JPH10198022A - ペリクル収納容器 - Google Patents
ペリクル収納容器Info
- Publication number
- JPH10198022A JPH10198022A JP77997A JP77997A JPH10198022A JP H10198022 A JPH10198022 A JP H10198022A JP 77997 A JP77997 A JP 77997A JP 77997 A JP77997 A JP 77997A JP H10198022 A JPH10198022 A JP H10198022A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pellicle
- container body
- container
- frame
- lid
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- Pending
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 ペリクル輸送中の振動でのがたつきによる発
塵、嵌合の際のペリクル保持力によるマスク粘着剤の変
形、及びマスクに貼り合わせた際の粘着剤のエアパス発
生を解消するリソグラフィー用ペリクル収納容器を提供
する。 【解決手段】 容器本体にペリクル膜を上向きにしてペ
リクルを置き、蓋体でペリクルを固定するペリクル収納
容器において、容器本体と蓋体を嵌合した際に、各々枠
形状をした容器本体載置台と蓋体当接部の全周における
間隔が、ペリクル高さの0.0 〜−0.2mm の範囲であるペ
リクル収納容器。
塵、嵌合の際のペリクル保持力によるマスク粘着剤の変
形、及びマスクに貼り合わせた際の粘着剤のエアパス発
生を解消するリソグラフィー用ペリクル収納容器を提供
する。 【解決手段】 容器本体にペリクル膜を上向きにしてペ
リクルを置き、蓋体でペリクルを固定するペリクル収納
容器において、容器本体と蓋体を嵌合した際に、各々枠
形状をした容器本体載置台と蓋体当接部の全周における
間隔が、ペリクル高さの0.0 〜−0.2mm の範囲であるペ
リクル収納容器。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はリソグラフィー用ペ
リクル、特にはLSI 、超LSI などの半導体装置あるいは
液晶標示板を製造する際のゴミよけとして使用される、
実質的に 500nm以下の光を用いる露光方式における帯電
防止されたリソグラフィー用ペリクルを収納する容器に
関するものである。
リクル、特にはLSI 、超LSI などの半導体装置あるいは
液晶標示板を製造する際のゴミよけとして使用される、
実質的に 500nm以下の光を用いる露光方式における帯電
防止されたリソグラフィー用ペリクルを収納する容器に
関するものである。
【０００２】
【従来の技術】LSI 、超LSI などの半導体製造あるいは
液晶標示板などの製造においては、半導体ウエハーある
いは液晶用原板に光を照射してパターニングを作製する
のであるが、この場合に用いる露光原板にゴミが付着し
ていると、このゴミが光を吸収したり、光を曲げてしま
うために、転写したパターンが変形したり、エッジがが
さついたものとなるほか、下地が黒く汚れたりして、寸
法、品質、外観などが損なわれるという問題があった。
このため、これらの作業は通常クリーンルームで行われ
ているが、このクリーンルーム内でも露光原板を常に清
浄に保つことが難しい。そのため、露光原版の表面にゴ
ミよけのための露光用の光をよく通過させるペリクルを
貼着する方法が取られている。ペリクルはその目的上そ
れ自身汚染されていたり、マスクに貼り合わせた際に万
が一ペリクル膜に付着したゴミをウエハーに転写した
り、同じくマスクに貼り合わせた際にペリクル内の清浄
性を保てないものであってはならない。従ってペリクル
収納容器は、ペリクルの清浄性を保つこと、万が一ペリ
クル膜に付着したゴミをウエハーに転写しないだけのペ
リクルの高さを保つこと、及びペリクルをマスクに貼り
合わせた際にマスク粘着剤の部分的な未接着部分すなわ
ちエアパス（空気漏れ通路）が発生しないよう、ペリク
ル端部のマスク粘着剤の形状を保つことが絶対条件とな
る。
液晶標示板などの製造においては、半導体ウエハーある
いは液晶用原板に光を照射してパターニングを作製する
のであるが、この場合に用いる露光原板にゴミが付着し
ていると、このゴミが光を吸収したり、光を曲げてしま
うために、転写したパターンが変形したり、エッジがが
さついたものとなるほか、下地が黒く汚れたりして、寸
法、品質、外観などが損なわれるという問題があった。
このため、これらの作業は通常クリーンルームで行われ
ているが、このクリーンルーム内でも露光原板を常に清
浄に保つことが難しい。そのため、露光原版の表面にゴ
ミよけのための露光用の光をよく通過させるペリクルを
貼着する方法が取られている。ペリクルはその目的上そ
れ自身汚染されていたり、マスクに貼り合わせた際に万
が一ペリクル膜に付着したゴミをウエハーに転写した
り、同じくマスクに貼り合わせた際にペリクル内の清浄
性を保てないものであってはならない。従ってペリクル
収納容器は、ペリクルの清浄性を保つこと、万が一ペリ
クル膜に付着したゴミをウエハーに転写しないだけのペ
リクルの高さを保つこと、及びペリクルをマスクに貼り
合わせた際にマスク粘着剤の部分的な未接着部分すなわ
ちエアパス（空気漏れ通路）が発生しないよう、ペリク
ル端部のマスク粘着剤の形状を保つことが絶対条件とな
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、従来のペリ
クル収納容器は容器本体載置台にペリクルを載せてその
上から蓋体をかぶせクリップで固定する収納方式である
が、ペリクルを収納して容器本体と蓋体を嵌合した際
に、容器本体と蓋体のペリクルとの接触部との間隔がペ
リクル高さに対して大きい場合は、容器中のペリクルが
固定されず、がたついて発塵してしまうことがある。逆
に小さすぎる場合にはペリクルを過剰な力で押しつけて
しまい、マスク粘着剤の圧縮、変形を招く。その結果ペ
リクルをマスクに貼り付けた際にペリクル高さが規格よ
りも低くなったり、マスク粘着剤にエアパスが発生する
という不良につながってしまう。また、ペリクルを収納
して容器本体と蓋体を嵌合した際に、容器本体載置台
と、蓋体のペリクルとの接触部との平行度が出ていない
場合には、ペリクルを偏った圧力で押しつけてしまい、
ペリクル端部のマスク粘着剤が傾いて圧縮され、変形
し、ペリクルをマスクに貼り合わせた際にペリクル高さ
の平面度が出ず、規格の範囲をはみ出したり、同じくペ
リクルをマスクに貼り合わせた際に粘着剤にエアパスが
発生するという不具合を生じてしまうという問題があっ
た。
クル収納容器は容器本体載置台にペリクルを載せてその
上から蓋体をかぶせクリップで固定する収納方式である
が、ペリクルを収納して容器本体と蓋体を嵌合した際
に、容器本体と蓋体のペリクルとの接触部との間隔がペ
リクル高さに対して大きい場合は、容器中のペリクルが
固定されず、がたついて発塵してしまうことがある。逆
に小さすぎる場合にはペリクルを過剰な力で押しつけて
しまい、マスク粘着剤の圧縮、変形を招く。その結果ペ
リクルをマスクに貼り付けた際にペリクル高さが規格よ
りも低くなったり、マスク粘着剤にエアパスが発生する
という不良につながってしまう。また、ペリクルを収納
して容器本体と蓋体を嵌合した際に、容器本体載置台
と、蓋体のペリクルとの接触部との平行度が出ていない
場合には、ペリクルを偏った圧力で押しつけてしまい、
ペリクル端部のマスク粘着剤が傾いて圧縮され、変形
し、ペリクルをマスクに貼り合わせた際にペリクル高さ
の平面度が出ず、規格の範囲をはみ出したり、同じくペ
リクルをマスクに貼り合わせた際に粘着剤にエアパスが
発生するという不具合を生じてしまうという問題があっ
た。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記問題点
に鑑み、容器中のペリクルの保持性が高く、かつマスク
粘着剤の変形が極めて少ないリソグラフィー用ペリクル
収納容器を開発すべく検討した結果、容器本体と蓋体を
嵌合した際に、容器本体載置台と蓋体当接部の間隔が、
ペリクル高さよりも小さければペリクルは輸送中の振動
でもがたつきによる発塵がなく、しかもペリクル高さに
対して0.0 〜−0.2mm までに管理されていれば、嵌合の
際のペリクル保持力による粘着の変形、及びマスクに貼
り合わせた際の粘着剤のエアパス発生という問題が解消
され得ることを見出して、本発明を完成させた。すなわ
ち、本発明は上記のような不利、問題点を解決したペリ
クル収納容器に関するものであり、これは、内底部に載
置台が一体に形成された容器本体と、該容器本体と嵌着
可能な蓋体とを備え、ペリクル枠に張設されたペリクル
を前記載置台上に載置して保持するペリクル収納容器に
おいて、容器本体と蓋体を嵌合した際に、各々枠形状を
した容器本体載置台と蓋体当接部の全周における間隔
が、ペリクルの高さの0.0 〜−0.2mm の範囲であること
を特徴とするものである。
に鑑み、容器中のペリクルの保持性が高く、かつマスク
粘着剤の変形が極めて少ないリソグラフィー用ペリクル
収納容器を開発すべく検討した結果、容器本体と蓋体を
嵌合した際に、容器本体載置台と蓋体当接部の間隔が、
ペリクル高さよりも小さければペリクルは輸送中の振動
でもがたつきによる発塵がなく、しかもペリクル高さに
対して0.0 〜−0.2mm までに管理されていれば、嵌合の
際のペリクル保持力による粘着の変形、及びマスクに貼
り合わせた際の粘着剤のエアパス発生という問題が解消
され得ることを見出して、本発明を完成させた。すなわ
ち、本発明は上記のような不利、問題点を解決したペリ
クル収納容器に関するものであり、これは、内底部に載
置台が一体に形成された容器本体と、該容器本体と嵌着
可能な蓋体とを備え、ペリクル枠に張設されたペリクル
を前記載置台上に載置して保持するペリクル収納容器に
おいて、容器本体と蓋体を嵌合した際に、各々枠形状を
した容器本体載置台と蓋体当接部の全周における間隔
が、ペリクルの高さの0.0 〜−0.2mm の範囲であること
を特徴とするものである。
【０００５】
【発明の実施の形態】図に基いて、本発明を詳細に説明
する。本発明のペリクル収納容器の構造は、容器本体、
蓋体及びクリップから構成される、例えば、図１、図２
に示すような一般的に用いられているもので良い。図１
は本発明のペリクル収納容器にペリクルを収納した横断
面図の模式図である。また図２（ａ）、（ｂ）は本発明
のペリクル収納容器本体の模式図であり、図２の（ａ）
は上面図、（ｂ）は断面図を示したものである。図３は
本発明のペリクル収納容器の断面模式図であり、構造的
には図１のものと同じである。図１のペリクル収納容器
はペリクル膜１が張付されたペリクル枠２を容器本体５
上の載置台６に載置するもので、ペリクル枠２は蓋体３
をペリクル枠２の上方からかぶせて、蓋体３の当接部４
でペリクル枠２を押さえることにより固定される。最終
的に蓋体３及び容器本体５はクリップ７により固定され
るという構造である。
する。本発明のペリクル収納容器の構造は、容器本体、
蓋体及びクリップから構成される、例えば、図１、図２
に示すような一般的に用いられているもので良い。図１
は本発明のペリクル収納容器にペリクルを収納した横断
面図の模式図である。また図２（ａ）、（ｂ）は本発明
のペリクル収納容器本体の模式図であり、図２の（ａ）
は上面図、（ｂ）は断面図を示したものである。図３は
本発明のペリクル収納容器の断面模式図であり、構造的
には図１のものと同じである。図１のペリクル収納容器
はペリクル膜１が張付されたペリクル枠２を容器本体５
上の載置台６に載置するもので、ペリクル枠２は蓋体３
をペリクル枠２の上方からかぶせて、蓋体３の当接部４
でペリクル枠２を押さえることにより固定される。最終
的に蓋体３及び容器本体５はクリップ７により固定され
るという構造である。
【０００６】蓋体３と容器本体５を嵌合させた際の、ペ
リクルを挟持する部分の間隔すなわち各々枠形状をした
蓋体当接部４と容器本体載置台６の全周における間隔ｄ
を、ペリクル高さｈよりも低くすることにより、ペリク
ル輸送中における振動によるがたつきが原因の発塵が低
減し、さらに、該間隔ｄがペリクル高さｈの0.0 〜−0.
2mm の範囲までであれば、蓋体３と容器本体５を嵌合し
た際のペリクル保持力による粘着の変形、及び図４
（ａ）、（ｂ）に示すようなマスク９に貼り合わせた際
の粘着剤８のエアパス１０発生という問題が解消される
という効果がある。
リクルを挟持する部分の間隔すなわち各々枠形状をした
蓋体当接部４と容器本体載置台６の全周における間隔ｄ
を、ペリクル高さｈよりも低くすることにより、ペリク
ル輸送中における振動によるがたつきが原因の発塵が低
減し、さらに、該間隔ｄがペリクル高さｈの0.0 〜−0.
2mm の範囲までであれば、蓋体３と容器本体５を嵌合し
た際のペリクル保持力による粘着の変形、及び図４
（ａ）、（ｂ）に示すようなマスク９に貼り合わせた際
の粘着剤８のエアパス１０発生という問題が解消される
という効果がある。
【０００７】本発明に使用されるペリクル収納容器の材
質は、一般に用いられている樹脂材料、金属などでよ
い。この例としては、ポリプロピレン、ポリエチレン、
ABS 、PFA 、PTFE、PMMAなどの樹脂材料、アルミニウ
ム、アルミニウム合金ステンレススチールなどの金属が
挙げられる。
質は、一般に用いられている樹脂材料、金属などでよ
い。この例としては、ポリプロピレン、ポリエチレン、
ABS 、PFA 、PTFE、PMMAなどの樹脂材料、アルミニウ
ム、アルミニウム合金ステンレススチールなどの金属が
挙げられる。
【０００８】
【実施例】次に、本発明の実施例について説明する。 実施例１、比較例１ 蓋体３、容器本体５、クリップ７をポリプロピレンで製
作した図１に示したペリクル収納容器において、蓋体３
と容器本体５を嵌合した際の、各々枠形状をした蓋体当
接部４と容器本体載置台６の全周における間隔ｄがペリ
クル高さｈに対して0.0 〜−0.1mm の範囲のペリクル収
納容器を製作した。該容器に信越化学工業社製ペリクル
を７日間収納し、次にそれらを振動試験器に設置し、JI
S 規格、正弦波振動試験方法 C0040に基づき、振動数10
〜500 Hz、掃引サイクル数10、耐久試験時間２時間の条
件で振動試験を行った。次いで、クラス100 のクリーン
ルーム内でケースからペリクルを取り出し、暗室内で40
万ルクスの光を照射してペリクル表面の異物の増加数を
調べた。この結果、ペリクル膜１上には異物は増加して
いなかった。
作した図１に示したペリクル収納容器において、蓋体３
と容器本体５を嵌合した際の、各々枠形状をした蓋体当
接部４と容器本体載置台６の全周における間隔ｄがペリ
クル高さｈに対して0.0 〜−0.1mm の範囲のペリクル収
納容器を製作した。該容器に信越化学工業社製ペリクル
を７日間収納し、次にそれらを振動試験器に設置し、JI
S 規格、正弦波振動試験方法 C0040に基づき、振動数10
〜500 Hz、掃引サイクル数10、耐久試験時間２時間の条
件で振動試験を行った。次いで、クラス100 のクリーン
ルーム内でケースからペリクルを取り出し、暗室内で40
万ルクスの光を照射してペリクル表面の異物の増加数を
調べた。この結果、ペリクル膜１上には異物は増加して
いなかった。
【０００９】比較のために、同ペリクル収納容器でペリ
クル高さを0.2mm 低くして、つまり蓋体当接部４と容器
本体載置台６の全周における間隔ｄがペリクル高さより
0.1〜0.2mm 広い状態で同じ試験を行ったところ、正弦
波振動試験中、ペリクル収納容器内でペリクルががたつ
く音が確認された。また同じく暗室内で40万ルクスの光
を照射してペリクル表面の異物の増加を調べたところ、
ペリクル膜１上には新たに12個の異物が付着していた。
クル高さを0.2mm 低くして、つまり蓋体当接部４と容器
本体載置台６の全周における間隔ｄがペリクル高さより
0.1〜0.2mm 広い状態で同じ試験を行ったところ、正弦
波振動試験中、ペリクル収納容器内でペリクルががたつ
く音が確認された。また同じく暗室内で40万ルクスの光
を照射してペリクル表面の異物の増加を調べたところ、
ペリクル膜１上には新たに12個の異物が付着していた。
【００１０】実施例２、比較例２〜４ 蓋体３と容器本体５を嵌合した際の蓋体当接部４と容器
本体載置台６の全周における間隔ｄがペリクル高さに対
して表１に示す範囲である以外は、実施例と同様にし
て、ペリクル収納容器の容器本体載置台６部分を加工
し、４種類の容器を製作した。これらのペリクル収納容
器に、実施例１と同様に振動試験を行い、ペリクル表面
の異物の増加数を調べた。この結果、いずれの容器にお
いてもペリクル膜１上には異物は増加していなかった。
その後、各ペリクルを石英基板に 30kgf、180secの条件
で貼り合わせた。ペリクル高さの沈み込み、エアパス発
生の観察結果を表１に併記する。
本体載置台６の全周における間隔ｄがペリクル高さに対
して表１に示す範囲である以外は、実施例と同様にし
て、ペリクル収納容器の容器本体載置台６部分を加工
し、４種類の容器を製作した。これらのペリクル収納容
器に、実施例１と同様に振動試験を行い、ペリクル表面
の異物の増加数を調べた。この結果、いずれの容器にお
いてもペリクル膜１上には異物は増加していなかった。
その後、各ペリクルを石英基板に 30kgf、180secの条件
で貼り合わせた。ペリクル高さの沈み込み、エアパス発
生の観察結果を表１に併記する。
【００１１】
【表１】
【００１２】表１に示すように、蓋体当接部４と容器本
体載置台６の全周における間隔ｄがペリクル高さの0.0
〜−0.5mm 、0.0 〜−0.4mm の容器に収納していたペリ
クルはペリクル高さの沈み込み、及びコーナー部のエア
パスが発生した。該間隔ｄがペリクル高さの0.0 〜−0.
3mm の容器に収納していたペリクルはエアパスの発生は
なかったものの、ペリクル高さの沈み込みが確認され
た。しかしながら、該間隔ｄがペリクル高さの0.0 〜−
0.2mm の容器に収納していたペリクルはペリクル高さの
沈み込み、及びコーナー部のエアパスの発生は一切確認
されなかった。
体載置台６の全周における間隔ｄがペリクル高さの0.0
〜−0.5mm 、0.0 〜−0.4mm の容器に収納していたペリ
クルはペリクル高さの沈み込み、及びコーナー部のエア
パスが発生した。該間隔ｄがペリクル高さの0.0 〜−0.
3mm の容器に収納していたペリクルはエアパスの発生は
なかったものの、ペリクル高さの沈み込みが確認され
た。しかしながら、該間隔ｄがペリクル高さの0.0 〜−
0.2mm の容器に収納していたペリクルはペリクル高さの
沈み込み、及びコーナー部のエアパスの発生は一切確認
されなかった。
【００１３】
【発明の効果】本発明によれば、ペリクル輸送中の振動
による発塵が低減するという効果を奏する。さらに、蓋
体と容器本体を嵌合した際のペリクル保持力による粘着
剤の変形、及びマスクに貼り合わせた際の粘着剤のエア
パス発生という問題が解消され得る。
による発塵が低減するという効果を奏する。さらに、蓋
体と容器本体を嵌合した際のペリクル保持力による粘着
剤の変形、及びマスクに貼り合わせた際の粘着剤のエア
パス発生という問題が解消され得る。
【図１】本発明のペリクル収納容器にペリクルを収納し
た断面模式図である。
た断面模式図である。
【図２】本発明のペリクル収納容器本体の模式図であ
り、（ａ）は上面図、（ｂ）は断面図である。
り、（ａ）は上面図、（ｂ）は断面図である。
【図３】本発明のペリクル収納容器の断面模式図であ
る。
る。
【図４】ペリクル貼り合わせ状態でのエアパスの一例を
示す模式図であり、（ａ）は縦断面図、（ｂ）は水平断
面図である。
示す模式図であり、（ａ）は縦断面図、（ｂ）は水平断
面図である。
１‥‥ペリクル膜 ２‥‥ペリクル枠 ３‥‥蓋体 ４‥‥蓋体当接部 ５‥‥容器本体 ６‥‥容器本体載
置台 ７‥‥クリップ ８‥‥粘着剤 ９‥‥石英マスク基板 １０‥エアパス ｄ‥‥蓋体と容器本体を嵌合した際ペリクルを挟持する
当接部と載置台の間隔 ｈ‥‥ペリクル高さ
置台 ７‥‥クリップ ８‥‥粘着剤 ９‥‥石英マスク基板 １０‥エアパス ｄ‥‥蓋体と容器本体を嵌合した際ペリクルを挟持する
当接部と載置台の間隔 ｈ‥‥ペリクル高さ
Claims (1)
- 【請求項１】 内底部に載置台が一体に形成された容器
本体と、該容器本体と嵌着可能な蓋体とを備え、ペリク
ル枠に張設されたペリクルを前記載置台上に載置して保
持するペリクル収納容器において、容器本体と蓋体を嵌
合した際に、各々枠形状をした容器本体載置台と蓋体当
接部の全周における間隔が、ペリクルの高さの0.0 〜−
0.2mm の範囲であることを特徴とするペリクル収納容
器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP77997A JPH10198022A (ja) | 1997-01-07 | 1997-01-07 | ペリクル収納容器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP77997A JPH10198022A (ja) | 1997-01-07 | 1997-01-07 | ペリクル収納容器 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10198022A true JPH10198022A (ja) | 1998-07-31 |
Family
ID=11483194
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP77997A Pending JPH10198022A (ja) | 1997-01-07 | 1997-01-07 | ペリクル収納容器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10198022A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101995764A (zh) * | 2009-08-06 | 2011-03-30 | 信越化学工业株式会社 | 防尘薄膜组件收纳容器 |
| NL2020094A (en) * | 2015-12-14 | 2018-01-11 | Asml Netherlands Bv | A membrane assembly |
| US11320731B2 (en) | 2015-12-14 | 2022-05-03 | Asml Netherlands B.V. | Membrane for EUV lithography |
-
1997
- 1997-01-07 JP JP77997A patent/JPH10198022A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101995764A (zh) * | 2009-08-06 | 2011-03-30 | 信越化学工业株式会社 | 防尘薄膜组件收纳容器 |
| NL2020094A (en) * | 2015-12-14 | 2018-01-11 | Asml Netherlands Bv | A membrane assembly |
| US11036128B2 (en) | 2015-12-14 | 2021-06-15 | Asml Netherlands B.V. | Membrane assembly |
| US11320731B2 (en) | 2015-12-14 | 2022-05-03 | Asml Netherlands B.V. | Membrane for EUV lithography |
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