JPH0714160A

JPH0714160A - 磁気記録媒体の製造方法

Info

Publication number: JPH0714160A
Application number: JP15872093A
Authority: JP
Inventors: Koichi Shinohara; 紘一篠原
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 1993-06-29
Filing date: 1993-06-29
Publication date: 1995-01-17

Abstract

(57)【要約】【目的】磁気記録再生機器に使用される磁気記録媒体
において、ディジタル信号をオーバーライト記録したと
きにエラーの少ない媒体を大量に製造出来る磁気記録媒
体の製造方法の提供を目的とする。【構成】酸素雰囲気で強磁性金属を蒸着して磁性層を
形成する際、幅方向に伸びた筒状体の内部に多孔質体を
内蔵し、筒状体の一部に幅方向にスリットを設けたガス
ノズルより酸素を導入するようにすることで、耐久性は
従来例と変わらないレベルでオーバーライト記録での高
密度ディジタル記録を良好な状態で実現出来る磁気記録
媒体を幅方向により均一に、且つ大量に製造することが
出来る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は高密度磁気記録に適する
強磁性金属薄膜を磁性層とするオーバーライト記録に適
する磁気記録媒体の製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】情報化社会の進展に伴い、記録すべき情
報量の増大は著しく、磁気記録についても可能な限り記
録密度を高める対応が要請され、短波長化、狭トラック
化に耐える高性能磁気記録媒体の開発が盛んになってき
ている。多くの提案がなされているが、現在実用に供さ
れているものは特開昭５３−５８２０６号公報に開示さ
れているような強磁性金属自身の酸化物で柱状微粒子の
表面が被覆された構造をもち記録特性と耐久性をバラン
ス良く改善したもので、構成元素はＣｏ，Ｎｉ，Ｏから
なり（特開昭５６−１５０１４号公報）、これらの磁気
記録層を形成するのは、酸素ガスを介在させながらＣ
ｏ，Ｃｏ−Ｎｉを電子ビーム蒸着する方法が代表的で酸
素の導入については幾つかの提案があるが基材近傍で、
入射角規制を行う部分に近い位置が良く用いられている
（特開昭５４−１９１９９号公報、特開昭５８−３２２
３４号公報）。

【０００３】図３は従来の磁気記録媒体の製造に用いら
れている蒸着装置の要部構成図である。

【０００４】図３で１は高分子フィルム、２はクーリン
グキャン、３は巻きだし軸、４は巻き取り軸、５は蒸発
源容器、６は蒸着材料、７は電子ビーム、８は電子発生
器、９は蒸気流、１０は酸素ガス導入ノズル、１１はマ
スクである。

【０００５】酸素ガスは、幅方向の磁気特性の均一化の
ために、細孔を幅方向に多数個配した酸素ガス導入ノズ
ルによって行われ、磁気特性の均一化は実用レベルにあ
る。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記の従
来の構成では、高密度ディジタル記録を簡素な系で行
う、即ちオーバーライト記録を高性能で行う磁気記録媒
体を得ようとすると、蒸気流の分布と導入酸素ガスの相
互作用がある割合の範囲に限定されて、微粒子化が進む
と雑音は改良されるが、飽和磁束密度が低下しすぎて出
力が低下し、Ｃ／Ｎが頭打ちになり、オーバーライト特
性が満足されないといった問題点を有していた。本発明
は上記従来の問題点を解決するもので、高密度での記録
再生において、優れたオーバーライト記録特性を実現出
来る磁気記録媒体の製造方法を提供することを目的とす
る。

【０００７】

【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明の磁気記録媒体の製造方法は酸素雰囲気で強磁
性金属を蒸着して磁性層を形成する際、幅方向に伸びた
筒状体の内部に多孔質体を内蔵し、筒状体の一部に幅方
向にスリットを設けたガスノズルより酸素を導入するよ
うにしたものである。

【０００８】

【作用】この構成によって酸素雰囲気で強磁性金属を蒸
着して磁性層を形成する際、酸素ガスがノズルの細孔か
ら真空中に放出される場合と比べて、拡散状態で蒸気流
と相互作用することから、過剰な酸素が磁性を希釈しに
くくなり、飽和磁束密度を余り低下させずに、磁性ノイ
ズを低く出来、磁性層を薄くしても出力が確保できるこ
とからオーバーライト特性も良好なものとすることが出
来る。

【０００９】

【実施例】

（実施例１）以下本発明の一実施例について、図面を参
照しながら説明する。

【００１０】図１は酸素ガス導入ノズルの断面図であ
る。図１で１２は筒状体で、１３は幅方向に伸びたスリ
ットで１〜３ｍｍが好ましい。１４は多孔質の金属また
はセラミックで孔の体積分率が１０^-2〜１０^-3の範囲が
好ましい。１５は酸素ガスで、１６は拡散酸素を模式的
に示したものである。

【００１１】以下更に本実施例の効果について明確にす
るために具体的に上記した構成の酸素ガス導入ノズルを
図３で示した装置に組み込んで磁気記録媒体を試作し、
従来法で得られたものと特性比較を行った結果について
詳しく述べる。

【００１２】厚み７．１μｍで、長手方向、幅方向夫々
５４０、５９０［Ｋｇ／ｍｍ²］のヤング率で、平均粗
さ３０Åのポリエチレンテレフタレートフィルム（直径
１５０ÅのＳｉＯ₂の超微粒子を平均密度２０個／μｍ²
を樹脂固定した塗布層をあらかじめ配したものを用い
た）を直径１ｍの２０℃に冷却した回転キャンに沿わせ
て巻き取りながら酸素を導入して入射角６５度から３３
度の範囲でＣｏを電子ビーム蒸着して磁性層を０．１８
μ形成した。酸素ガス導入ノズルは最小入射角を規定す
るマスクの内面に配した。用いたノズルは筒状体の内径
が１６ｍｍでスリットは２ｍｍで幅方向の長さは６００
ｍｍ、内部に多孔質のＺｒＯ₂（孔の体積分率３×１０
^-3／ノズルＡ）及び、多孔質のチタン（孔の体積分率６
×１０^-3／ノズルＢ）を配したものを用いた。

【００１３】従来例は同じ位置に、直径８ｍｍのステン
レスパイプに０．２ｍｍの直径の孔を１５ｍｍピッチで
配した酸素ガス導入ノズルを設置して用いた。酸素導入
量は表面の酸化層の厚みを１１〜１３ｎｍで垂直方向の
保磁力を１２０〜１２５ＫＡ／ｍになるように調整し、
ノズルＡ，Ｂ、従来例夫々、０．７，０．６，０．９ｌ
／ｍｉｎであった。いずれも磁性層の上に、グラファイ
トターゲットのスパッタリングによって、硬質炭素膜を
１０ｎｍ形成し、更に４ｎｍパーフルオロステアリン酸
を塗布し、反体面に０．４μｍのバックコート層を配し
て、６．３５ｍｍにスリットし、特性を比較した。試験
用デッキでビット長０．２４μｍ、トラックピッチ１０
μｍでオーバーライト記録でのエラーレートの相対比較
で行った。磁気テープの長さは１００ｍとし、幅方向に
５巻選び出して５巻の平均値で表示した。スチル特性は
テンションを２５ｇ増加させて４０℃、５％ＲＨで比較
した。本実施例による磁気記録媒体の特性と比較例の磁
気記録媒体の特性を（表１）に比較して示している。

【００１４】

【表１】

【００１５】この（表１）から明らかなように、本実施
例によって製造された磁気記録媒体は、耐久性は従来例
と変わらないレベルでオーバーライト記録での高密度デ
ィジタル記録を良好な状態で実現出来るといった優れた
効果が得られることがわかり優れた製造方法であること
が理解される。以上のように本実施例の製造方法によれ
ば、酸素雰囲気で強磁性金属を蒸着して磁性層を形成す
る際、幅方向に伸びた筒状体の内部に多孔質体を内蔵
し、筒状体の一部に幅方向にスリットを設けたガスノズ
ルより酸素を導入するようにすることで、耐久性は従来
例と変わらないレベルでオーバーライト記録での高密度
ディジタル記録を良好な状態で実現出来る磁気記録媒体
を幅方向により均一に、且つ大量に製造することが出来
る。

【００１６】（実施例２）以下本発明の第２の実施例に
ついて説明する。

【００１７】図２は本発明の第２の実施例の磁気記録媒
体の製造方法を実施するための磁気記録媒体の製造装置
の要部構成を示すものである。図２で従来と同じ構成で
よい部分は図３と同一の番号を付して示した。図２で１
７は蒸気の最小入射角を規制する壁でフィルムの幅方向
に伸びた耐火物からなる蒸発源容器５の電子ビーム入射
側と反対の容器壁の上にキャン２近くまで展開されるこ
とが要件で、容器の材料と同一（マグネシア、ジルコニ
ア等）で構成するのが望ましい。この壁は蒸気流の放射
の空間分布を変化させる役割と、最小入射角を規制する
ものであるが、副次的に蒸着効率を高める効果もある。
更に同様の壁を電子ビームの入射方向以外の蒸発源容器
の壁にも展開しても良いのは勿論である。

【００１８】以下更に本実施例の効果について明確にす
るために具体的に上記した構成の装置を用い磁気記録媒
体を試作し、従来法で得られたものと特性比較を行った
結果について詳しく述べる。

【００１９】厚み６．１μｍで、長手方向、幅方向夫々
９４０、１０５０［Ｋｇ／ｍｍ²］のヤング率で、平均
粗さ３０Åのポリイミドフィルム（直径１５０ÅのＳｉ
Ｏ₂の超微粒子を平均密度２０個／μｍ²を樹脂固定した
塗布層をあらかじめ配したものを用いた）を直径１ｍの
２０℃に冷却した回転キャンに沿わせて巻き取りながら
酸素を導入してＣｏを電子ビーム蒸着して磁性層を０．
１８μ形成した。酸素ガス導入ノズルは壁１７とキャン
の間に配設し、入射角は３０度となるように壁１７を調
節した。蒸発源容器と壁はマグネシアで構成し、壁１７
とキャンの至近距離は２６ｍｍとした。従来例は図３に
示したような金属製の平板マスク１１で同じく最小入射
角を３０度とし、壁１７を取り除いた以外は同じ条件と
した。それぞれ磁性層の上に、ダイヤモンド状硬質炭素
膜を６０Å形成した。その形成はメタンガスを高周波放
電でイオン化して炭素膜を形成するプラズマＣＶＤ法で
行った。炭素膜の上に更に潤滑剤としてパーフルオロポ
リエーテルを４０Å溶液塗布法で配し、バックコート層
を０．４５μｍ形成し６．３５ｍｍ幅の磁気テープに加
工した。これらのテープを試験用のデッキによって６μ
トラック、ビット長０．２μのディジタル記録を行いオ
ーバーライト記録でエラーレートを相対比較した。耐久
性についても５℃，８５％ＲＨで１００パス履歴を加え
た後のエラーレートで評価した。

【００２０】本実施例による磁気記録媒体の特性と従来
磁気記録媒体の特性を（表２）に比較して示している。

【００２１】

【表２】

【００２２】この（表２）から明らかように、本実施例
により製造された磁気記録媒体は、狭トラック条件での
高密度ディジタル記録を良好なエラー率で行うことが出
来るといった優れた効果がある。

【００２３】以上のように本実施例によれば酸素雰囲気
で強磁性金属を電子ビーム蒸着して磁性層を形成する
際、蒸気の入射角を規制する部分を遮蔽体近傍まで展開
した蒸発源容器の壁とすることにより優れた耐久性と良
好なオーバーライトディジタル記録性能を兼ね備えた薄
型の磁気記録媒体を再現よく製造出来るようになる。

【００２４】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、酸素雰囲
気で強磁性金属を蒸着して磁性層を形成する際、幅方向
に伸びた筒状体の内部に多孔質体を内蔵し、筒状体の一
部に幅方向にスリットを設けたガスノズルより酸素を導
入するようにすることで、耐久性は従来例と変わらない
レベルでオーバーライト記録での高密度ディジタル記録
を良好な状態で実現出来る磁気記録媒体を幅方向により
均一に、且つ大量に製造することが出来る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施例における磁気記録媒体の
製造に用いた酸素ガス導入ノズルの要部拡大断面図

【図２】本発明の第２の実施例における磁気記録媒体の
製造に用いた製造装置の要部構成図

【図３】従来の磁気記録媒体の製造に用いた製造装置の
要部構成図

【符号の説明】

１２筒状体１３スリット１４多孔質体１７壁

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】酸素雰囲気で強磁性金属を蒸着して磁性
層を形成する際、幅方向に伸びた筒状体の内部に多孔質
体を内蔵し、筒状体の一部に幅方向にスリットを設けた
ガスノズルより酸素を導入することを特徴とする磁気記
録媒体の製造方法。
【請求項２】酸素雰囲気で強磁性金属を電子ビーム蒸
着して磁性層を形成する際、蒸気の入射角を規制する部
分を遮蔽体近傍まで展開した蒸発源容器の壁とすること
を特徴とする磁気記録媒体の製造方法。