｍ）〕 ヒマワリ（Ｈｅｌｉａｎｔｈｕｓ ａｎｎｕｕｓ） ゴムノキ（Ｈｅｖｅａ ｂｒａｓｉｌｉｅｎｓｉｓ） 大麦（Ｈｏｒｄｅｕｍ ｖｕｌｇａｒｅ） カラハナソウ（Ｈｕｍｕｌｕｓ ｌｕｐｕｌｕｓ） アメリカイモ（Ｉｐｏｍｏｅａ ｂａｔａｔａｓ） オニグルミ（Ｊｕｇｌａｎｓ ｒｅｇｉａ） レンズマメ（Ｌｅｎｓ ｃｕｌｉｎａｒｉｓ） アマ（Ｌｉｎｕｍ ｕｓｉｔａｔｉｓｓｉｍｕｍ） トマト（Ｌｙｃｏｐｅｒｓｉｃｏｎ ｌｙｃｏｐｅｒｓ
ｉｃｕｍ） リンゴ属（Ｍａｌｕｓ ｓｐｐ．） キヤツサバ（Ｍａｎｉｈｏｔ ｅｓｃｕｌｅｎｔａ） ムラサキウマゴヤシ（Ｍｅｄｉｃａｇｏ ｓａｔｉｖ
ａ） バシヨウ属（Ｍｕｓａ ｓｐｐ．） タバコ〔Ｎｉｃｏｔｉａｎａ ｔａｂａｃｕｍ（Ｎ．ｒ
ｕｓｔｉｃａ）〕 オリーブ（Ｏｌｅａ ｅｕｒｏｐａｅａ） イネ（Ｏｒｙｚａ ｓａｔｉｖａ） アズキ（Ｐｈａｓｅｏｌｕｓ ｌｕｎａｔｕｓ） ゴガツササゲ（Ｐｈａｓｅｏｌｕｓ ｖｕｌｇａｒｉ
ｓ） トウヒ（Ｐｉｃｅａ ａｂｉｅｓ） マツ属（Ｐｉｎｕｓ ｓｐｐ．） シロエンドウ（Ｐｉｓｕｍ ｓａｔｉｖｕｍ） サクラ（Ｐｒｕｎｕｓ ａｖｉｕｍ） モモ（Ｐｒｕｎｕｓ Ｐｅｒｓｉｃａ） ナシ（Ｐｙｒｕｓ ｃｏｍｍｕｎｉｓ） スグリ（Ｒｉｂｅｓ ｓｙｌｖｅｓｔｒｅ） トウゴマ（Ｒｉｃｉｎｕｓ ｃｏｍｍｕｎｉｓ） サトウキビ（Ｓａｃｃｈａｒｕｍ ｏｆｆｉｃｉｎａｒ
ｕｍ） ライムギ（Ｓｅｃａｌｅ ｃｅｒｅａｌｅ） ジャガイモ（Ｓｏｌａｎｕｍ ｔｕｂｅｒｏｓｕｍ） モロコシ〔Ｓｏｒｇｈｕｍ ｂｉｃｏｌｏｒ（ｓ．ｖｕ
ｌｇａｒｅ）〕 カカオ（Ｔｈｅｏｂｒｏｍａ ｃａｃａｏ） ムラサキツメクサ（Ｔｒｉｆｏｌｉｕｍ ｐｒａｔｅｎ
ｓｅ） 小麦（Ｔｒｉｔｉｃｕｍ ａｅｓｔｉｖｕｍ） トリテイカム、ドラム（Ｔｒｉｔｉｃｕｍ ｄｕｒｕ
ｍ） ソラマメ（Ｖｉｃｉａ ｆａｂａ） ブドウ（Ｖｉｔｉｓ ｖｉｎｉｆｅｒａ） トウモロコシ（Ｚｅａ ｍａｙｓ） その上、化合物Ｉは品種改良および／または遺伝子工学
的方法により、Ｉまたは他の除草剤の作用に対して十分
に抵抗力があるようにされた栽培においても使用され
る。

【０１２１】除草剤またはその有効物質は事前法または
事後法により施用される。有効物質がある種の栽培植物
にうまく適合しない場合は、下部に成長している雑草ま
たは露出している土壌には付着しても、敏感な栽培食物
の葉にできるだけ影響を与えないように、噴霧装置によ
り除草剤を噴霧することができる（後直接撒布、レイ−
バイ）。

【０１２２】化合物Ｉまたはこれを含有する除草剤は、
例えば直接的に噴霧可能な水溶液、粉末、懸濁液、高濃
度の水性、油性またはその他の懸濁液または分散液、エ
マルジョン、油性分散液、ペースト、ダスト剤、散布剤
又は顆粒の形で噴霧、ミスト法、ダスト法、散布法又は
注入法によって適用することができる。適用形式は、完
全に使用目的に基づいて決定される；いずれの場合に
も、本発明の有効物質の可能な限りの微細分が保証され
るべきである。

【０１２３】直接飛散可能の溶液、乳濁液、ペースト又
は油分散液を製造するための不活性添加剤としては、中
位乃至高位の沸点の鉱油留分例えば燈油又はディーゼル
油、更にコールタール油等、並びに植物性又は動物性産
出源の油、脂肪族、環状及び芳香族炭化水素例えば、パ
ラフィン、テトラヒドロナフタリン、アルキル置換ナフ
タリン又はその誘導体、アルキル置換ベンゼンまたはそ
の誘導体、アルコール、例えばメタノール、エタノー
ル、プロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール、
ケトン、シクロヘキサノン等、強極性溶剤、例えばアミ
ン、Ｎ−メチルピロリドン、水が使用される。

【０１２４】水性使用形は乳濁液濃縮物、懸濁液、ペー
スト、又は湿潤可能の粉末、水分散可能の粉末より水の
添加により製造することができる。乳濁液、ペースト又
は油分散液を製造するためには、物質をそのまま又は油
又は溶剤中に溶解して、湿潤剤、接着剤、分散剤又は乳
化剤により水中に均質に混合することができる。しかも
有効物質、湿潤剤、接着剤、分散剤又は乳化剤及び場合
により溶剤又は油より成る濃縮物を製造することもで
き、これは水にて希釈するのに適する。

【０１２５】表面活性物質としては次のものが挙げられ
る：芳香族スルフォン酸、たとえばリグニンスルフォン
酸、フェノールスルフォン酸、ナフタリンスルフォン
酸、ジブチルナフタリンスルフォン酸の各アルカリ塩、
アルカリ土類塩、アンモニウム塩、並びに脂肪酸、アル
キルスルフォネート、アルキルアリールスルフォネー
ト、アルキルスルフェート、ラウリルエーテルスルフェ
ート、脂肪アルコールスルフェートのアルカリ塩及びア
ルカリ土類塩、アンモニウム塩、並びに硫酸化ヘキサデ
カノール、ヘプタデカノール及びオクタデカノールの
塩、並びに硫酸化脂肪アルコールグリコールエーテルの
塩、スルフォン化ナフタリン及びナフタリン誘導体とフ
ォルムアルデヒドとの縮合生成物、ナフタリン或はナフ
タリンスルフォン酸とフェノール及びフォルムアルデヒ
ドとの縮合生成物、ポリオキシエチレン−オクチルフェ
ノールエーテル、エトキシル化イソオクチルフェノー
ル、オクチルフェノール、ノニルフェノール、アルキル
フェノールポリグリコールエーテル、トリブチルフェニ
ルポリグリコールエーテル、アルキルアリールポリエー
テルアルコール、イソトリデシルアルコール、脂肪アル
コールエチレンオキシサイド−縮合物、エトキシル化ヒ
マシ油、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、又はポ
リオキシプロピレン、ラウリルアルコールポリグリコー
ルエーテルアセテート、ソルビットエステル、リグニン
−亜硫酸廃液及びメチルセルロース。

【０１２６】粉末、散布剤及び振りかけ剤は有効物質と
固状担体物質とを混合又は一緒に磨砕することにより製
造することができる。

【０１２７】粒状体例えば被覆−、含浸−及び均質粒状
体は、有効物質を固状担体物質に結合することにより製
造することができる。固状担体物質は鉱物土、例えばシ
リカゲル、珪酸、珪酸ゲル、珪酸塩、滑石、カオリン、
石灰石、石灰、白亜、膠塊粒土、石灰質黄色粘土、粘
土、白雲石、珪藻土、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウ
ム、酸化マグネシウム、磨砕合成樹脂、肥料例えば硫酸
アンモニウム、燐酸アンモニウム、硝酸アンモニウム、
尿素及び植物性生成物例えば穀物粉、樹皮、木材及びク
ルミ穀粉、セルロース粉末及び他の固状担体物質であ
る。

【０１２８】使用形は有効物質を通常０．０１乃至９５
重量％、殊に０．５乃至９０重量％を含有する。この際
有効物質は純度９０〜１００％、殊に９５〜１００％
（ＮＭＲスペクトルによる）で使用される。

【０１２９】本発明の化合物Ｉの製剤例は以下の通りで
ある。

【０１３０】Ｉ．２０重量部の化合物Ｎｏ．Ｉを、アル
キル置換ベンゼン８０重量部、エチレンオキサイド８乃
至１０モルをオレイン酸−Ｎ−モノエタノールアミド１
モルに付加した付加生成物１０重量部、ドデシルベンゼ
ンスルフォン酸のカルシウム塩５重量部及びエチレンオ
キサイド４０モルをヒマシ油１モルに付加した付加生成
物５重量部よりなる混合物中に溶解する。この溶液を１
０００００重量部に注入しかつ細分布することにより有
効物質０．０２重量％を含有する水性分散液が得られ
る。

【０１３１】ＩＩ．２０重量部の化合物Ｎｏ．Ｉを、シ
クロヘキサノン４０重量部、イソブタノール３０重量
部、エチレンオキサイド７モルをイソオクチルフェノー
ル１モルに付加した付加生成物２０重量部、エチレンオ
キサイド４０モルをヒマシ油１モルに付加した付加生成
物１０重量部よりなる混合物中に溶解する。この溶液を
水１０００００重量部に注入し、細分散することにより
有効成分０．０２重量％を含有する水性分散液が得られ
る。

【０１３２】ＩＩＩ．２０重量部の有効物質Ｎｏ．Ｉ
を、シクロヘキサノン２５重量部、沸点２１０乃至２８
０℃の鉱油留分６５重量部及びエチレンオキサイド４０
モルをヒマシ油１モルに付加した付加生成物１０重量部
よりなる混合物中に溶解する。この溶液を水１００００
０重量部に注入し、細分散することにより有効物質０．
０２重量％を含有する水性分散液が得られる。

【０１３３】ＩＶ．２０重量部の有効物質Ｎｏ．Ｉを、
ジイソブチル−ナフタリン−α−スルフォン酸のナトリ
ウム塩３重量部、亜硫酸−廃液よりのリグニンスルフォ
ン酸のナトリウム塩１７重量部及び粉末状珪酸ゲル６０
重量部と充分に混和し、かつハンマーミル中において磨
砕する。この混合物を水２００００重量部に細分布する
ことにより有効物質０．１重量％を含有する噴霧液が得
られる。

【０１３４】Ｖ．３重量部の有効物質Ｎｏ．Ｉを細粒状
カオリン９７重量部と密に混和する。かくして有効物質
３重量％を含有するダスト剤が得られる。

【０１３５】ＶＩ．２０重量部の化合物Ｎｏ．Ｉを、ド
デシルベンゼンスルフォン酸のカルシウム塩２重量部、
脂肪アルコールポリグリコールエーテル８重量部、フェ
ノール−尿素−フォルムアルデヒド−縮合物のナトリウ
ム塩２重量部及びパラフィン系鉱油６８重量部と密に混
和する。安定な油状分散液が得られる。

【０１３６】効果の多様性の拡大のためおよび相乗効果
の達成のため、環状アセタールＩは他の除草性または成
長調節性有効物質の多数の代替物と混合し、一緒に散布
することができる。例えば、混合相手としてはダイアジ
ン、４Ｈ−３，１−ベエンゾオキサジン誘導体、ベンゾ
チアジアジノン、２，６−ジニトロアニリン、Ｎ−フェ
ニルカルバマート、チオールカルバマート、ハロゲンカ
ルボン酸、トリアジン、アミド、尿素、ジフェニルエー
テル、トリアジノンウラシル、ベンゾフラン誘導体、２
位に例えばカルボキシ基またはカルボイミノ基を有する
シクロヘキサン−１，３−ジオン誘導体、キノリンカル
ボン酸誘導体、イミダゾリノン、スルホンアミド、スル
ホニル尿素、アリールオキシ−、ヘテロアリールオキシ
フェノキシプロピオン酸ならびにその塩、エステルおよ
びアミド等が挙げられる。

【０１３７】さらに、化合物Ｉは、単独または他の除草
剤と組み合わせて、さらにまた植物防護剤と混合し、例
えば害虫または植物病菌もしくはバクテリアの防除のた
めの薬剤とともに一緒に散布することが有利でありう
る。また、栄養不足および微量元素不足を無くすために
用いられる無機塩溶液との混合性は興味のあることであ
る。植物毒性のない油および油濃縮物も添加することが
できる。

【０１３８】有効物質の使用量は防除目的、季節、対象
植物および生長段階により、０．００１〜３．０ｋｇ／
ｈａ活性物質（ａ．Ｓ）である。

【０１３９】使用例 式Ｉの環状アセタールの除草効果は温室試験によって示
される：栽培容器として、基質としての腐植土約３．０
％を含有する粘土質砂を入れた植木鉢を使用した。試験
植物の種子は種類により分けて蒔いた。

【０１４０】生育前施用の際、水に懸濁または乳濁させ
た有効物質を種まき直後に微細ノズルにより散布した。
発芽および生育を促進するために、容器に少しだけ散水
し、次いで、植物が根付くまで透明なプラスチック覆い
を被せておいた。この覆いは、試験植物が有効物質によ
り損傷されないならば、試験植物の一様な発芽をもたら
す。

【０１４１】生育後施用の目的のため、試験植物は生長
形体によって、まず高さ３〜１５ｃｍまで生長させ、そ
こではじめて、水に懸濁または乳濁させた有効物質を施
した。そこで、試験植物は直接に種を蒔き、同一容器で
成長させるか、または試験植物をまず発芽植物として分
けて取って、施用の二三日前に試験容器に移植した。生
育後施用の使用量は３．０ｋｇ／ｈａ ａ．Ｓ．であ
る。

【０１４２】植物は種類に依って１０〜２５℃または２
０〜３５℃に保持する。この試験期間は２〜４週間にわ
たった。この期間、植物を育成し、個々の施用に対する
反応を評価した。

【０１４３】０〜１００の等級により評価した。１００
は植物の発芽なし、または少なくとも地上部分の完全な
破滅を意味し、０は損傷なし、または通常の生長経過を
意味する。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ａ０１Ｎ 43/40 １０１ Ａ 43/42 １０１ 43/50 Ａ 43/54 Ｂ 43/56 Ｂ 43/647 43/653 Ａ 43/76 １０１ 43/78 Ａ １０１ 43/80 １０１ １０２ 43/824 43/828 43/832 43/836 Ｃ０７Ｄ 319/08 327/06 407/04 ３０９ 411/04 413/04 ３１９ ３２７ 417/04 ３１９ ３２７ Ａ０１Ｎ 43/82 １０３ １０４ (72)発明者 ウヴェ、ヨーゼフ、フォーゲルバッハー ドイツ、67071、ルートヴィヒスハーフェ ン、ニーデレルトシュトラーセ、56 (72)発明者 エルンスト、バウマン ドイツ、67373、ドゥーデンホーフェン、 ファルケンシュトラーセ、６アー (72)発明者 ハルトマン、ケーニヒ ドイツ、67117、リムブルガーホーフ、ア ルベルト−アインシュタイン−アレー、16 (72)発明者 マティアス、ゲルバー ドイツ、67117、リムブルガーホーフ、ブ ランデンブルガー、シュトラーセ、24 (72)発明者 カール−オットー、ヴェストファレン ドイツ、67346、シュパイァ、マウスベル クヴェーク、58

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 次式Ｉの環状アセタール 【化１】 式中、置換基は次の意味である：Ｒ¹ 、Ｒ² は水素；Ｃ
   ₁ 〜Ｃ₄ −アルキル、この基はそれぞれ１〜５個のハロ
   ゲン原子および／または１〜２個のＣ₁ 〜Ｃ₄ −アルコ
   キシ基を有することができ；フェニル、この基はそれぞ
   れ１〜５個のハロゲン原子および／または１〜２個のＣ
   ₁ 〜Ｃ₄ −アルキル、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルコキシ、Ｃ₁ 〜
   Ｃ₄ −ハロゲンアルキルまたはニトロの各基を有するこ
   とができ；さらに、両方の基は一緒になって、１〜５個
   のハロゲン原子および／またはＣ₁ 〜Ｃ₄ −アルキル基
   により置換されていてもよいＣ₂ 〜Ｃ₆ −アルキレン鎖
   であることができ；Ｙは酸素または硫黄；Ａは基Ａ¹ 〜
   Ａ⁶ ；Ａ¹ はヒドロキシ；Ａ² はハロゲン原子、Ｃ₁ 〜
   Ｃ₄ −ハロゲンアルキルスルホニルオキシ、Ｃ₁ 〜Ｃ₄
   −アルキルスルホニルオキシまたはフルオルスルホニル
   オキシ；Ａ³ はシアノ、ニトロ、ホルミル；Ａ⁴ はフェ
   ニル環、または５個までの基Ｒ³¹〜Ｒ³⁵により置換され
   ていてもよい環中に窒素、硫黄、酸素の群から選ばれた
   ４個までのヘテロ原子を有する５員もしくは６員の飽和
   または不飽和の複素環；ナフチル、または５個までの基
   Ｒ³¹〜Ｒ³⁵により置換されていてもよい環中に窒素、硫
   黄、酸素の群から選ばれた１〜３個のヘテロ原子を有す
   るベンゾ縮合した５員もしくは６員のヘテロ芳香族環；
   Ａ⁵ は７個までの置換基Ｒ³¹〜Ｒ³⁷を有していてもよ
   い、Ｃ₂ 〜Ｃ₆ −アルケニル、Ｃ₃ 〜Ｃ₈ −シクロアル
   ケニル、Ｃ₅ 〜Ｃ₈ −シクロアルカジエニルまたはＣ₂
   〜Ｃ₆ −アルキニルの各基；Ａ⁶ は７個までの置換基Ｒ
   ³¹〜Ｒ³⁷を有していてもよい、Ｃ₁ 〜Ｃ₈ −アルキル基
   またはＣ₃ 〜Ｃ₈ −シクロアルキル基；Ｒ³¹、Ｒ³²、Ｒ
   ³³、Ｒ³⁴、Ｒ³⁵、Ｒ³⁶、Ｒ³⁷は ａ）１〜３個のＣ₁ 〜Ｃ₄ −アルキル基を有することが
   できるＣ₃ 〜Ｃ₈ −シクロアルキル基； ｂ）１〜５個のハロゲン原子および／または１種の次の
   基：Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルコキシ、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −ハロゲンア
   ルコキシ、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルキルチオ、シアノ、Ｃ₃ 〜
   Ｃ₈ −シクロアルキルまたはジ−Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルキル
   アミノを有することができるＣ₁ 〜Ｃ₈ −アルキル基； ｃ）１〜５個のハロゲン原子および／または１種の次の
   基：Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルコキシ、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −ハロゲンア
   ルコキシ、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルキルチオ、Ｃ₃ 〜Ｃ₈ −シ
   クロアルキルまたはジ−Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルキルアミノを
   有することができるＣ₁ 〜Ｃ₈ −アルコキシ基またはＣ
   ₃ 〜Ｃ₅ −シクロアルコキシ基； ｄ）１〜５個のハロゲン原子および／または１種の次の
   基：Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルコキシ、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −ハロゲンア
   ルコキシ、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルキルチオ、Ｃ₃ 〜Ｃ₈ −シ
   クロアルキルまたはジ−Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルキルアミノを
   有することができるＣ₁ 〜Ｃ₄ −アルキルチオ基； ｅ）ジ−Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルキルアミノ基、ジ−Ｃ₁ 〜Ｃ
   ₄ −アルキルアミノオキシ基、Ｃ₅ 〜Ｃ₈ −シクロアル
   カンイミノオキシ基またはＣ₁ 〜Ｃ₁₀−アルカンイミノ
   オキシ基； ｆ）１〜５個のハロゲン原子および／または１種の次の
   基：Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −アルコキシ、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −ハロゲンア
   ルコキシまたはＣ₁ 〜Ｃ₄ −アルキルチオを有すること
   ができるＣ₂ 〜Ｃ₆ −アルケニル基またはＣ₂ 〜Ｃ₆ −
   アルキニル基； ｇ）水素； ｈ）ニトロ、ハロゲン、シアノ、トリ−Ｃ₁ 〜Ｃ₄ −ア
   ルキルシリル；ただし、Ｒ¹ およびＲ² の両方が水素を
   意味するか、またはＲ¹ が水素でＲ²がフェニルを意味
   するとき、Ａはヒドロキシ基ではない。
2. 【請求項２】 Ａ＝Ａ² であるアセタールＩと式Ｘ−Ａ
   ⁴ またはＸ−Ａ⁵ の化合物（ただし、式中、Ｒ¹ 、Ｒ
   ² 、Ｙ、Ａ² 、Ａ⁴ およびＡ⁵ は請求項１に記載の意味
   をもち、Ｘは水素、トリアルキルスタンニル、ジヒドロ
   キシボラニル、ジアルコキシボラニルまたはアルキレン
   ジオキシボラニルを意味する）とを、触媒作用を有する
   パラジウム化合物の存在下に反応させることを特徴とす
   るＡ＝Ａ⁴ またはＡ⁵ である請求項１の環状アセタール
   の製造方法。
3. 【請求項３】 Ａ＝Ａ⁵ であるアセタールＩと対応する
   ジエン、ヘテロジエンまたは１，３−双極子との間の環
   状付加を行うことを特徴とするＡ＝Ａ⁴ である請求項１
   の環状アセタールの製造方法。