JPH07174017A - 排ガス浄化装置 - Google Patents
排ガス浄化装置Info
- Publication number
- JPH07174017A JPH07174017A JP5319931A JP31993193A JPH07174017A JP H07174017 A JPH07174017 A JP H07174017A JP 5319931 A JP5319931 A JP 5319931A JP 31993193 A JP31993193 A JP 31993193A JP H07174017 A JPH07174017 A JP H07174017A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- catalyst
- parts
- layer
- coated
- zsm
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 249
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 claims abstract description 146
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 claims abstract description 49
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 46
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 43
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims abstract description 32
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims abstract description 32
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N Nitric oxide Chemical compound O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 18
- 239000000446 fuel Substances 0.000 claims abstract description 8
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 50
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 47
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 43
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 claims description 42
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 229910052680 mordenite Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 5
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N ceric oxide Chemical compound O=[Ce]=O CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910000422 cerium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 abstract description 30
- 238000000746 purification Methods 0.000 abstract description 9
- 238000003795 desorption Methods 0.000 abstract description 7
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 150
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 117
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 61
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 36
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 35
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 35
- 229910052573 porcelain Inorganic materials 0.000 description 34
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 34
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- 238000000034 method Methods 0.000 description 27
- 239000011268 mixed slurry Substances 0.000 description 24
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 15
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 13
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 11
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 11
- BYFGZMCJNACEKR-UHFFFAOYSA-N aluminium(i) oxide Chemical compound [Al]O[Al] BYFGZMCJNACEKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 10
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 9
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 9
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 9
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 5
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 5
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 3
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052878 cordierite Inorganic materials 0.000 description 2
- JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N dimagnesium dioxido-bis[(1-oxido-3-oxo-2,4,6,8,9-pentaoxa-1,3-disila-5,7-dialuminabicyclo[3.3.1]nonan-7-yl)oxy]silane Chemical compound [Mg++].[Mg++].[O-][Si]([O-])(O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2)O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2 JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 2
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- FGHSTPNOXKDLKU-UHFFFAOYSA-N nitric acid;hydrate Chemical compound O.O[N+]([O-])=O FGHSTPNOXKDLKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 2
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 2
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018967 Pt—Rh Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 1
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce] GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F01—MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; ENGINE PLANTS IN GENERAL; STEAM ENGINES
- F01N—GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR INTERNAL COMBUSTION ENGINES
- F01N3/00—Exhaust or silencing apparatus having means for purifying, rendering innocuous, or otherwise treating exhaust
- F01N3/08—Exhaust or silencing apparatus having means for purifying, rendering innocuous, or otherwise treating exhaust for rendering innocuous
- F01N3/0807—Exhaust or silencing apparatus having means for purifying, rendering innocuous, or otherwise treating exhaust for rendering innocuous by using absorbents or adsorbents
- F01N3/0828—Exhaust or silencing apparatus having means for purifying, rendering innocuous, or otherwise treating exhaust for rendering innocuous by using absorbents or adsorbents characterised by the absorbed or adsorbed substances
- F01N3/0835—Hydrocarbons
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/92—Chemical or biological purification of waste gases of engine exhaust gases
- B01D53/94—Chemical or biological purification of waste gases of engine exhaust gases by catalytic processes
- B01D53/9445—Simultaneously removing carbon monoxide, hydrocarbons or nitrogen oxides making use of three-way catalysts [TWC] or four-way-catalysts [FWC]
- B01D53/945—Simultaneously removing carbon monoxide, hydrocarbons or nitrogen oxides making use of three-way catalysts [TWC] or four-way-catalysts [FWC] characterised by a specific catalyst
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F01—MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; ENGINE PLANTS IN GENERAL; STEAM ENGINES
- F01N—GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR INTERNAL COMBUSTION ENGINES
- F01N13/00—Exhaust or silencing apparatus characterised by constructional features ; Exhaust or silencing apparatus, or parts thereof, having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F01N1/00 - F01N5/00, F01N9/00, F01N11/00
- F01N13/009—Exhaust or silencing apparatus characterised by constructional features ; Exhaust or silencing apparatus, or parts thereof, having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F01N1/00 - F01N5/00, F01N9/00, F01N11/00 having two or more separate purifying devices arranged in series
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F01—MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; ENGINE PLANTS IN GENERAL; STEAM ENGINES
- F01N—GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR INTERNAL COMBUSTION ENGINES
- F01N13/00—Exhaust or silencing apparatus characterised by constructional features ; Exhaust or silencing apparatus, or parts thereof, having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F01N1/00 - F01N5/00, F01N9/00, F01N11/00
- F01N13/009—Exhaust or silencing apparatus characterised by constructional features ; Exhaust or silencing apparatus, or parts thereof, having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F01N1/00 - F01N5/00, F01N9/00, F01N11/00 having two or more separate purifying devices arranged in series
- F01N13/0097—Exhaust or silencing apparatus characterised by constructional features ; Exhaust or silencing apparatus, or parts thereof, having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F01N1/00 - F01N5/00, F01N9/00, F01N11/00 having two or more separate purifying devices arranged in series the purifying devices are arranged in a single housing
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F01—MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; ENGINE PLANTS IN GENERAL; STEAM ENGINES
- F01N—GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR INTERNAL COMBUSTION ENGINES
- F01N3/00—Exhaust or silencing apparatus having means for purifying, rendering innocuous, or otherwise treating exhaust
- F01N3/08—Exhaust or silencing apparatus having means for purifying, rendering innocuous, or otherwise treating exhaust for rendering innocuous
- F01N3/0807—Exhaust or silencing apparatus having means for purifying, rendering innocuous, or otherwise treating exhaust for rendering innocuous by using absorbents or adsorbents
- F01N3/0814—Exhaust or silencing apparatus having means for purifying, rendering innocuous, or otherwise treating exhaust for rendering innocuous by using absorbents or adsorbents combined with catalytic converters, e.g. NOx absorption/storage reduction catalysts
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2255/00—Catalysts
- B01D2255/10—Noble metals or compounds thereof
- B01D2255/102—Platinum group metals
- B01D2255/1021—Platinum
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2255/00—Catalysts
- B01D2255/10—Noble metals or compounds thereof
- B01D2255/102—Platinum group metals
- B01D2255/1023—Palladium
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2255/00—Catalysts
- B01D2255/10—Noble metals or compounds thereof
- B01D2255/102—Platinum group metals
- B01D2255/1025—Rhodium
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F01—MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; ENGINE PLANTS IN GENERAL; STEAM ENGINES
- F01N—GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR INTERNAL COMBUSTION ENGINES
- F01N2240/00—Combination or association of two or more different exhaust treating devices, or of at least one such device with an auxiliary device, not covered by indexing codes F01N2230/00 or F01N2250/00, one of the devices being
- F01N2240/18—Combination or association of two or more different exhaust treating devices, or of at least one such device with an auxiliary device, not covered by indexing codes F01N2230/00 or F01N2250/00, one of the devices being an adsorber or absorber
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F01—MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; ENGINE PLANTS IN GENERAL; STEAM ENGINES
- F01N—GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR INTERNAL COMBUSTION ENGINES
- F01N2370/00—Selection of materials for exhaust purification
- F01N2370/02—Selection of materials for exhaust purification used in catalytic reactors
- F01N2370/04—Zeolitic material
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F01—MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; ENGINE PLANTS IN GENERAL; STEAM ENGINES
- F01N—GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR INTERNAL COMBUSTION ENGINES
- F01N2570/00—Exhaust treating apparatus eliminating, absorbing or adsorbing specific elements or compounds
- F01N2570/12—Hydrocarbons
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02A—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
- Y02A50/00—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE in human health protection, e.g. against extreme weather
- Y02A50/20—Air quality improvement or preservation, e.g. vehicle emission control or emission reduction by using catalytic converters
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02T—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO TRANSPORTATION
- Y02T10/00—Road transport of goods or passengers
- Y02T10/10—Internal combustion engine [ICE] based vehicles
- Y02T10/12—Improving ICE efficiencies
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Biomedical Technology (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Exhaust Gas After Treatment (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 自動車などの内燃機関の始動時に排出される
排ガス中の高濃度の炭化水素 (HC) を効率よく吸着し、
吸着層からHCが脱離し始める温度においても、脱離した
HCが効率よく浄化される排ガス浄化装置を得る。 【構成】 排気流入側に、ハニカム担体に理論空燃比近
傍で炭化水素、一酸化炭素、窒素酸化物を浄化する三元
触媒をコーティングした触媒Ａ４を配置し、排気流出側
にハニカム担体に炭化水素の吸着に有効なゼオライトを
コーティングし、好ましくはこの上に触媒層を備えてな
る吸着触媒Ｂ５を配置して成る排ガス浄化装置。
排ガス中の高濃度の炭化水素 (HC) を効率よく吸着し、
吸着層からHCが脱離し始める温度においても、脱離した
HCが効率よく浄化される排ガス浄化装置を得る。 【構成】 排気流入側に、ハニカム担体に理論空燃比近
傍で炭化水素、一酸化炭素、窒素酸化物を浄化する三元
触媒をコーティングした触媒Ａ４を配置し、排気流出側
にハニカム担体に炭化水素の吸着に有効なゼオライトを
コーティングし、好ましくはこの上に触媒層を備えてな
る吸着触媒Ｂ５を配置して成る排ガス浄化装置。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、自動車等の内燃機関か
ら排出される排ガスの浄化装置に関するものである。
ら排出される排ガスの浄化装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】自動車等の内燃機関の排ガス浄化用触媒
としては、一酸化炭素 (CO) 及び炭化水素 (HC) の酸化
と、窒素酸化物 (NOx)の還元を同時に行なう触媒が汎用
されている。このような触媒は、例えば特公昭58−2030
7 号公報にもみられるように、耐火性担体上のアルミナ
コート層に、パラジウム (Pd) 、白金 (Pt) およびロジ
ウム (Rh) の貴金属、及び場合により助触媒成分として
セリウム (Ce) 、ランタン (La) 等の希土類金属または
ニッケル (Ni) 等のベースメタル酸化物を添加したもの
がほとんどである。
としては、一酸化炭素 (CO) 及び炭化水素 (HC) の酸化
と、窒素酸化物 (NOx)の還元を同時に行なう触媒が汎用
されている。このような触媒は、例えば特公昭58−2030
7 号公報にもみられるように、耐火性担体上のアルミナ
コート層に、パラジウム (Pd) 、白金 (Pt) およびロジ
ウム (Rh) の貴金属、及び場合により助触媒成分として
セリウム (Ce) 、ランタン (La) 等の希土類金属または
ニッケル (Ni) 等のベースメタル酸化物を添加したもの
がほとんどである。
【０００３】かかる触媒は、排ガス温度とエンジンの設
定空燃比の影響を強く受ける。自動車用触媒が浄化能を
発揮する排ガス温度としては、一般に300 ℃以上必要で
あり、また空燃比は、HCとCOの酸化とNOx の還元のバラ
ンスがとれる理論空燃比（Ａ／Ｆ＝14.6) 付近で触媒が
最も有効に働く。従って、従来の三元触媒を用いる排ガ
ス浄化装置を取り付けた自動車では、三元触媒が有効に
働くような位置に設置されており、また排気系の酸素濃
度を検出して、混合気を理論空燃比付近に保つようフィ
ードバック制御が行なわれている。
定空燃比の影響を強く受ける。自動車用触媒が浄化能を
発揮する排ガス温度としては、一般に300 ℃以上必要で
あり、また空燃比は、HCとCOの酸化とNOx の還元のバラ
ンスがとれる理論空燃比（Ａ／Ｆ＝14.6) 付近で触媒が
最も有効に働く。従って、従来の三元触媒を用いる排ガ
ス浄化装置を取り付けた自動車では、三元触媒が有効に
働くような位置に設置されており、また排気系の酸素濃
度を検出して、混合気を理論空燃比付近に保つようフィ
ードバック制御が行なわれている。
【０００４】従来の三元触媒をエキゾーストマニホール
ド直後に設置しても、排ガス温度が低い（300 ℃以下)
エンジン始動直後には触媒活性が低く、始動直後（コー
ルドスタート時）に大量に排出されるHCは浄化されずに
そのまま排出されてしまうという問題がある。
ド直後に設置しても、排ガス温度が低い（300 ℃以下)
エンジン始動直後には触媒活性が低く、始動直後（コー
ルドスタート時）に大量に排出されるHCは浄化されずに
そのまま排出されてしまうという問題がある。
【０００５】上記の課題を解決するための排ガス浄化装
置として、触媒コンバータの排気上流側にコールドHCを
吸着するための吸着剤を納めたHCトラッパーを配置した
ものが特開平２−135126号公報や特開平３−141816号公
報に提案されている。
置として、触媒コンバータの排気上流側にコールドHCを
吸着するための吸着剤を納めたHCトラッパーを配置した
ものが特開平２−135126号公報や特開平３−141816号公
報に提案されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開平
２−135126号公報に記載されている自動車排気ガス浄化
装置では、 (1) 吸着材の下流側に触媒成分を含浸しているため、触
媒が活性温度に達する前に上流側の吸着材からHCが脱離
してしまう。 (2) ゼオライトへ触媒金属溶液を含浸しているため、触
媒成分の耐久性に乏しい。また、特開平３−141816号公
報に記載されている排気ガス浄化装置では、 (3) 吸着したHCの脱離制御を温度センサ、バイパス管、
制御装置等を用いて行なっているため、システムが複雑
で信頼性や排気レイアウト上実用的ではない。という問
題があった。
２−135126号公報に記載されている自動車排気ガス浄化
装置では、 (1) 吸着材の下流側に触媒成分を含浸しているため、触
媒が活性温度に達する前に上流側の吸着材からHCが脱離
してしまう。 (2) ゼオライトへ触媒金属溶液を含浸しているため、触
媒成分の耐久性に乏しい。また、特開平３−141816号公
報に記載されている排気ガス浄化装置では、 (3) 吸着したHCの脱離制御を温度センサ、バイパス管、
制御装置等を用いて行なっているため、システムが複雑
で信頼性や排気レイアウト上実用的ではない。という問
題があった。
【０００７】従って本発明の目的は、上記従来技術に存
在する問題を解決し、エンジン始動時に排出される高濃
度のHCを効率よく吸着し、吸着層からHCが脱離し始める
温度においても脱離したHCが効率よく浄化される排ガス
浄化装置を提供することにある。
在する問題を解決し、エンジン始動時に排出される高濃
度のHCを効率よく吸着し、吸着層からHCが脱離し始める
温度においても脱離したHCが効率よく浄化される排ガス
浄化装置を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、前記の従
来技術に存在する問題に着目し、HC吸着に有効なゼオラ
イト層上に触媒層を備えたことを特徴とする吸着触媒の
製造方法を特願平５−273780号および特願平５−273781
号公報で提案した。これらの方法で得られた触媒は表層
の触媒層が内層のゼオライトよりも早く加熱されるた
め、ゼオライト層からHCが脱離する段階において触媒層
が活性化されており、HCが良好に浄化される。本発明者
等はさらに鋭意研究を重ねた結果、上記吸着触媒を床下
位置に装着し、エンジン始動直後に緩やかに加速もしく
は低速走行を続けた場合、表層の触媒層が活性化する前
に内層のゼオライト層から吸着していたHCの一部が脱離
するため、エンジン始動時に排出されたHCの浄化能が少
し低下するということがわかった。
来技術に存在する問題に着目し、HC吸着に有効なゼオラ
イト層上に触媒層を備えたことを特徴とする吸着触媒の
製造方法を特願平５−273780号および特願平５−273781
号公報で提案した。これらの方法で得られた触媒は表層
の触媒層が内層のゼオライトよりも早く加熱されるた
め、ゼオライト層からHCが脱離する段階において触媒層
が活性化されており、HCが良好に浄化される。本発明者
等はさらに鋭意研究を重ねた結果、上記吸着触媒を床下
位置に装着し、エンジン始動直後に緩やかに加速もしく
は低速走行を続けた場合、表層の触媒層が活性化する前
に内層のゼオライト層から吸着していたHCの一部が脱離
するため、エンジン始動時に排出されたHCの浄化能が少
し低下するということがわかった。
【０００９】本発明は、上記問題点を解決するために、
排気流入側にハニカム担体に理論空燃比近傍でHC, COお
よびNOx を浄化する三元触媒をコーティングした触媒Ａ
を配置し、排気流出側にハニカム担体に炭化水素の吸着
に有効なゼオライトをコーティングした吸着触媒Ｂを配
置したことを特徴とする排ガス浄化装置に関するもので
ある。
排気流入側にハニカム担体に理論空燃比近傍でHC, COお
よびNOx を浄化する三元触媒をコーティングした触媒Ａ
を配置し、排気流出側にハニカム担体に炭化水素の吸着
に有効なゼオライトをコーティングした吸着触媒Ｂを配
置したことを特徴とする排ガス浄化装置に関するもので
ある。
【００１０】上記吸着触媒Ｂとしては、ゼオライト層上
に活性セリアおよび／またはアルミナを主成分とした粉
末に触媒成分として白金 (Pt) 、パラジウム (Pd) およ
びロジウム (Rh) からなる群から選ばれた１種以上の貴
金属を含む触媒層を備えるものが好ましい。
に活性セリアおよび／またはアルミナを主成分とした粉
末に触媒成分として白金 (Pt) 、パラジウム (Pd) およ
びロジウム (Rh) からなる群から選ばれた１種以上の貴
金属を含む触媒層を備えるものが好ましい。
【００１１】本発明で使用される担体は、モノリス型の
ハニカム形状のもので、コージエライト質担体、メタル
担体等任意のものが使用される。
ハニカム形状のもので、コージエライト質担体、メタル
担体等任意のものが使用される。
【００１２】一般的にゼオライトは低温時にHCを吸着
し、昇温とともに脱離する。触媒がある温度で急激に活
性化するのに対し、ゼオライトからの脱離は温度上昇に
対してある分布を持って排出される。そして、排ガス温
度の上昇に伴い、吸着触媒前に配置した触媒も活性化
し、反応熱によって触媒出口温度、すなわち吸着触媒入
口温度が上昇する。この温度上昇によって吸着触媒表層
の触媒も早く活性化するため、ゼオライト層から吸着し
ていたHCが脱離するときに、効率よく浄化することがで
きる。しかも、吸着触媒前に触媒を配置することによ
り、ゼオライト層の温度上昇も抑えられるため吸着能も
向上する。
し、昇温とともに脱離する。触媒がある温度で急激に活
性化するのに対し、ゼオライトからの脱離は温度上昇に
対してある分布を持って排出される。そして、排ガス温
度の上昇に伴い、吸着触媒前に配置した触媒も活性化
し、反応熱によって触媒出口温度、すなわち吸着触媒入
口温度が上昇する。この温度上昇によって吸着触媒表層
の触媒も早く活性化するため、ゼオライト層から吸着し
ていたHCが脱離するときに、効率よく浄化することがで
きる。しかも、吸着触媒前に触媒を配置することによ
り、ゼオライト層の温度上昇も抑えられるため吸着能も
向上する。
【００１３】ゼオライトには多くの種類があるが、本発
明の吸着触媒Ｂに用いるゼオライトとしては、常温ない
し比較的高い温度まで水存在雰囲気下でも充分なHC吸着
能を有し、かつ耐久性の高いものを適宜選択する。例え
ば、モルデナイト、ＵＳＹ、βゼオライト、ＺＳＭ−５
等が挙げられる。排ガス中の多種類のHCを効率よく吸着
するためには、細孔構造の異なるゼオライトを２種以上
混合するのがより好ましい。
明の吸着触媒Ｂに用いるゼオライトとしては、常温ない
し比較的高い温度まで水存在雰囲気下でも充分なHC吸着
能を有し、かつ耐久性の高いものを適宜選択する。例え
ば、モルデナイト、ＵＳＹ、βゼオライト、ＺＳＭ−５
等が挙げられる。排ガス中の多種類のHCを効率よく吸着
するためには、細孔構造の異なるゼオライトを２種以上
混合するのがより好ましい。
【００１４】各種ゼオライトはＨ型でも十分な吸着能力
を有するが、Pd, Ag, Cu, Cr, Co,Nd等をイオン交換
法、含浸法、浸漬法等の通常の方法を用いて担持するこ
とにより、吸着特性および脱離抑制能をさらに向上する
ことができる。各担持量は任意でよいが、例えば0.1 〜
15重量％位が好ましい。0.1 重量％より少ないと吸着特
性および脱離抑制効果が少なく、逆に15重量％を越えて
も効果は変わらない。
を有するが、Pd, Ag, Cu, Cr, Co,Nd等をイオン交換
法、含浸法、浸漬法等の通常の方法を用いて担持するこ
とにより、吸着特性および脱離抑制能をさらに向上する
ことができる。各担持量は任意でよいが、例えば0.1 〜
15重量％位が好ましい。0.1 重量％より少ないと吸着特
性および脱離抑制効果が少なく、逆に15重量％を越えて
も効果は変わらない。
【００１５】また、流入側の触媒Ａと流出側の吸着触媒
Ｂの距離は任意でよいが、近すぎると背圧上昇によるエ
ンジン性能の低下を引き起こす可能性があり、逆に離れ
すぎていると、流出側の吸着触媒表層の触媒温度が上が
らず脱離HCの浄化率が低下する可能性もある。従って触
媒Ａと吸着触媒Ｂの距離は10〜50mmの範囲とするのが好
ましい。
Ｂの距離は任意でよいが、近すぎると背圧上昇によるエ
ンジン性能の低下を引き起こす可能性があり、逆に離れ
すぎていると、流出側の吸着触媒表層の触媒温度が上が
らず脱離HCの浄化率が低下する可能性もある。従って触
媒Ａと吸着触媒Ｂの距離は10〜50mmの範囲とするのが好
ましい。
【００１６】
【実施例】以下、本発明を実施例、比較例および試験例
によりさらに詳細に説明する。尚例中の部は特記しない
限り重量部を表す。 実施例１ Ptを担持した活性セリア粉末（以下、Pt／CeO2と記す)1
00部、アルミナ50部、２％硝酸150 部を磁気ポットに仕
込み、振動ミル装置で40分間もしくは、ユニバーサルボ
ールミル装置で6.5 時間混合粉砕して、ウォッシュコー
トスラリーを製造した。コーディエライト製モノリス担
体を吸引コート法で給水処理した後、前記製造したスラ
リーを担体断面全体に均一に投入し、吸引コート法で余
分なスラリーを除去した。その後、乾燥を行い、400 ℃
で１時間仮焼成した。これにより、Pt／CeO2層が100g／
L コート量で担体にコートされた。上記ウォシュコー
ト、乾燥、焼成をさらに繰り返して合計200g／L のPt／
CeO2層をコートした。次に、Rhを担持したアルミナ粉末
（以下、Rh／Al2O3 と記す）100 部、アルミナ50部、２
％硝酸150 部を磁器ポットに仕込み、前記と同様にして
ウォシュコートスラリーを製造し、同方法でPt／CeO2層
の上に50 g／L のRh／Al2O3 触媒層をコートし、乾燥
後、空気雰囲気650 ℃で３時間の焼成を行い、排気流入
側の（触媒Al) を得た。また、Ｈ型ＺＳＭ−５ (SiO2／
Al2O3 ＝700)（以下ＺＳＭ−５と記す）100 部、シリカ
ゾル（固形分20％）215 部、10％硝酸100 部及び水15部
を磁性ポットに仕込み、前記と同様にしてＺＳＭ−５ス
ラリーを製造し、同方法でモノリス担体上に150g／L コ
ートし、乾燥、400 ℃で１時間焼成を行った。前記と同
様にしてＺＳＭ−５層の上に100g／L のPt／CeO2触媒層
をコートし、乾燥、400 ℃で１時間焼成を行った。さら
にPt／CeO2層の上にRh／Al2O3 触媒層を50 g／L コート
し、乾燥後、空気雰囲気650 ℃で３時間の焼成を行い、
排気流出側の（吸着触媒Ｂ１）を得た。排気流入側に
（触媒Ａ１）、排気流出側に（吸着触媒Ｂ１）を組合
せ、（タンデム型吸着触媒−１）を得た。
によりさらに詳細に説明する。尚例中の部は特記しない
限り重量部を表す。 実施例１ Ptを担持した活性セリア粉末（以下、Pt／CeO2と記す)1
00部、アルミナ50部、２％硝酸150 部を磁気ポットに仕
込み、振動ミル装置で40分間もしくは、ユニバーサルボ
ールミル装置で6.5 時間混合粉砕して、ウォッシュコー
トスラリーを製造した。コーディエライト製モノリス担
体を吸引コート法で給水処理した後、前記製造したスラ
リーを担体断面全体に均一に投入し、吸引コート法で余
分なスラリーを除去した。その後、乾燥を行い、400 ℃
で１時間仮焼成した。これにより、Pt／CeO2層が100g／
L コート量で担体にコートされた。上記ウォシュコー
ト、乾燥、焼成をさらに繰り返して合計200g／L のPt／
CeO2層をコートした。次に、Rhを担持したアルミナ粉末
（以下、Rh／Al2O3 と記す）100 部、アルミナ50部、２
％硝酸150 部を磁器ポットに仕込み、前記と同様にして
ウォシュコートスラリーを製造し、同方法でPt／CeO2層
の上に50 g／L のRh／Al2O3 触媒層をコートし、乾燥
後、空気雰囲気650 ℃で３時間の焼成を行い、排気流入
側の（触媒Al) を得た。また、Ｈ型ＺＳＭ−５ (SiO2／
Al2O3 ＝700)（以下ＺＳＭ−５と記す）100 部、シリカ
ゾル（固形分20％）215 部、10％硝酸100 部及び水15部
を磁性ポットに仕込み、前記と同様にしてＺＳＭ−５ス
ラリーを製造し、同方法でモノリス担体上に150g／L コ
ートし、乾燥、400 ℃で１時間焼成を行った。前記と同
様にしてＺＳＭ−５層の上に100g／L のPt／CeO2触媒層
をコートし、乾燥、400 ℃で１時間焼成を行った。さら
にPt／CeO2層の上にRh／Al2O3 触媒層を50 g／L コート
し、乾燥後、空気雰囲気650 ℃で３時間の焼成を行い、
排気流出側の（吸着触媒Ｂ１）を得た。排気流入側に
（触媒Ａ１）、排気流出側に（吸着触媒Ｂ１）を組合
せ、（タンデム型吸着触媒−１）を得た。
【００１７】実施例２ Ｈ型ＺＳＭ−５ (SiO2／Al2O3 ＝700) 100部、シリカゾ
ル（固形分20％）215部、10％硝酸100 部及び水15部を
磁性ポットに仕込み、実施例１と同様にしてＺＳＭ−５
スラリーを製造し、同方法でモノリス担体上に150g／L
コート、乾燥、400 ℃で１時間焼成を行なった。次に、
Pdを担持したアルミナ粉末（以下、Pd／Al2O3 と記す）
100 部、アルミナ50部、２％硝酸150 部を磁器ポットに
仕込み、実施例１と同方法でウォシュコートスラリーを
製造し、同コート方法でＺＳＭ−５層の上に100g／L の
Pd／Al2O 3 層をコートし、乾燥、焼成を行なった。さら
に、実施例１と同方法でRh／Al2O3 触媒層をPd／Al2O3
層上に50 g／L コートし、乾燥、焼成を行い、（吸着触
媒Ｂ２）を得た。排気流入側に（触媒Ａ１）、排気流出
側に（吸着触媒Ｂ２）を組合せ、（タンデム型吸着触媒
−２）を得た。
ル（固形分20％）215部、10％硝酸100 部及び水15部を
磁性ポットに仕込み、実施例１と同様にしてＺＳＭ−５
スラリーを製造し、同方法でモノリス担体上に150g／L
コート、乾燥、400 ℃で１時間焼成を行なった。次に、
Pdを担持したアルミナ粉末（以下、Pd／Al2O3 と記す）
100 部、アルミナ50部、２％硝酸150 部を磁器ポットに
仕込み、実施例１と同方法でウォシュコートスラリーを
製造し、同コート方法でＺＳＭ−５層の上に100g／L の
Pd／Al2O 3 層をコートし、乾燥、焼成を行なった。さら
に、実施例１と同方法でRh／Al2O3 触媒層をPd／Al2O3
層上に50 g／L コートし、乾燥、焼成を行い、（吸着触
媒Ｂ２）を得た。排気流入側に（触媒Ａ１）、排気流出
側に（吸着触媒Ｂ２）を組合せ、（タンデム型吸着触媒
−２）を得た。
【００１８】実施例３ Ｈ型ＺＳＭ−５ (SiO2／Al2O3 ＝700) 50 部、Ｈ型ＵＳ
Ｙ (SiO2／Al2O3 ＝50) （以下ＵＳＹと記す）50部、シ
リカゾル（固形分20％）215 部、10％硝酸100部、水15
部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同方法でＺＳＭ−
５とＵＳＹの混合スラリーを製造した。そして、実施例
１と同方法でモノリス担体上に150g／Lコートし、乾
燥、焼成を行った。次に、実施例１と同方法でＺＳＭ−
５とＵＳＹの混合層の上に100g／L のPt／CeO2触媒層を
コートし、乾燥、焼成を行った。さらに、実施例１と同
方法でRh／Al2O3 触媒層をPt／CeO2層上に50g/L コート
し、乾燥、焼成を行い、（吸着触媒Ｂ３）を得た。排気
流入側に（触媒Ａ１）、排気流出側に（吸着触媒Ｂ３）
を組合せ、（タンデム型吸着触媒−３）を得た。
Ｙ (SiO2／Al2O3 ＝50) （以下ＵＳＹと記す）50部、シ
リカゾル（固形分20％）215 部、10％硝酸100部、水15
部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同方法でＺＳＭ−
５とＵＳＹの混合スラリーを製造した。そして、実施例
１と同方法でモノリス担体上に150g／Lコートし、乾
燥、焼成を行った。次に、実施例１と同方法でＺＳＭ−
５とＵＳＹの混合層の上に100g／L のPt／CeO2触媒層を
コートし、乾燥、焼成を行った。さらに、実施例１と同
方法でRh／Al2O3 触媒層をPt／CeO2層上に50g/L コート
し、乾燥、焼成を行い、（吸着触媒Ｂ３）を得た。排気
流入側に（触媒Ａ１）、排気流出側に（吸着触媒Ｂ３）
を組合せ、（タンデム型吸着触媒−３）を得た。
【００１９】実施例４ Ｈ型ＺＳＭ−５ (SiO2／Al2O3 ＝700 ）50部、Ｈ型ＵＳ
Ｙ（SiO2／Al2O3 ＝50）50部、シリカゾル（固形分20
％）215 部、10％硝酸100 部、水15部を磁器ポットに仕
込み、実施例１と同方法でＺＳＭ−５とＵＳＹの混合ス
ラリーを製造した。そして、実施例１と同方法でモノリ
ス担体上に150g／L コートし、乾燥、焼成を行った。次
に、実施例２と同方法でＺＳＭ−５とＵＳＹの混合層の
上に100g／L のPd／Al2O3 触媒層をコートし、乾燥、焼
成を行った。さらに、実施例１と同方法でRh／Al2O3 触
媒層をPd／Al2O3 層上に50 g／L コートし、乾燥、焼成
を行い、（吸着触媒Ｂ４）を得た。排気流入側に（触媒
Ａ１）、排気流出側に（吸着触媒Ｂ４）を組合せ、（タ
ンデム型吸着触媒−４）を得た。
Ｙ（SiO2／Al2O3 ＝50）50部、シリカゾル（固形分20
％）215 部、10％硝酸100 部、水15部を磁器ポットに仕
込み、実施例１と同方法でＺＳＭ−５とＵＳＹの混合ス
ラリーを製造した。そして、実施例１と同方法でモノリ
ス担体上に150g／L コートし、乾燥、焼成を行った。次
に、実施例２と同方法でＺＳＭ−５とＵＳＹの混合層の
上に100g／L のPd／Al2O3 触媒層をコートし、乾燥、焼
成を行った。さらに、実施例１と同方法でRh／Al2O3 触
媒層をPd／Al2O3 層上に50 g／L コートし、乾燥、焼成
を行い、（吸着触媒Ｂ４）を得た。排気流入側に（触媒
Ａ１）、排気流出側に（吸着触媒Ｂ４）を組合せ、（タ
ンデム型吸着触媒−４）を得た。
【００２０】実施例５ Ｈ型ＺＳＭ−５ (SiO2／Al2O3 ＝700) 67 部、Ｈ型ＵＳ
Ｙ（SiO2／Al2O3 ＝50）33部、シリカゾル（固形分20
％）215 部、10％硝酸100 部、水15部を磁器ポットに仕
込み、実施例１と同方法でＺＳＭ−５とＵＳＹの混合ス
ラリーを製造した。そして、実施例１と同方法でモノリ
ス担体上に150g／L コートし、乾燥、焼成を行った。次
に、実施例１と同方法でＺＳＭ−５とＵＳＹの混合層の
上に100g／L のPt／CeO2触媒層をコートし、乾燥、焼成
を行った。さらに、実施例１と同方法でRh／Al2O3 触媒
層をPt／Al2O3 層上に50 g／L コートし、乾燥、焼成を
行い、（吸着触媒Ｂ５）を得た。排気流入側に（触媒Ａ
１）、排気流出側に（吸着触媒Ｂ５）を組合せ、（タン
デム型吸着触媒−５）を得た。
Ｙ（SiO2／Al2O3 ＝50）33部、シリカゾル（固形分20
％）215 部、10％硝酸100 部、水15部を磁器ポットに仕
込み、実施例１と同方法でＺＳＭ−５とＵＳＹの混合ス
ラリーを製造した。そして、実施例１と同方法でモノリ
ス担体上に150g／L コートし、乾燥、焼成を行った。次
に、実施例１と同方法でＺＳＭ−５とＵＳＹの混合層の
上に100g／L のPt／CeO2触媒層をコートし、乾燥、焼成
を行った。さらに、実施例１と同方法でRh／Al2O3 触媒
層をPt／Al2O3 層上に50 g／L コートし、乾燥、焼成を
行い、（吸着触媒Ｂ５）を得た。排気流入側に（触媒Ａ
１）、排気流出側に（吸着触媒Ｂ５）を組合せ、（タン
デム型吸着触媒−５）を得た。
【００２１】実施例６ Ｈ型ＺＳＭ−５ (SiO2／Al2O3 ＝700) 67 部、Ｈ型ＵＳ
Ｙ（SiO2／Al2O3 ＝50）33部、シリカゾル（固形分20
％）215 部、10％硝酸100 部、水15部を磁器ポットに仕
込み、実施例１と同方法でＺＳＭ−５とＵＳＹの混合ス
ラリーを製造した。そして、実施例１と同方法でモノリ
ス担体上に150g／L コートし、乾燥、焼成を行った。次
に、実施例２と同方法でＺＳＭ−５とＵＳＹの混合層の
上に100g／L のPd／Al2O3 触媒層をコートし、乾燥、焼
成を行った。さらに、実施例１と同方法でRh／Al2O3 触
媒層をPt／Al2O3 層上に50 g／L コートし、乾燥、焼成
を行い、（吸着触媒Ｂ６）を得た。排気流入側に（触媒
Ａ１）、排気流出側に（吸着触媒Ｂ６）を組合せ、（タ
ンデム型吸着触媒−６）を得た。
Ｙ（SiO2／Al2O3 ＝50）33部、シリカゾル（固形分20
％）215 部、10％硝酸100 部、水15部を磁器ポットに仕
込み、実施例１と同方法でＺＳＭ−５とＵＳＹの混合ス
ラリーを製造した。そして、実施例１と同方法でモノリ
ス担体上に150g／L コートし、乾燥、焼成を行った。次
に、実施例２と同方法でＺＳＭ−５とＵＳＹの混合層の
上に100g／L のPd／Al2O3 触媒層をコートし、乾燥、焼
成を行った。さらに、実施例１と同方法でRh／Al2O3 触
媒層をPt／Al2O3 層上に50 g／L コートし、乾燥、焼成
を行い、（吸着触媒Ｂ６）を得た。排気流入側に（触媒
Ａ１）、排気流出側に（吸着触媒Ｂ６）を組合せ、（タ
ンデム型吸着触媒−６）を得た。
【００２２】実施例７ Ｈ型ＺＳＭ−５ (SiO2／Al2O3 ＝700) 50 部、Ｈ型モル
デナイト（以下モルデナイトと記す）（SiO2／Al2O3 ＝
200) 50 部、シリカゾル（固形分20％）215 部、10％硝
酸100 部、水15部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同
方法でＺＳＭ−５とモルデナイトの混合スラリーを製造
した。そして、実施例１と同方法でモノリス担体上に15
0g／L コートし、乾燥、焼成を行った。次に、実施例１
と同方法でＺＳＭ−５とモルデナイトの混合層の上に10
0g／LのPt／CeO2触媒層をコートし、乾燥、焼成を行っ
た。さらに、実施例１と同方法でRh／Al2O3 触媒層をPt
／CeO2層上に50 g／L コートし、乾燥、焼成を行い、
（吸着触媒Ｂ７）を得た。排気流入側に（触媒Ａ１）、
排気流出側に（吸着触媒Ｂ７）を組合せ、（タンデム型
吸着触媒−７）を得た。
デナイト（以下モルデナイトと記す）（SiO2／Al2O3 ＝
200) 50 部、シリカゾル（固形分20％）215 部、10％硝
酸100 部、水15部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同
方法でＺＳＭ−５とモルデナイトの混合スラリーを製造
した。そして、実施例１と同方法でモノリス担体上に15
0g／L コートし、乾燥、焼成を行った。次に、実施例１
と同方法でＺＳＭ−５とモルデナイトの混合層の上に10
0g／LのPt／CeO2触媒層をコートし、乾燥、焼成を行っ
た。さらに、実施例１と同方法でRh／Al2O3 触媒層をPt
／CeO2層上に50 g／L コートし、乾燥、焼成を行い、
（吸着触媒Ｂ７）を得た。排気流入側に（触媒Ａ１）、
排気流出側に（吸着触媒Ｂ７）を組合せ、（タンデム型
吸着触媒−７）を得た。
【００２３】実施例８ Ｈ型ＺＳＭ−５ (SiO2／Al2O3 ＝700) 50 部、Ｈ型モル
デナイト（SiO2／Al2O 3 ＝200) 50 部、シリカゾル（固
形分20％）215 部、10％硝酸100 部、水15部を磁器ポッ
トに仕込み、実施例１と同方法でＺＳＭ−５とモルデナ
イトの混合スラリーを製造した。そして、実施例１と同
方法でモノリス担体上に150g／L コートし、乾燥、焼成
を行った。次に、実施例１と同方法でＺＳＭ−５とモル
デナイトの混合層の上に100g／LのPd／Al2O3 触媒層を
コートし、乾燥、焼成を行った。さらに、実施例１と同
方法でRh／Al2O3 触媒層をPt／Al2O3 層上に50 g／L コ
ートし、乾燥、焼成を行い、（吸着触媒Ｂ８）を得た。
排気流入側に（触媒Ａ１）、排気流出側に（吸着触媒Ｂ
８）を組合せ、（タンデム型吸着触媒−８）を得た。
デナイト（SiO2／Al2O 3 ＝200) 50 部、シリカゾル（固
形分20％）215 部、10％硝酸100 部、水15部を磁器ポッ
トに仕込み、実施例１と同方法でＺＳＭ−５とモルデナ
イトの混合スラリーを製造した。そして、実施例１と同
方法でモノリス担体上に150g／L コートし、乾燥、焼成
を行った。次に、実施例１と同方法でＺＳＭ−５とモル
デナイトの混合層の上に100g／LのPd／Al2O3 触媒層を
コートし、乾燥、焼成を行った。さらに、実施例１と同
方法でRh／Al2O3 触媒層をPt／Al2O3 層上に50 g／L コ
ートし、乾燥、焼成を行い、（吸着触媒Ｂ８）を得た。
排気流入側に（触媒Ａ１）、排気流出側に（吸着触媒Ｂ
８）を組合せ、（タンデム型吸着触媒−８）を得た。
【００２４】実施例９ Ｈ型ＺＳＭ−５ (SiO2／Al2O3 ＝700) 50 部、Ｈ型βゼ
オライト（以下βゼオライトと記す）（SiO2／Al2O3 ＝
100) 50 部、シリカゾル（固形分20％）215 部、10％硝
酸100 部、水15部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同
方法でＺＳＭ−５とβゼオライトの混合スラリーを製造
した。そして、実施例１と同方法でモノリス担体上に15
0g／L コートし、乾燥、焼成を行った。次に、実施例１
と同方法でＺＳＭ−５とβゼオライトの混合層の上に10
0g／LのPt／Al2O3 触媒層をコートし、乾燥、焼成を行
った。さらに、実施例１と同方法でRh／Al2O3 触媒層を
Pt／CeO2層上に50 g／L コートし、乾燥、焼成を行い、
（吸着触媒Ｂ９）を得た。排気流入側に（触媒Ａ１）、
排気流出側に（吸着触媒Ｂ９）を組合せ、（タンデム型
吸着触媒−９）を得た。
オライト（以下βゼオライトと記す）（SiO2／Al2O3 ＝
100) 50 部、シリカゾル（固形分20％）215 部、10％硝
酸100 部、水15部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同
方法でＺＳＭ−５とβゼオライトの混合スラリーを製造
した。そして、実施例１と同方法でモノリス担体上に15
0g／L コートし、乾燥、焼成を行った。次に、実施例１
と同方法でＺＳＭ−５とβゼオライトの混合層の上に10
0g／LのPt／Al2O3 触媒層をコートし、乾燥、焼成を行
った。さらに、実施例１と同方法でRh／Al2O3 触媒層を
Pt／CeO2層上に50 g／L コートし、乾燥、焼成を行い、
（吸着触媒Ｂ９）を得た。排気流入側に（触媒Ａ１）、
排気流出側に（吸着触媒Ｂ９）を組合せ、（タンデム型
吸着触媒−９）を得た。
【００２５】実施例10 Ｈ型ＺＳＭ−５ (SiO2／Al2O3 ＝700) 50 部、Ｈ型βゼ
オライト（SiO2／Al2O 3 ＝100) 50 部、シリカゾル（固
形分20％）215 部、10％硝酸100 部、水15部を磁器ポッ
トに仕込み、実施例１と同方法でＺＳＭ−５とβゼオラ
イトの混合スラリーを製造した。そして、実施例１と同
方法でモノリス担体上に150g／L コートし、乾燥、焼成
を行った。次に、実施例２と同方法でＺＳＭ−５とβゼ
オライトの混合層の上に100g／LのPd／Al2O3 触媒層を
コートし、乾燥、焼成を行った。さらに、実施例１と同
方法でRh／Al2O3 触媒層をPd／Al2O3 層上に50 g／L コ
ートし、乾燥、焼成を行い、（吸着触媒Ｂ10）を得た。
排気流入側に（触媒Ａ１）、排気流出側に（吸着触媒Ｂ
10）を組合せ、（タンデム型吸着触媒−10）を得た。
オライト（SiO2／Al2O 3 ＝100) 50 部、シリカゾル（固
形分20％）215 部、10％硝酸100 部、水15部を磁器ポッ
トに仕込み、実施例１と同方法でＺＳＭ−５とβゼオラ
イトの混合スラリーを製造した。そして、実施例１と同
方法でモノリス担体上に150g／L コートし、乾燥、焼成
を行った。次に、実施例２と同方法でＺＳＭ−５とβゼ
オライトの混合層の上に100g／LのPd／Al2O3 触媒層を
コートし、乾燥、焼成を行った。さらに、実施例１と同
方法でRh／Al2O3 触媒層をPd／Al2O3 層上に50 g／L コ
ートし、乾燥、焼成を行い、（吸着触媒Ｂ10）を得た。
排気流入側に（触媒Ａ１）、排気流出側に（吸着触媒Ｂ
10）を組合せ、（タンデム型吸着触媒−10）を得た。
【００２６】実施例11 Ｈ型ＺＳＭ−５ (SiO2／Al2O3 ＝700) 67 部、Ｈ型βゼ
オライト（SiO2／Al2O 3 ＝100) 33 部、シリカゾル（固
形分20％）215 部、10％硝酸100 部、水15部を磁器ポッ
トに仕込み、実施例１と同方法でＺＳＭ−５とβゼオラ
イトの混合スラリーを製造した。そして、実施例１と同
方法でモノリス担体上に150g／L コートし、乾燥、焼成
を行った。次に、実施例１と同方法でＺＳＭ−５とβゼ
オライトの混合層の上に100g／LのPt／CeO2触媒層をコ
ートし、乾燥、焼成を行った。さらに、実施例１と同方
法でRh／Al2O3 触媒層をPt／CeO2層上に50 g／L コート
し、乾燥、焼成を行い、（吸着触媒Ｂ11）を得た。排気
流入側に（触媒Ａ１）、排気流出側に（吸着触媒Ｂ11）
を組合せ、（タンデム型吸着触媒−11）を得た。
オライト（SiO2／Al2O 3 ＝100) 33 部、シリカゾル（固
形分20％）215 部、10％硝酸100 部、水15部を磁器ポッ
トに仕込み、実施例１と同方法でＺＳＭ−５とβゼオラ
イトの混合スラリーを製造した。そして、実施例１と同
方法でモノリス担体上に150g／L コートし、乾燥、焼成
を行った。次に、実施例１と同方法でＺＳＭ−５とβゼ
オライトの混合層の上に100g／LのPt／CeO2触媒層をコ
ートし、乾燥、焼成を行った。さらに、実施例１と同方
法でRh／Al2O3 触媒層をPt／CeO2層上に50 g／L コート
し、乾燥、焼成を行い、（吸着触媒Ｂ11）を得た。排気
流入側に（触媒Ａ１）、排気流出側に（吸着触媒Ｂ11）
を組合せ、（タンデム型吸着触媒−11）を得た。
【００２７】実施例12 Ｈ型ＺＳＭ−５ (SiO2／Al2O3 ＝700) 67 部、Ｈ型βゼ
オライト（SiO2／Al2O 3 ＝100) 33 部、シリカゾル（固
形分20％）215 部、10％硝酸100 部、水15部を磁器ポッ
トに仕込み、実施例１と同方法でＺＳＭ−５とβゼオラ
イトの混合スラリーを製造した。そして、実施例１と同
方法でモノリス担体上に150g／L コートし、乾燥、焼成
を行った。次に、実施例２と同方法でＺＳＭ−５とβゼ
オライトの混合層の上に100g／LのPd／Al2O3 触媒層を
コートし、乾燥、焼成を行った。さらに、実施例１と同
方法でRh／Al2O3 触媒層をPd／Al2O3 層上に50 g／L コ
ートし、乾燥、焼成を行い、（吸着触媒Ｂ12）を得た。
排気流入側に（触媒Ａ１）、排気流出側に（吸着触媒Ｂ
12）を組合せ、（タンデム型吸着触媒−12）を得た。
オライト（SiO2／Al2O 3 ＝100) 33 部、シリカゾル（固
形分20％）215 部、10％硝酸100 部、水15部を磁器ポッ
トに仕込み、実施例１と同方法でＺＳＭ−５とβゼオラ
イトの混合スラリーを製造した。そして、実施例１と同
方法でモノリス担体上に150g／L コートし、乾燥、焼成
を行った。次に、実施例２と同方法でＺＳＭ−５とβゼ
オライトの混合層の上に100g／LのPd／Al2O3 触媒層を
コートし、乾燥、焼成を行った。さらに、実施例１と同
方法でRh／Al2O3 触媒層をPd／Al2O3 層上に50 g／L コ
ートし、乾燥、焼成を行い、（吸着触媒Ｂ12）を得た。
排気流入側に（触媒Ａ１）、排気流出側に（吸着触媒Ｂ
12）を組合せ、（タンデム型吸着触媒−12）を得た。
【００２８】実施例13 Ｈ型ＵＳＹ (SiO2／Al2O3 ＝50) 100 部、シリカゾル
（固形分20％）215 部、10％硝酸100 部、水15部を磁器
ポットに仕込み、実施例１と同方法でＵＳＹスラリーを
製造した。そして、実施例１と同方法でモノリス担体上
に150g／L コートし、乾燥、焼成を行った。次に、実施
例１と同方法でＵＳＹ層の上に100g／L のPt／CeO2触媒
層をコートし、乾燥、焼成を行った。さらに、実施例１
と同方法でRh／Al2O3 触媒層をPt／CeO2層上に50 g／L
コートし、乾燥、焼成を行い、（吸着触媒Ｂ13）を得
た。排気流入側に（触媒Ａ１）、排気流出側に（吸着触
媒Ｂ13）を組合せ、（タンデム型吸着触媒−13）を得
た。
（固形分20％）215 部、10％硝酸100 部、水15部を磁器
ポットに仕込み、実施例１と同方法でＵＳＹスラリーを
製造した。そして、実施例１と同方法でモノリス担体上
に150g／L コートし、乾燥、焼成を行った。次に、実施
例１と同方法でＵＳＹ層の上に100g／L のPt／CeO2触媒
層をコートし、乾燥、焼成を行った。さらに、実施例１
と同方法でRh／Al2O3 触媒層をPt／CeO2層上に50 g／L
コートし、乾燥、焼成を行い、（吸着触媒Ｂ13）を得
た。排気流入側に（触媒Ａ１）、排気流出側に（吸着触
媒Ｂ13）を組合せ、（タンデム型吸着触媒−13）を得
た。
【００２９】実施例14 Ｈ型ＵＳＹ (SiO2／Al2O3 ＝50) 100 部、シリカゾル
（固形分20％）215 部、10％硝酸100 部、水15部を磁器
ポットに仕込み、実施例１と同方法でＵＳＹスラリーを
製造した。そして、実施例１と同方法でモノリス担体上
に150g／L コートし、乾燥、焼成を行った。次に、実施
例２と同方法でＵＳＹ層の上に100g／L のPd／Al2O3 触
媒層をコートし、乾燥、焼成を行った。さらに、実施例
１と同方法でRh／Al2O3 触媒層をPd／Al2O3 層上に50 g
／L コートし、乾燥、焼成を行い、（吸着触媒Ｂ14）を
得た。排気流入側に（触媒Ａ１）、排気流出側に（吸着
触媒Ｂ14）を組合せ、（タンデム型吸着触媒−14）を得
た。
（固形分20％）215 部、10％硝酸100 部、水15部を磁器
ポットに仕込み、実施例１と同方法でＵＳＹスラリーを
製造した。そして、実施例１と同方法でモノリス担体上
に150g／L コートし、乾燥、焼成を行った。次に、実施
例２と同方法でＵＳＹ層の上に100g／L のPd／Al2O3 触
媒層をコートし、乾燥、焼成を行った。さらに、実施例
１と同方法でRh／Al2O3 触媒層をPd／Al2O3 層上に50 g
／L コートし、乾燥、焼成を行い、（吸着触媒Ｂ14）を
得た。排気流入側に（触媒Ａ１）、排気流出側に（吸着
触媒Ｂ14）を組合せ、（タンデム型吸着触媒−14）を得
た。
【００３０】実施例15 Ｈ型βゼオライト（SiO2／Al2O3 ＝100) 100部、シリカ
ゾル（固形分20％）215 部、10％硝酸100 部、水15部を
磁器ポットに仕込み、実施例１と同方法でβゼオライト
スラリーを製造した。そして、実施例１と同方法でモノ
リス担体上に150g／L コートし、乾燥、焼成を行った。
次に、実施例１と同方法でβゼオライト層の上に100g／
L のPt／CeO2触媒層をコートし、乾燥、焼成を行った。
さらに、実施例１と同方法でRh／Al2O3 触媒層をPt／Ce
O2層上に50 g／L コートし、乾燥、焼成を行い、（吸着
触媒Ｂ15）を得た。排気流入側に（触媒Ａ１）、排気流
出側に（吸着触媒Ｂ15）を組合せ、（タンデム型吸着触
媒−15）を得た。
ゾル（固形分20％）215 部、10％硝酸100 部、水15部を
磁器ポットに仕込み、実施例１と同方法でβゼオライト
スラリーを製造した。そして、実施例１と同方法でモノ
リス担体上に150g／L コートし、乾燥、焼成を行った。
次に、実施例１と同方法でβゼオライト層の上に100g／
L のPt／CeO2触媒層をコートし、乾燥、焼成を行った。
さらに、実施例１と同方法でRh／Al2O3 触媒層をPt／Ce
O2層上に50 g／L コートし、乾燥、焼成を行い、（吸着
触媒Ｂ15）を得た。排気流入側に（触媒Ａ１）、排気流
出側に（吸着触媒Ｂ15）を組合せ、（タンデム型吸着触
媒−15）を得た。
【００３１】実施例16 Ｈ型βゼオライト（SiO2／Al2O3 ＝100) 100部、シリカ
ゾル（固形分20％）215 部、10％硝酸100 部、水15部を
磁器ポットに仕込み、実施例１と同方法でβゼオライト
スラリーを製造した。そして、実施例１と同方法でモノ
リス担体上に150g／L コートし、乾燥、焼成を行った。
次に、実施例２と同方法でβゼオライト層の上に100g／
L のPd／Al2O3 触媒層をコートし、乾燥、焼成を行っ
た。さらに、実施例１と同方法でRh／Al2O3 触媒層をPd
／Al2O3 層上に50 g／L コートし、乾燥、焼成を行い、
（吸着触媒Ｂ16）を得た。排気流入側に（触媒Ａ１）、
排気流出側に（吸着触媒Ｂ16）を組合せ、（タンデム型
吸着触媒−16）を得た。
ゾル（固形分20％）215 部、10％硝酸100 部、水15部を
磁器ポットに仕込み、実施例１と同方法でβゼオライト
スラリーを製造した。そして、実施例１と同方法でモノ
リス担体上に150g／L コートし、乾燥、焼成を行った。
次に、実施例２と同方法でβゼオライト層の上に100g／
L のPd／Al2O3 触媒層をコートし、乾燥、焼成を行っ
た。さらに、実施例１と同方法でRh／Al2O3 触媒層をPd
／Al2O3 層上に50 g／L コートし、乾燥、焼成を行い、
（吸着触媒Ｂ16）を得た。排気流入側に（触媒Ａ１）、
排気流出側に（吸着触媒Ｂ16）を組合せ、（タンデム型
吸着触媒−16）を得た。
【００３２】実施例17 Ｈ型モルデナイト（SiO2／Al2O3 ＝200) 100部、シリカ
ゾル（固形分20％）215 部、10％硝酸100 部、水15部を
磁器ポットに仕込み、実施例１と同方法でモルデナイト
スラリーを製造した。そして、実施例１と同方法でモノ
リス担体上に150g／L コートし、乾燥、焼成を行った。
次に、実施例１と同方法でモルデナイト層の上に100g／
L のPt／CeO2触媒層をコートし、乾燥、焼成を行った。
さらに、実施例１と同方法でRh／Al2O3 触媒層をPt／Ce
O2層上に50 g／L コートし、乾燥、焼成を行い、（吸着
触媒Ｂ17）を得た。排気流入側に（触媒Ａ１）、排気流
出側に（吸着触媒Ｂ17）を組合せ、（タンデム型吸着触
媒−17）を得た。
ゾル（固形分20％）215 部、10％硝酸100 部、水15部を
磁器ポットに仕込み、実施例１と同方法でモルデナイト
スラリーを製造した。そして、実施例１と同方法でモノ
リス担体上に150g／L コートし、乾燥、焼成を行った。
次に、実施例１と同方法でモルデナイト層の上に100g／
L のPt／CeO2触媒層をコートし、乾燥、焼成を行った。
さらに、実施例１と同方法でRh／Al2O3 触媒層をPt／Ce
O2層上に50 g／L コートし、乾燥、焼成を行い、（吸着
触媒Ｂ17）を得た。排気流入側に（触媒Ａ１）、排気流
出側に（吸着触媒Ｂ17）を組合せ、（タンデム型吸着触
媒−17）を得た。
【００３３】実施例18 Ｈ型モルデナイト（SiO2／Al2O3 ＝200) 100部、シリカ
ゾル（固形分20％）215 部、10％硝酸100 部、水15部を
磁器ポットに仕込み、実施例１と同方法でモルデナイト
スラリーを製造した。そして、実施例１と同方法でモノ
リス担体上に150g／L コートし、乾燥、焼成を行った。
次に、実施例２と同方法でモルデナイト層の上に100g／
L のPt／Al2O3 触媒層をコートし、乾燥、焼成を行っ
た。さらに、実施例１と同方法でRh／Al2O3 触媒層をPd
／Al2O3 層上に50 g／L コートし、乾燥、焼成を行い、
（吸着触媒Ｂ18）を得た。排気流入側に（触媒Ａ１）、
排気流出側に（吸着触媒Ｂ18）を組合せ、（タンデム型
吸着触媒−18）を得た。
ゾル（固形分20％）215 部、10％硝酸100 部、水15部を
磁器ポットに仕込み、実施例１と同方法でモルデナイト
スラリーを製造した。そして、実施例１と同方法でモノ
リス担体上に150g／L コートし、乾燥、焼成を行った。
次に、実施例２と同方法でモルデナイト層の上に100g／
L のPt／Al2O3 触媒層をコートし、乾燥、焼成を行っ
た。さらに、実施例１と同方法でRh／Al2O3 触媒層をPd
／Al2O3 層上に50 g／L コートし、乾燥、焼成を行い、
（吸着触媒Ｂ18）を得た。排気流入側に（触媒Ａ１）、
排気流出側に（吸着触媒Ｂ18）を組合せ、（タンデム型
吸着触媒−18）を得た。
【００３４】実施例19 Ｈ型ＺＳＭ−５ (SiO2／Al2O3 ＝700) 34 部、Ｈ型ＵＳ
Ｙ（SiO2／Al2O3 ＝50) 33部、Ｈ型モルデナイト (SiO2
／Al2O3 ＝200) 33 部、シリカゾル（固形分20％）215
部、10％硝酸100 部、水15部を磁器ポットに仕込み、実
施例１と同方法でＺＳＭ−５、ＵＳＹ、モルデナイトの
混合スラリーを製造した。そして、実施例１と同方法で
モノリス担体上に150g／L コートし、乾燥、焼成を行っ
た。次に、実施例１と同方法でＺＳＭ−５、ＵＳＹ、モ
ルデナイトの混合層の上に100g／L のPt／CeO2触媒層を
コートし、乾燥、焼成を行った。さらに、実施例１と同
方法でRh／Al2O3 触媒層をPt／CeO2層上に50 g／L コー
トし、乾燥、焼成を行い、（吸着触媒Ｂ19）を得た。排
気流入側に（触媒Ａ１）、排気流出側に（吸着触媒Ｂ1
9）を組合せ、（タンデム型吸着触媒−19）を得た。
Ｙ（SiO2／Al2O3 ＝50) 33部、Ｈ型モルデナイト (SiO2
／Al2O3 ＝200) 33 部、シリカゾル（固形分20％）215
部、10％硝酸100 部、水15部を磁器ポットに仕込み、実
施例１と同方法でＺＳＭ−５、ＵＳＹ、モルデナイトの
混合スラリーを製造した。そして、実施例１と同方法で
モノリス担体上に150g／L コートし、乾燥、焼成を行っ
た。次に、実施例１と同方法でＺＳＭ−５、ＵＳＹ、モ
ルデナイトの混合層の上に100g／L のPt／CeO2触媒層を
コートし、乾燥、焼成を行った。さらに、実施例１と同
方法でRh／Al2O3 触媒層をPt／CeO2層上に50 g／L コー
トし、乾燥、焼成を行い、（吸着触媒Ｂ19）を得た。排
気流入側に（触媒Ａ１）、排気流出側に（吸着触媒Ｂ1
9）を組合せ、（タンデム型吸着触媒−19）を得た。
【００３５】実施例20 Ｈ型ＺＳＭ−５ (SiO2／Al2O3 ＝700) 34 部、Ｈ型ＵＳ
Ｙ（SiO2／Al2O3 ＝50) 33部、Ｈ型モルデナイト (SiO2
／Al2O3 ＝200) 33 部、シリカゾル（固形分20％）215
部、10％硝酸100 部、水15部を磁器ポットに仕込み、実
施例１と同方法でＺＳＭ−５、ＵＳＹ、モルデナイトの
混合スラリーを製造した。そして、実施例１と同方法で
モノリス担体上に150g／L コートし、乾燥、焼成を行っ
た。次に、実施例２と同方法でＺＳＭ−５、ＵＳＹ、モ
ルデナイトの混合層の上に100g／L のPd／Al2O3 触媒層
をコートし、乾燥、焼成を行った。さらに、実施例１と
同方法でRh／Al2O3 触媒層をPd／Al2O3 層上に50 g／L
コートし、乾燥、焼成を行い、（吸着触媒Ｂ20）を得
た。排気流入側に（触媒Ａ１）、排気流出側に（吸着触
媒Ｂ20）を組合せ、（タンデム型吸着触媒−20）を得
た。
Ｙ（SiO2／Al2O3 ＝50) 33部、Ｈ型モルデナイト (SiO2
／Al2O3 ＝200) 33 部、シリカゾル（固形分20％）215
部、10％硝酸100 部、水15部を磁器ポットに仕込み、実
施例１と同方法でＺＳＭ−５、ＵＳＹ、モルデナイトの
混合スラリーを製造した。そして、実施例１と同方法で
モノリス担体上に150g／L コートし、乾燥、焼成を行っ
た。次に、実施例２と同方法でＺＳＭ−５、ＵＳＹ、モ
ルデナイトの混合層の上に100g／L のPd／Al2O3 触媒層
をコートし、乾燥、焼成を行った。さらに、実施例１と
同方法でRh／Al2O3 触媒層をPd／Al2O3 層上に50 g／L
コートし、乾燥、焼成を行い、（吸着触媒Ｂ20）を得
た。排気流入側に（触媒Ａ１）、排気流出側に（吸着触
媒Ｂ20）を組合せ、（タンデム型吸着触媒−20）を得
た。
【００３６】実施例21 Ｈ型ＺＳＭ−５ (SiO2／Al2O3 ＝700) 34 部、Ｈ型ＵＳ
Ｙ（SiO2／Al2O3 ＝50) 33部、Ｈ型βゼオライト (SiO2
／Al2O3 ＝100) 33 部、シリカゾル（固形分20％）215
部、10％硝酸100 部、水15部を磁器ポットに仕込み、実
施例１と同方法でＺＳＭ−５、ＵＳＹ、βゼオライトの
混合スラリーを製造した。そして、実施例１と同方法で
モノリス担体上に150g／L コートし、乾燥、焼成を行っ
た。次に、実施例１と同方法でＺＳＭ−５、ＵＳＹ、β
ゼオライトの混合層の上に100g／L のPt／CeO2触媒層を
コートし、乾燥、焼成を行った。さらに、実施例１と同
方法でRh／Al2O3 触媒層をPt／CeO2層上に50 g／L コー
トし、乾燥、焼成を行い、（吸着触媒Ｂ21）を得た。排
気流入側に（触媒Ａ１）、排気流出側に（吸着触媒Ｂ2
1）を組合せ、（タンデム型吸着触媒−21）を得た。
Ｙ（SiO2／Al2O3 ＝50) 33部、Ｈ型βゼオライト (SiO2
／Al2O3 ＝100) 33 部、シリカゾル（固形分20％）215
部、10％硝酸100 部、水15部を磁器ポットに仕込み、実
施例１と同方法でＺＳＭ−５、ＵＳＹ、βゼオライトの
混合スラリーを製造した。そして、実施例１と同方法で
モノリス担体上に150g／L コートし、乾燥、焼成を行っ
た。次に、実施例１と同方法でＺＳＭ−５、ＵＳＹ、β
ゼオライトの混合層の上に100g／L のPt／CeO2触媒層を
コートし、乾燥、焼成を行った。さらに、実施例１と同
方法でRh／Al2O3 触媒層をPt／CeO2層上に50 g／L コー
トし、乾燥、焼成を行い、（吸着触媒Ｂ21）を得た。排
気流入側に（触媒Ａ１）、排気流出側に（吸着触媒Ｂ2
1）を組合せ、（タンデム型吸着触媒−21）を得た。
【００３７】実施例22 Ｈ型ＺＳＭ−５ (SiO2／Al2O3 ＝700) 34 部、Ｈ型ＵＳ
Ｙ（SiO2／Al2O3 ＝50) 33部、Ｈ型βゼオライト (SiO2
／Al2O3 ＝100) 33 部、シリカゾル（固形分20％）215
部、10％硝酸100 部、水15部を磁器ポットに仕込み、実
施例１と同方法でＺＳＭ−５、ＵＳＹ、βゼオライトの
混合スラリーを製造した。そして、実施例１と同方法で
モノリス担体上に150g／L コートし、乾燥、焼成を行っ
た。次に、実施例２と同方法でＺＳＭ−５、ＵＳＹ、β
ゼオライトの混合層の上に100g／L のPd／Al2O3 触媒層
をコートし、乾燥、焼成を行った。さらに、実施例１と
同方法でRh／Al2O3 触媒層をPd／Al2O3 層上に50 g／L
コートし、乾燥、焼成を行い、（吸着触媒Ｂ22）を得
た。排気流入側に（触媒Ａ１）、排気流出側に（吸着触
媒Ｂ22）を組合せ、（タンデム型吸着触媒−22）を得
た。
Ｙ（SiO2／Al2O3 ＝50) 33部、Ｈ型βゼオライト (SiO2
／Al2O3 ＝100) 33 部、シリカゾル（固形分20％）215
部、10％硝酸100 部、水15部を磁器ポットに仕込み、実
施例１と同方法でＺＳＭ−５、ＵＳＹ、βゼオライトの
混合スラリーを製造した。そして、実施例１と同方法で
モノリス担体上に150g／L コートし、乾燥、焼成を行っ
た。次に、実施例２と同方法でＺＳＭ−５、ＵＳＹ、β
ゼオライトの混合層の上に100g／L のPd／Al2O3 触媒層
をコートし、乾燥、焼成を行った。さらに、実施例１と
同方法でRh／Al2O3 触媒層をPd／Al2O3 層上に50 g／L
コートし、乾燥、焼成を行い、（吸着触媒Ｂ22）を得
た。排気流入側に（触媒Ａ１）、排気流出側に（吸着触
媒Ｂ22）を組合せ、（タンデム型吸着触媒−22）を得
た。
【００３８】実施例23 Ｈ型ＺＳＭ−５ (SiO2／Al2O3 ＝700) 34 部、Agをイオ
ン交換したＺＳＭ−５（以下、Ag−ＺＳＭ−５と記す）
（Ag担持量５重量％、SiO2／Al2O3 ＝30) 33部、Ｈ型Ｕ
ＳＹ（SiO2／Al2O3 ＝50) 33部、シリカゾル（固形分20
％）215 部、10％硝酸100 部、水15部を磁器ポットに仕
込み、実施例１と同方法でＺＳＭ−５、Ag−ＺＳＭ−
５、ＵＳＹの混合スラリーを製造した。そして、実施例
１と同方法でモノリス担体上に150g／L コートし、乾
燥、焼成を行った。次に、実施例１と同方法でＺＳＭ−
５、Ag−ＺＳＭ−５、ＵＳＹの混合層の上に100g／L の
Pt／CeO2触媒層をコートし、乾燥、焼成を行った。さら
に、実施例１と同方法でRh／Al2O3 触媒層をPt／CeO2層
上に50 g／L コートし、乾燥、焼成を行い、（吸着触媒
Ｂ23）を得た。排気流入側に（触媒Ａ１）、排気流出側
に（吸着触媒Ｂ23）を組合せ、（タンデム型吸着触媒−
23）を得た。
ン交換したＺＳＭ−５（以下、Ag−ＺＳＭ−５と記す）
（Ag担持量５重量％、SiO2／Al2O3 ＝30) 33部、Ｈ型Ｕ
ＳＹ（SiO2／Al2O3 ＝50) 33部、シリカゾル（固形分20
％）215 部、10％硝酸100 部、水15部を磁器ポットに仕
込み、実施例１と同方法でＺＳＭ−５、Ag−ＺＳＭ−
５、ＵＳＹの混合スラリーを製造した。そして、実施例
１と同方法でモノリス担体上に150g／L コートし、乾
燥、焼成を行った。次に、実施例１と同方法でＺＳＭ−
５、Ag−ＺＳＭ−５、ＵＳＹの混合層の上に100g／L の
Pt／CeO2触媒層をコートし、乾燥、焼成を行った。さら
に、実施例１と同方法でRh／Al2O3 触媒層をPt／CeO2層
上に50 g／L コートし、乾燥、焼成を行い、（吸着触媒
Ｂ23）を得た。排気流入側に（触媒Ａ１）、排気流出側
に（吸着触媒Ｂ23）を組合せ、（タンデム型吸着触媒−
23）を得た。
【００３９】実施例24 Ｈ型ＺＳＭ−５ (SiO2／Al2O3 ＝700) 34 部、Ag担持Ｚ
ＳＭ−５（Ag担持量５重量％、SiO2／Al2O3 ＝30) 33
部、Ｈ型ＵＳＹ（SiO2／Al2O3 ＝50) 33部、シリカゾル
（固形分20％）215 部、10％硝酸100 部、水15部を磁器
ポットに仕込み、実施例１と同方法でＺＳＭ−５、Ag−
ＺＳＭ−５、ＵＳＹの混合スラリーを製造した。そし
て、実施例１と同方法でモノリス担体上に150g／L コー
トし、乾燥、焼成を行った。次に、実施例２と同方法で
ＺＳＭ−５、Ag−ＺＳＭ−５、ＵＳＹの混合層の上に10
0g／L のPd／Al2O3 触媒層をコートし、乾燥、焼成を行
った。さらに、実施例１と同方法でRh／Al2O3 触媒層を
Pd／Al2O3 層上に50 g／L コートし、乾燥、焼成を行
い、（吸着触媒Ｂ24）を得た。排気流入側に（触媒Ａ
１）、排気流出側に（吸着触媒Ｂ24）を組合せ、（タン
デム型吸着触媒−24）を得た。
ＳＭ−５（Ag担持量５重量％、SiO2／Al2O3 ＝30) 33
部、Ｈ型ＵＳＹ（SiO2／Al2O3 ＝50) 33部、シリカゾル
（固形分20％）215 部、10％硝酸100 部、水15部を磁器
ポットに仕込み、実施例１と同方法でＺＳＭ−５、Ag−
ＺＳＭ−５、ＵＳＹの混合スラリーを製造した。そし
て、実施例１と同方法でモノリス担体上に150g／L コー
トし、乾燥、焼成を行った。次に、実施例２と同方法で
ＺＳＭ−５、Ag−ＺＳＭ−５、ＵＳＹの混合層の上に10
0g／L のPd／Al2O3 触媒層をコートし、乾燥、焼成を行
った。さらに、実施例１と同方法でRh／Al2O3 触媒層を
Pd／Al2O3 層上に50 g／L コートし、乾燥、焼成を行
い、（吸着触媒Ｂ24）を得た。排気流入側に（触媒Ａ
１）、排気流出側に（吸着触媒Ｂ24）を組合せ、（タン
デム型吸着触媒−24）を得た。
【００４０】実施例25 Ｈ型ＺＳＭ−５ (SiO2／Al2O3 ＝700) 34 部、Pdをイオ
ン交換したＺＳＭ−５（以下、Pd−ＺＳＭ−５と記す）
（Pd担持量２重量％、SiO2／Al2O3 ＝30) 33部、Ｈ型Ｕ
ＳＹ（SiO2／Al2O3 ＝50) 33部、シリカゾル（固形分20
％）215 部、10％硝酸100 部、水15部を磁器ポットに仕
込み、実施例１と同方法でＺＳＭ−５、Pd−ＺＳＭ−
５、ＵＳＹの混合スラリーを製造した。そして、実施例
１と同方法でモノリス担体上に150g／L コートし、乾
燥、焼成を行った。次に、実施例１と同方法でＺＳＭ−
５、Pd−ＺＳＭ−５、ＵＳＹの混合層の上に100g／L の
Pt／CeO2触媒層をコートし、乾燥、焼成を行った。さら
に、実施例１と同方法でRh／Al2O3 触媒層をPt／CeO2層
上に50 g／L コートし、乾燥、焼成を行い、（吸着触媒
Ｂ25）を得た。排気流入側に（触媒Ａ１）、排気流出側
に（吸着触媒Ｂ25）を組合せ、（タンデム型吸着触媒−
25）を得た。
ン交換したＺＳＭ−５（以下、Pd−ＺＳＭ−５と記す）
（Pd担持量２重量％、SiO2／Al2O3 ＝30) 33部、Ｈ型Ｕ
ＳＹ（SiO2／Al2O3 ＝50) 33部、シリカゾル（固形分20
％）215 部、10％硝酸100 部、水15部を磁器ポットに仕
込み、実施例１と同方法でＺＳＭ−５、Pd−ＺＳＭ−
５、ＵＳＹの混合スラリーを製造した。そして、実施例
１と同方法でモノリス担体上に150g／L コートし、乾
燥、焼成を行った。次に、実施例１と同方法でＺＳＭ−
５、Pd−ＺＳＭ−５、ＵＳＹの混合層の上に100g／L の
Pt／CeO2触媒層をコートし、乾燥、焼成を行った。さら
に、実施例１と同方法でRh／Al2O3 触媒層をPt／CeO2層
上に50 g／L コートし、乾燥、焼成を行い、（吸着触媒
Ｂ25）を得た。排気流入側に（触媒Ａ１）、排気流出側
に（吸着触媒Ｂ25）を組合せ、（タンデム型吸着触媒−
25）を得た。
【００４１】実施例26 Ｈ型ＺＳＭ−５ (SiO2／Al2O3 ＝700) 34 部、Pd担持Ｚ
ＳＭ−５（Pd担持量２重量％、SiO2／Al2O3 ＝30) 33
部、Ｈ型ＵＳＹ（SiO2／Al2O3 ＝50) 33部、シリカゾル
（固形分20％）215 部、10％硝酸100 部、水15部を磁器
ポットに仕込み、実施例１と同方法でＺＳＭ−５、Pd−
ＺＳＭ−５、ＵＳＹの混合スラリーを製造した。そし
て、実施例１と同方法でモノリス担体上に150g／L コー
トし、乾燥、焼成を行った。次に、実施例２と同方法で
ＺＳＭ−５、Pd−ＺＳＭ−５、ＵＳＹの混合層の上に10
0g／L のPd／Al2O3 触媒層をコートし、乾燥、焼成を行
った。さらに、実施例１と同方法でRh／Al2O3 触媒層を
Pd／Al2O3 層上に50 g／L コートし、乾燥、焼成を行
い、（吸着触媒Ｂ26）を得た。排気流入側に（触媒Ａ
１）、排気流出側に（吸着触媒Ｂ26）を組合せ、（タン
デム型吸着触媒−26）を得た。
ＳＭ−５（Pd担持量２重量％、SiO2／Al2O3 ＝30) 33
部、Ｈ型ＵＳＹ（SiO2／Al2O3 ＝50) 33部、シリカゾル
（固形分20％）215 部、10％硝酸100 部、水15部を磁器
ポットに仕込み、実施例１と同方法でＺＳＭ−５、Pd−
ＺＳＭ−５、ＵＳＹの混合スラリーを製造した。そし
て、実施例１と同方法でモノリス担体上に150g／L コー
トし、乾燥、焼成を行った。次に、実施例２と同方法で
ＺＳＭ−５、Pd−ＺＳＭ−５、ＵＳＹの混合層の上に10
0g／L のPd／Al2O3 触媒層をコートし、乾燥、焼成を行
った。さらに、実施例１と同方法でRh／Al2O3 触媒層を
Pd／Al2O3 層上に50 g／L コートし、乾燥、焼成を行
い、（吸着触媒Ｂ26）を得た。排気流入側に（触媒Ａ
１）、排気流出側に（吸着触媒Ｂ26）を組合せ、（タン
デム型吸着触媒−26）を得た。
【００４２】実施例27 Ｈ型ＺＳＭ−５ (SiO2／Al2O3 ＝700) 34 部、Ag担持Ｚ
ＳＭ−５（Ag担持量５重量％、SiO2／Al2O3 ＝30) 33
部、Ｈ型βゼオライト（SiO2／Al2O3 ＝100) 33部、シ
リカゾル（固形分20％）215 部、10％硝酸100 部、水15
部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同方法でＺＳＭ−
５、Ag−ＺＳＭ−５、βゼオライトの混合スラリーを製
造した。そして、実施例１と同方法でモノリス担体上に
150g／L コートし、乾燥、焼成を行った。次に、実施例
１と同方法でＺＳＭ−５、Ag−ＺＳＭ−５、βゼオライ
トの混合層の上に100g／L のPt／CeO2触媒層をコート
し、乾燥、焼成を行った。さらに、実施例１と同方法で
Rh／Al2O3 触媒層をPt／CeO2層上に50 g／L コートし、
乾燥、焼成を行い、（吸着触媒Ｂ27）を得た。排気流入
側に（触媒Ａ１）、排気流出側に（吸着触媒Ｂ27）を組
合せ、（タンデム型吸着触媒−27）を得た。
ＳＭ−５（Ag担持量５重量％、SiO2／Al2O3 ＝30) 33
部、Ｈ型βゼオライト（SiO2／Al2O3 ＝100) 33部、シ
リカゾル（固形分20％）215 部、10％硝酸100 部、水15
部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同方法でＺＳＭ−
５、Ag−ＺＳＭ−５、βゼオライトの混合スラリーを製
造した。そして、実施例１と同方法でモノリス担体上に
150g／L コートし、乾燥、焼成を行った。次に、実施例
１と同方法でＺＳＭ−５、Ag−ＺＳＭ−５、βゼオライ
トの混合層の上に100g／L のPt／CeO2触媒層をコート
し、乾燥、焼成を行った。さらに、実施例１と同方法で
Rh／Al2O3 触媒層をPt／CeO2層上に50 g／L コートし、
乾燥、焼成を行い、（吸着触媒Ｂ27）を得た。排気流入
側に（触媒Ａ１）、排気流出側に（吸着触媒Ｂ27）を組
合せ、（タンデム型吸着触媒−27）を得た。
【００４３】実施例28 Ｈ型ＺＳＭ−５ (SiO2／Al2O3 ＝700) 34 部、Ag担持Ｚ
ＳＭ−５（Ag担持量５重量％、SiO2／Al2O3 ＝30) 33
部、Ｈ型βゼオライト（SiO2／Al2O3 ＝100) 33部、シ
リカゾル（固形分20％）215 部、10％硝酸100 部、水15
部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同方法でＺＳＭ−
５、Ag−ＺＳＭ−５、βゼオライトの混合スラリーを製
造した。そして、実施例１と同方法でモノリス担体上に
150g／L コートし、乾燥、焼成を行った。次に、実施例
２と同方法でＺＳＭ−５、Ag−ＺＳＭ−５、βゼオライ
トの混合層の上に100g／L のPd／Al2O3 触媒層をコート
し、乾燥、焼成を行った。さらに、実施例１と同方法で
Rh／Al2O3 触媒層をPd／Al2O3 層上に50 g／L コート
し、乾燥、焼成を行い、（吸着触媒Ｂ28）を得た。排気
流入側に（触媒Ａ１）、排気流出側に（吸着触媒Ｂ28）
を組合せ、（タンデム型吸着触媒−28）を得た。
ＳＭ−５（Ag担持量５重量％、SiO2／Al2O3 ＝30) 33
部、Ｈ型βゼオライト（SiO2／Al2O3 ＝100) 33部、シ
リカゾル（固形分20％）215 部、10％硝酸100 部、水15
部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同方法でＺＳＭ−
５、Ag−ＺＳＭ−５、βゼオライトの混合スラリーを製
造した。そして、実施例１と同方法でモノリス担体上に
150g／L コートし、乾燥、焼成を行った。次に、実施例
２と同方法でＺＳＭ−５、Ag−ＺＳＭ−５、βゼオライ
トの混合層の上に100g／L のPd／Al2O3 触媒層をコート
し、乾燥、焼成を行った。さらに、実施例１と同方法で
Rh／Al2O3 触媒層をPd／Al2O3 層上に50 g／L コート
し、乾燥、焼成を行い、（吸着触媒Ｂ28）を得た。排気
流入側に（触媒Ａ１）、排気流出側に（吸着触媒Ｂ28）
を組合せ、（タンデム型吸着触媒−28）を得た。
【００４４】実施例29 Ｈ型ＺＳＭ−５ (SiO2／Al2O3 ＝700) 34 部、Pd担持Ｚ
ＳＭ−５（Pd担持量２重量％、SiO2／Al2O3 ＝30) 33
部、Ｈ型βゼオライト（SiO2／Al2O3 ＝100) 33部、シ
リカゾル（固形分20％）215 部、10％硝酸100 部、水15
部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同方法でＺＳＭ−
５、Pd−ＺＳＭ−５、βゼオライトの混合スラリーを製
造した。そして、実施例１と同方法でモノリス担体上に
150g／L コートし、乾燥、焼成を行った。次に、実施例
１と同方法でＺＳＭ−５、Pd−ＺＳＭ−５、βゼオライ
トの混合層の上に100g／L のPt／CeO2触媒層をコート
し、乾燥、焼成を行った。さらに、実施例１と同方法で
Rh／Al2O3 触媒層をPt／CeO2層上に50 g／L コートし、
乾燥、焼成を行い、（吸着触媒Ｂ29）を得た。排気流入
側に（触媒Ａ１）、排気流出側に（吸着触媒Ｂ29）を組
合せ、（タンデム型吸着触媒−29）を得た。
ＳＭ−５（Pd担持量２重量％、SiO2／Al2O3 ＝30) 33
部、Ｈ型βゼオライト（SiO2／Al2O3 ＝100) 33部、シ
リカゾル（固形分20％）215 部、10％硝酸100 部、水15
部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同方法でＺＳＭ−
５、Pd−ＺＳＭ−５、βゼオライトの混合スラリーを製
造した。そして、実施例１と同方法でモノリス担体上に
150g／L コートし、乾燥、焼成を行った。次に、実施例
１と同方法でＺＳＭ−５、Pd−ＺＳＭ−５、βゼオライ
トの混合層の上に100g／L のPt／CeO2触媒層をコート
し、乾燥、焼成を行った。さらに、実施例１と同方法で
Rh／Al2O3 触媒層をPt／CeO2層上に50 g／L コートし、
乾燥、焼成を行い、（吸着触媒Ｂ29）を得た。排気流入
側に（触媒Ａ１）、排気流出側に（吸着触媒Ｂ29）を組
合せ、（タンデム型吸着触媒−29）を得た。
【００４５】実施例30 Ｈ型ＺＳＭ−５ (SiO2／Al2O3 ＝700) 34 部、Pd担持Ｚ
ＳＭ−５（Pd担持量２重量％、SiO2／Al2O3 ＝30) 33
部、Ｈ型βゼオライト（SiO2／Al2O3 ＝100) 33部、シ
リカゾル（固形分20％）215 部、10％硝酸100 部、水15
部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同方法でＺＳＭ−
５、Pd−ＺＳＭ−５、βゼオライトの混合スラリーを製
造した。そして、実施例１と同方法でモノリス担体上に
150g／L コートし、乾燥、焼成を行った。次に、実施例
２と同方法でＺＳＭ−５、Pd−ＺＳＭ−５、βゼオライ
トの混合層の上に100g／L のPd／Al2O3 触媒層をコート
し、乾燥、焼成を行った。さらに、実施例１と同方法で
Rh／Al2O3 触媒層をPd／Al2O3 層上に50 g／L コート
し、乾燥、焼成を行い、（吸着触媒Ｂ30）を得た。排気
流入側に（触媒Ａ１）、排気流出側に（吸着触媒Ｂ30）
を組合せ、（タンデム型吸着触媒−30）を得た。
ＳＭ−５（Pd担持量２重量％、SiO2／Al2O3 ＝30) 33
部、Ｈ型βゼオライト（SiO2／Al2O3 ＝100) 33部、シ
リカゾル（固形分20％）215 部、10％硝酸100 部、水15
部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同方法でＺＳＭ−
５、Pd−ＺＳＭ−５、βゼオライトの混合スラリーを製
造した。そして、実施例１と同方法でモノリス担体上に
150g／L コートし、乾燥、焼成を行った。次に、実施例
２と同方法でＺＳＭ−５、Pd−ＺＳＭ−５、βゼオライ
トの混合層の上に100g／L のPd／Al2O3 触媒層をコート
し、乾燥、焼成を行った。さらに、実施例１と同方法で
Rh／Al2O3 触媒層をPd／Al2O3 層上に50 g／L コート
し、乾燥、焼成を行い、（吸着触媒Ｂ30）を得た。排気
流入側に（触媒Ａ１）、排気流出側に（吸着触媒Ｂ30）
を組合せ、（タンデム型吸着触媒−30）を得た。
【００４６】実施例31 Ｈ型ＺＳＭ−５ (SiO2／Al2O3 ＝700) 50 部、Agをイオ
ン交換したＵＳＹ（以下、Ag−ＵＳＹと記す）（Ag担持
量５重量％、SiO2／Al2O3 ＝12) 50部、シリカゾル（固
形分20％）215 部、10％硝酸100 部、水15部を磁器ポッ
トに仕込み、実施例１と同方法でＺＳＭ−５、Ag−ＵＳ
Ｙの混合スラリーを製造した。そして、実施例１と同方
法でモノリス担体上に150g／L コートし、乾燥、焼成を
行った。次に、実施例１と同方法でＺＳＭ−５、Ag−Ｕ
ＳＹの混合層の上に100g／L のPt／CeO2触媒層をコート
し、乾燥、焼成を行った。さらに、実施例１と同方法で
Rh／Al2O3 触媒層をPt／CeO2層上に50 g／L コートし、
乾燥、焼成を行い、（吸着触媒Ｂ31）を得た。排気流入
側に（触媒Ａ１）、排気流出側に（吸着触媒Ｂ31）を組
合せ、（タンデム型吸着触媒−31）を得た。
ン交換したＵＳＹ（以下、Ag−ＵＳＹと記す）（Ag担持
量５重量％、SiO2／Al2O3 ＝12) 50部、シリカゾル（固
形分20％）215 部、10％硝酸100 部、水15部を磁器ポッ
トに仕込み、実施例１と同方法でＺＳＭ−５、Ag−ＵＳ
Ｙの混合スラリーを製造した。そして、実施例１と同方
法でモノリス担体上に150g／L コートし、乾燥、焼成を
行った。次に、実施例１と同方法でＺＳＭ−５、Ag−Ｕ
ＳＹの混合層の上に100g／L のPt／CeO2触媒層をコート
し、乾燥、焼成を行った。さらに、実施例１と同方法で
Rh／Al2O3 触媒層をPt／CeO2層上に50 g／L コートし、
乾燥、焼成を行い、（吸着触媒Ｂ31）を得た。排気流入
側に（触媒Ａ１）、排気流出側に（吸着触媒Ｂ31）を組
合せ、（タンデム型吸着触媒−31）を得た。
【００４７】実施例32 Ｈ型ＺＳＭ−５ (SiO2／Al2O3 ＝700) 50 部、Ag−ＵＳ
Ｙ（Ag担持量５重量％、SiO2／Al2O3 ＝12) 50部、シリ
カゾル（固形分20％）215 部、10％硝酸100 部、水15部
を磁器ポットに仕込み、実施例１と同方法でＺＳＭ−
５、Ag−ＵＳＹの混合スラリーを製造した。そして、実
施例１と同方法でモノリス担体上に150g／L コートし、
乾燥、焼成を行った。次に、実施例２と同方法でＺＳＭ
−５、Ag−ＵＳＹの混合層の上に100g／L のPd／Al2O3
触媒層をコートし、乾燥、焼成を行った。さらに、実施
例１と同方法でRh／Al2O3 触媒層をPd／Al2O3 層上に50
g／L コートし、乾燥、焼成を行い、（吸着触媒Ｂ32）
を得た。排気流入側に（触媒Ａ１）、排気流出側に（吸
着触媒Ｂ32）を組合せ、（タンデム型吸着触媒−32）を
得た。
Ｙ（Ag担持量５重量％、SiO2／Al2O3 ＝12) 50部、シリ
カゾル（固形分20％）215 部、10％硝酸100 部、水15部
を磁器ポットに仕込み、実施例１と同方法でＺＳＭ−
５、Ag−ＵＳＹの混合スラリーを製造した。そして、実
施例１と同方法でモノリス担体上に150g／L コートし、
乾燥、焼成を行った。次に、実施例２と同方法でＺＳＭ
−５、Ag−ＵＳＹの混合層の上に100g／L のPd／Al2O3
触媒層をコートし、乾燥、焼成を行った。さらに、実施
例１と同方法でRh／Al2O3 触媒層をPd／Al2O3 層上に50
g／L コートし、乾燥、焼成を行い、（吸着触媒Ｂ32）
を得た。排気流入側に（触媒Ａ１）、排気流出側に（吸
着触媒Ｂ32）を組合せ、（タンデム型吸着触媒−32）を
得た。
【００４８】実施例33 実施例１と同方法でPd／CeO2層を200g／L コートし、乾
燥、焼成を行った。さらに、同方法でPd／CeO2層上にRh
／Al2O3 層を50 g／L ートし、乾燥後、雰囲気650 ℃で
３時間の焼成を行い、（触媒Ａ２）を得た。排気流入側
に（触媒Ａ２）、排気流出側に（吸着触媒Ｂ５）を組合
せ、（タンデム型吸着触媒−33）を得た。
燥、焼成を行った。さらに、同方法でPd／CeO2層上にRh
／Al2O3 層を50 g／L ートし、乾燥後、雰囲気650 ℃で
３時間の焼成を行い、（触媒Ａ２）を得た。排気流入側
に（触媒Ａ２）、排気流出側に（吸着触媒Ｂ５）を組合
せ、（タンデム型吸着触媒−33）を得た。
【００４９】実施例34 排気流入側に（触媒Ａ２）、排気流出側に（吸着触媒Ｂ
９）を組合せ、（タンデム型吸着触媒−33）を得た。
９）を組合せ、（タンデム型吸着触媒−33）を得た。
【００５０】比較例１ Ｈ型ＵＳＹ（SiO2／Al2O3 ＝50) を100 部、シリカゾル
（固形分20％）215 部、10％硝酸水100 部、水15部を磁
器ポットに仕込み、実施例１と同方法でウォッシュコー
トスラリーを製造し、同コート方法でモノリス担体に15
0g/Lコート、乾燥、焼成を行ない、（吸着触媒Ｂ35）を
得た。排気流入側に（吸着触媒35）、排出流出側に（触
媒Ａ１）を組合せ、（タンデム型吸着触媒−35）を得
た。
（固形分20％）215 部、10％硝酸水100 部、水15部を磁
器ポットに仕込み、実施例１と同方法でウォッシュコー
トスラリーを製造し、同コート方法でモノリス担体に15
0g/Lコート、乾燥、焼成を行ない、（吸着触媒Ｂ35）を
得た。排気流入側に（吸着触媒35）、排出流出側に（触
媒Ａ１）を組合せ、（タンデム型吸着触媒−35）を得
た。
【００５１】比較例２ Ｈ型ＵＳＹ（SiO2／Al2O3 ＝７) を100 部、シリカゾル
（固形分20％）215 部、10％硝酸水100 部、水15部を磁
器ポットに仕込み、実施例１と同方法でウォッシュコー
トスラリーを製造し、同コート方法でモノリス担体に15
0g/Lコート、乾燥、焼成を行ない、（吸着触媒−36）を
得た。排気流入側に（吸着触媒Ｂ36）、排出流出側に
（触媒Ａ１）を組合せ、（タンデム型吸着触媒−36）を
得た。
（固形分20％）215 部、10％硝酸水100 部、水15部を磁
器ポットに仕込み、実施例１と同方法でウォッシュコー
トスラリーを製造し、同コート方法でモノリス担体に15
0g/Lコート、乾燥、焼成を行ない、（吸着触媒−36）を
得た。排気流入側に（吸着触媒Ｂ36）、排出流出側に
（触媒Ａ１）を組合せ、（タンデム型吸着触媒−36）を
得た。
【００５２】比較例３ 排気流入側に（吸着触媒Ｂ13）、排気流出側に（触媒Ａ
１）を組合せ、（タンデム型吸着触媒−37）を得た。
１）を組合せ、（タンデム型吸着触媒−37）を得た。
【００５３】試験例 実施例１〜34および比較例１〜４の触媒Ａと吸着触媒Ｂ
を用いたタンデム型吸着触媒を使用して下記評価条件で
ＨＣ吸着・浄化特性評価（ＦＴＰ75Abag）を日産自動車
（株）製車両（排気量３リットル）を用いて行った。各
吸着触媒Ｂの浄化特性は吸着触媒未装着システム（触媒
Ａのみ）と性能比較を行なった。即ち、評価は、(1) エ
ンジン始動時に排出されるＨＣの吸着能を評価するため
Abag０〜125 秒間のエミッション低減率を測定し、(2)
エンジン始動時および昇温後のＨＣの吸着浄化能を評価
するためAbag０〜505 秒間のエミッション低減率を測定
した。
を用いたタンデム型吸着触媒を使用して下記評価条件で
ＨＣ吸着・浄化特性評価（ＦＴＰ75Abag）を日産自動車
（株）製車両（排気量３リットル）を用いて行った。各
吸着触媒Ｂの浄化特性は吸着触媒未装着システム（触媒
Ａのみ）と性能比較を行なった。即ち、評価は、(1) エ
ンジン始動時に排出されるＨＣの吸着能を評価するため
Abag０〜125 秒間のエミッション低減率を測定し、(2)
エンジン始動時および昇温後のＨＣの吸着浄化能を評価
するためAbag０〜505 秒間のエミッション低減率を測定
した。
【００５４】 ガス組成 エンジン始動時 （０〜125 秒) 芳香族 44.4％ パラフィン 33.3％ オレフィン 22.3％ エンジン暖気時（ 125〜505 秒) 芳香族 43.7％ パラフィン 20.1％ オレフィン 36.2％
【００５５】尚評価に当たっては図1 示すようにエンジ
ン１のエギゾーストマニホールド２にプリ三元触媒３
（0.5L) として40g/cfのPt／RhがPt：Rh＝５：１の比で
担持した触媒を、850 ℃で100 時間エンジン耐久（燃焼
カット有）したPt−Rh系触媒の耐久品を配置し、床下三
元触媒Ａ４（1.3 L)の後に吸着触媒Ｂ５（1.3 L)を装着
した排ガス浄化装置を用い、吸着触媒Ｂ未装着の場合と
性能比較を行った。評価結果を表１に示す。
ン１のエギゾーストマニホールド２にプリ三元触媒３
（0.5L) として40g/cfのPt／RhがPt：Rh＝５：１の比で
担持した触媒を、850 ℃で100 時間エンジン耐久（燃焼
カット有）したPt−Rh系触媒の耐久品を配置し、床下三
元触媒Ａ４（1.3 L)の後に吸着触媒Ｂ５（1.3 L)を装着
した排ガス浄化装置を用い、吸着触媒Ｂ未装着の場合と
性能比較を行った。評価結果を表１に示す。
【００５６】
【表１】
【００５７】
【発明の効果】以上説明してきたように、本発明の排ガ
ス浄化装置においては、担体上に触媒活性成分を含む無
機物をコートした触媒を排気流入側に配置し、担体上に
HC吸着に有効なゼオライトからなる吸着層の上に、好ま
しくは触媒層がコートされた吸着触媒を排気流出側に配
置することにより、吸着層からHCが脱離し始める温度に
おいても、脱離したHCが良好に浄化される。
ス浄化装置においては、担体上に触媒活性成分を含む無
機物をコートした触媒を排気流入側に配置し、担体上に
HC吸着に有効なゼオライトからなる吸着層の上に、好ま
しくは触媒層がコートされた吸着触媒を排気流出側に配
置することにより、吸着層からHCが脱離し始める温度に
おいても、脱離したHCが良好に浄化される。
【図１】試験例に用いた排ガス浄化装置の系統図であ
る。
る。
１ エンジン ２ エキゾ−ストマニホールド ３ プリ三元触媒 ４ 触媒Ａ ５ 吸着触媒Ｂ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ０１Ｊ 29/44 ＺＡＢ Ａ 29/80 ＺＡＢ Ａ 35/02 ＺＡＢ Ｐ Ｆ０１Ｎ 3/20 ＺＡＢ Ｈ
Claims (3)
- 【請求項１】 排気流入側にハニカム担体に理論空燃比
近傍で炭化水素、一酸化炭素、窒素酸化物を浄化する三
元触媒をコーティングした触媒Ａを配置し、排気流出側
にハニカム担体に炭化水素の吸着に有効なゼオライトを
コーティングした吸着触媒Ｂを配置したことを特徴とす
る排ガス浄化装置。 - 【請求項２】 吸着触媒Ｂがゼオライト層上に活性セリ
アおよび／またはアルミナを主成分とした粉末に触媒成
分として白金、パラジウムおよびロジウムからなる群か
ら選ばれた１種以上の貴金属を含む触媒層を備えてなる
ことを特徴とする請求項１記載の排ガス浄化装置。 - 【請求項３】 吸着触媒Ｂにおけるゼオライトとしてモ
ルデナイト、ＵＳＹ，βゼオライトおよびＺＳＭ−５か
らなる群から選ばれた少なくとも１種以上を用いたこと
を特徴とする請求項１記載の排ガス浄化装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5319931A JP3052710B2 (ja) | 1993-12-20 | 1993-12-20 | 排ガス浄化装置 |
| US08/352,079 US7442346B2 (en) | 1993-12-20 | 1994-12-01 | Device for the purification of exhaust gas |
| US12/173,459 US7820123B2 (en) | 1993-12-20 | 2008-07-15 | Device for the purification of exhaust gas |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5319931A JP3052710B2 (ja) | 1993-12-20 | 1993-12-20 | 排ガス浄化装置 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17461798A Division JP3459037B2 (ja) | 1998-06-22 | 1998-06-22 | 排ガス浄化装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07174017A true JPH07174017A (ja) | 1995-07-11 |
| JP3052710B2 JP3052710B2 (ja) | 2000-06-19 |
Family
ID=18115842
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5319931A Expired - Lifetime JP3052710B2 (ja) | 1993-12-20 | 1993-12-20 | 排ガス浄化装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US7442346B2 (ja) |
| JP (1) | JP3052710B2 (ja) |
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6191061B1 (en) | 1997-04-23 | 2001-02-20 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Method of purifying exhaust gas and catalyst for purifying exhaust gas |
| JP2001526586A (ja) * | 1997-05-07 | 2001-12-18 | エンゲルハード・コーポレーシヨン | フォーウエイディーゼル排気ガス触媒および使用方法 |
| US6334306B1 (en) | 1998-05-29 | 2002-01-01 | Nissan Motor Co., Ltd. | Exhaust gas purification apparatus in combustion engine |
| JP2002239390A (ja) * | 2001-02-19 | 2002-08-27 | Mazda Motor Corp | 触媒、及びその製造方法 |
| JP2003290661A (ja) * | 1997-08-20 | 2003-10-14 | Nissan Motor Co Ltd | 排気ガス浄化用触媒及び排気ガス浄化装置 |
| EP1482139A1 (en) * | 2003-05-27 | 2004-12-01 | Nissan Motor Co., Ltd. | Exhaust gas purifying system |
| US7186386B1 (en) | 1995-10-04 | 2007-03-06 | Ngk Insulators, Ltd. | System for exhaust gas purification |
| US7229596B2 (en) | 1998-06-17 | 2007-06-12 | Nissan Motor Co., Ltd. | Exhaust emission control device |
| US7287520B2 (en) | 2002-08-01 | 2007-10-30 | Kenichi Hashimoto | Apparatus for enhancing combustion efficiency of liquid fuel |
| JP2010116923A (ja) * | 2010-02-17 | 2010-05-27 | Cataler Corp | 排気ガス浄化用触媒コンバータ及び排気ガス浄化装置 |
| JP2010519449A (ja) * | 2007-02-21 | 2010-06-03 | ユミコア・アクチエンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフト | 触媒コンバータ系及びその使用 |
| JP2018001161A (ja) * | 2012-06-06 | 2018-01-11 | ユミコア アクチェンゲゼルシャフト ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフト | ガソリンパーティキュレートフィルタの上流側で使用するための始動時触媒 |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3052710B2 (ja) * | 1993-12-20 | 2000-06-19 | 日産自動車株式会社 | 排ガス浄化装置 |
| JP4778724B2 (ja) * | 2005-05-02 | 2011-09-21 | 株式会社キャタラー | 硫化水素発生抑制触媒 |
| US7981834B2 (en) * | 2006-03-16 | 2011-07-19 | Ict Co., Ltd. | Adsorbent for hydrocarbons, catalyst for exhaust gas purification and method for exhaust gas purification |
| US20130217566A1 (en) * | 2007-01-17 | 2013-08-22 | Wgch Technology Limited (C/O World Gold Council) | Palladium and gold catalysts |
| US8557204B2 (en) | 2010-11-22 | 2013-10-15 | Umicore Ag & Co. Kg | Three-way catalyst having an upstream single-layer catalyst |
| US8323599B2 (en) | 2010-11-22 | 2012-12-04 | Umicore Ag & Co. Kg | Three-way catalyst having an upstream multi-layer catalyst |
| JP6246192B2 (ja) * | 2012-06-06 | 2017-12-13 | ユミコア アクチェンゲゼルシャフト ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフト | 三元触媒系 |
| US9266092B2 (en) | 2013-01-24 | 2016-02-23 | Basf Corporation | Automotive catalyst composites having a two-metal layer |
| DE102013018920A1 (de) * | 2013-11-13 | 2015-05-13 | Man Truck & Bus Ag | Abgasnachbehandlungsvorrichtung für eine Brennkraftmaschine und Verfahren zum Aufheizen einer Abgasnachbehandlungsvorrichtung |
| KR20210077835A (ko) | 2019-12-17 | 2021-06-28 | 에스케이이노베이션 주식회사 | 방향족 탄화수소의 전환용 촉매 및 이의 제조방법 |
Family Cites Families (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0256247A (ja) | 1988-05-17 | 1990-02-26 | Toyota Motor Corp | 排気浄化用触媒 |
| JPH0615016B2 (ja) * | 1988-09-09 | 1994-03-02 | トヨタ自動車株式会社 | 自動車排気ガス浄化装置 |
| JPH0714463B2 (ja) | 1988-11-14 | 1995-02-22 | トヨタ自動車株式会社 | 自動車排気ガス浄化装置 |
| JP2533371B2 (ja) * | 1989-05-01 | 1996-09-11 | 株式会社豊田中央研究所 | 排気ガス浄化用触媒 |
| JPH03141816A (ja) | 1989-10-27 | 1991-06-17 | Toyota Motor Corp | 排気ガス浄化装置 |
| US5125231A (en) * | 1990-06-08 | 1992-06-30 | Corning Incorporated | Dual converter engine exhaust system for reducing hydrocarbon emissions |
| JP2771364B2 (ja) | 1990-11-09 | 1998-07-02 | 日本碍子株式会社 | 自動車排ガス浄化用触媒コンバーター |
| US5296198A (en) * | 1990-11-09 | 1994-03-22 | Ngk Insulators, Ltd. | Heater and catalytic converter |
| JPH04243525A (ja) * | 1991-01-22 | 1992-08-31 | Toyota Motor Corp | 内燃機関の排気浄化装置 |
| JPH0559942A (ja) * | 1991-08-29 | 1993-03-09 | Toyota Motor Corp | コールドｈｃ吸着除去装置 |
| US5142864A (en) * | 1991-09-30 | 1992-09-01 | Uop | Process for treating an engine exhaust stream employing a catalyst, an adsorbent bed and a turbocharger |
| DE69307822T2 (de) * | 1992-10-20 | 1997-08-21 | Corning Inc | Verfahren zur Konvertierung von Abgasen und Vorrichtung mit thermisch stabilen Zeolithen |
| JPH07102957A (ja) | 1993-10-06 | 1995-04-18 | Babcock Hitachi Kk | 排ガス浄化装置と方法 |
| JPH07124468A (ja) | 1993-11-01 | 1995-05-16 | Nissan Motor Co Ltd | 炭化水素吸着材および吸着触媒の製造方法 |
| JP2682404B2 (ja) | 1993-11-01 | 1997-11-26 | 日産自動車株式会社 | 炭化水素吸着材および触媒の製造方法 |
| JP3052710B2 (ja) * | 1993-12-20 | 2000-06-19 | 日産自動車株式会社 | 排ガス浄化装置 |
-
1993
- 1993-12-20 JP JP5319931A patent/JP3052710B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1994
- 1994-12-01 US US08/352,079 patent/US7442346B2/en active Active
-
2008
- 2008-07-15 US US12/173,459 patent/US7820123B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7186386B1 (en) | 1995-10-04 | 2007-03-06 | Ngk Insulators, Ltd. | System for exhaust gas purification |
| US6191061B1 (en) | 1997-04-23 | 2001-02-20 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Method of purifying exhaust gas and catalyst for purifying exhaust gas |
| JP2001526586A (ja) * | 1997-05-07 | 2001-12-18 | エンゲルハード・コーポレーシヨン | フォーウエイディーゼル排気ガス触媒および使用方法 |
| JP2003290661A (ja) * | 1997-08-20 | 2003-10-14 | Nissan Motor Co Ltd | 排気ガス浄化用触媒及び排気ガス浄化装置 |
| US6334306B1 (en) | 1998-05-29 | 2002-01-01 | Nissan Motor Co., Ltd. | Exhaust gas purification apparatus in combustion engine |
| US7229596B2 (en) | 1998-06-17 | 2007-06-12 | Nissan Motor Co., Ltd. | Exhaust emission control device |
| JP2002239390A (ja) * | 2001-02-19 | 2002-08-27 | Mazda Motor Corp | 触媒、及びその製造方法 |
| JP4649746B2 (ja) * | 2001-02-19 | 2011-03-16 | マツダ株式会社 | 排気ガス浄化用触媒、及びその製造方法 |
| US7287520B2 (en) | 2002-08-01 | 2007-10-30 | Kenichi Hashimoto | Apparatus for enhancing combustion efficiency of liquid fuel |
| EP1717422A3 (en) * | 2003-05-27 | 2006-11-15 | Nissan Motor Co., Ltd. | Exhaust gas purifying method |
| EP1717422A2 (en) * | 2003-05-27 | 2006-11-02 | Nissan Motor Co., Ltd. | Exhaust gas purifying method |
| US7246488B2 (en) | 2003-05-27 | 2007-07-24 | Nissan Motor Co., Ltd. | Exhaust gas purifying system |
| US6932067B2 (en) | 2003-05-27 | 2005-08-23 | Nissan Motor Co., Ltd. | Exhaust gas purifying system |
| EP1482139A1 (en) * | 2003-05-27 | 2004-12-01 | Nissan Motor Co., Ltd. | Exhaust gas purifying system |
| JP2010519449A (ja) * | 2007-02-21 | 2010-06-03 | ユミコア・アクチエンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフト | 触媒コンバータ系及びその使用 |
| JP2012232309A (ja) * | 2007-02-21 | 2012-11-29 | Umicore Ag & Co Kg | 触媒コンバータ系及びその使用 |
| JP2010116923A (ja) * | 2010-02-17 | 2010-05-27 | Cataler Corp | 排気ガス浄化用触媒コンバータ及び排気ガス浄化装置 |
| JP2018001161A (ja) * | 2012-06-06 | 2018-01-11 | ユミコア アクチェンゲゼルシャフト ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフト | ガソリンパーティキュレートフィルタの上流側で使用するための始動時触媒 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20030099583A1 (en) | 2003-05-29 |
| US7442346B2 (en) | 2008-10-28 |
| JP3052710B2 (ja) | 2000-06-19 |
| US7820123B2 (en) | 2010-10-26 |
| US20080282683A1 (en) | 2008-11-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7820123B2 (en) | Device for the purification of exhaust gas | |
| US10828623B2 (en) | Hydrocarbon trap catalyst | |
| JP3965711B2 (ja) | 窒素酸化物の浄化触媒及び浄化方法 | |
| JP2003200049A (ja) | 排気ガス浄化用触媒 | |
| JPH0910594A (ja) | 排気ガス浄化用触媒 | |
| CN112041051B (zh) | 碳氢化合物捕集催化剂 | |
| JPH07124468A (ja) | 炭化水素吸着材および吸着触媒の製造方法 | |
| JP3282344B2 (ja) | 排気ガス浄化装置 | |
| JPH07102957A (ja) | 排ガス浄化装置と方法 | |
| JP2682404B2 (ja) | 炭化水素吸着材および触媒の製造方法 | |
| US20040101453A1 (en) | Apparatus for purifying exhaust gases | |
| JP3459037B2 (ja) | 排ガス浄化装置 | |
| JP3695394B2 (ja) | 排気ガス浄化装置および製造方法 | |
| JPH07241471A (ja) | 排ガス浄化用吸着触媒の製造方法 | |
| JPH06142519A (ja) | 炭化水素吸着触媒 | |
| JP3991908B2 (ja) | 排ガス浄化方法 | |
| JP3295989B2 (ja) | 排ガス浄化用触媒 | |
| JPH04293519A (ja) | 排気ガス浄化用装置 | |
| JPH09225265A (ja) | 排気ガス浄化装置 | |
| JPH0999217A (ja) | 排ガス浄化システム | |
| JP3414808B2 (ja) | 排気ガス中の炭化水素吸着剤 | |
| JP2003135970A (ja) | 排気ガス浄化用触媒 | |
| JP4106762B2 (ja) | 排気ガス浄化用触媒装置及び浄化方法 | |
| JPH06142520A (ja) | 炭化水素吸着触媒 | |
| JP3321831B2 (ja) | 排気ガス浄化用触媒 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090407 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090407 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100407 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110407 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120407 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130407 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130407 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140407 Year of fee payment: 14 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |