JPH07142562A - ペリクル収納容器 - Google Patents
ペリクル収納容器Info
- Publication number
- JPH07142562A JPH07142562A JP29166893A JP29166893A JPH07142562A JP H07142562 A JPH07142562 A JP H07142562A JP 29166893 A JP29166893 A JP 29166893A JP 29166893 A JP29166893 A JP 29166893A JP H07142562 A JPH07142562 A JP H07142562A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pellicle
- upper lid
- pellicle frame
- packing
- storage container
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/66—Containers specially adapted for masks, mask blanks or pellicles; Preparation thereof
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
- G03F7/70741—Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Library & Information Science (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Packaging Frangible Articles (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Closures For Containers (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 本発明は、半導体製造におけるフォトリソ
グラフィー工程で使用するレチクルまたはフォトマスク
防塵用のペリクル収納容器の提供を目的とするものであ
る。 【構成】 本発明のペリクル収納容器は、載置台にペ
リクル膜を上向きにしてペリクルを置き、上ぶたでペリ
クルを固定するペリクル収納容器において、上ぶたとペ
リクル枠または上ぶたと載置台とがパッキンを介して接
触するように、上ぶたにパッキンを設けてなることを特
徴とするものである。
グラフィー工程で使用するレチクルまたはフォトマスク
防塵用のペリクル収納容器の提供を目的とするものであ
る。 【構成】 本発明のペリクル収納容器は、載置台にペ
リクル膜を上向きにしてペリクルを置き、上ぶたでペリ
クルを固定するペリクル収納容器において、上ぶたとペ
リクル枠または上ぶたと載置台とがパッキンを介して接
触するように、上ぶたにパッキンを設けてなることを特
徴とするものである。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はペリクル収納容器、特に
は半導体製造におけるフォトリソグラフィー工程で使用
するレチクルまたはフォトマスク防塵用のペリクル収納
容器に関するものである。
は半導体製造におけるフォトリソグラフィー工程で使用
するレチクルまたはフォトマスク防塵用のペリクル収納
容器に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、半導体装置は高密度化、高集積化
に伴なってパターンの微細化が進行しており、フォトマ
スク上に付着した微細な異物でも転写パターンの欠陥に
なるようになってきたことから、このフォトマスクへの
異物の付着を防止するためにフォトマスクにペリクルを
装着することが広く行なわれるようになってきている。
に伴なってパターンの微細化が進行しており、フォトマ
スク上に付着した微細な異物でも転写パターンの欠陥に
なるようになってきたことから、このフォトマスクへの
異物の付着を防止するためにフォトマスクにペリクルを
装着することが広く行なわれるようになってきている。
【０００３】このペリクルは透明薄物を金属枠の片面に
張設したものであるが、これをフォトマスクに装着する
と透明薄膜とフォトマスク面の距離だけ露光時の焦点が
ずれることになるので、透明薄膜上には比較的大きな異
物の付着が許容される。しかし、このペリクルについて
はペリクルの製造時および搬送時に、ペリクル膜および
金属枠内部に異物が付着していると、使用中に異物がフ
ォトマスク上に落下する可能性があり、これは許されな
いので、このペリクルの搬送は一般にプラスチック製の
容器にペリクルを収納して行なわれるが、これは一般に
１つの収納容器に１つのペリクルが収納される。
張設したものであるが、これをフォトマスクに装着する
と透明薄膜とフォトマスク面の距離だけ露光時の焦点が
ずれることになるので、透明薄膜上には比較的大きな異
物の付着が許容される。しかし、このペリクルについて
はペリクルの製造時および搬送時に、ペリクル膜および
金属枠内部に異物が付着していると、使用中に異物がフ
ォトマスク上に落下する可能性があり、これは許されな
いので、このペリクルの搬送は一般にプラスチック製の
容器にペリクルを収納して行なわれるが、これは一般に
１つの収納容器に１つのペリクルが収納される。
【０００４】図３は従来公知のペリクル収納容器の縦断
面図を示したものであるが、図示されているようにペリ
クル11を載置台14にペリクル膜が上になるように置き、
その上からペリクル枠12にかぶせるように上ぶた13を置
いて、上ぶた13でペリクル枠12の上部を固定する（実開
平1-120148号公報参照）のであるが、このままでは載置
台14と上ぶた13が固定できないので、固定部品16を用い
てこれらを固定する。例えばステッパ用のペリクルの場
合にはペリクルの形状が四角形であるので、ペリクル収
納容器も四角形とされ、固定部品はペリクル収納容器の
コーナー部の四ヶ所に用いればよいが、これらの収納容
器の材質は一般にポリエチレン、ポリスチレン、ポリプ
ロピレン、ＡＢＳ樹脂などのプラスチックス類とされ
る。
面図を示したものであるが、図示されているようにペリ
クル11を載置台14にペリクル膜が上になるように置き、
その上からペリクル枠12にかぶせるように上ぶた13を置
いて、上ぶた13でペリクル枠12の上部を固定する（実開
平1-120148号公報参照）のであるが、このままでは載置
台14と上ぶた13が固定できないので、固定部品16を用い
てこれらを固定する。例えばステッパ用のペリクルの場
合にはペリクルの形状が四角形であるので、ペリクル収
納容器も四角形とされ、固定部品はペリクル収納容器の
コーナー部の四ヶ所に用いればよいが、これらの収納容
器の材質は一般にポリエチレン、ポリスチレン、ポリプ
ロピレン、ＡＢＳ樹脂などのプラスチックス類とされ
る。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】このように従来のペリ
クル収納容器では上ぶたが直接ペリクル枠の上部に接触
してこれを押さえることによってペリクルを動かないよ
うに固定するのであるが、この場合には上ぶたとペリク
ル枠が直接機械的に接触するために、その界面から異物
が発生して、これがペリクル膜に付着するという問題が
あり、この界面から発生する異物は上ぶたの接触面から
発生するだけでなく、ペリクル枠の接触面からも発生す
るという不利がある。
クル収納容器では上ぶたが直接ペリクル枠の上部に接触
してこれを押さえることによってペリクルを動かないよ
うに固定するのであるが、この場合には上ぶたとペリク
ル枠が直接機械的に接触するために、その界面から異物
が発生して、これがペリクル膜に付着するという問題が
あり、この界面から発生する異物は上ぶたの接触面から
発生するだけでなく、ペリクル枠の接触面からも発生す
るという不利がある。
【０００６】また、この種のペリクル収納容器では載置
台と上ぶたも固定部品で固定されるが、載置台と上ぶた
とは気密性が充分でないために、ペリクルを収納した収
納容器をトラックや航空機で輸送すると外部からの微粒
子がこの載置台と上ぶたとの結合部から侵入し、ペリク
ル膜やペリクル枠に異物が付着するという不利がある。
そのため、この載置台と上ぶたとの気密性を保つため
に、例えばこれを粘着テープなどでシールすることも行
なわれているが、これには使用時にこれを剥離するとい
う煩雑さがあり、また粘着テープの使用によってこれが
汚染されるという危険があるため、これは好ましいもの
ではない。
台と上ぶたも固定部品で固定されるが、載置台と上ぶた
とは気密性が充分でないために、ペリクルを収納した収
納容器をトラックや航空機で輸送すると外部からの微粒
子がこの載置台と上ぶたとの結合部から侵入し、ペリク
ル膜やペリクル枠に異物が付着するという不利がある。
そのため、この載置台と上ぶたとの気密性を保つため
に、例えばこれを粘着テープなどでシールすることも行
なわれているが、これには使用時にこれを剥離するとい
う煩雑さがあり、また粘着テープの使用によってこれが
汚染されるという危険があるため、これは好ましいもの
ではない。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明はこのような不
利、問題点を解決したペリクル収納容器に関するもので
あり、これは載置台にペリクル膜を上向きにしてペリク
ルを置き、上ぶたでペリクルを固定するペリクル収納容
器において、上ぶたとペリクル枠または載置台と上ぶた
とがパッキンを介して接触するように、上ぶたにパッキ
ンを設けてなることを特徴とするものである。
利、問題点を解決したペリクル収納容器に関するもので
あり、これは載置台にペリクル膜を上向きにしてペリク
ルを置き、上ぶたでペリクルを固定するペリクル収納容
器において、上ぶたとペリクル枠または載置台と上ぶた
とがパッキンを介して接触するように、上ぶたにパッキ
ンを設けてなることを特徴とするものである。
【０００８】すなわち、本発明者らはペリクル収納容器
における上記した不利を解決する方法について種々検討
した結果、載置台にペリクル膜を上向きにしてペリクル
を置き、上ぶたでペリクルを固定するようにしたペリク
ル収納容器において、この上ぶたにパッキンを設けたと
ころ、上ぶたとペリクル枠または載置台と上ぶたが直接
機械的に接触することがなくなり、これらの接触はすべ
てパッキンを介して行なわれるので、これらの接触界面
から異物の発生することがなくなるということを見出
し、したがってこれによればペリクル膜に異物の付着す
ることが防止されるということを確認して本発明を完成
させた。以下にこれをさらに詳述する。
における上記した不利を解決する方法について種々検討
した結果、載置台にペリクル膜を上向きにしてペリクル
を置き、上ぶたでペリクルを固定するようにしたペリク
ル収納容器において、この上ぶたにパッキンを設けたと
ころ、上ぶたとペリクル枠または載置台と上ぶたが直接
機械的に接触することがなくなり、これらの接触はすべ
てパッキンを介して行なわれるので、これらの接触界面
から異物の発生することがなくなるということを見出
し、したがってこれによればペリクル膜に異物の付着す
ることが防止されるということを確認して本発明を完成
させた。以下にこれをさらに詳述する。
【０００９】
【作用】本発明のペリクル収納容器は載置台、ペリクル
枠、ペリクル膜、上ぶた、固定部品からなるペリクル収
納容器における上ぶたにパッキンを設けたものであり、
これによれば上ぶたとペリクル枠または載置台と上ぶた
が直接接触せず、これらがパッキンを介して接触するの
で、これらの機械的接触界面からの異物の発生がなくな
るという有利性が与えられる。
枠、ペリクル膜、上ぶた、固定部品からなるペリクル収
納容器における上ぶたにパッキンを設けたものであり、
これによれば上ぶたとペリクル枠または載置台と上ぶた
が直接接触せず、これらがパッキンを介して接触するの
で、これらの機械的接触界面からの異物の発生がなくな
るという有利性が与えられる。
【００１０】ここに使用するパッキンはこれが上ぶたと
ペリクル枠、または載置台と上ぶたとの機械的な直接接
触を押さえるクッション材となるものであるということ
から適度に弾性を持ち、変性時にも発塵が少ないものと
することが好ましいということから、例えばポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ＡＢＳ樹脂、ポリ塩化ビニルなど
のプラスチック材、またはシリコーン系ゴム、フッ素系
ゴム、ウレタン系ゴムなどの合成ゴムなどで作られたも
のとすることがよい。
ペリクル枠、または載置台と上ぶたとの機械的な直接接
触を押さえるクッション材となるものであるということ
から適度に弾性を持ち、変性時にも発塵が少ないものと
することが好ましいということから、例えばポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ＡＢＳ樹脂、ポリ塩化ビニルなど
のプラスチック材、またはシリコーン系ゴム、フッ素系
ゴム、ウレタン系ゴムなどの合成ゴムなどで作られたも
のとすることがよい。
【００１１】このパッキンの形状は丸棒状でも、ペリク
ル枠側にとがったくさび状のものであってもよいが、丸
棒状のものはサイズが直径１〜10mmのものとすることが
よく、くさび状のものは巾が１〜10mmで高さが１〜10mm
程度のものとすればよい。なお、このパッキンはペリク
ル枠上部の全体に接触してもよいが、これは四角形のコ
ーナー部のみ、またはこれらの中間の形でもよい。
ル枠側にとがったくさび状のものであってもよいが、丸
棒状のものはサイズが直径１〜10mmのものとすることが
よく、くさび状のものは巾が１〜10mmで高さが１〜10mm
程度のものとすればよい。なお、このパッキンはペリク
ル枠上部の全体に接触してもよいが、これは四角形のコ
ーナー部のみ、またはこれらの中間の形でもよい。
【００１２】本発明のペリクル収納容器は載置台、ペリ
クル枠、ペリクル膜、上ぶたおよび固定部品から構成さ
れる収納容器の上ぶたにパッキンを設けたものである
が、これは例えば図１、図２に示したものとされる。図
１、図２はいずれも本願発明のペリクル収納容器の縦断
面図を示したものであるが、この図１のものはペリクル
膜１がペリクル枠２に載置されており、このペリクル枠
２は載置台４の上に載せられており、このペリクル枠２
にはペリクル枠支持体５が設けられていて、このペリク
ル枠２は上ぶた３によって固定されているが、これらは
固定部品６によって固定されている。
クル枠、ペリクル膜、上ぶたおよび固定部品から構成さ
れる収納容器の上ぶたにパッキンを設けたものである
が、これは例えば図１、図２に示したものとされる。図
１、図２はいずれも本願発明のペリクル収納容器の縦断
面図を示したものであるが、この図１のものはペリクル
膜１がペリクル枠２に載置されており、このペリクル枠
２は載置台４の上に載せられており、このペリクル枠２
にはペリクル枠支持体５が設けられていて、このペリク
ル枠２は上ぶた３によって固定されているが、これらは
固定部品６によって固定されている。
【００１３】しかし、この図１のものには図示されてい
るように、この上ぶた３に本発明によるパッキン７が設
けられているので、これによってペリクル枠２と上ぶた
３とが直接接触することはなくなり、これらはパッキン
７を介して接触するが、このパッキンが弾性を有する変
形できるものであることから、このペリクル容器からペ
リクルを取り出すために上ぶた３を取り外しても、ペリ
クル枠２と上ぶた３の直接接触で異物が発生するという
事故が防止される。なお、このパッキンは図では丸棒状
のものが図示されているが、これは下のとがったくさび
状のものとしてもよい。
るように、この上ぶた３に本発明によるパッキン７が設
けられているので、これによってペリクル枠２と上ぶた
３とが直接接触することはなくなり、これらはパッキン
７を介して接触するが、このパッキンが弾性を有する変
形できるものであることから、このペリクル容器からペ
リクルを取り出すために上ぶた３を取り外しても、ペリ
クル枠２と上ぶた３の直接接触で異物が発生するという
事故が防止される。なお、このパッキンは図では丸棒状
のものが図示されているが、これは下のとがったくさび
状のものとしてもよい。
【００１４】また、この図２に示したものは図１に示し
たものと同じペリクル収納容器において上ぶた３におけ
るパッキンの位置を上ぶた３と載置台４との接着点に設
けたものであるが、これによれば上ぶた３と載置台４と
がこのパッキン７を介して接触するのでこれらが気密に
保持されるようになり、したがってトラックや航空機に
よる輸送時にこの上ぶた３と載置台との接触面から異物
が侵入するのを防止することができるという有利性が与
えられる。
たものと同じペリクル収納容器において上ぶた３におけ
るパッキンの位置を上ぶた３と載置台４との接着点に設
けたものであるが、これによれば上ぶた３と載置台４と
がこのパッキン７を介して接触するのでこれらが気密に
保持されるようになり、したがってトラックや航空機に
よる輸送時にこの上ぶた３と載置台との接触面から異物
が侵入するのを防止することができるという有利性が与
えられる。
【００１５】
【実施例】つぎに本発明の実施例、比較例をあげる。 実施例１、比較例１ ペリクル枠２、上ぶた３、載置台４、ペリクル枠支持体
５、固定部品６をポリプロピレンで製作した図１に示し
たペリクル収納容器の上ぶた３に直径３mmのシリコーン
ゴム製の丸棒から作ったパッキン７を設け、このペリク
ル収納容器に信越化学工業（株）製のペリクルを収納
し、これからペリクルを取り出す操作を10回くり返して
行なったが、これには新たにこのペリクル膜に異物の付
着することがなかった。しかし、比較のために図３に示
した従来公知のペリクル収納容器について同じ操作を行
なったところ、このペリクル膜には新たに13個の異物が
付着していた。
５、固定部品６をポリプロピレンで製作した図１に示し
たペリクル収納容器の上ぶた３に直径３mmのシリコーン
ゴム製の丸棒から作ったパッキン７を設け、このペリク
ル収納容器に信越化学工業（株）製のペリクルを収納
し、これからペリクルを取り出す操作を10回くり返して
行なったが、これには新たにこのペリクル膜に異物の付
着することがなかった。しかし、比較のために図３に示
した従来公知のペリクル収納容器について同じ操作を行
なったところ、このペリクル膜には新たに13個の異物が
付着していた。
【００１６】実施例２、比較例２ 実施例１と同一のポリプロピレン製のペリクル収納容器
において、上ぶた３と載置台４との接触部に図２に示し
たようにシリコーンゴム棒の丸棒から作ったパッキン７
を設け、これに信越化学工業（株）製のペリクルを収納
し、これを羽田−福岡間を航空機で一往復させたのち、
上ぶたを開いてペリクルを取り出し、ペリクル膜上の異
物数を測定したところ、これには異物の増加は認められ
なかった。しかし、比較のために図３に示した従来公知
のペリクル収納容器を用いて同様の輸送試験を行ない、
その異物数を測定したところ、これには７個の異物の増
加が認められた。
において、上ぶた３と載置台４との接触部に図２に示し
たようにシリコーンゴム棒の丸棒から作ったパッキン７
を設け、これに信越化学工業（株）製のペリクルを収納
し、これを羽田−福岡間を航空機で一往復させたのち、
上ぶたを開いてペリクルを取り出し、ペリクル膜上の異
物数を測定したところ、これには異物の増加は認められ
なかった。しかし、比較のために図３に示した従来公知
のペリクル収納容器を用いて同様の輸送試験を行ない、
その異物数を測定したところ、これには７個の異物の増
加が認められた。
【００１７】
【発明の効果】本発明はペリクル収納容器に関するもの
であり、これは前記したように載置台にペリクル膜を上
向きにしてペリクルを置き、上ぶたでペリクルを固定す
るペリクル収納容器において、上ぶたにパッキンを設け
てなることを特徴とするものであるが、これによれば上
ぶたとペリクル枠とがこのパッキンを介して接触するの
で、従来発生していたペリクル取り出し時における上ぶ
たとペリクル枠との直接接触による異物の発生、この異
物のペリクルへの付着が防止されるし、上ぶたと載置台
もこのパッキンを介して接触し、この密閉化が画れるの
で、トラック、航空機などによる輸送時における外部か
らの微粒子の侵入が防止されるので、輸送時におけるペ
リクルへの異物の付着が防止されるという有利性が与え
られる。
であり、これは前記したように載置台にペリクル膜を上
向きにしてペリクルを置き、上ぶたでペリクルを固定す
るペリクル収納容器において、上ぶたにパッキンを設け
てなることを特徴とするものであるが、これによれば上
ぶたとペリクル枠とがこのパッキンを介して接触するの
で、従来発生していたペリクル取り出し時における上ぶ
たとペリクル枠との直接接触による異物の発生、この異
物のペリクルへの付着が防止されるし、上ぶたと載置台
もこのパッキンを介して接触し、この密閉化が画れるの
で、トラック、航空機などによる輸送時における外部か
らの微粒子の侵入が防止されるので、輸送時におけるペ
リクルへの異物の付着が防止されるという有利性が与え
られる。
【図１】本発明のペリクル収納容器の縦断面図の一例を
示したものである。
示したものである。
【図２】本発明のペリクル収納容器の縦断面図の他の例
を示したものである。
を示したものである。
【図３】従来公知のペリクル収納容器の縦断面図の一例
を示したものである。
を示したものである。
１，11…ペリクル膜、 ２，12…ペリクル枠、
３，13…上ぶた、 ４，14…載置台、５，15
…ペリクル枠支持体、 ６，16…固定部品、７…パッキ
ン。
３，13…上ぶた、 ４，14…載置台、５，15
…ペリクル枠支持体、 ６，16…固定部品、７…パッキ
ン。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 浜田 裕一 群馬県安中市磯部２丁目13番１号 信越化 学工業株式会社精密機能材料研究所内 (72)発明者 永田 愛彦 群馬県安中市磯部２丁目13番１号 信越化 学工業株式会社精密機能材料研究所内 (72)発明者 久保田 芳宏 群馬県安中市磯部２丁目13番１号 信越化 学工業株式会社精密機能材料研究所内
Claims (1)
- 【請求項１】載置台にペリクル膜を上向きにしてペリク
ルを置き、上ぶたでペリクルを固定するペリクル収納容
器において、上ぶたにパッキンを設けてなることを特徴
とするペリクル収納容器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29166893A JP3157664B2 (ja) | 1993-11-22 | 1993-11-22 | ペリクル収納容器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29166893A JP3157664B2 (ja) | 1993-11-22 | 1993-11-22 | ペリクル収納容器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07142562A true JPH07142562A (ja) | 1995-06-02 |
| JP3157664B2 JP3157664B2 (ja) | 2001-04-16 |
Family
ID=17771896
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29166893A Expired - Fee Related JP3157664B2 (ja) | 1993-11-22 | 1993-11-22 | ペリクル収納容器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3157664B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005173556A (ja) * | 2003-11-18 | 2005-06-30 | Net Plastic:Kk | 大型精密シート状（半）製品用密封容器 |
| WO2007017963A1 (ja) * | 2005-08-05 | 2007-02-15 | Shin-Etsu Polymer Co., Ltd. | ペリクル用収納容器 |
| CN100450892C (zh) * | 2003-11-18 | 2009-01-14 | 网塑有限公司 | 大尺寸精密板状半成品或成品用气密容器 |
| TWI423907B (zh) * | 2010-04-23 | 2014-01-21 | Shinetsu Chemical Co | 防塵薄膜組件收納容器 |
| US20200401039A1 (en) * | 2018-03-05 | 2020-12-24 | Mitsui Chemicals, Inc. | Pellicle, exposure master, exposure device and method for manufacturing semiconductor device |
-
1993
- 1993-11-22 JP JP29166893A patent/JP3157664B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005173556A (ja) * | 2003-11-18 | 2005-06-30 | Net Plastic:Kk | 大型精密シート状（半）製品用密封容器 |
| CN100450892C (zh) * | 2003-11-18 | 2009-01-14 | 网塑有限公司 | 大尺寸精密板状半成品或成品用气密容器 |
| JP4675601B2 (ja) * | 2003-11-18 | 2011-04-27 | 株式会社 ネットプラスチック | 大型精密シート状製品および半製品用密封容器 |
| KR101142298B1 (ko) * | 2003-11-18 | 2012-05-07 | 가부시키가이샤 네트 플라스틱 | 대형 정밀 시트형상의 (반)제품용 밀봉 용기 |
| WO2007017963A1 (ja) * | 2005-08-05 | 2007-02-15 | Shin-Etsu Polymer Co., Ltd. | ペリクル用収納容器 |
| JP2007041458A (ja) * | 2005-08-05 | 2007-02-15 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | ペリクル用収納容器 |
| JP4694299B2 (ja) * | 2005-08-05 | 2011-06-08 | 信越ポリマー株式会社 | ペリクル用収納容器 |
| TWI423907B (zh) * | 2010-04-23 | 2014-01-21 | Shinetsu Chemical Co | 防塵薄膜組件收納容器 |
| US20200401039A1 (en) * | 2018-03-05 | 2020-12-24 | Mitsui Chemicals, Inc. | Pellicle, exposure master, exposure device and method for manufacturing semiconductor device |
| US11852968B2 (en) * | 2018-03-05 | 2023-12-26 | Mitsui Chemicals, Inc. | Pellicle, exposure master, exposure device and method for manufacturing semiconductor device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3157664B2 (ja) | 2001-04-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3615006A (en) | Storage container | |
| CN101166681B (zh) | 带隔离系统的光罩盒 | |
| CN101111802B (zh) | 大型光罩保护膜收纳容器 | |
| US4737387A (en) | Removable pellicle and method | |
| JPS63178958A (ja) | 防塵容器 | |
| JP4236535B2 (ja) | 大型ペリクル収納容器 | |
| JP2005088921A (ja) | 基板収納ケース | |
| JP3356897B2 (ja) | ペリクル収納容器 | |
| JP4614845B2 (ja) | ペリクル用収納容器 | |
| US6813005B2 (en) | Storage containers for lithography mask and method of use | |
| JP3157664B2 (ja) | ペリクル収納容器 | |
| CN101546115A (zh) | 光掩模储放装置 | |
| JPH10114388A (ja) | ペリクル容器 | |
| JP2001053136A (ja) | ケース | |
| JPH1138598A (ja) | ペリクルと、その収納ケース | |
| JP2004361705A (ja) | 大型ペリクルの収納方法 | |
| JPH08133382A (ja) | ペリクル収納容器 | |
| JP2010049266A (ja) | 大型ペリクル収納容器及びその製造方法 | |
| JP3019005U (ja) | ペリクル用容器 | |
| JPH11154699A (ja) | 容器の封止構造 | |
| JPH10198022A (ja) | ペリクル収納容器 | |
| JP2005031489A (ja) | マスクブランクス等の収納容器及びマスクブランクスの収納方法並びにマスクブランクス収納体 | |
| JPH09139421A (ja) | 内圧調整機構付き薄板収納容器 | |
| JP2001048152A (ja) | ケース | |
| JPH0624839Y2 (ja) | ペリクル収納容器 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110209 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110209 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120209 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120209 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130209 Year of fee payment: 12 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |