JPH0532638A - ピリミジンまたはトリアジン誘導体及び除草剤 - Google Patents

ピリミジンまたはトリアジン誘導体及び除草剤

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JPH0532638A
JPH0532638A JP3213085A JP21308591A JPH0532638A JP H0532638 A JPH0532638 A JP H0532638A JP 3213085 A JP3213085 A JP 3213085A JP 21308591 A JP21308591 A JP 21308591A JP H0532638 A JPH0532638 A JP H0532638A
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compound
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Masahiro Sato
政宏 佐藤
Koichiro Sumi
康一郎 角
Shigehiko Tachikawa
重彦 立川
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Ihara Chemical Industry Co Ltd
Kumiai Chemical Industry Co Ltd
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Ihara Chemical Industry Co Ltd
Kumiai Chemical Industry Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】本発明は、水田および畑作における有害雑草に
対して優れた除草効果を有する新規な除草剤を提供する
にある。 【構成】一般式 【化１】 （式中、Ｒ1は置換されてもよいエテニル基またはエチ
ニル基を示し、Ｒ2は水素原子、アルキル基、２−トリ
メチルシリルエチル基等を示し、Ｒ3及びＲ4は同一また
は相異なりメトキシ基、ハロゲン原子等を示し、Ｘは酸
素原子または硫黄原子を示し、Ｚは窒素原子またはメチ
ン基を示す。）にて表されるピリミジンまたはトリアジ
ン誘導体及びそれらの塩を有効成分として含有する除草
剤。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、新規なピリミジンまた
はトリアジン誘導体及びそれらの塩並びにこれを含有す
る水田、畑及び非農耕地等に適用できる除草剤に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】本出願人らは特開平１−２５０３６６号
公報明細書において次の一般式
【０００３】
【化３】
【０００４】（式中、Ｘ’はハロゲン原子、低級アルキ
ル基または低級アルコキシ基を示し、Ｒは水素原子また
はベンジル基を示し、ｎは０または１、２の整数を示
す。）で表わされる化合物が除草活性を有することを見
出している。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記特
許公報明細書に記載された化合物の除草効果は必ずしも
充分なものとはいえず、さらに優れた除草効果を示す化
合物が望まれている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らはピリミジン
またはトリアジン系化合物について、さらに改良された
化合物を開発することを目的に鋭意研究した結果、ベン
ゼン環上にフェノキシ基の代りにトリフルオロメタンス
ルホニルオキシ基、任意に置換されていてもよいエテニ
ル基または任意に置換されていてもよいエチニル基を導
入した本発明のピリミジンまたはトリアジン誘導体が、
上記公開特許公報記載化合物と比較して一年生はもとよ
り多年生雑草に対しても優れた除草効果を示すことを見
いだし、本発明を完成した。すなわち、本発明は、一般
式〔１〕
【０００７】
【化４】 ｛式中、Ｒ1はトリフルオロメタンスルホニルオキシ
基、式−Ｃ（Ｒ5）＝ＣＲ6Ｒ7（式中、Ｒ5は水素原子、
クロル原子、低級アルキル基または低級アルコキシ基を
示し、Ｒ6は水素原子、低級アルキル基、シアノ基また
はニトロ基を示し、Ｒ7は水素原子、低級アルキル基、
フェニル基、アルコキシカルボニル基、ハロアルコキシ
カルボニル基、フェノキシカルボニル基、シアノ基、ニ
トロ基、チエニル基、フリル基またはピリジル基を示し
す。）または式
【０００８】
【化５】
【０００９】（式中、Ｒ8は水素原子、低級アルキル
基、低級アルケニル基、低級アルコキシ基、アルコキシ
アルキル基、アルキルチオアルキル基、フェニル基、ハ
ロアルキル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル
基、トリメチルシリル基、シアノアルキル基、トリフル
オロメチル基、ジメチルアミノアルキル基またはアシル
オキシアルキル基を示す。）で表される基を示し、Ｒ2
は水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級
アルキニル基、ベンジル基、２−トリメチルシリルエチ
ル基、アルコキシアルキル基、アルキルチオアルキル
基、アルコキシカルボニルアルキル基、シアノアルキル
基、ニトロアルキル基、アルカリ金属、アルカリ土類金
属または有機アミンのカチオンを示し、Ｒ3及びＲ4は同
一または相異なりハロゲン原子、低級アルキル基、低級
アルコキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメ
チル基または低級アルキル基で置換されていてもよいア
ミノ基を示し、Ｘは酸素原子または硫黄原子を示し、Ｚ
は窒素原子またはメチン基を示す。｝にて表されるピリ
ミジンまたはトリアジン誘導体及びそれらの塩並びにこ
れを有効成分として含有する除草剤である。
【００１０】ここで一般式〔１〕における好適な置換基
を例示すると、Ｒ2のうち低級アルキル基としてはメチ
ル基、エチル基、プロピル基、低級アルケニル基として
はアリル基、低級アルキニル基としてはプロパルギル
基、アルコキシアルキル基としてはメトキシメチル基、
アルキルチオアルキル基としてはメチルチオメチル基、
アルコキシカルボニルアルキル基としてはメトキシカル
ボニルメチル基、１−メトキシカルボニルエチル基、シ
アノアルキル基としてはシアノメチル基、ニトロアルキ
ル基としてはニトロメチル基、アルカリ金属としてはナ
トリウム原子、カリウム原子、アルカリ土類金属として
はカルシウム原子、有機アミンのカチオンとしてはジエ
チルアンモニウムカチオン、ジイソプロピルアンモニウ
ムカチオン等があげられる。
【００１１】また、Ｒ3及びＲ4においてはハロゲン原子
として塩素原子、低級アルキル基としてメチル基、低級
アルコキシ基としてメトキシ基、さらに、低級アルキル
基で置換されていてもよいアミノ基としてはジメチルア
ミノ基等があげられる。Ｒ5としては低級アルキル基と
してメチル基、エチル基、低級アルコキシ基としてはメ
トキシ基、エトキシ基等があげられる。Ｒ6としては低
級アルキル基としてメチル基、エチル基等があげられ
る。Ｒ7としてはハロゲン原子として塩素原子、低級ア
ルキル基としてメチル基、エチル基、アルコキシカルボ
ニル基としてメトキシカルボニル基、トリフルオロエト
キシカルボニル基、フェノキシカルボニル基等があげら
れる。Ｒ8としては低級アルキル基としてメチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、低級アルケニル基とし
てはアリル基、低級アルコキシ基としてエトキシ基、ア
ルコキシアルキル基としてメトキシメチル基、アルキル
チオアルキル基としてメチルチオメチル基、ハロアルキ
ル基としてクロロプロピル基、シクロアルキル基として
シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロアルケニ
ル基として１−シクロヘキセニル基、シアノアルキル基
としてシアノプロピル基、アシルオキシアルキル基とし
てアセトキシメチル基等があげられる。次に、一般式
〔１〕で表される本発明化合物を表１Ａ〜Ｆに例示す
る。尚、化合物番号は以後の記載において参照される。
【００１２】
【表１Ａ】
【００１３】
【表１Ｂ】
【００１４】
【表１Ｃ】
【００１５】
【表１Ｄ】
【００１６】
【表１Ｅ】
【００１７】
【表１Ｆ】
【００１８】本発明化合物は下記の方法に従って製造す
ることができるが、これらの方法に限定されるものでは
ない。 製造法〈Ａ〉 下記反応式１に示すように、一般式〔１〕で示される本
発明化合物は一般式〔２〕で示される化合物と一般式
〔３〕で示されるピリミジン化合物もしくはトリアジン
化合物とを塩基の存在下、好ましくは室温から溶媒の沸
点の温度範囲内で反応させることによって製造すること
ができる。
【００１９】
【反応式１】
【００２０】（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｘ及びＺは
前記と同じ意味を示し、Ｌはハロゲン原子、アルキルス
ルホニル基、ベンジルスルホニル基または置換ベンジル
スルホニル基を示す。）
【００２１】ここで使用される塩基としては、例えば金
属ナトリウム、金属カリウム等のアルカリ金属、水素化
ナトリウム、水素化カリウム、水素化カルシウム等の水
素化アルカリ金属及び水素化アルカリ土類金属、炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム等の炭酸塩
類、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の重炭酸
塩類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水酸化ア
ルカリ金属、酢酸カリウム等の有機酸塩、ナトリウムメ
チラート等のアルコラート等があげられる。さらに、ピ
リジン、トリエチルアミン等の有機塩基を使用すること
もできる。また、使用される溶媒としてはベンゼン、ト
ルエン等の炭化水素系溶媒、塩化メチレン、クロロホル
ム等のハロゲン化炭化水素系溶媒、エタノール、メタノ
ール等のアルコール系溶媒、エチルエーテル、テトラハ
イドロフラン、１,２−ジメトキシエタン等のエーテル
系溶媒、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ Ｎ−ジメチ
ルアセトアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン
系極性溶媒、酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル系溶
媒、さらにアセトン、メチルエチルケトン等のケトン系
溶媒があげられる。無溶媒下で反応を行う場合の条件は
特定されてはいないが、好ましくは塩基として無水炭酸
カリウムのようなアルカリ金属の炭酸塩を使用して１２
０〜１６０℃の温度範囲内で反応させることもできる。
【００２２】製造法〈Ａ−１〉 一般式〔２〕で示される化合物のうち、Ｒ1がトリフル
オロメタンスルホニルオキシ基で、Ｘが酸素原子である
一般式〔５〕で示される化合物は、一般式〔４〕で示さ
れる化合物とトリフルオロメタンスルホン酸無水物とを
塩基の存在下、好ましくは−２０℃〜５℃の温度範囲内
で反応させることによって製造することができる。
【００２３】
【反応式２】 （式中Ｒ2は前記と同じ意味を表す。）
【００２４】ここで使用される塩基及び溶媒はＡ法と同
様のものを使用することができるが、好ましい塩基とし
てはピリジン、ジメチルアミノピリジン、トリエチルア
ミン等の有機アミン類、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素
カリウム等の重炭酸塩類、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム等の炭酸塩類があげられる。また、好ましい溶媒とし
ては塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水
素系溶媒、エチルエーテル、テトラハイドロフラン等の
エーテル系溶媒、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ Ｎ
−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド等の非
プロトン系極性溶媒等があげられる。
【００２５】製造法〈Ａ−２〉 一般式〔２〕で示される化合物のうち、Ｒ1がトリフル
オロメタンスルホニルオキシ基以外で、Ｘが酸素原子で
ある一般式〔８〕で示される化合物は一般式〔６〕で示
される化合物と一般式〔７〕で示される化合物を触媒と
塩基の存在下、好ましくは室温から溶媒の沸点の温度範
囲で反応させることによって製造することができる。
【００２６】
【反応式３】
【００２７】（式中Ｒ1は式−Ｃ（Ｒ5）＝ＣＲ6ＣＲ7ま
たは化５で表される基を示し、またＲ2、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7
及びＲ8は前記と同じ意味を表す。Ｒ9はハロゲン原子ま
たはトリフルオロメタンスルホニルオキシ基を示し、Ｙ
は水素原子またはトリアルキルスズ基を示す。）
【００２８】ここで使用される触媒としては、好ましく
はテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム
（０）、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウムジ
クロライド等があげられるが、その他として（酢酸パラ
ジウム、トリフェニルホスフィン）、｛酢酸パラジウ
ム、トリス（O−トリル）ホスフィン｝等のパラジウム
触媒が使用される。使用される塩基としては炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウム等の炭酸塩、炭酸水素ナトリウム等
の重炭酸塩またはトリエチルアミン、ピリジン等の有機
アミンがあげられる。また、使用される溶媒としてはベ
ンゼン、トルエン等の炭化水素系溶媒、エタノール、メ
タノール等のアルコール系溶媒、エチルエーテル、テト
ラハイドロフラン、１,２−ジメトキシエタン等のエー
テル系溶媒、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ Ｎ−ジ
メチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロ
トン系極性溶媒、さらに、酢酸エチル等のエステル系溶
媒、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、
その他アセトニトリル等があげられる。
【００２９】製造法〈Ａ−３〉 一般式〔２〕で示される化合物のうち、Ｒ1がＣＨ＝Ｃ
Ｒ6Ｒ7で、Ｘが酸素原子である一般式〔１１〕で示され
る化合物は一般式
〔９〕で示される化合物に塩基の存在
下カルボニル化合物を、好ましくは−７８℃〜５０℃の
温度範囲内で反応させて得られる一般式〔１０〕で示さ
れる化合物に、好ましくは−７８℃から室温の温度範囲
内で脱メチル化剤を反応させることによっても製造する
ことができる。
【００３０】
【反応式４】
【００３１】上記ウィッティヒ（Ｗｉｔｔｉｇ）反応で
使用される塩基としては、好ましくはアルキルリチウ
ム、リチウム−ビス（トリアルキルシリル）アミド等の
リチウム試薬、水素化ナトリウム等の水素化アルカリ金
属、炭酸カリウム等の炭酸塩類、カリウム−ｔｅｒｔ−
ブトキサイド等のアルカリ金属アルコキサイド類等があ
げられるが、その他ナトリウムアミド等も使用すること
ができる。また、脱メチル化に使用される試薬として
は、好ましくは三臭化ホウ素、三フッ化ホウ素、三塩化
ホウ素、塩化アルミニウム等のルイス酸があげられる
が、ヨウ化水素酸、臭化水素酸等のハロゲン化水素酸
類、トリフルオロ酢酸、ピリジンの塩酸塩、ヨウ化マグ
ネシウムエーテル錯体、リチウムビフェニル、ヨウ化リ
チウム、ナトリウムチオラート、リチウムジフェニルホ
スフィド等を使用することもできる。使用される溶媒と
しては塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン系溶
媒、ヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素系溶
媒、エチルエーテル、テトラハイドロフラン等のエーテ
ル系溶媒、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ Ｎ−ジメ
チルアセトアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロト
ン系極性溶媒、酢酸エチル等のエステル系溶媒、さらに
コリジン、ルチジン、ピリジン等の芳香族アミン類、そ
の他アセトニトリル、無水酢酸、水等があげられる。
【００３２】製造法〈Ａ−４〉 一般式〔２〕で示される化合物のうち、Ｘがイオウ原子
である一般式〔１３〕で示される化合物は、一般式〔１
２〕で示されるアントラニル酸誘導体に、好ましくは１
０℃以下で亜硝酸ナトリウムを反応させて得られるジア
ゾニウム塩に二硫化ナトリウムを反応させることによっ
て製造することができる。
【００３３】
【反応式５】 （式中、Ｒ1、Ｒ2は前記と同じ意味を表す。）
【００３４】製造法〈Ｂ〉 一般式〔１〕で示される本発明化合物は式〔１４〕で表
される化合物を用いて下記の反応を行うことにより製造
することができる。尚、触媒、塩基及び溶媒は製造法
〈Ａ−２〉と同じものを用いることができる。
【００３５】
【反応式６】
【００３６】（式中、Ｒ1は式−Ｃ（Ｒ5）＝ＣＲ6Ｒ7ま
たは化２で表される基を示し、Ｒ3及びＲ4は同一または
相異なり低級アルキル基、低級アルコキシ基、ジフルオ
ロメトキシ基、トリフルオロメチル基または低級アルキ
ル基で置換されていてもよいアミノ基を示し、Ｒ2、
Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｘ、Ｙ及びＺは前記と同じ
意味を示す。）
【００３７】製造法〈Ｃ〉 さらに、一般式〔１〕で示される本発明化合物のうちＲ
2が水素である一般式〔１６〕で示される化合物は、エ
ステル残基を加水分解することによって得ることができ
る。その方法は特定されてはいないが、本発明では一般
式〔１〕でＲ2が２−トリメチルシリルエチル基である
一般式〔１５〕で示される化合物に、好ましくは室温か
ら溶媒の沸点の温度範囲内でフッ素試薬を反応させて製
造した。
【００３８】
【反応式７】 （式中、Ｘ、Ｙ、Ｒ1、Ｒ3及びＲ4は前記と同じ意味を
表す。）
【００３９】ここで使用するフッ素試薬としては、好ま
しくはトリブチルアンモニウムフルオライド等の四級ア
ンモニウムフルオライド化合物等があげられるが、その
他フッ化カリウム、フッ化セシウム等のアルカリ金属フ
ルオライド等があげられる。また、使用される溶媒とし
てはベンゼン、トルエン等の炭化水素系溶媒、塩化メチ
レン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素系溶媒、エ
タノール、メタノール等のアルコール系溶媒、エチルエ
ーテル、テトラハイドロフラン、１,２−ジメトキシエ
タン等のエーテル系溶媒、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、Ｎ Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキ
シド等の非プロトン系極性溶媒、酢酸エチル、酢酸メチ
ル等のエステル系溶媒、さらにアセトン、メチルエチル
ケトン等のケトン系溶媒等があげられる。
【００４０】製造法〈Ｄ〉 また、一般式〔１〕でＲ2がアルカリ金属、アルカリ土
類金属、または有機アミン等のカチオンを示す一般式
〔１７〕で示される化合物は、例えば製造法〈Ｃ〉によ
って製造される一般式〔１〕でＲ2が水素原子である一
般式〔１６〕で示される化合物と塩基とを好ましくは室
温から溶媒の沸点の温度範囲内で反応させることにより
製造することができる。
【００４１】
【反応式８】
【００４２】（式中、Ｒ1、Ｒ3、Ｒ4、Ｘ、Ｙは前記と
同じ意味を表す。Ｍはナトリウム、カリウム等のアルカ
リ金属、カルシウム等のアルカリ土類金属、有機アミン
のカチオンを示す。）
【００４３】ここで使用される塩基としては、例えば金
属ナトリウム、金属カリウム等のアルカリ金属、水素化
ナトリウム、水素化カリウム、水素化カルシウム等の水
素化アルカリ金属及び水素化アルカリ土類金属、炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム等の炭酸塩
類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水酸化アル
カリ金属が使用できる。さらに、有機塩基としては、ア
ンモニア、メチルアミン等のモノアルキルアミン類、ジ
メチルアミン等のジアルキルアミン類、トリエチルアミ
ン等のトリアルキルアミン類、更にピリジン等の芳香族
アミン類があげられる。
【００４４】また、使用される溶媒としては、水、ベン
ゼン、トルエン等の炭化水素系溶媒、塩化メチレン、ク
ロロホルム等のハロゲン化炭化水素系溶媒、エタノー
ル、メタノール等のアルコール系溶媒、エチルエーテ
ル、テトラハイドロフラン、１,２−ジメトキシエタ
ン、１,４−ジオキサンのようなエーテル系溶媒、さら
に、酢酸エチル等のエステル系溶媒、アセトン、メチル
エチルケトン等のケトン系溶媒、その他アセトニトリル
等があげられる。
【００４５】製造法〈Ｅ〉 また、一般式〔１〕でＲ2が低級アルキル基、低級アル
ケニル基、低級アルキニル基、アルコキシアルキル基、
ベンジル基、アルキルチオアルキル基、アルコキシカル
ボニルアルキル基、シアノアルキル基、ニトロアルキル
基を表す一般式〔１９〕で示される化合物は、例えば製
造法〈Ｃ〉によって製造される一般式〔１〕でＲ2が水
素原子である一般式〔１６〕で示される化合物と一般式
〔１８〕で示される化合物を適当な塩基の存在下、好ま
しくは室温から溶媒の沸点の温度範囲内で反応させるこ
とによっても製造することができる。
【００４６】
【反応式９】
【００４７】（式中Ｒ1、Ｒ3、Ｒ4、Ｘ、Ｙ、Ｌは前記
と同じ意味を示し、Ｒ10は低級アルキル基、低級アルケ
ニル基、低級アルキニル基、アルコキシアルキル基、ベ
ンジル基、アルキルチオアルキル基、シアノアルキル
基、ニトロアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル
基を表す）
【００４８】ここで使用される塩基としては、例えば金
属ナトリウム、金属カリウム等のアルカリ金属、水素化
ナトリウム、水素化カリウム等の水素化アルカリ金属、
炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、炭酸水素
ナトリウム、炭酸水素カリウム等の重炭酸塩類、または
トリエチルアミン、Ｎ,Ｎ−ジイソプロピルエチルアミ
ン、ピリジン等の有機アミン類が使用できる。また、使
用される溶媒としてはベンゼン、トルエン等の炭化水素
系溶媒、エチルエーテル、テトラハイドロフラン、１,
２−ジメトキシエタン、１,４−ジオキサンのようなエ
ーテル系溶媒、さらに、酢酸エチル等のエステル系溶
媒、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、
塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒、Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルアセトア
ミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン系極性溶
媒、その他アセトニトリル等があげられる。
【００４９】
【実施例】次に実施例をあげて本発明化合物の製造法を
具体的に説明する。 実施例１ ２−［（４,６−ジメトキシピリミジン−２−イル）オ
キシ］−６−（１−プロペニル）安息香酸２−トリメチ
ルシリルエチル（化合物１）の合成 ５０ｍｌ容量のナスフラスコに６−（１−プロペニル）
サリチル酸 ２−トリメチルシリルエチル（３.１ｇ、
１１.０ｍＭ）と４,６−ジメトキシ−２−メタンスルホ
ニルピリミジン（２.４ｇ、１１.０ｍＭ）、炭酸カリウ
ム（１.８ｇ、１３.０ｍＭ）及びＮ,Ｎ−ジメチルホル
ムアミド（以下ＤＭＦと略す）１０ｍｌをいれ、８０℃
において１時間反応させた。冷却した後、減圧下でＤＭ
Ｆを留去し、残査を酢酸エチルに溶解し、水、飽和食塩
水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥、濃縮して得られ
た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製
して目的物（無色透明粘稠液体、２.０ｇ、収率４７.６
％）を得た。
【００５０】実施例２ ２−［（４,６−ジメトキシピリミジン−２−イル）オ
キシ］−６−（１−プロペニル）安息香酸（化合物２）
の合成 ５０ｍｌ容量のナスフラスコに２−［（４,６−ジメト
キシピリミジン−２−イル）オキシ］−６−（１−プロ
ペニル）安息香酸 （２−トリメチルシリル）エチル
（２.０ｇ、５.０ｍＭ）をテトラハイドロフラン（２０
ｍｌ、以下ＴＨＦと略す）に溶解して、テトラブチルア
ンモニウムフルオライド水和物（３.５ｇ、１３.３ｍ
Ｍ）を少量ずつ加えた。室温にて２時間攪拌した後、減
圧下でＴＨＦを留去した。残渣に水を加え、１０％塩酸
でｐＨを３に調製して酢酸エチルで抽出した。水、飽和
食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥、濃縮して得
られた残渣をヘキサンで洗浄し、完全に溶媒を留去する
ことにより目的物（赤褐色ガラス状物質、１.０ｇ、収
率６６.７％）を得た。
【００５１】実施例３ ２−［（４,６−ジメトキシピリミジン−２−イル）オ
キシ］−６−ビニル安息香酸２−トリメチルシリルエチ
ル（化合物４１）の合成 温度計、冷却管及び窒素導入管を付した１００ｍｌ容量
のフラスコに２−［（４,６−ジメトキシピリミジン−
２−イル）オキシ］−６−トリフルオロメタンスルホニ
ルオキシ安息香酸２−トリメチルシリルエチル（３.１
５ｇ、６.０ｍＭ）とテトラキス（トリフェニルホスフ
ィン）パラジウム（０）（４００ｍｇ、０.３４ｍ
Ｍ）、トルエン（３０ｍｌ）をいれ、窒素気流下室温に
おいて１時間攪拌した。２,６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル
−４−メチルフェノール（触媒量）を加えた後にビニル
トリブチルスズ（３.１７ｇ、１０.０ｍＭ）を加え、８
０〜９０℃で３時間反応させた。冷却した後、トルエン
を加え、有機層を水、飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナト
リウムで乾燥、濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーにて精製して目的物（橙色透明粘
稠液体、０.５０ｇ、収率２０.８％）を得た。
【００５２】実施例４ ２−［（４,６−ジメトキシピリミジン−２−イル）オ
キシ］−６−（１−ペンチニル）安息香酸２−トリメチ
ルシリルエチル（化合物５２）の合成 温度計、冷却管及び窒素導入管を付した１００ｍｌ容量
のフラスコにに２−［（４,６−ジメトキシピリミジン
−２−イル）オキシ］−６−トリフルオロメタンスルホ
ニルオキシ安息香酸２−トリメチルシリルエチル（４.
７２ｇ、９.０ｍＭ）とビス（トリフェニルホスフィ
ン）パラジウムジクロライド（３００ｍｇ、０.４ｍ
Ｍ）、ＤＭＦ（３０ｍｌ）、トリエチルアミン（５ｍ
ｌ）をいれ、窒素気流下室温において１時間攪拌した。
１−ペンチン（２.０ｇ、２９.４０ｍＭ）を加え、８０
〜９０℃で３時間反応させた。冷却した後、氷水中にそ
そぎ入れ、酢酸エチルで抽出、有機層を水、飽和食塩水
で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥、濃縮して得られた
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し
て目的物（赤褐色透明粘稠液体、２.５０ｇ、収率６２.
８％）を得た。
【００５３】実施例５ ２−［（４,６−ジメトキシピリミジン−２−イル）オ
キシ］−６−（１−ペンチニル）安息香酸ジイソプロピ
ルアンモニウム（化合物５３）の合成 １００ｍｌ容量のナスフラスコ中にＴＨＦ（５０ｍｌ）
に溶解した２−［（４,６−ジメトキシピリミジン−２
−イル）オキシ］−６−（１−ペンチニル）安息香酸２
−トリメチルシリルエチル（２.１０ｇ、４.７ｍＭ）を
入れ、テトラブチルアンモニウムフルオライド水和物
（１Ｍ−ＴＨＦ溶液、１４.２ｍｌ、１４.２ｍＭ）を加
えて室温で３時間攪拌した。減圧下でＴＨＦを留去し、
水を加え、１０％塩酸でｐＨを３に調整した後、酢酸エ
チルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄、無水
硫酸ナトリウムで乾燥、濃縮して得られた残渣をジイソ
プロピルアミン（１.０１ｇ、１０.０ｍＭ）を溶解した
メタノール（５０ｍｌ）に加え、５０℃において２時間
攪拌した。冷却後溶媒を留去し、イソプロピルエーテル
より再結晶して目的物（淡黄色粒状結晶、１.７４ｇ、
収率８３.７％）を得た。
【００５４】実施例６ ２−［（４,６−ジメトキシピリミジン−２−イル）オ
キシ］−６−（１−ペンチニル）安息香酸メチル（化合
物５４）の合成 ５０ｍｌ容量のナスフラスコに２−［（４,６−ジメト
キシピリミジン−２−イル）オキシ］−６−（１−ペン
チニル）安息香酸 ジイソプロピルアンモニウム（１.
００ｇ、２.３ｍＭ）をテトラハイドロフラン（２０ｍ
ｌ）−ＤＭＦ（１０ｍｌ）に溶解して、ヨウ化メチル
（１.４ｇ、１０.０ｍＭ）を少量ずつ加えた。５０℃に
おいて２時間攪拌した後、減圧下でＴＨＦ−ＤＭＦを留
去した。残渣に水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層
を水、飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥、
濃縮して得られた残渣にフロリジールを適当量加え、イ
ソプロピルエーテルで溶出させた。減圧下で溶媒を留去
することにより目的物（黄色粘稠液体、０.６１ｇ、収
率７６.３％）を得た。
【００５５】本発明の除草剤は、一般式〔１〕で示され
るピリミジンまたはトリアジン誘導体を有効成分として
なる。本発明化合物を除草剤として使用するには本発明
化合物それ自体で用いてもよいが、製剤化に一般的に用
いられる担体、界面活性剤、分散剤または補助剤等を配
合して、粉剤、水和剤、乳剤、微粒剤または粒剤等に製
剤して使用することもできる。
【００５６】製剤化に際して用いられる担体としては、
例えばジークライト、タルク、ベントナイト、クレー、
カオリン、珪藻土、ホワイトカーボン、バーミキュライ
ト、炭酸カルシウム、消石灰、珪砂、硫安、尿素等の固
体担体、イソプロピルアルコール、キシレン、シクロヘ
キサノン、メチルナフタレン等の液体担体等があげられ
る。
【００５７】界面活性剤及び分散剤としては、例えばア
ルキルベンゼンスルホン酸金属塩、ジナフチルメタンジ
スルホン酸金属塩、アルコール硫酸エステル塩、アルキ
ルアリールスルホン酸塩、リグニンスルホン酸塩、ポリ
オキシエチレングリコールエーテル、ポリオキシエチレ
ンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレンソル
ビタンモノアルキレート等があげられる。補助剤として
は、例えばカルボキシメチルセルロース、ポリエチレン
グリコール、アラビアゴム等があげられる。使用に際し
ては適当な濃度に希釈して散布するかまたは直接施用す
る。
【００５８】本発明の除草剤は茎葉散布、土壌施用また
は水面施用等により使用することができる。有効成分の
配合割合については必要に応じて適宜選ばれるが、粉剤
または粒剤とする場合は０.０１〜１０％（重量）、好
ましくは０.０５〜５％（重量）の範囲から適宜選ぶの
がよい。また、乳剤及び水和剤とする場合は１〜５０％
（重量）、好ましくは５〜２０％（重量）の範囲から適
宜選ぶのがよい。
【００５９】本発明の除草剤の施用量は使用される化合
物の種類、対象雑草、発生傾向、環境条件ならびに使用
する剤型等によってかわるが、粉剤及び粒剤のようにそ
のまま使用する場合は、有効成分として１０アール当り
０.１ｇ〜５ｋｇ、好ましくは１ｇ〜１ｋｇの範囲から
適宜選ぶのがよい。また、乳剤及び水和剤とする場合の
ように液状で使用する場合は、０.１〜５０,０００ｐｐ
ｍ、好ましくは１０〜１０,０００ｐｐｍの範囲から適
宜選ぶのがよい。
【００６０】また、本発明の化合物は必要に応じて殺虫
剤、殺菌剤、他の除草剤、植物生長調節剤、肥料等と混
用してもよい。次に代表的な製剤例をあげて製剤方法を
具体的に説明する。化合物、添加剤の種類及び配合比率
は、これのみに限定されることなく広い範囲で変更可能
である。以下の説明において「部」は重量部を意味す
る。
【００６１】製剤例１ 水和剤 化合物（６４）の１０部にエマルゲン（花王株式会社の
登録商標）８１０の０.５部、デモール（花王株式会社
の登録商標）Ｎの０.５部、クニライト（クニミネ工業
株式会社の登録商標）２０１の２０部、ジークライト
（ジークライト株式会社の登録商標）ＣＡの６９部を混
合粉砕し、水和剤を得る。
【００６２】製剤例２ 水和剤 化合物（５８）の１０部にエマルゲン８１０の０.５
部、デモールＮの０.５部、クニライト２０１の２０
部、カープレックス８０の５部、ジークライトＣＡの６
４部を混合粉砕し、水和剤を得る。
【００６３】製剤例３ 水和剤（炭酸カルシウム処方） 化合物（１８）の１０部にデモールＮの０．５部、エマ
ール（花王アトラス株式会社の登録商標）１０の０．５
部、クニライト３０１の２０部、カープレックス８０の
５部、炭酸カルシウムの６４部を混合粉砕し、水和剤を
得る。
【００６４】製剤例４ 乳剤 化合物（３８）の３０部にキシレンとイソホロンの等量
混合物６０部、界面活性剤ソルポール（東邦化学工業株
式会社の登録商標）８００Ａの１０部を加え、これらを
よくかきまぜることによって乳剤を得る。
【００６５】製剤例５ 粒剤 化合物（２）の３部、タルクとベントナイトを１：３の
割合の混合した増量剤の７７部、ホワイトカーボンの５
部、界面活性剤ソルポール８００Ａの５部に水１０部を
加え、よく練ってペースト状としたものを直径０.７ｍ
ｍのふるい穴から押し出して乾燥した後に０.５〜１ｍ
ｍの長さに切断し、粒剤を得る。
【００６６】次に試験例をあげて本発明化合物の奏する
効果を説明する。 試験例１（水田土壌処理による除草効果試験） １００ｃｍ2プラスチックポットに水田土壌を充填し、
代掻後、タイヌビエ(Ec)、コナギ(Mo)及びホタルイ(Sc)
の各種子を播種し、水深３ｃｍに湛水した。翌日、製剤
例１に準じて調製した水和剤を水で希釈し、水面滴下処
理した。施用量は、有効成分を１０アール当り１００ｇ
とした。その後、温室内で育成し、処理２１日目に表２
の基準に従い、除草効果を調査した。その結果を表３に
示した。
【００６７】
【表２】
【００６８】
【表３】
【００６９】試験例２（畑地土壌処理による除草効果試
験） １２０ｃｍ2プラスチックポットに畑地土壌を充填し、
食用ビエ(Ec)、オオイヌタデ(Po)、アオビユ(Am)、シロ
ザ(Ch)、コゴメガヤツリ(Ci)の各種子を播種して覆土し
た。製剤例１に準じて調製した水和剤を水で希釈し、１
０アール当り有効成分が１００ｇになる様に、１０アー
ル当り１００ｌを小型噴霧器で土壌表面に均一に散布し
た。その後、温室内で育成し、処理２１日目に表２の基
準に従って、除草効果を調査した。その結果を表４に示
す。
【００７０】
【表４】
【００７１】試験例３（畑地茎葉処理による除草効果試
験） １２０ｃｍ2プラスチックポットに畑地土壌を充填し、
食用ビエ(Ec)、オオイヌタデ(Po)、アオビユ(Am)、シロ
ザ(Ch)、コゴメガヤツリ(Ci)の各種子を播種し、温室内
で２週間育成後、製剤例１に準じて調製した水和剤を水
に希釈し、１０アール当り有効成分が１００ｇになる様
に、１０アール当り１００ｌを小型噴霧器で植物体の上
方から全体に茎葉散布処理した。その後、温室内で育成
し、処理１４日目に表２の基準に従って、除草効果を調
査した。その結果を表５に示す。
【００７２】
【表５】
【００７３】
【発明の効果】一般式〔１〕で表される本発明の化合物
及びその塩は、畑地において問題となる種々の雑草、例
えばオオイヌタデ、アオビユ、シロザ、ハコベ、イチ
ビ、アメリカキンゴジカ、アメリカツノクサネム、ノア
サガオ、オナモミ等の広葉雑草をはじめ、ハマスゲ、キ
ハマスゲ、ヒメクグ、カヤツリグサ、コゴメガヤツリ等
の多年生および１年生カヤツリグサ科雑草、ヒエ、メヒ
シバ、エノコログサ、スズメノカタビラ、ジョンソング
ラス、ノスズメノテッポウ、野生エンバク等のイネ科雑
草の発芽前から生育期の広い範囲にわたって優れた除草
効果を発揮する。また、水田に発生するタイヌビエ、タ
マガヤツリ、コナギ等の一年生雑草及びウリカワ、オモ
ダカ、ミズガヤツリ、クログワイ、ホタルイ、ヘラオモ
ダカ等の多年生雑草を防除することもできる。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成４年８月１９日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正内容】
【書類名】 明細書
【発明の名称】 ピリミジンまたはトリアジン
誘導体及び除草剤
【特許請求の範囲】
【化１】 （式中、Ｒ１はトリフルオロメタンスルホニルオキシ
基、式−Ｃ（Ｒ５）＝ＣＲ６Ｒ７（式中、Ｒ５は水素原
子、クロル原子、低級アルキル基または低級アルコキシ
基を示し、Ｒ６は水素原子、低級アルキル基、シアノ基
またはニトロ基を示し、Ｒ７は水素原子、低級アルキル
基、フェニル基、アルコキシカルボニル基、ハロアルコ
キシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、シアノ
基、ニトロ基、チエニル基、フリル基またはピリジル基
を示す。）または式
【化２】 （式中、Ｒ８は水素原子、低級アルキル基、低級アルケ
ニル基、低級アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ア
ルキルチオアルキル基、フェニル基、ハロアルキル基、
シクロアルキル基、シクロアルケニル基、トリメチルシ
リル基、シアノアルキル基、トリフルオロメチル基、ジ
メチルアミノアルキル基またはアシルオキシアルキル基
を示す。）で表される基を示し、Ｒ２は水素原子、低級
アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、ベ
ンジル基、２−トリメチルシリルエチル基、アルコキシ
アルキル基、アルキルチオアルキル基、アルコキシカル
ボニルアルキル基、シアノアルキル基、ニトロアルキル
基、アルカリ金属、アルカリ土類金属または有機アミン
のカチオンを示し、Ｒ３及びＲ４は同一または相異なり
ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ジ
フルオロメトキシ基、トリフルオロメチル基または低級
アルキル基で置換されていてもよいアミノ基を示し、Ｘ
は酸素原子または硫黄原子を示し、Ｚは窒素原子または
メチン基を示す。｝にて表されるピリミジンまたはトリ
アジン誘導体及びそれらの塩。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、新規なピリミジンまた
はトリアジン誘導体及びそれらの塩並びにこれを含有す
る水田、畑及び非農耕地等に適用できる除草剤に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】本出願人らは特開平１−２５０３６６号
公報明細書において次の一般式
【０００３】
【化３】
【０００４】（式中、Ｘ’はハロゲン原子、低級アルキ
ル基または低級アルコキシ基を示し、Ｒは水素原子また
はベンジル基を示し、ｎは０または１、２の整数を示
す。）で表わされる化合物が除草活性を有することを見
出している。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記特
許公報明細書に記載された化合物の除草効果は必ずしも
充分なものとはいえず、さらに優れた除草効果を示す化
合物が望まれている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らはピリミジン
またはトリアジン系化合物について、さらに改良された
化合物を開発することを目的に鋭意研究した結果、ベン
ゼン環上にフェノキシ基の代りにトリフルオロメタンス
ルホニルオキシ基、任意に置換されていてもよいエテニ
ル基または任意に置換されていてもよいエチニル基を導
入した本発明のピリミジンまたはトリアジン誘導体が、
上記公開特許公報記載化合物と比較して一年生はもとよ
り多年生雑草に対しても優れた除草効果を示すことを見
いだし、本発明を完成した。すなわち、本発明は、一般
式〔１〕
【０００７】
【化４】 ｛式中、Ｒ１はトリフルオロメタンスルホニルオキシ
基、式−Ｃ（Ｒ５）＝ＣＲ６Ｒ７（式中、Ｒ５は水素原
子、クロル原子、低級アルキル基または低級アルコキシ
基を示し、Ｒ６は水素原子、低級アルキル基、シアノ基
またはニトロ基を示し、Ｒ７は水素原子、低級アルキル
基、フェニル基、アルコキシカルボニル基、ハロアルコ
キシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、シアノ
基、ニトロ基、チェニル基、フリル基またはピリジル基
を示しす。）または式
【０００８】
【化５】
【０００９】（式中、Ｒ８は水素原子、低級アルキル
基、低級アルケニル基、低級アルコキシ基、アルコキシ
アルキル基、アルキルチオアルキル基、フェニル基、ハ
ロアルキル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル
基、トリメチルシリル基、シアノアルキル基、トリフル
オロメチル基、ジメチルアミノアルキル基またはアシル
オキシアルキル基を示す。）で表される基を示し、Ｒ２
は水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級
アルキニル基、ベンジル基、２−トリメチルシリルエチ
ル基、アルコキシアルキル基、アルキルチオアルキル
基、アルコキシカルボニルアルキル基、シアノアルキル
基、ニトロアルキル基、アルカリ金属、アルカリ土類金
属または有機アミンのカチオンを示し、Ｒ３びＲ４は同
一または相異なりハロゲン原子、低級アルキル基、低級
アルコキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメ
チル基または低級アルキル基で置換されていてもよいア
ミノ基を示し、Ｘは酸素原子または硫黄原子を示し、Ｚ
は窒素原子またはメチン基を示す。｝にて表されるピリ
ミジンまたはトリアジン誘導体及びそれらの塩並びにこ
れを有効成分として含有する除草剤である。
【００１０】ここで一般式〔１〕における好適な置換基
を例示すると、Ｒ２のうち低級アルキル基としてはメチ
ル基、エチル基、プロピル基、低級アルケニル基として
はアリル基、低級アルキニル基としてはプロパルギル
基、アルコキシアルキル基としてはメトキシメチル基、
アルキルチオアルキル基としてはメチルチオメチル基、
アルコキシカルボニルアルキル基としてはメトキシカル
ボニルメチル基、１−メトキシカルボニルエチル基、シ
アノアルキル基としてはシアノメチル基、ニトロアルキ
ル基としてはニトロメチル基、アルカリ金属としてはナ
トリウム原子、カリウム原子、アルカリ土類金属として
はカルシウム原子、有機アミンのカチオンとしてはジエ
チルアンモニウムカチオン、ジイソプロピルアンモニウ
ムカチオン等があげられる。
【００１１】また、Ｒ３及びＲ４においてはハロゲン原
子として塩素原子、低級アルキル基としてメチル基、低
級アルコキシ基としてメトキシ基、さらに、低級アルキ
ル基で置換されていてもよいアミノ基としてはジメチル
アミノ基等があげられる。Ｒ５としては低級アルキル基
としてメチル基、エチル基、低級アルコキシ基としては
メトキシ基、エトキシ基等があげられる。Ｒ６としては
低級アルキル基としてメチル基、エチル基等があげられ
る。Ｒ７としてはハロゲン原子として塩素原子、低級ア
ルキル基としてメチル基、エチル基、アルコキシカルボ
ニル基としてメトキシカルボニル基、トリフルオロエト
キシカルボニル基、フェノキシカルボニル基等があげら
れる。Ｒ８としては低級アルキル基としてメチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、低級アルケニル基とし
てはアリル基、低級アルコキシ基としてエトキシ基、ア
ルコキシアルキル基としてメトキシメチル基、アルキル
チオアルキル基としてメチルチオメチル基、ハロアルキ
ル基としてクロロプロピル基、シクロアルキル基として
シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロアルケニ
ル基として１−シクロヘキセニル基、シアノアルキル基
としてシアノプロピル基、アシルオキシアルキル基とし
てアセトキシメチル基等があげられる。次に、一般式
〔１〕で表される本発明化合物を表１〜７に例示する。
尚、化合物番号は以後の記載において参照される。
【００１２】
【表１】
【００１３】
【表２】
【００１４】
【表３】
【００１５】
【表４】
【００１６】
【表５】
【００１７】
【表６】
【００１８】
【表７】
【００１９】本発明化合物は下記の方法に従って製造す
ることができるが、これらの方法に限定されるものでは
ない。 製造法＜Ａ＞ 下記の反応式１に示すように、一般式〔１〕で示される
本発明化合物は一般式〔２〕で示される化合物と一般式
〔３〕で示されるピリミジン化合物もしくはトリアジン
化合物とを塩基の存在下、好ましくは室温から溶媒の沸
点の温度範囲内で反応させることによって製造すること
ができる。
【００２０】
【化６】
【００２１】（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｘ及び
Ｚは前記と同じ意味を示し、Ｌはハロゲン原子、アルキ
ルスルホニル基、ベンジルスルホニル基または置換ベン
ジルスルホニル基を示す。）
【００２２】ここで使用される塩基としては、例えば金
属ナトリウム、金属カリウム等のアルカリ金属、水素化
ナトリウム、水素化カリウム、水素化カルシウム等の水
素化アルカリ金属及び水素化アルカリ土類金属、炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム等の炭酸塩
類、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の重炭酸
塩類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水酸化ア
ルカリ金属、酢酸カリウム等の有機酸塩、ナトリウムメ
チラート等のアルコラート等があげられる。さらに、ピ
リジン、トリエチルアミン等の有機塩基を使用すること
もできる。また、使用される溶媒としてはベンゼン、ト
ルエン等の炭化水素系溶媒、塩化メチレン、クロロホル
ム等のハロゲン化炭化水素系溶媒、エタノール、メタノ
ール等のアルコール系溶媒、エチルエーテル、テトラハ
イドロフラン、１，２−ジメトキシエタン等のエーテル
系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアセトアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロト
ン系極性溶媒、酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル系
溶媒、さらにアセトン、メチルエチルケトン等のケトン
系溶媒があげられる。無溶媒下で反応を行う場合の条件
は特定されてはいないが、好ましくは塩基として無水炭
酸カリウムのようなアルカリ金属の炭酸塩を使用して１
２０〜１６０℃の温度範囲内で反応させることもでき
る。
【００２３】製造法＜Ａ−１＞ 一般式〔２〕で示される化合物のうち、Ｒ１がトリフル
オロメタンスルホニルオキシ基で、Ｘが酸素原子である
一般式〔５〕で示される化合物は、一般式〔４〕で示さ
れる化合物とトリフルオロメタンスルホン酸無水物とを
塩基の存在下、好ましくは−２０℃〜５℃の温度範囲内
で反応させることによって製造することができる。
【００２４】
【化７】
【００２５】（式中Ｒ２は前記と同じ意味を表す。）
【００２６】ここで使用される塩基及び溶媒はＡ法と同
様のものを使用することができるが、好ましい塩基とし
てはピリジン、ジメチルアミノピリジン、トリエチルア
ミン等の有機アミン類、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素
カリウム等の重炭酸塩類、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム等の炭酸塩類があげられる。また、好ましい溶媒とし
ては塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水
素系溶媒、エチルエーテル、テトラハイドロフラン等の
エーテル系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアド、Ｎ，Ｎ
−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド等の非
プロトン系極性溶媒等があげられる。
【００２７】製造法＜Ａ−２＞ 一般式〔２〕で示される化合物のうち、Ｒ１がトリフル
オロメタンスルホニルオキシ基以外で、Ｘが酸素原子で
ある一般式〔８〕で示される化合物は一般式〔６〕で示
される化合物と一般式〔７〕で示される化合物を触媒と
塩基の存在下、好ましくは室温から溶媒の沸点の温度範
囲で反応させることによって製造することができる。
【００２８】
【化８】
【００２９】（式中Ｒ１は式−Ｃ（Ｒ５）＝ＣＲ６ＣＲ
７または化５で表される基を示し、またＲ２、Ｒ５、Ｒ
６、Ｒ７及びＲ８は前記と同じ意味を表す。Ｒ９はハロ
ゲン原子またはトリフルオロメタンスルホニルオキシ基
を示し、Ｙは水素原子またはトリアルキルスズ基を示
す。）
【００３０】ここで使用される触媒としては、好ましく
はテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム
（０）、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウムジ
クロライド等があげられるが、その他として（酢酸パラ
ジウム、トリフェニルホスフィン）、｛酢酸パラジウ
ム、トリス（０−トリル）ホスフィン｝等のパラジウム
触媒が使用される。使用される塩基としては炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウム等の炭酸塩、炭酸水素ナトリウム等
の重炭酸塩またはトリエチルアミン、ピリジン等の有機
アミンがあげられる。また、使用される溶媒としてはベ
ンゼン、トルエン等の炭化水素系溶媒、エタノール、メ
タノール等のアルコール系溶媒、エチルエーテル，テト
ラハイドロフラン、１，２−ジメトキシエタン等のエー
テル系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−
ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド等の非プ
ロトン系極性溶媒、さらに、酢酸エチル等のエステル系
溶媒、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶
媒、その他アセトニトリル等があげられる。
【００３１】製造法＜Ａ−３＞ 一般式〔２〕で示される化合物のうち、Ｒ１がＣＨ＝Ｃ
Ｒ６Ｒ７でＸが酸素原子である一般式〔１１〕で示され
る化合物は一般式
〔９〕で示される化合物に塩基の存在
下カルボニル化合物を、好ましくは−７８℃〜５０℃の
温度範囲内で反応させて得られる一般式〔１０〕で示さ
れる化合物に、好ましくは−７８℃から室温の温度範囲
内で脱メチル化剤を反応させることによっても製造する
ことができる。
【００３２】
【化９】
【００３３】上記ウィッティヒ（Ｗｉｔｔｉｇ）反応で
使用される塩基としては、好ましくはアルキルリチウ
ム、リチウム−ビス（トリアルキルシリル）アミド等の
リチウム試薬、水素化ナトリウム等の水素化アルカリ金
属、炭酸カリウム等の炭酸塩類、カリウム−ｔｅｒｔ−
ブトキサイド等のアルカリ金属アルコキサイド類等があ
げられるが、その他ナトリウムアミド等も使用すること
ができる。また、脱メチル化に使用される試薬として
は、好ましくは三臭化ホウ素、三フッ化ホウ素、三塩化
ホウ素、塩化アルミニウム等のルイス酸があげられる
が、ヨウ化水素酸、臭化水素酸等のハロゲン化水素酸
類、トリフルオロ酢酸、ピリジンの塩酸塩、ヨウ化マグ
ネシウムエーテル錯体、リチウムビフェニル、ヨウ化リ
チウム、ナトリウムチオラート、リチウムジフェニルホ
スフィド等を使用することもできる。使用される溶媒と
しては塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン系溶
媒、ヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素系溶
媒、エチルエーテル、テトラハイドロフラン等のエーテ
ル系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロ
トン系極性溶媒、酢酸エチル等のエステル系溶媒、さら
にコリジン、ルチジン、ピリジン等の芳香族アミン類、
その他アセトニトリル、無水酢酸、水等があげられる。
【００３４】製造法＜Ａ−４＞ 一般式〔２〕で示される化合物のうち、Ｘがイオウ原子
である一般式〔１３〕で示される化合物は、一般式〔１
２〕で示されるアントラニル酸誘導体に、好ましくは１
０℃以下で亜硝酸ナトリウムを反応させて得られるジア
ゾニウム塩に二硫化ナトリウムを反応させることによっ
て製造することができる。
【００３５】
【化１０】
【００３６】（式中、Ｒ１、Ｒ２は前記と同じ意味を表
す。）
【００３７】製造法＜Ｂ＞ 一般式〔１〕で示される本発明化合物は式〔１４〕で表
される化合物を用いて下記の反応を行うことにより製造
することができる。尚、触媒、塩基及び溶媒は製造法＜
Ａ−２＞と同じものを用いることができる。
【００３８】
【化１１】
【００３９】（式中、Ｒ１は式−Ｃ（Ｒ５）＝ＣＲ６、
Ｒ７または化２で表される基を示し、Ｒ３及びＲ４は同
一または相異なり低級アルキル基、低級アルコキシ基、
ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメチル基または低
級アルキル基で置換されていてもよいアミノ基を示し、
Ｒ２、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｘ、Ｙ及びＺは
前記と同じ意味を示す。）
【００４０】製造法＜Ｃ＞ さらに、一般式〔１〕で示される本発明化合物のうちＲ
２が水素である一般式〔１６〕で示される化合物は、エ
ステル残基を加水分解することによって得ることができ
る。その方法は特定されてはいないが、本発明では一般
式〔１〕でＲ２が２−トリメチルシリルエチル基である
一般式〔１５〕で示される化合物に、好ましくは室温か
ら溶媒の沸点の温度範囲内でフッ素試薬を反応させて製
造した。
【００４１】
【化１２】
【００４２】（式中、Ｘ、Ｙ、Ｒ１、Ｒ３及びＲ４は前
記と同じ意味を表す。）
【００４３】ここで使用するフッ素試薬としては、好ま
しくはトリブチルアンモニウムフルオライド等の四級ア
ンモニウムフルオライド化合物等があげられるが、その
他フッ化カリウム、フッ化セシウム等のアルカリ金属フ
ルオライド等があげられる。また、使用される溶媒とし
てはベンゼン、トルエン等の炭化水素系溶媒、塩化メチ
レン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素系溶媒、エ
タノール、メタノール等のアルコール系溶媒、エチルエ
ーテル、テトラハイドロフラン、１，２−ジメトキシエ
タン等のエーテル系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキ
シド等の非プロトン系極性溶媒、酢酸エチル、酢酸メチ
ル等のエステル系溶媒、さらにアセトン、メチルエチル
ケトン等のケトン系溶媒等があげられる。
【００４４】製造法＜Ｄ＞ また、一般式〔１〕でＲ２がアルカリ金属、アルカリ土
類金属、または有機アミン等のカチオンを示す一般式
〔１７〕で示される化合物は、例えば製造法＜Ｃ＞によ
って製造される一般式〔１〕でＲ２が水素原子である一
般式〔１６〕で示される化合物と塩基とを好ましくは室
温から溶媒の沸点の温度範囲内で反応させることにより
製造することができる。
【００４５】
【化１３】
【００４６】（式中、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４、Ｘ、Ｙは前記
と同じ意味を表す。Ｍはナトリウム、カリウム等のアル
カリ金属、カルシウム等のアルカリ土類金属、有機アミ
ンのカチオンを示す。）
【００４７】ここで使用される塩基としては、例えば金
属ナトリウム、金属カリウム等のアルカリ金属、水素化
ナトリウム、水素化カリウム、水素化カルシウム等の水
素化アルカリ金属及び水素化アルカリ土類金属、炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム等の炭酸塩
類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水酸化アル
カリ金属が使用できる。さらに、有機塩基としては、ア
ンモニア、メチルアミン等のモノアルキルアミン類、ジ
メチルアミン等のジアルキルアミン類、トリエチルアミ
ン等のトリアルキルアミン類、更にピリジン等の芳香族
アミン類があげられる。
【００４８】また、使用される溶媒としては、水、ベン
ゼン、トルエン等の炭化水素系溶媒、塩化メチレン、ク
ロロホルム等のハロゲン化炭化水素系溶媒、エタノー
ル、メタノール等のアルコール系溶媒、エチルエーテ
ル、テトラハイドロフラン、１，２−ジメトキシエタ
ン、１，４−ジオキサンのようなエーテル系溶媒、さら
に、酢酸エチル等のエステル系溶媒、アセトン、メチル
エチルケトン等のケトン系溶媒、その他アセトニトリル
等があげられる。
【００４９】製造法＜Ｅ＞ また、一般式〔１〕でＲ２が低級アルキル基、低級アル
ケニル基、低級アルキニル基、アルコキシアルキル基、
ベンジル基、アルキルチオアルキル基、アルコキシカル
ボニルアルキル基、シアノアルキル基、ニトロアルキル
基を表す一般式〔１９〕で示される化合物は、例えば製
造法＜Ｃ＞によって製造される一般式〔１〕でＲ２が水
素原子である一般式〔１６〕で示される化合物と一般式
〔１８〕で示される化合物を適当な塩基の存在下、好ま
しくは室温から溶媒の沸点の温度範囲内で反応させるこ
とによっても製造することができる。
【００５０】
【化１４】
【００５１】（式中、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４、Ｘ、Ｙ、Ｌは
前記と同じ意味を示し、Ｒ１０は低級アルキル基、低級
アルケニル基、低級アルキニル基、アルコキシアルキル
基、ベンジル基、アルキルチオアルキル基、シアノアル
キル基、ニトロアルキル基、アルコキシカルボニルアル
キル基を表す）
【００５２】ここで使用される塩基としては、例えば金
属ナトリウム、金属カリウム等のアルカリ金属、水素化
ナトリウム、水素化カリウム等の水素化アルカリ金属、
炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、炭酸水素
ナトリウム、炭酸水素カリウム等の重炭酸塩類、または
トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミ
ン、ピリジン等の有機アミン類が使用できる。また、使
用される溶媒としてはベンゼン、トルエン等の炭化水素
系溶媒、エチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，２
−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサンのようなエー
テル系溶媒、さらに、酢酸エチル等のエステル系溶媒、
アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、塩化
メチレン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒、Ｎ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミ
ド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン系極性溶媒、
その他アセトニトリル等があげられる。
【００５３】
【実施例】次に実施例をあげて本発明化合物の製造法を
具体的に説明する。 実施例１ ２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）オ
キシ］−６−（１−プロペニル）安息香酸２−トリメチ
ルシリルエチル（化合物１）の合成 ５０ｍｌ容量のナスフラスコに６−（１−プロペニル）
サリチル酸２−トリメチルシリルエチル（３．１ｇ、１
１．０ｍＭ）と４，６−ジメトキシ−２−メタンスルホ
ニルピリミジン（２．４ｇ、１１．０ｍＭ）、炭酸カリ
ウム（１．８ｇ，１３．０ｍＭ）及びＮ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド（以下ＤＭＦと略す）１０ｍｌをいれ、８
０℃において１時間反応させた。冷却した後、減圧下で
ＤＭＦを留去し、残査を酢酸エチルに溶解し、水、飽和
食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥、濃縮して得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて
精製して目的物（無色透明粘稠液体、２．０ｇ、収率４
７．６％）を得た。
【００５４】実施例２ ２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）オ
キシ］−６−（１−プロペニル）安息香酸（化合物２）
の合成 ５０ｍｌ容量のナスフラスコに２−［（４，６−ジメト
キシピリミジン−２−イル）オキシ］−６−（１−プロ
ペニル）安息香酸（２−トリメチルシリル）エチル
（２．０ｇ，５．０ｍＭ）をテトラヒドロフラン（２０
ｍｌ、以下ＴＨＦと略す）に溶解して、テトラブチルア
ンモニウムフルオライド水和物（３．５ｇ、１３．３ｍ
Ｍ）を少量ずつ加えた。室温にて２時間攪拌した後、減
圧下でＴＨＦを留去した。残渣に水を加え、１０％塩酸
でｐＨを３に調製して酢酸エチルで抽出した。水、飽和
食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥、濃縮して得
られた残渣をヘキサンで洗浄し、完全に溶媒を留去する
ことにより目的物（赤褐色ガラス状物質、１．０ｇ、収
率６６．７％）を得た。
【００５５】実施例３ ２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）オ
キシ］−６−ビニル安息香酸２−トリメチルシリルエチ
ル（化合物４１）の合成 温度計、冷却管及び窒素導入管を付した１００ｍｌ容量
のフラスコに２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−
２−イル）オキシ］−６−トリフルオロメタンスルホニ
ルオキシ安息香酸２−トリメチルシリルエチル（３．１
５ｇ、６．０ｍＭ）とテトラキス（トリフェニルホスフ
ィン）パラジウム（０）（４００ｍｇ、０．３４ｍ
Ｍ）、トルエン（３０ｍｌ）をいれ、窒素気流下室温に
おいて１時間攪拌した。２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル
−４−メチルフェノール（触媒量）を加えた後にビニル
トリブチルスズ（３．１７ｇ，１０．０ｍＭ）を加え、
８０〜９０℃で３時間反応させた。冷却した後、トルエ
ンを加え、有機層を水、飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥、濃縮して得られた残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーにて精製して目的物（橙色透明
粘稠液体、０．５０ｇ、収率２０．８％）を得た。
【００５６】実施例４ ２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）オ
キシ］−６−（１−ペンチニル）安息香酸２−トリメチ
ルシリルエチル（化合物５２）の合成 温度計、冷却管及び窒素導入管を付した１００ｍｌ容量
のフラスコに２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−
２−イル）オキシ］−６−トリフルオロメタンスルホニ
ルオキシ安息香酸２−トリメチルシリルエチル（４．７
２ｇ、９．０ｍＭ）とビス（トリフェニルホスフィン）
パラジウムジクロライド（３００ｍｇ、０．４ｍＭ）、
ＤＭＦ（３０ｍｌ）、トリエチルアミン（５ｍｌ）をい
れ、窒素気流下室温において１時間攪拌した。１−ペン
チン（２．０ｇ、２９．４０ｍＭ）を加え、８０〜９０
℃で３時間反応させた。冷却した後、氷水中にそそぎ入
れ、酢酸エチルで抽出、有機層を水、飽和食塩水で洗
浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥、濃縮して得られた残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して目
的物（赤褐色透明粘稠液体、２．５０ｇ、収率６２．８
％）を得た。
【００５７】実施例５ ２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）オ
キシ］−６−（１−ペンチニル）安息香酸ジイソプロピ
ルアンモニウム（化合物５３）の合成 １００ｍｌ容量のナスフラスコ中にＴＨＦ（５０ｍｌ）
に溶解した２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２
−イル）オキシ］−６−（１−ペンチニル）安息香酸２
−トリメチルシリルエチル（２．１０ｇ、４．７ｍＭ）
を入れ、テトラブチルアンモニウムフルオライド水和物
（１Ｍ−ＴＨＦ溶液、１４．２ｍｌ，１４．２ｍＭ）を
加えて室温で３時間攪拌した。減圧下でＴＨＦを留去
し、水を加え、１０％塩酸でｐＨを３に調整した後、酢
酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄、
無水硫酸ナトリウムで乾燥、濃縮して得られた残渣をジ
イソプロピルアミン（１．０１ｇ、１０．０ｍＭ）を溶
解したメタノール（５０ｍｌ）に加え、５０℃において
２時間攪拌した。冷却後溶媒を留去し、イソプロピルエ
ーテルより再結晶して目的物（淡黄色粒状結晶、１．７
４ｇ、収率８３．７％）を得た。
【００５８】実施例６ ２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）オ
キシ］−６−（１−ペンチニル）安息香酸メチル（化合
物５４）の合成 ５０ｍｌ容量のナスフラスコに２−［（４，６−ジメト
キシピリミジン−２−イル）オキシ］−６−（１−ペン
チニル）安息香酸ジイソプロピルアンモニウム（１．０
０ｇ、２．３ｍＭ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）
−ＤＭＦ（１０ｍｌ）に溶解して、ヨウ化メチル（１．
４ｇ、１０．０ｍＭ）を少量ずつ加えた。５０℃におい
て２時間攪拌した後、減圧下でＴＨＦ−ＤＭＦを留去し
た。残渣に水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を
水、飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥、濃
縮して得られた残渣にフロリジールを適当量加え、イソ
プロピルエーテルで溶出させた。減圧下で溶媒を留去す
ることにより目的物（黄色粘稠液体、０．６１ｇ、収率
７６．３％）を得た。
【００５９】本発明の除草剤は、一般式〔１〕で示され
るピリミジンまたはトリアジン誘導体を有効成分として
なる。本発明化合物を除草剤として使用するには本発明
化合物それ自体で用いてもよいが、製剤化に一般的に用
いられる担体、界面活性剤、分散剤または補助剤等を配
合して、粉剤、水和剤、乳剤、微粒剤または粒剤等に製
剤して使用することもできる。
【００６０】製剤化に際して用いられる担体としては、
例えばジークライト、タルク、ベントナイト、クレー、
カオリン、珪藻土、ホワイトカーボン、バーミキュライ
ト、炭酸カルシウム、消石灰、珪砂、硫安、尿素等の固
体担体、イソプロピルアルコール、キシレン、シクロヘ
キサノン、メチルナフタレン等の液体担体等があげられ
る。
【００６１】界面活性剤及び分散剤としては、例えばア
ルキルベンゼンスルホン酸金属塩、ジナフチルメタンジ
スルホン酸金属塩、アルコール硫酸エステル塩、アルキ
ルアリールスルホン酸塩、リグニンスルホン酸塩、ポリ
オキシエチレングリコールエーテル、ポリオキシエチレ
ンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレンソル
ビタンモノアルキレート等があげられる。補助剤として
は、例えばカルボキシメチルセルロース、ポリエチレン
グリコール、アラビアゴム等があげられる。使用に際し
ては適当な濃度に希釈して散布するかまたは直接施用す
る。
【００６２】本発明の除草剤は茎葉散布、土壌施用また
は水面施用等により使用することができる。有効成分の
配合割合については必要に応じて適宜選ばれるが、粉剤
または粒剤とする場合は０．０１〜１０％（重量）、好
ましくは０．０５〜５％（重量）の範囲から適宜選ぶの
がよい。また、乳剤及び水和剤とする場合は１〜５０％
（重量）、好ましくは５〜２０％（重量）の範囲から適
宜選ぶのがよい。
【００６３】本発明の除草剤の施用量は使用される化合
物の種類、対象雑草、発生傾向、環境条件ならびに使用
する剤型等によってかわるが、粉剤及び粒剤のようにそ
のまま使用する場合は、有効成分として１０アール当り
０．１ｇ〜５ｋｇ、好ましくは１ｇ〜１ｋｇの範囲から
適宜選ぶのがよい。また、乳剤及び水和剤とする場合の
ように液状で使用する場合は、０．１〜５０，０００ｐ
ｐｍ、好ましくは１０〜１０，００ｐｐｍの範囲から適
宜選ぶのがよい。
【００６４】また、本発明の化合物は必要に応じて殺虫
剤、殺菌剤、他の除草剤、植物生長調節剤、肥料等と混
用してもよい。次に代表的な製剤例をあげて製剤方法を
具体的に説明する。化合物、添加剤の種類及び配合比率
は、これのみに限定されることなく広い範囲で変更可能
である。以下の説明において「部」は重量部を意味す
る。
【００６５】製剤例１ 水和剤 化合物（６４）の１０部にエマルゲン（花王株式会社の
登録商標）８１０の０．５部、デモール（花王株式会社
の登録商標）Ｎの０．５部、クニライト（クニネ工業株
式会社の登録商標）２０１の２０部、ジークライト（ジ
ークライト株式会社の登録商標）ＣＡの６９部を混合粉
砕し、水和剤を得る。
【００６６】製剤例２ 水和剤 化合物（５８）の１０部にエマルゲン８１０の０．５
部、デモールＮの０．５部、クニライト２０１の２０
部、カーブレックス８０の５部、ジークライトＣＡの６
４部を混合粉砕し、水和剤を得る。
【００６７】製剤例３ 水和剤 化合物（１８）の１０部にデモールＮの０．５部、エマ
ール（花王アトラス株式会社の登録商標）１０の０．５
部、クニライト３０１の２０部、カープレックス８０の
５部、炭酸カルシウムの６４部を混合粉砕し、水和剤を
得る。
【００６８】製剤例４ 乳剤 化合物（３８）の３０部にキシレンとイソホロンの等量
混合物６０部、界面活性剤ソルポール（東邦化学工業株
式会社の登録商標）８００Ａの１０部を加え、これらを
よくかきまぜることによって乳剤を得る。
【００６９】製剤例５ 粒剤 化合物（２）の３部、タルクとベントナイトを１：３の
割合の混合した増量剤の７７部、ホワイトカーボンの５
部、界面活性剤ソルポール８００Ａの５部に水１０部を
加え、よく練つてペースト状としたものを直径０．７ｍ
ｍのふるい穴から押し出して乾燥した後に０．５〜１ｍ
ｍの長さに切断し、粒剤を得る。
【００７０】次に試験例をあげて本発明化合物の奏する
効果を説明する。 試験例１（水田土壌処理による除草効果試験） １００ｃｍ２プラスチックポットに水田土壌を充填し、
代掻後、タイヌビエ（Ｅｃ）、コナギ（Ｍｏ）及びホタ
ルイ（Ｓｃ）の各種子を播種し、水深３ｃｍに湛水し
た。翌日、製剤例１に準じて調製した水和剤を水で希釈
し、水面滴下処理した。施用量は、有効成分を１０アー
ル当り１００ｇとした。その後、温室内で育成し、処理
２１日目に表８の基準に従い、除草効果を調査した。そ
の結果を表９に示した。
【００７１】
【表８】
【００７２】
【表９】
【００７３】試験例２（畑地土壌処理による除草効果試
験） １２０ｃｍ２プラスチックポットに畑地土壌を充填し、
食用ビエ（Ｅｃ）、オオイヌタデ（Ｐｏ）、アオビユ
（Ａｍ）、シロザ（Ｃｈ）、コゴメガヤツリ（Ｃｉ）の
各種子を播種して覆土した。製剤例１に準じて調製した
水和剤を水で希釈し、１０アール当り有効成分が１００
ｇになる様に、１０アール当り１００ｌを小型噴霧器で
土壌表面に均一に散布した。その後、温室内で育成し、
処理２１日目に表８の基準に従って、除草効果を調査し
た。その結果を表１０に示す。
【００７４】
【表１０】
【００７５】試験例３（畑地茎葉処理による除草効果試
験） １２０ｃｍ２プラスチックポットに畑地土壌を充填し、
食用ビエ（Ｅｃ）、オオイヌタデ（Ｐｏ）、アオビユ
（Ａｍ）、シロザ（Ｃｈ）、コゴメガヤツリ（Ｃｉ）の
各種子を播種し、温室内で２週間育成後、製剤例１に準
じて調製した水和剤を水に希釈し、１０アール当り有効
成分が１００ｇになる様に、１０アール当り１００ｌを
小型噴霧器で植物体の上方から全体に茎葉散布処理し
た。その後、温室内で育成し、処理１４日目に表８の基
準に従って、除草効果を調査した。その結果を表１１に
示す。
【００７６】
【表１１】
【００７７】
【発明の効果】一般式〔１〕で表される本発明の化合物
及びその塩は、畑地において問題となる種々の雑草、例
えばオオイヌタデ、アオビユ、シロザ、ハコベ、イチ
ビ、アメリカキンゴジカ、アメリカツノクサネム、ノア
サガオ、オナモミ等の広葉雑草をはじめ、ハマスゲ、キ
ハマスゲ、ヒメクグ、カヤツリグサ、コゴメガヤツリ等
の多年生および１年生カヤツリグサ科雑草、ヒエ、メヒ
シバ、エノコログサ、スズメノカタビラ、ションソング
ラス、ノスズメノテッポウ、野生エンバク等のイネ科雑
草の発芽前から生育期の広い範囲にわたって優れた除草
効果を発揮する。また、水田に発生するタイヌビエ、タ
マガヤツリ、コナギ等の一年生雑草及びウリカワ、オモ
ダカ、ミズガヤツリ、クログワイ、ホタルイ、ヘラオモ
ダカ等の多年生雑草を防除することもできる。
【００７８】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｄ 239/52 7038−4Ｃ 251/20 7019−4Ｃ 251/22 7019−4Ｃ 251/26 7019−4Ｃ 251/30 7019−4Ｃ 251/42 7019−4Ｃ 251/46 7019−4Ｃ 251/48 7019−4Ｃ 401/10 8829−4Ｃ 405/10 8829−4Ｃ 409/10 8829−4Ｃ

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】一般式 【化１】 ｛式中、Ｒ1はトリフルオロメタンスルホニルオキシ
    基、式−Ｃ（Ｒ5）＝ＣＲ6Ｒ7（式中、Ｒ5は水素原子、
    クロル原子、低級アルキル基または低級アルコキシ基を
    示し、Ｒ6は水素原子、低級アルキル基、シアノ基また
    はニトロ基を示し、Ｒ7は水素原子、低級アルキル基、
    フェニル基、アルコキシカルボニル基、ハロアルコキシ
    カルボニル基、フェノキシカルボニル基、シアノ基、ニ
    トロ基、チエニル基、フリル基またはピリジル基を示
    す。）または式 【化２】 （式中、Ｒ8は水素原子、低級アルキル基、低級アルケ
    ニル基、低級アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ア
    ルキルチオアルキル基、フェニル基、ハロアルキル基、
    シクロアルキル基、シクロアルケニル基、トリメチルシ
    リル基、シアノアルキル基、トリフルオロメチル基、ジ
    メチルアミノアルキル基またはアシルオキシアルキル基
    を示す。）で表される基を示し、Ｒ2は水素原子、低級
    アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、ベ
    ンジル基、２−トリメチルシリルエチル基、アルコキシ
    アルキル基、アルキルチオアルキル基、アルコキシカル
    ボニルアルキル基、シアノアルキル基、ニトロアルキル
    基、アルカリ金属、アルカリ土類金属または有機アミン
    のカチオンを示し、Ｒ3及びＲ4は同一または相異なりハ
    ロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ジフ
    ルオロメトキシ基、トリフルオロメチル基または低級ア
    ルキル基で置換されていてもよいアミノ基を示し、Ｘは
    酸素原子または硫黄原子を示し、Ｚは窒素原子またはメ
    チン基を示す。｝にて表されるピリミジンまたはトリア
    ジン誘導体及びそれらの塩。
  2. 【請求項２】請求項１に記載のピリミジンまたはトリア
    ジン誘導体及びそれらの塩を有効成分として含有する除
    草剤。
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