JP3295989B2 - 排ガス浄化用触媒 - Google Patents
排ガス浄化用触媒Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、自動車の排ガス浄化装
置に使用される排ガス浄化用触媒に関するものである。
置に使用される排ガス浄化用触媒に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】自動車等の内燃機関の排ガス浄化用触媒
としては、一酸化炭素(CO)及び炭化水素(HC)の酸化と、
窒素酸化物（NOx ）の還元を同時に行なう触媒が汎用さ
れている。このような触媒は、例えば特公昭58−20307
号公報にもみられるように、耐火性担体上のアルミナコ
ート層に、パラジウム(Pd)、白金(Pt)およびロジウム(R
h)等の貴金属、及び場合により助触媒成分としてセリウ
ム(Ce)、ランタン(La)等の希土類金属またはニッケル(N
i)等のベースメタル酸化物を添加したものがほとんどで
ある。
としては、一酸化炭素(CO)及び炭化水素(HC)の酸化と、
窒素酸化物（NOx ）の還元を同時に行なう触媒が汎用さ
れている。このような触媒は、例えば特公昭58−20307
号公報にもみられるように、耐火性担体上のアルミナコ
ート層に、パラジウム(Pd)、白金(Pt)およびロジウム(R
h)等の貴金属、及び場合により助触媒成分としてセリウ
ム(Ce)、ランタン(La)等の希土類金属またはニッケル(N
i)等のベースメタル酸化物を添加したものがほとんどで
ある。
【０００３】かかる触媒は、排ガス温度とエンジンの設
定空燃比の影響を強く受ける。自動車用触媒が浄化能を
発揮する排ガス温度としては、一般に300 ℃以上必要で
あり、また空燃比は、HCとCOの酸化とNOx の還元のバラ
ンスがとれる理論空燃比（Ａ／Ｆ＝14.6）付近で触媒が
最も有効に働く。従って、従来の三元触媒を用いる排ガ
ス浄化装置を取り付けた自動車では、三元触媒が有効に
働くような位置に設置されており、また排気系の酸素濃
度を検出して、混合気を理論空燃比付近に保つようフィ
ードバック制御が行なわれている。
定空燃比の影響を強く受ける。自動車用触媒が浄化能を
発揮する排ガス温度としては、一般に300 ℃以上必要で
あり、また空燃比は、HCとCOの酸化とNOx の還元のバラ
ンスがとれる理論空燃比（Ａ／Ｆ＝14.6）付近で触媒が
最も有効に働く。従って、従来の三元触媒を用いる排ガ
ス浄化装置を取り付けた自動車では、三元触媒が有効に
働くような位置に設置されており、また排気系の酸素濃
度を検出して、混合気を理論空燃比付近に保つようフィ
ードバック制御が行なわれている。
【０００４】従来の三元触媒をエキゾーストマニホール
ド直後に設置しても、排ガス温度が低い（300 ℃以下）
エンジン始動直後には触媒活性が低く、始動直後（コー
ルドスタート時）に大量に排出されるHCは浄化されずに
そのまま排出されてしまうという問題がある。
ド直後に設置しても、排ガス温度が低い（300 ℃以下）
エンジン始動直後には触媒活性が低く、始動直後（コー
ルドスタート時）に大量に排出されるHCは浄化されずに
そのまま排出されてしまうという問題がある。
【０００５】従って上記問題を解決するため排ガス浄化
装置として、触媒コンバータの排気上流側にコールドHC
を吸着するための吸着材を納めたHCトラッパーを配置し
た装置（特開平２−135126号公報）が提案されている。
装置として、触媒コンバータの排気上流側にコールドHC
を吸着するための吸着材を納めたHCトラッパーを配置し
た装置（特開平２−135126号公報）が提案されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
特開平２−135126号公報に開示されている自動車排気ガ
ス浄化装置に用いられている吸着材では 1) ゼオライトとして、Ｙ型ゼオライトまたはモルデナ
イトを用いているため水の影響が大きく、HC吸着能力が
十分ではない。 2) 吸着材の下流側に貴金属を含浸しているため、触媒
が活性温度に達する前に上流側の吸着材からHCが脱離し
てしまう。 3) ゼオライトをコートした後に金属を担持しているた
め、イオン交換率が十分におこなわれておらず、吸着能
力が十分でない。 という問題がある。従って本発明は、上記従来技術の問
題点を解決するためになされたもので、吸着層から脱離
してきたHCが良好に浄化されるとともに排ガスの温度が
上昇した後、HC, COおよびNOx が良好に浄化される排ガ
ス浄化触媒を提供することを目的とする。
特開平２−135126号公報に開示されている自動車排気ガ
ス浄化装置に用いられている吸着材では 1) ゼオライトとして、Ｙ型ゼオライトまたはモルデナ
イトを用いているため水の影響が大きく、HC吸着能力が
十分ではない。 2) 吸着材の下流側に貴金属を含浸しているため、触媒
が活性温度に達する前に上流側の吸着材からHCが脱離し
てしまう。 3) ゼオライトをコートした後に金属を担持しているた
め、イオン交換率が十分におこなわれておらず、吸着能
力が十分でない。 という問題がある。従って本発明は、上記従来技術の問
題点を解決するためになされたもので、吸着層から脱離
してきたHCが良好に浄化されるとともに排ガスの温度が
上昇した後、HC, COおよびNOx が良好に浄化される排ガ
ス浄化触媒を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、コールドスタ
ート時排ガス中のHCを浄化することができる触媒であっ
て、モノリス担体上に、炭化水素の吸着に有効な銅(Cu)
またはパラジウム(Pd)でイオン交換した１種以上のＺＳ
Ｍ−５ゼオライトと、触媒成分として白金(Pt)とパラジ
ウム(Pd)の１種以上が担持された活性アルミナおよび／
またはセリアとからなる第１層と、更に該第１層の上に
触媒成分としてロジウム(Rh)が担持された活性アルミナ
からなる第２層を備えていることを特徴とする排ガス浄
化用触媒関するものである。
ート時排ガス中のHCを浄化することができる触媒であっ
て、モノリス担体上に、炭化水素の吸着に有効な銅(Cu)
またはパラジウム(Pd)でイオン交換した１種以上のＺＳ
Ｍ−５ゼオライトと、触媒成分として白金(Pt)とパラジ
ウム(Pd)の１種以上が担持された活性アルミナおよび／
またはセリアとからなる第１層と、更に該第１層の上に
触媒成分としてロジウム(Rh)が担持された活性アルミナ
からなる第２層を備えていることを特徴とする排ガス浄
化用触媒関するものである。
【０００８】更に、本発明は、前記第２層の触媒成分は
ロジウムのみが担持されていることを特徴とする排ガス
浄化用触媒および前記第１層の触媒成分は白金はセリア
に担持されており、パラジウムはアルミナに担持されて
いることを特徴とする排ガス浄化用触媒に関する。
ロジウムのみが担持されていることを特徴とする排ガス
浄化用触媒および前記第１層の触媒成分は白金はセリア
に担持されており、パラジウムはアルミナに担持されて
いることを特徴とする排ガス浄化用触媒に関する。
【０００９】
【作用】本発明の排ガス浄化用触媒においては、吸着材
と混合コーティングされた触媒が、吸着材とともに加熱
されるため、吸着材からHCが脱離する段階において触媒
が十分に活性化されており、HCが良好に浄化される。
と混合コーティングされた触媒が、吸着材とともに加熱
されるため、吸着材からHCが脱離する段階において触媒
が十分に活性化されており、HCが良好に浄化される。
【００１０】第１層のPt, Pdは活性セリア及び／または
アルミナに担持すると酸化活性が高い。特にPtはCOによ
る被毒を抑えられるため活性セリアに担持するのが好ま
しい。また、Pdは分散度を高く担持できるためアルミナ
に担持するのが好ましい。また、触媒特性の耐熱性を保
つ為にRhは単身で第２層に担持する必要がある。
アルミナに担持すると酸化活性が高い。特にPtはCOによ
る被毒を抑えられるため活性セリアに担持するのが好ま
しい。また、Pdは分散度を高く担持できるためアルミナ
に担持するのが好ましい。また、触媒特性の耐熱性を保
つ為にRhは単身で第２層に担持する必要がある。
【００１１】
【実施例】以下、本発明を実施例、比較例および試験例
によりさらに詳細に説明する。なお例において、部は特
記しない限り重量部を表わす。
によりさらに詳細に説明する。なお例において、部は特
記しない限り重量部を表わす。
【００１２】実施例１ Pdをイオン交換したＺＳＭ−５ゼオライト（以下、Pd／
ZSM-5 と記す)100部、シリカゾル（固形分20％）65部、
水65部を磁器ポットに仕込み、振動ミル装置で40分間も
しくは、ユニバーサルボールミル装置で6.5 時間混合粉
砕して、Pd／ZSM-5 スラリーを製造した。次に、Ptを担
持した活性セリア粉末（以下、Pt／CeO2と記す）100
部、アルミナ50部、２％硝酸150 部を磁器ポットに仕込
み、前記と同様にしてPt／CeO2スラリーを製造した。
ZSM-5 と記す)100部、シリカゾル（固形分20％）65部、
水65部を磁器ポットに仕込み、振動ミル装置で40分間も
しくは、ユニバーサルボールミル装置で6.5 時間混合粉
砕して、Pd／ZSM-5 スラリーを製造した。次に、Ptを担
持した活性セリア粉末（以下、Pt／CeO2と記す）100
部、アルミナ50部、２％硝酸150 部を磁器ポットに仕込
み、前記と同様にしてPt／CeO2スラリーを製造した。
【００１３】そして、これら２種類のスラリーを１対１
の比率で混合し、１時間かくはんした。コーディライト
製モノリス担体に、前記で製造したPd／ZSM-5 ＋Pt／Ce
O2混合スラリーを担体断面全体に均一にコーティング
し、その後、乾燥を行い、400℃で約１時間仮焼成し
た。これによりPd／ZSM-5 ＋Pt／CeO2が約70ｇ／Ｌのコ
ート量で担体にコートされる。上記のウォシュコート、
乾燥及び焼成をさらに２回繰り返して合計200 ｇ／Ｌの
Pd／ZSM-5 ＋Pd／CeO2をコートし、空気雰囲気中400 ℃
で２〜６時間（好ましくは４時間）の焼成を行なった。
の比率で混合し、１時間かくはんした。コーディライト
製モノリス担体に、前記で製造したPd／ZSM-5 ＋Pt／Ce
O2混合スラリーを担体断面全体に均一にコーティング
し、その後、乾燥を行い、400℃で約１時間仮焼成し
た。これによりPd／ZSM-5 ＋Pt／CeO2が約70ｇ／Ｌのコ
ート量で担体にコートされる。上記のウォシュコート、
乾燥及び焼成をさらに２回繰り返して合計200 ｇ／Ｌの
Pd／ZSM-5 ＋Pd／CeO2をコートし、空気雰囲気中400 ℃
で２〜６時間（好ましくは４時間）の焼成を行なった。
【００１４】次に、Rhを担持したアルミナ粉末（以下、
Rh／Al2O3 と記す）100 部、アルミナ50部、２％硝酸15
0 部を磁器ポットに仕込み、前記と同様にしてウォシュ
コートスラリーを製造し、同様の方法でPd／ZSM-5 ＋Pt
／CeO2層の上に50ｇ／ＬのRh／Al2O3 触媒層をコート
し、乾燥後、空気雰囲気中400 ℃で２〜６時間（好まし
くは４時間）の焼成を行ない、（触媒−１）を得た。
Rh／Al2O3 と記す）100 部、アルミナ50部、２％硝酸15
0 部を磁器ポットに仕込み、前記と同様にしてウォシュ
コートスラリーを製造し、同様の方法でPd／ZSM-5 ＋Pt
／CeO2層の上に50ｇ／ＬのRh／Al2O3 触媒層をコート
し、乾燥後、空気雰囲気中400 ℃で２〜６時間（好まし
くは４時間）の焼成を行ない、（触媒−１）を得た。
【００１５】実施例２ Pd／ZSM-5 を100 部、シリカゾル（固形分20％）65部、
水65部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法で
Pd／ZSM-5 スラリーを製造した。次にPdを担持した活性
セリア粉末（以下、Pd／CeO2と記す）100 部、アルミナ
50部、２％硝酸150 部を磁器ポットに仕込み、実施例１
と同様の方法でPd／CeO2スラリーを製造した。
水65部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法で
Pd／ZSM-5 スラリーを製造した。次にPdを担持した活性
セリア粉末（以下、Pd／CeO2と記す）100 部、アルミナ
50部、２％硝酸150 部を磁器ポットに仕込み、実施例１
と同様の方法でPd／CeO2スラリーを製造した。
【００１６】そして、実施例１と同様の方法でPd／ZSM-
5 ＋Pd／CeO2混合スラリーを同様のコート方法でモノリ
ス担体上に200g／Ｌコートし、乾燥、焼成を行なった。
5 ＋Pd／CeO2混合スラリーを同様のコート方法でモノリ
ス担体上に200g／Ｌコートし、乾燥、焼成を行なった。
【００１７】さらに、実施例１と同様の方法でRh／Al2O
3 触媒層を50ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行ない、
（触媒−２）を得た。
3 触媒層を50ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行ない、
（触媒−２）を得た。
【００１８】実施例３ Cuでイオン交換したZSM-5 ゼオライト（以下、Cu／ZSM-
5 と記す）100 部、シリカゾル（固形分20％）65部、水
65部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でCu
／ZSM-5 スラリーを製造した。次にPt／CeO2 100部、ア
ルミナ50部、２％硝酸150 部を磁器ポットに仕込み、実
施例１と同様の方法でPt／CeO2スラリーを製造した。
5 と記す）100 部、シリカゾル（固形分20％）65部、水
65部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でCu
／ZSM-5 スラリーを製造した。次にPt／CeO2 100部、ア
ルミナ50部、２％硝酸150 部を磁器ポットに仕込み、実
施例１と同様の方法でPt／CeO2スラリーを製造した。
【００１９】そして、実施例１と同様の方法でCu／ZSM-
5 ＋Pt／CeO2混合スラリーを同様のコート方法でモノリ
ス担体上に 200ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行なっ
た。
5 ＋Pt／CeO2混合スラリーを同様のコート方法でモノリ
ス担体上に 200ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行なっ
た。
【００２０】さらに、実施例１と同様の方法でRh／Al2O
3 触媒層を50ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行ない、
（触媒−３）を得た。
3 触媒層を50ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行ない、
（触媒−３）を得た。
【００２１】実施例４ Cu／ZSM-5 を100 部、シリカゾル（固形分20％）65部、
水65部を磁器ポットに仕込み、実施例３と同様の方法で
Cu／ZSM-5 スラリーを製造した。次にPd／CeO2100 部、
アルミナ50部、２％硝酸150 部を磁器ポットに仕込み、
実施例２と同様の方法でCu／ZSM-5 ＋Pd／CeO2混合スラ
リーを同様のコート方法でモノリス担体上に200g／Ｌコ
ートし、乾燥、焼成を行なった。
水65部を磁器ポットに仕込み、実施例３と同様の方法で
Cu／ZSM-5 スラリーを製造した。次にPd／CeO2100 部、
アルミナ50部、２％硝酸150 部を磁器ポットに仕込み、
実施例２と同様の方法でCu／ZSM-5 ＋Pd／CeO2混合スラ
リーを同様のコート方法でモノリス担体上に200g／Ｌコ
ートし、乾燥、焼成を行なった。
【００２２】さらに、実施例１と同様の方法でRh／Al2O
3 触媒層を50ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行ない、
（触媒−４）を得た。
3 触媒層を50ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行ない、
（触媒−４）を得た。
【００２３】実施例５ Pd／ZSM-5 を100 部、シリカゾル（固形分20％）65部、
水65部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法で
Pd／ZSM-5 スラリーを製造した。次にPtを担持したアル
ミナ粉末（以下、Pt／Al2O3 と記す）100 部、アルミナ
50部、２％硝酸150 部を磁器ポットに仕込み、実施例１
と同様の方法でPt／Al2O3 スラリーを製造した。
水65部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法で
Pd／ZSM-5 スラリーを製造した。次にPtを担持したアル
ミナ粉末（以下、Pt／Al2O3 と記す）100 部、アルミナ
50部、２％硝酸150 部を磁器ポットに仕込み、実施例１
と同様の方法でPt／Al2O3 スラリーを製造した。
【００２４】そして、実施例１と同様の方法でPd／ZSM-
5 ＋Pt／Al2O3 混合スラリーを同様のコート方法でモノ
リス担体上に200g／Ｌコートし、乾燥、焼成を行なっ
た。
5 ＋Pt／Al2O3 混合スラリーを同様のコート方法でモノ
リス担体上に200g／Ｌコートし、乾燥、焼成を行なっ
た。
【００２５】さらに、実施例１と同様の方法でRh／Al2O
3 触媒層を50g ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行ない、
（触媒−５）を得た。
3 触媒層を50g ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行ない、
（触媒−５）を得た。
【００２６】実施例６ Pd／ZSM-5 を100 部、シリカゲル（固形分20％）65部、
水65部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法で
Pd／ZSM-5 スラリーを製造した。次にPdを担持したアル
ミナ粉末（以下、Pd／Al2O3 と記す）100 部、アルミナ
50部、２％硝酸150 部を磁器ポットに仕込み、実施例１
と同様の方法でPd／Al2O3 スラリーを製造した。
水65部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法で
Pd／ZSM-5 スラリーを製造した。次にPdを担持したアル
ミナ粉末（以下、Pd／Al2O3 と記す）100 部、アルミナ
50部、２％硝酸150 部を磁器ポットに仕込み、実施例１
と同様の方法でPd／Al2O3 スラリーを製造した。
【００２７】そして、実施例１と同様の方法でPd／ZSM-
5 ＋Pd／Al2O3 混合スラリーを同様のコート方法でモノ
リス担体上に200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行なっ
た。
5 ＋Pd／Al2O3 混合スラリーを同様のコート方法でモノ
リス担体上に200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行なっ
た。
【００２８】さらに、実施例１と同様の方法でRh／Al2O
3 触媒層を50ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行ない、
（触媒−６）を得た。
3 触媒層を50ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行ない、
（触媒−６）を得た。
【００２９】実施例７ Cu／ZSM-5 を100 部、シリカゾル（固形分20％）65部、
水65部を磁器ポットに仕込み、実施例３と同様の方法で
Cu／ZSM-5 スラリーを製造した。次にPt／Al2O 3 100
部、アルミナ50部、２％硝酸150 部を磁器ポットに仕込
み、実施例５と同様の方法でPt／Al2O3 スラリーを製造
した。
水65部を磁器ポットに仕込み、実施例３と同様の方法で
Cu／ZSM-5 スラリーを製造した。次にPt／Al2O 3 100
部、アルミナ50部、２％硝酸150 部を磁器ポットに仕込
み、実施例５と同様の方法でPt／Al2O3 スラリーを製造
した。
【００３０】そして、実施例１と同様の方法でCu／ZSM-
5 ＋Pt／Al2O3 混合スラリーを同様のコート方法でモノ
リス担体上に200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行なっ
た。
5 ＋Pt／Al2O3 混合スラリーを同様のコート方法でモノ
リス担体上に200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行なっ
た。
【００３１】さらに、実施例１と同様の方法でRh／Al2O
3 触媒層を50ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行ない、
（触媒−７）を得た。
3 触媒層を50ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行ない、
（触媒−７）を得た。
【００３２】実施例８ Cu／ZSM-5 を100 部、シリカゾル（固形分20％）65部、
水65部を磁器ポットに仕込み、実施例３と同様の方法で
Cu／ZSM-5 スラリーを製造した。次にPd／Al2O 3 100
部、アルミナ50部、２％硝酸150 部を磁器ポットに仕込
み、実施例６と同様の方法でPd／Al2O3 スラリーを製造
した。
水65部を磁器ポットに仕込み、実施例３と同様の方法で
Cu／ZSM-5 スラリーを製造した。次にPd／Al2O 3 100
部、アルミナ50部、２％硝酸150 部を磁器ポットに仕込
み、実施例６と同様の方法でPd／Al2O3 スラリーを製造
した。
【００３３】そして、実施例１と同様の方法でCu／ZSM-
5 ＋Pd／Al2O3 混合スラリーを同様のコート方法でモノ
リス担体上に200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行なっ
た。
5 ＋Pd／Al2O3 混合スラリーを同様のコート方法でモノ
リス担体上に200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行なっ
た。
【００３４】さらに、実施例１と同様の方法でRh／Al2O
3 触媒層を50ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行ない、
（触媒−８）を得た。
3 触媒層を50ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行ない、
（触媒−８）を得た。
【００３５】実施例９ Pd／ZSM-5 を25部、Cu／ZSM-5 を75部とシリカゾル65部
及び、水65部をポットに仕込み、実施例１と同様の方法
でPd／ZSM-5 ＋Cu／ZSM-5 スラリーを製造した。次にPt
／CeO2 100部、アルミナ50部、２％硝酸150 部を磁器ポ
ットに仕込み、実施例１と同様の方法でPt／CeO2スラリ
ーを製造した。
及び、水65部をポットに仕込み、実施例１と同様の方法
でPd／ZSM-5 ＋Cu／ZSM-5 スラリーを製造した。次にPt
／CeO2 100部、アルミナ50部、２％硝酸150 部を磁器ポ
ットに仕込み、実施例１と同様の方法でPt／CeO2スラリ
ーを製造した。
【００３６】そして、実施例１と同様の方法でPd／ZSM-
5 ＋Cu／ZSM-5 ＋Pt／CeO2混合スラリーを同様のコート
方法でモノリス担体上に200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼
成を行なった。
5 ＋Cu／ZSM-5 ＋Pt／CeO2混合スラリーを同様のコート
方法でモノリス担体上に200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼
成を行なった。
【００３７】さらに、実施例１と同様の方法でRh／Al2O
3 触媒層を50ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行ない、
（触媒−９）を得た。
3 触媒層を50ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行ない、
（触媒−９）を得た。
【００３８】実施例10 Pd／ZSM-5 を25部、Cu／ZSM-5 を75部とシリカゾル65部
及び、水65部をポットに仕込み、実施例９と同様の方法
でPd／ZSM-5 ＋Cu／ZSM-5 スラリーを製造した。次にPd
／CeO2 100部、アルミナ50部、２％硝酸150 部を磁器ポ
ットに仕込み、実施例２と同様の方法でPd／CeO2スラリ
ーを製造した。
及び、水65部をポットに仕込み、実施例９と同様の方法
でPd／ZSM-5 ＋Cu／ZSM-5 スラリーを製造した。次にPd
／CeO2 100部、アルミナ50部、２％硝酸150 部を磁器ポ
ットに仕込み、実施例２と同様の方法でPd／CeO2スラリ
ーを製造した。
【００３９】そして、実施例１と同様の方法でPd／ZSM-
5 ＋Cu／ZSM-5 ＋Pd／CeO2混合スラリーを同様のコート
方法でモノリス担体上に200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼
成を行なった。
5 ＋Cu／ZSM-5 ＋Pd／CeO2混合スラリーを同様のコート
方法でモノリス担体上に200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼
成を行なった。
【００４０】さらに、実施例１と同様の方法でRh／Al2O
3 触媒層を50ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行ない、
（触媒−10）を得た。
3 触媒層を50ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行ない、
（触媒−10）を得た。
【００４１】実施例11 Pd／ZSM-5 を10部、Cu／ZSM-5 を90部とシリカゾル65部
及び、水65部をポットに仕込み、実施例１と同様の方法
でPd／ZSM-5 ＋Cu／ZSM-5 スラリーを製造した。次にPt
／CeO2 100部、アルミナ50部、２％硝酸150 部を磁器ポ
ットに仕込み、実施例１と同様の方法でPt／CeO2スラリ
ーを製造した。
及び、水65部をポットに仕込み、実施例１と同様の方法
でPd／ZSM-5 ＋Cu／ZSM-5 スラリーを製造した。次にPt
／CeO2 100部、アルミナ50部、２％硝酸150 部を磁器ポ
ットに仕込み、実施例１と同様の方法でPt／CeO2スラリ
ーを製造した。
【００４２】そして、実施例１と同様の方法でPd／ZSM-
5 ＋Cu／ZSM-5 ＋Pt／CeO2混合スラリーを同様のコート
方法でモノリス担体上に200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼
成を行なった。
5 ＋Cu／ZSM-5 ＋Pt／CeO2混合スラリーを同様のコート
方法でモノリス担体上に200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼
成を行なった。
【００４３】さらに、実施例１と同様の方法でRh／Al2O
3 触媒層を50ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行ない、
（触媒−11）を得た。
3 触媒層を50ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行ない、
（触媒−11）を得た。
【００４４】実施例12 Pd／ZSM-5 を10部、Cu／ZSM-5 を90部とシリカゾル65部
及び、水65部をポットに仕込み、実施例11と同様の方法
でPd／ZSM-5 ＋Cu／ZSM-5 スラリーを製造した。次にPd
／CeO2 100部、アルミナ50部、２％硝酸150 部を磁器ポ
ットに仕込み、実施例２と同様の方法でPd／CeO2スラリ
ーを製造した。
及び、水65部をポットに仕込み、実施例11と同様の方法
でPd／ZSM-5 ＋Cu／ZSM-5 スラリーを製造した。次にPd
／CeO2 100部、アルミナ50部、２％硝酸150 部を磁器ポ
ットに仕込み、実施例２と同様の方法でPd／CeO2スラリ
ーを製造した。
【００４５】次に実施例１と同様の方法でPd／ZSM-5 ＋
Cu／ZSM-5 ＋Pd／CeO2混合スラリーを同様のコート方法
でモノリス担体上に200g／Ｌコートし、乾燥、焼成を行
なった。
Cu／ZSM-5 ＋Pd／CeO2混合スラリーを同様のコート方法
でモノリス担体上に200g／Ｌコートし、乾燥、焼成を行
なった。
【００４６】さらに、実施例１と同様の方法でRh／Al2O
3 触媒層を50ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行ない（触
媒−12）を得た。
3 触媒層を50ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行ない（触
媒−12）を得た。
【００４７】実施例13 Pd／ZSM-5 を25部、Cu／ZSM-5 を75部とシリカゾル65部
及び、水65部をポットに仕込み、実施例９と同様の方法
でPd／ZSM-5 ＋Cu／ZSM-5 スラリーを製造した。次にPt
／Al2O3 100 部、アルミナ50部、２％硝酸150 部を磁器
ポットに仕込み、実施例５と同様の方法でPt／Al2O3 ス
ラリーを製造した。
及び、水65部をポットに仕込み、実施例９と同様の方法
でPd／ZSM-5 ＋Cu／ZSM-5 スラリーを製造した。次にPt
／Al2O3 100 部、アルミナ50部、２％硝酸150 部を磁器
ポットに仕込み、実施例５と同様の方法でPt／Al2O3 ス
ラリーを製造した。
【００４８】そして、実施例１と同様の方法でPd／ZSM-
5 ＋Cu／ZSM-5 ＋Pt／Al2O3 混合スラリーを同様のコー
ト方法でモノリス担体上に200g／Ｌコートし、乾燥、焼
成を行なった。
5 ＋Cu／ZSM-5 ＋Pt／Al2O3 混合スラリーを同様のコー
ト方法でモノリス担体上に200g／Ｌコートし、乾燥、焼
成を行なった。
【００４９】さらに、実施例１と同様の方法でRh／Al2O
3 触媒層を50ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行ない（触
媒−13）を得た。
3 触媒層を50ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行ない（触
媒−13）を得た。
【００５０】実施例14 Pd／ZSM-5 を25部、Cu／ZSM-5 を75部とシリカゾル65部
及び、水65部をポットに仕込み、実施例９と同様の方法
でPd／ZSM-5 ＋Cu／ZSM-5 スラリーを製造した。次にPd
／Al2O3 100 部、アルミナ50部、２％硝酸150 部を磁器
ポットに仕込み、実施例６と同様の方法でPd／Al2O3 ス
ラリーを製造した。次に実施例１と同様の方法でPd／ZS
M-5 ＋Cu／ZSM-5 ＋Pd／Al2O3 混合スラリーを同様のコ
ート方法でモノリス担体上に200 ｇ／Ｌコートし、乾
燥、焼成を行なった。
及び、水65部をポットに仕込み、実施例９と同様の方法
でPd／ZSM-5 ＋Cu／ZSM-5 スラリーを製造した。次にPd
／Al2O3 100 部、アルミナ50部、２％硝酸150 部を磁器
ポットに仕込み、実施例６と同様の方法でPd／Al2O3 ス
ラリーを製造した。次に実施例１と同様の方法でPd／ZS
M-5 ＋Cu／ZSM-5 ＋Pd／Al2O3 混合スラリーを同様のコ
ート方法でモノリス担体上に200 ｇ／Ｌコートし、乾
燥、焼成を行なった。
【００５１】さらに、実施例１と同様の方法でRh／Al2O
3 触媒層を50ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行ない、
（触媒−14）を得た。
3 触媒層を50ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行ない、
（触媒−14）を得た。
【００５２】実施例15 Pd／ZSM-5 を10部、Cu／ZSM-5 を90部とシリカゾル65部
及び、水65部をポットに仕込み、実施例11と同様の方法
でPd／ZSM-5 ＋Cu／ZSM-5 スラリーを製造した。次にPt
／Al2O3 100 部、アルミナ50部、２％硝酸150 部を磁器
ポットに仕込み、実施例５と同様の方法でPt／Al2O3 ス
ラリーを製造した。
及び、水65部をポットに仕込み、実施例11と同様の方法
でPd／ZSM-5 ＋Cu／ZSM-5 スラリーを製造した。次にPt
／Al2O3 100 部、アルミナ50部、２％硝酸150 部を磁器
ポットに仕込み、実施例５と同様の方法でPt／Al2O3 ス
ラリーを製造した。
【００５３】そして、実施例１と同様の方法でPd／ZSM-
5 ＋Cu／ZSM-5 ＋Pt／Al2O3 混合スラリーを同様のコー
ト方法でモノリス担体上に200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、
焼成を行なった。
5 ＋Cu／ZSM-5 ＋Pt／Al2O3 混合スラリーを同様のコー
ト方法でモノリス担体上に200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、
焼成を行なった。
【００５４】さらに、実施例１と同様の方法でRh／Al2O
3 触媒層を50ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行ない、
（触媒−15）を得た。
3 触媒層を50ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行ない、
（触媒−15）を得た。
【００５５】実施例16 Pd／ZSM-5 を10部、Cu／ZSM-5 を90部とシリカゾル65部
及び、水65部をポットに仕込み、実施例11と同様の方法
でPd／ZSM-5 ＋Cu／ZSM-5 スラリーを製造した。次にPd
／Al2O3 100 部、アルミナ50部、２％硝酸150 部を磁器
ポットに仕込み、実施例６と同様の方法でPd／Al2O3 ス
ラリーを製造した。
及び、水65部をポットに仕込み、実施例11と同様の方法
でPd／ZSM-5 ＋Cu／ZSM-5 スラリーを製造した。次にPd
／Al2O3 100 部、アルミナ50部、２％硝酸150 部を磁器
ポットに仕込み、実施例６と同様の方法でPd／Al2O3 ス
ラリーを製造した。
【００５６】次に実施例１と同様の方法でPd／ZSM-5 ＋
Cu／ZSM-5 ＋Pd／Al2O3混合スラリーを同様のコート方
法でモノリス担体上に200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成
を行なった。
Cu／ZSM-5 ＋Pd／Al2O3混合スラリーを同様のコート方
法でモノリス担体上に200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成
を行なった。
【００５７】さらに、実施例１と同様の方法でRh／Al2O
3 触媒層を50ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行ない、
（触媒−16）を得た。
3 触媒層を50ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行ない、
（触媒−16）を得た。
【００５８】実施例17 Pd／ZSM-5 を10部、シリカゾル（固形分20％）65部、水
65部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でPd
／ZSM-5 スラリーを製造した。次にPt／CeO250部、Pd／
Al2O3 350 部、アルミナ50部、２％硝酸150 部を磁器ポ
ットに仕込み、実施例１と同様の方法でPt／CeO2＋Pd／
Al2O3 スラリーを製造した。
65部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でPd
／ZSM-5 スラリーを製造した。次にPt／CeO250部、Pd／
Al2O3 350 部、アルミナ50部、２％硝酸150 部を磁器ポ
ットに仕込み、実施例１と同様の方法でPt／CeO2＋Pd／
Al2O3 スラリーを製造した。
【００５９】次に実施例２と同様の方法でPd／ZSM-5 ＋
Pt／CeO2＋Pd／Al2O3 混合スラリーを同様のコート方法
でモノリス担体上に200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を
行なった。
Pt／CeO2＋Pd／Al2O3 混合スラリーを同様のコート方法
でモノリス担体上に200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を
行なった。
【００６０】さらに、実施例１と同様の方法でRh／Al2O
3 触媒層を50ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行ない、
（触媒−17）を得た。
3 触媒層を50ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行ない、
（触媒−17）を得た。
【００６１】実施例18 Cu／ZSM-5 を100 部、シリカゾル（固形分20％）65部、
水65部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法で
Cu／ZSM-5 スラリーを製造した。次にPt／CeO250部、Pd
／Al2O3 50部、アルミナ50部、２％硝酸150 部を磁器ポ
ットに仕込み、実施例１と同様の方法でPt／CeO2＋Pd／
Al2O3 スラリーを製造した。
水65部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法で
Cu／ZSM-5 スラリーを製造した。次にPt／CeO250部、Pd
／Al2O3 50部、アルミナ50部、２％硝酸150 部を磁器ポ
ットに仕込み、実施例１と同様の方法でPt／CeO2＋Pd／
Al2O3 スラリーを製造した。
【００６２】次に実施例２と同様の方法でCu／ZSM-5 ＋
Pt／CeO2＋Pd／Al2O3 混合スラリーを同様のコート方法
でモノリス担体上に200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を
行なった。
Pt／CeO2＋Pd／Al2O3 混合スラリーを同様のコート方法
でモノリス担体上に200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を
行なった。
【００６３】さらに、実施例１と同様の方法でRh／Al2O
3 触媒層を50ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行ない、
（触媒−18）を得た。
3 触媒層を50ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行ない、
（触媒−18）を得た。
【００６４】比較例１ Pd／ZSM-5 を100 部、シリカゾル（固形分20％）65部、
水65部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法で
ウォッシュコートスラリーを製造し、同様のコート方法
でモノリス担体にPd／ZSM-5 を200g／Ｌコートし、乾
燥、焼成を行ない、（触媒−19）を得た。
水65部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法で
ウォッシュコートスラリーを製造し、同様のコート方法
でモノリス担体にPd／ZSM-5 を200g／Ｌコートし、乾
燥、焼成を行ない、（触媒−19）を得た。
【００６５】比較例２ Cu／ZSM-5 を100 部、シリカゾル（固形分20％）65部、
水65部を磁器ポットに仕込み、実施例３と同様の方法で
ウォッシュコートスラリーを製造し、同様のコート方法
でモノリス担体にCu／ZSM-5 を200g／Ｌコートし、乾
燥、焼成を行ない、（触媒−20）を得た。以上の実施例
の担体としては、モノリス担体、メタル担体等任意のも
のを使用することができる。
水65部を磁器ポットに仕込み、実施例３と同様の方法で
ウォッシュコートスラリーを製造し、同様のコート方法
でモノリス担体にCu／ZSM-5 を200g／Ｌコートし、乾
燥、焼成を行ない、（触媒−20）を得た。以上の実施例
の担体としては、モノリス担体、メタル担体等任意のも
のを使用することができる。
【００６６】試験例１ 実施例１〜18及び、比較例１と２の各触媒に付き下記条
件で評価を行ない、ＨＣ吸着浄化率を測定し、得た結果
を表２に示す。
件で評価を行ない、ＨＣ吸着浄化率を測定し、得た結果
を表２に示す。
【表１】触媒容量 120 cm3 （ＳＶ：40000 ／ｈ） 評価エンジン ＲＢ２０Ｅ
【００６７】評価モードは、コールド状態（水温25℃）
からエンジン始動、アイドル状態（700 rpm ）に20秒間
保持（図１）し、その後2000rpm 、−200 mmHgに加速、
保持する。吸着率は、ガス流入後100 秒間の積算値（１
−触媒出口／触媒入口）より求めた。図１にエンジン入
口温度の経時変化とこれに伴う炭化水素の基準温度変化
を示す。
からエンジン始動、アイドル状態（700 rpm ）に20秒間
保持（図１）し、その後2000rpm 、−200 mmHgに加速、
保持する。吸着率は、ガス流入後100 秒間の積算値（１
−触媒出口／触媒入口）より求めた。図１にエンジン入
口温度の経時変化とこれに伴う炭化水素の基準温度変化
を示す。
【００６８】
【表２】
【００６９】試験例２ 実施例１〜18および比較例１と２の各触媒を、下記条件
で評価を行い、高温での浄化率を測定した。
で評価を行い、高温での浄化率を測定した。
【表３】触媒容量 120 cm3 （ＳＶ：40000 ／ｈ） エンジン 日産自動車（株）製６気筒2000ccエンジ
ン(RB20E) (2000rpm 、−200mmHg) Ａ／Ｆ 14.6 触媒入口温度 400 ℃ 浄化率の測定結果については表４に示す。各吸着触媒金
属および三元触媒金属の担持量を同様に表４に示す。
ン(RB20E) (2000rpm 、−200mmHg) Ａ／Ｆ 14.6 触媒入口温度 400 ℃ 浄化率の測定結果については表４に示す。各吸着触媒金
属および三元触媒金属の担持量を同様に表４に示す。
【表４】
【００７０】
【発明の効果】本発明の排ガス浄化用触媒においては、
担体上にＨＣ吸着に有効な吸着層の上に触媒層がコート
されているため、吸着層からＨＣが脱離し始める温度に
おいても、脱離したＨＣが良好に浄化され、排ガス中の
ＨＣ，ＣＯおよびNOx を高い効率で浄化することができ
る。
担体上にＨＣ吸着に有効な吸着層の上に触媒層がコート
されているため、吸着層からＨＣが脱離し始める温度に
おいても、脱離したＨＣが良好に浄化され、排ガス中の
ＨＣ，ＣＯおよびNOx を高い効率で浄化することができ
る。
【図１】試験例におけるエンジン入口温度の経時変化と
これに伴う炭化水素の基準濃度変化を示すグラフであ
る。
これに伴う炭化水素の基準濃度変化を示すグラフであ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 増田 剛司 神奈川県横浜市神奈川区宝町２番地 日 産自動車株式会社内 (56)参考文献 特開 平４−176337（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−310742（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−218439（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B01J 21/00 - 38/74 B01D 53/86 B01D 53/94
Claims (3)
- 【請求項１】 モノリス担体上に、炭化水素の吸着に有
効な銅またはパラジウムでイオン交換した１種以上のＺ
ＳＭ−５ゼオライトと、触媒成分として白金とパラジウ
ムの１種以上が担持された活性アルミナおよび／または
セリアとからなる第１層と、更に該第１層の上に触媒成
分としてロジウムが担持された活性アルミナからなる第
２層を備えていることを特徴とする排ガス浄化用触媒。 - 【請求項２】 前記第２層の触媒成分はロジウムのみが
担持されていることを特徴とする請求項１記載の排ガス
浄化用触媒。 - 【請求項３】 前記第１層の触媒成分は白金はセリアに
担持されており、パラジウムはアルミナに担持されてい
ることを特徴とする請求項１または２記載の排ガス浄化
用触媒。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32192292A JP3295989B2 (ja) | 1992-12-01 | 1992-12-01 | 排ガス浄化用触媒 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32192292A JP3295989B2 (ja) | 1992-12-01 | 1992-12-01 | 排ガス浄化用触媒 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06170234A JPH06170234A (ja) | 1994-06-21 |
| JP3295989B2 true JP3295989B2 (ja) | 2002-06-24 |
Family
ID=18137914
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32192292A Expired - Fee Related JP3295989B2 (ja) | 1992-12-01 | 1992-12-01 | 排ガス浄化用触媒 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3295989B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6042797A (en) * | 1997-07-02 | 2000-03-28 | Tosoh Corporation | Adsorbent for ethylene, method for adsorbing and removing ethylene and method for purifying an exhaust gas |
| EP0755714A3 (en) * | 1995-07-27 | 1997-03-19 | General Motors Corporation | Wide range hydrocarbon adsorber and quick lightoff catalyst |
| JP3896706B2 (ja) * | 1998-10-20 | 2007-03-22 | 日産自動車株式会社 | 排気ガス浄化用触媒及びその製造方法 |
| JP5100085B2 (ja) * | 2006-10-31 | 2012-12-19 | 株式会社キャタラー | 排ガス浄化用触媒 |
-
1992
- 1992-12-01 JP JP32192292A patent/JP3295989B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06170234A (ja) | 1994-06-21 |
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