JPH071401B2 - 電子写真感光体およびその製造方法 - Google Patents
電子写真感光体およびその製造方法Info
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- JPH071401B2 JPH071401B2 JP1280729A JP28072989A JPH071401B2 JP H071401 B2 JPH071401 B2 JP H071401B2 JP 1280729 A JP1280729 A JP 1280729A JP 28072989 A JP28072989 A JP 28072989A JP H071401 B2 JPH071401 B2 JP H071401B2
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Description
【発明の詳細な説明】 ＜産業上の利用分野＞ この発明は電子写真感光体およびその製造方法に関し、
より詳細には、ポリビニルアセタールを成膜材料として
含有する層を備えた電子写真感光体とその製造方法に関
するものである。
より詳細には、ポリビニルアセタールを成膜材料として
含有する層を備えた電子写真感光体とその製造方法に関
するものである。
＜従来の技術＞ いわゆるカールソンプロセスを利用した、複写機等の画
像形成装置に用いられる電子写真感光体としては、近
時、成膜材料としての樹脂中に電荷発生材料や電荷輸送
材料等の機能材料を含有した、単層或いは複層の感光層
を備えたものが、材料の選択幅が広く、且つ、機能設計
の自由度が大きく、しかも、生産性に優れる等の利点を
有するため、増加しつつある。また、上記感光層を備え
た電子写真感光体においては、感光層の耐摩耗性を高め
るため、必要に応じて、感光層上に、成膜材料としての
樹脂を含む表面保護層を積層することも行われている。
像形成装置に用いられる電子写真感光体としては、近
時、成膜材料としての樹脂中に電荷発生材料や電荷輸送
材料等の機能材料を含有した、単層或いは複層の感光層
を備えたものが、材料の選択幅が広く、且つ、機能設計
の自由度が大きく、しかも、生産性に優れる等の利点を
有するため、増加しつつある。また、上記感光層を備え
た電子写真感光体においては、感光層の耐摩耗性を高め
るため、必要に応じて、感光層上に、成膜材料としての
樹脂を含む表面保護層を積層することも行われている。
上記感光層や表面保護層において、成膜材料として使用
される樹脂としては、種々のものが挙げられるが、中で
も、ポリビニルアセタールが、機能材料等の成分の分散
性に優れると共に、塗布液の保存安定性に優れるため好
適に使用される。
される樹脂としては、種々のものが挙げられるが、中で
も、ポリビニルアセタールが、機能材料等の成分の分散
性に優れると共に、塗布液の保存安定性に優れるため好
適に使用される。
ところが、上記ポリビニルアセタールを使用した感光層
では、ポリビニルアセタール中に多量の水酸基が残存す
るため吸湿性が高く、耐環境性の点で問題がある他、上
記水酸基が、露光時に発生する電荷キャリア（正孔）の
トラップとして作用したり、或いは、上記水酸基が、層
中に含まれる酸と反応して−OH2 +基を生じ、これが空間
電荷を生じて感光体のカウンター電位に影響を与えるた
め、感光体の感度が低下するという問題がある。
では、ポリビニルアセタール中に多量の水酸基が残存す
るため吸湿性が高く、耐環境性の点で問題がある他、上
記水酸基が、露光時に発生する電荷キャリア（正孔）の
トラップとして作用したり、或いは、上記水酸基が、層
中に含まれる酸と反応して−OH2 +基を生じ、これが空間
電荷を生じて感光体のカウンター電位に影響を与えるた
め、感光体の感度が低下するという問題がある。
一方、ポリビニルアセタールを使用した表面保護層の場
合には、やはり、ポリビニルアセタール中に多量の水酸
基が残存するため吸湿性が高く、耐環境性の点で問題が
あり、吸湿によって層の強度が低下したり、表面保護層
を通過した湿気によって下層の感光層が劣化したりする
虞があるという問題がある。
合には、やはり、ポリビニルアセタール中に多量の水酸
基が残存するため吸湿性が高く、耐環境性の点で問題が
あり、吸湿によって層の強度が低下したり、表面保護層
を通過した湿気によって下層の感光層が劣化したりする
虞があるという問題がある。
また、上記のように多量の水酸基を含有するポリビニル
アセタールは、アルコール等の有機溶媒に対する溶解性
が高いので、例えば、積層型感光層の下側の層において
使用する時は、上側の層を積層する場合に、また、上記
積層型の感光層の上側の層や単層型の感光層において使
用する時は、その上に表面保護層を積層する場合に、表
面に各層用の塗布液を塗布すると、その塗布液中に含ま
れる有機溶媒によってポリビニルアセタールが著しく膨
潤、或いは溶解し、２つの層の界面が不明確になって、
感光体の感度特性等に悪影響を与えたり、特に、上に形
成される層が表面保護層である場合には、この表面保護
層の強度が低下したりするという問題もある。
アセタールは、アルコール等の有機溶媒に対する溶解性
が高いので、例えば、積層型感光層の下側の層において
使用する時は、上側の層を積層する場合に、また、上記
積層型の感光層の上側の層や単層型の感光層において使
用する時は、その上に表面保護層を積層する場合に、表
面に各層用の塗布液を塗布すると、その塗布液中に含ま
れる有機溶媒によってポリビニルアセタールが著しく膨
潤、或いは溶解し、２つの層の界面が不明確になって、
感光体の感度特性等に悪影響を与えたり、特に、上に形
成される層が表面保護層である場合には、この表面保護
層の強度が低下したりするという問題もある。
そこで、上記ポリビニルアセタールを含有する感光層や
表面保護層を形成するための塗布液中に、当該塗布液の
乾燥時に加水分解して、ポリビニルアセタール中の水酸
基と縮合反応するアセチルアセトン錯塩（金属アセチル
アセトネート）を配合することにより、形成された層中
に残存する水酸基量を低減する方法が提案された。
表面保護層を形成するための塗布液中に、当該塗布液の
乾燥時に加水分解して、ポリビニルアセタール中の水酸
基と縮合反応するアセチルアセトン錯塩（金属アセチル
アセトネート）を配合することにより、形成された層中
に残存する水酸基量を低減する方法が提案された。
＜発明が解決しようとする課題＞ 上記アセチルアセトン錯塩は、通常、保存性等を考慮し
て粉末状等の固体状態で供給される。ところが、このア
セチルアセトン錯塩は、アルコール等の有機溶媒への溶
解性が悪いため、上記粉末状等の固体状態のアセチルア
セトン錯塩を塗布液中に均一に溶解させるのに長時間の
撹拌が必要で、塗布液の調製に手間がかかるという問題
がある。
て粉末状等の固体状態で供給される。ところが、このア
セチルアセトン錯塩は、アルコール等の有機溶媒への溶
解性が悪いため、上記粉末状等の固体状態のアセチルア
セトン錯塩を塗布液中に均一に溶解させるのに長時間の
撹拌が必要で、塗布液の調製に手間がかかるという問題
がある。
また、層中に残存する水酸基の量をより少なくするため
に、上記アセチルアセトン錯塩を塗布液中に多量に配合
した場合には、全量を塗布液中に溶解させることが困難
であるため、下記のような問題がある。
に、上記アセチルアセトン錯塩を塗布液中に多量に配合
した場合には、全量を塗布液中に溶解させることが困難
であるため、下記のような問題がある。
すなわち、未溶解状態のアセチルアセトン錯塩の粒子が
塗布液中に残存すると、塗布ムラを生じ易くなるだけで
なく、上記粒子が、形成された塗膜中に異物として残っ
たり、或いは、塗膜形成時に、上記粒子が塗布方向に沿
って塗膜上を移動することにより、塗膜に縦筋が生じた
りするため、きれいな層を形成できず、形成画像に欠陥
を生じるという問題がある。しかも、形成された層は、
アセチルアセトン錯塩が均一に分散されていないため、
水酸基の少ない部分と多い部分とを生じ、感光層の場合
には、感光特性や耐環境性等にムラを生じ、表面保護層
の場合には、耐環境性や層の強度等にムラを生じる虞も
ある。
塗布液中に残存すると、塗布ムラを生じ易くなるだけで
なく、上記粒子が、形成された塗膜中に異物として残っ
たり、或いは、塗膜形成時に、上記粒子が塗布方向に沿
って塗膜上を移動することにより、塗膜に縦筋が生じた
りするため、きれいな層を形成できず、形成画像に欠陥
を生じるという問題がある。しかも、形成された層は、
アセチルアセトン錯塩が均一に分散されていないため、
水酸基の少ない部分と多い部分とを生じ、感光層の場合
には、感光特性や耐環境性等にムラを生じ、表面保護層
の場合には、耐環境性や層の強度等にムラを生じる虞も
ある。
この発明は、以上の事情に鑑みてなされたものであっ
て、ポリビニルアセタールに起因する残存水酸基量を低
減するアセチルアセトン錯塩を、従来より多量、且つ均
一に、塗布液中に分散させることが可能で、層中に残存
する水酸基量を、従来よりも一層低減することができる
と共に、均一に低減することができ、しかも、従来より
も製造に手間がかからない上、上記アセチルアセトン錯
塩が未溶解状態のまま塗布液中に残存することによって
生じる塗布ムラや異物等の問題を解決することができる
電子写真感光体とその製造方法を提供することを目的と
している。
て、ポリビニルアセタールに起因する残存水酸基量を低
減するアセチルアセトン錯塩を、従来より多量、且つ均
一に、塗布液中に分散させることが可能で、層中に残存
する水酸基量を、従来よりも一層低減することができる
と共に、均一に低減することができ、しかも、従来より
も製造に手間がかからない上、上記アセチルアセトン錯
塩が未溶解状態のまま塗布液中に残存することによって
生じる塗布ムラや異物等の問題を解決することができる
電子写真感光体とその製造方法を提供することを目的と
している。
＜課題を解決するための手段および作用＞ 上記課題を解決するため、本発明者らは、上記アセチル
アセトン錯塩を溶液状態で塗布液に配合することを検討
した。しかし、上記アセチルアセトン錯塩は、前述のよ
うに、通常使用されている有機溶媒への溶解性が悪いた
め、有機溶媒単独では均質な溶液を形成できないことが
判明した。そこで、種々の混合溶媒を検討した結果、ア
ルコール類に少量の水を加えた混合溶媒を使用すれば、
従来よりも多量のアセチルアセトン錯塩を、従来より容
易に溶解することができ、均質な溶液を手間をかけずに
製造し得ることを見出し、この知見に基づいて、この発
明を完成した。したがって、この発明の電子写真感光体
は、ポリビニルアセタールを含有する層が、上記ポリビ
ニルアセタールを含有すると共に、アセチルアセトン錯
塩とアルコールと水とからなる溶液を配合した塗布液の
塗布、乾燥により形成されていることを特徴とし、この
発明の電子写真感光体の製造方法は、アセチルアセトン
錯塩とアルコールと水とからなる溶液を、ポリビニルア
セタールを含有する塗布液に配合した後、下地上に塗布
し、乾燥させることで、上記ポリビニルアセタールを含
有する層を形成することを特徴としている。
アセトン錯塩を溶液状態で塗布液に配合することを検討
した。しかし、上記アセチルアセトン錯塩は、前述のよ
うに、通常使用されている有機溶媒への溶解性が悪いた
め、有機溶媒単独では均質な溶液を形成できないことが
判明した。そこで、種々の混合溶媒を検討した結果、ア
ルコール類に少量の水を加えた混合溶媒を使用すれば、
従来よりも多量のアセチルアセトン錯塩を、従来より容
易に溶解することができ、均質な溶液を手間をかけずに
製造し得ることを見出し、この知見に基づいて、この発
明を完成した。したがって、この発明の電子写真感光体
は、ポリビニルアセタールを含有する層が、上記ポリビ
ニルアセタールを含有すると共に、アセチルアセトン錯
塩とアルコールと水とからなる溶液を配合した塗布液の
塗布、乾燥により形成されていることを特徴とし、この
発明の電子写真感光体の製造方法は、アセチルアセトン
錯塩とアルコールと水とからなる溶液を、ポリビニルア
セタールを含有する塗布液に配合した後、下地上に塗布
し、乾燥させることで、上記ポリビニルアセタールを含
有する層を形成することを特徴としている。
以下に、この発明を詳細に説明する。
この発明の構成は、成膜材料としてポリビニルアセター
ルを含有する層（以下「特定層」という）を備えた、種
々のタイプの電子写真感光体に適用することができる。
上記特定層としては、下記の各層が挙げられる。
ルを含有する層（以下「特定層」という）を備えた、種
々のタイプの電子写真感光体に適用することができる。
上記特定層としては、下記の各層が挙げられる。
成膜材料としての樹脂中に電荷発生材料と電荷輸送
材料とを含有する単層型の有機感光層。
材料とを含有する単層型の有機感光層。
成膜材料としての樹脂中に電荷発生材料を含有する
電荷発生層と、成膜材料としての樹脂中に電荷輸送材料
を含有する電荷輸送層とからなる積層型の有機感光層に
おける、少なくとも一方の層。
電荷発生層と、成膜材料としての樹脂中に電荷輸送材料
を含有する電荷輸送層とからなる積層型の有機感光層に
おける、少なくとも一方の層。
半導体材料の薄膜からなる電荷発生層の上に、上記
における電荷輸送層が積層された複合型の感光層にお
ける、当該電荷輸送層。
における電荷輸送層が積層された複合型の感光層にお
ける、当該電荷輸送層。
上記各タイプの感光層上に形成される表面保護層。
上記特定層中の残存水酸基量を低減するため、ポリビニ
ルアセタールを含有する塗布液中に配合されるアセチル
アセトン錯塩としては、アセチルアセトンと金属原子と
からなる、（モノ）アセチルアセトナト錯塩、ビスアセ
チルアセトナト錯塩、トリスアセチルアセトナト錯塩、
およびテトラキスアセチルアセトナト錯塩に属する、種
々のキレートを使用することができ、特に、下記一般式
〔Ｉ〕または〔II〕で表される錯塩が好適に使用され
る。
ルアセタールを含有する塗布液中に配合されるアセチル
アセトン錯塩としては、アセチルアセトンと金属原子と
からなる、（モノ）アセチルアセトナト錯塩、ビスアセ
チルアセトナト錯塩、トリスアセチルアセトナト錯塩、
およびテトラキスアセチルアセトナト錯塩に属する、種
々のキレートを使用することができ、特に、下記一般式
〔Ｉ〕または〔II〕で表される錯塩が好適に使用され
る。
［Ｍ（C5H7O2）ｎ］ …〔Ｉ〕 ［Ｍ（C5H7O2）n-mR1m］ …〔II〕 （但し、上記式〔Ｉ〕〔II〕中のＭは３価または４価の
金属を表し、R1はアルキル基またはアルコキシ基を表
し、ｎはＭが３価の場合３、Ｍが４価の場合４を表し、
ｍは２以下の整数を表す） なお、上記式中のＭとしては、アルミニウムまたはジル
コニウムが好ましいものとして挙げられる。
金属を表し、R1はアルキル基またはアルコキシ基を表
し、ｎはＭが３価の場合３、Ｍが４価の場合４を表し、
ｍは２以下の整数を表す） なお、上記式中のＭとしては、アルミニウムまたはジル
コニウムが好ましいものとして挙げられる。
上記アセチルアセトン錯塩および水と共に、塗布液中に
配合される溶液を構成するアルコールとしては、例えば
エチルアルコール、メチルアルコール、イソプロピルア
ルコール、ブチルアルコール、β−オキシエチルメチル
エーテル（メチルセロソルブ）、β−オキシエチルエー
テル（エチルセロソルブ）、β−オキシエチルプロピル
エーテル（プロピルセロソルブ）、ブチル−β−オキシ
エチルエーテル（ブチルセロソルブ）等が挙げられ、中
でも、揮発性が低く、安全性の高いブチルアルコールや
ブチルセロソルブが好適に使用される。
配合される溶液を構成するアルコールとしては、例えば
エチルアルコール、メチルアルコール、イソプロピルア
ルコール、ブチルアルコール、β−オキシエチルメチル
エーテル（メチルセロソルブ）、β−オキシエチルエー
テル（エチルセロソルブ）、β−オキシエチルプロピル
エーテル（プロピルセロソルブ）、ブチル−β−オキシ
エチルエーテル（ブチルセロソルブ）等が挙げられ、中
でも、揮発性が低く、安全性の高いブチルアルコールや
ブチルセロソルブが好適に使用される。
上記アセチルアセトン錯塩、アルコールおよび水からな
る溶液における、アセチルアセトン錯塩の濃度は、この
発明では特に限定されないが、0.05〜0.5モル／の範
囲内であることが好ましい。アセチルアセトン錯塩の濃
度が0.05モル／を下回った場合には、特定層中に残存
する水酸基の量を十分に低減させるために、塗布液に多
量の溶液を配合しなければならず、塗布液の粘度が低下
して、塗布性、成膜性が悪化するだけでなく、塗膜の乾
燥に長時間を要する等の問題が生じる虞がある。一方、
アセチルアセトン錯塩の濃度が0.5モル／を超えた場
合には、全量を溶解するために長時間を要し、溶液の調
製に手間がかかるだけでなく、塗布ムラを生じ易くなっ
たり、形成された特定層にブツや縦筋等が発生して形成
画像に欠陥を生じたり、或いは、感光特性や層の強度、
耐環境性等の特性にムラを生じたりする虞がある。
る溶液における、アセチルアセトン錯塩の濃度は、この
発明では特に限定されないが、0.05〜0.5モル／の範
囲内であることが好ましい。アセチルアセトン錯塩の濃
度が0.05モル／を下回った場合には、特定層中に残存
する水酸基の量を十分に低減させるために、塗布液に多
量の溶液を配合しなければならず、塗布液の粘度が低下
して、塗布性、成膜性が悪化するだけでなく、塗膜の乾
燥に長時間を要する等の問題が生じる虞がある。一方、
アセチルアセトン錯塩の濃度が0.5モル／を超えた場
合には、全量を溶解するために長時間を要し、溶液の調
製に手間がかかるだけでなく、塗布ムラを生じ易くなっ
たり、形成された特定層にブツや縦筋等が発生して形成
画像に欠陥を生じたり、或いは、感光特性や層の強度、
耐環境性等の特性にムラを生じたりする虞がある。
一方、上記溶液中における水の濃度も、この発明では特
に限定されないが、１〜10モル／の範囲内である必要
がある。水の濃度が１モル／を下回ると、水の添加効
果が十分に得られず、アセチルアセトン錯塩の全量を溶
液中に溶解することが困難で、溶液の調製に手間がかか
るだけでなく、前述した塗布ムラや形成画像の欠陥を生
じたり、感光特性や層の強度、耐環境性等にムラを生じ
たりする虞がある。一方、水の濃度が10モル／を超え
ると、アセチルアセトン錯塩が加水分解してしまい、特
定層中に残存する水酸基の量を十分に低減できなくな
り、また、顔料等を併用する場合に、その分散性が低下
する虞がある。
に限定されないが、１〜10モル／の範囲内である必要
がある。水の濃度が１モル／を下回ると、水の添加効
果が十分に得られず、アセチルアセトン錯塩の全量を溶
液中に溶解することが困難で、溶液の調製に手間がかか
るだけでなく、前述した塗布ムラや形成画像の欠陥を生
じたり、感光特性や層の強度、耐環境性等にムラを生じ
たりする虞がある。一方、水の濃度が10モル／を超え
ると、アセチルアセトン錯塩が加水分解してしまい、特
定層中に残存する水酸基の量を十分に低減できなくな
り、また、顔料等を併用する場合に、その分散性が低下
する虞がある。
なお、上記溶液中におけるアセチルアセトン錯塩の濃度
と水の濃度との間には特別の比例関係は存在しないが、
アセチルアセトン錯塩の極性との関係から、安定な溶液
を維持するためには、アセチルアセトン錯塩を多量に含
有する溶液ほど、水を多量に含有することが望ましい。
と水の濃度との間には特別の比例関係は存在しないが、
アセチルアセトン錯塩の極性との関係から、安定な溶液
を維持するためには、アセチルアセトン錯塩を多量に含
有する溶液ほど、水を多量に含有することが望ましい。
上記溶液の、特定層用塗布液への配合割合は特に限定さ
れないが、塗布液中に含まれるポリビニルアセタールの
水酸基に対し、0.01〜2.0当量のアセチルアセトン錯塩
が配合されるように、溶液の配合量を調整することが好
ましい。ポリビニルアセタールの水酸基に対する、アセ
チルアセトン錯塩の配合割合が0.01当量未満では、アセ
チルアセトン錯塩の添加効果が十分に得られず、層中に
多量に水酸基が残留することになり、感度低下や耐環境
性の悪化、有機溶媒に対する耐性等を十分に改善するこ
とができない虞がある。逆に、ポリビニルアセタールの
水酸基に対する、アセチルアセトン錯塩の配合割合が2.
0当量を超えると、上記各特性は向上するが、繰り返し
使用時における帯電特性の安定性が低下してしまう虞が
ある。
れないが、塗布液中に含まれるポリビニルアセタールの
水酸基に対し、0.01〜2.0当量のアセチルアセトン錯塩
が配合されるように、溶液の配合量を調整することが好
ましい。ポリビニルアセタールの水酸基に対する、アセ
チルアセトン錯塩の配合割合が0.01当量未満では、アセ
チルアセトン錯塩の添加効果が十分に得られず、層中に
多量に水酸基が残留することになり、感度低下や耐環境
性の悪化、有機溶媒に対する耐性等を十分に改善するこ
とができない虞がある。逆に、ポリビニルアセタールの
水酸基に対する、アセチルアセトン錯塩の配合割合が2.
0当量を超えると、上記各特性は向上するが、繰り返し
使用時における帯電特性の安定性が低下してしまう虞が
ある。
上記溶液が配合される、特定層形成用の塗布液中に、成
膜材料として配合されるポリビニルアセタールは、ポリ
ビニルアルコールまたはポリ酢酸ビニルのアセタール化
により製造されるもので、通常、下記一般式〔III〕に
示すように、ビニルアセタール、酢酸ビニル、ビニルア
ルコールの共重合体に相当する構造を有している。
膜材料として配合されるポリビニルアセタールは、ポリ
ビニルアルコールまたはポリ酢酸ビニルのアセタール化
により製造されるもので、通常、下記一般式〔III〕に
示すように、ビニルアセタール、酢酸ビニル、ビニルア
ルコールの共重合体に相当する構造を有している。
但し、上記式〔III〕中R2は、水素原子、または炭素数
１〜３のアルキル基を表す） 上記式〔III〕におけるX,Y,Zの比率、すなわちビニルア
セタール成分、酢酸ビニル成分、ビニルアルコール成分
の割合は、この発明では特に限定されないが、ポリビニ
ルアセタール中におけるビニルアルコール成分の割合が
13重量％以下であることが好ましい。なぜなら、ビニル
アルコール成分の割合が13重量％を超えると、アセチル
アセトン錯塩による水酸基の低減後も、層中に多量に水
酸基が残留することになり、感度低下や耐環境性の悪
化、有機溶媒に対する耐性等を十分に改善することがで
きないからである。
１〜３のアルキル基を表す） 上記式〔III〕におけるX,Y,Zの比率、すなわちビニルア
セタール成分、酢酸ビニル成分、ビニルアルコール成分
の割合は、この発明では特に限定されないが、ポリビニ
ルアセタール中におけるビニルアルコール成分の割合が
13重量％以下であることが好ましい。なぜなら、ビニル
アルコール成分の割合が13重量％を超えると、アセチル
アセトン錯塩による水酸基の低減後も、層中に多量に水
酸基が残留することになり、感度低下や耐環境性の悪
化、有機溶媒に対する耐性等を十分に改善することがで
きないからである。
上記ポリビニルアセタールとしては、ポリビニルホルマ
ール、ポリビニルアセトアセタール、ポリビニルブチラ
ールが例示され、特にポリビニルブチラールが、好まし
いものとして挙げられる。
ール、ポリビニルアセトアセタール、ポリビニルブチラ
ールが例示され、特にポリビニルブチラールが、好まし
いものとして挙げられる。
上記ポリビニルアセタールを溶解して塗布液を形成する
有機溶媒としては、例えば前記例示の各種アルコール類
の他、ジクロルメタン、四塩化炭素、クロロベンゼン等
のハロゲン化炭化水素；アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケ
トン類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化
水素、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等の各種化合物
が挙げられるが、特に、アセチルアセトン錯塩のアルコ
ール溶液との相溶性に優れたアルコール類が好ましく使
用される。
有機溶媒としては、例えば前記例示の各種アルコール類
の他、ジクロルメタン、四塩化炭素、クロロベンゼン等
のハロゲン化炭化水素；アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケ
トン類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化
水素、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等の各種化合物
が挙げられるが、特に、アセチルアセトン錯塩のアルコ
ール溶液との相溶性に優れたアルコール類が好ましく使
用される。
また、上記特性層には、当該特性層の物性に影響を与え
ない範囲で、特定層以外の有機の層にも使用される、従
来公知の、熱硬化性または熱可塑性の他の樹脂材料を併
用することもできる。
ない範囲で、特定層以外の有機の層にも使用される、従
来公知の、熱硬化性または熱可塑性の他の樹脂材料を併
用することもできる。
この発明の電子写真感光体およびその製造方法において
は、上記特定層を形成するための塗布液に配合される溶
液以外の点については、従来と同様に構成することがで
きる。
は、上記特定層を形成するための塗布液に配合される溶
液以外の点については、従来と同様に構成することがで
きる。
例えば、前記各タイプの感光層のうち、複合型感光層に
おいては、電荷発生層としてアモルファスカルコゲン化
物やアモルファスシリコン等の半導体材料からなる薄膜
が用いられる。上記半導体材料からなる薄膜状の電荷発
生層は、真空蒸着法、グロー放電分解法等の公知の薄膜
形成方法によって、導電性基材の表面に形成することが
できる。
おいては、電荷発生層としてアモルファスカルコゲン化
物やアモルファスシリコン等の半導体材料からなる薄膜
が用いられる。上記半導体材料からなる薄膜状の電荷発
生層は、真空蒸着法、グロー放電分解法等の公知の薄膜
形成方法によって、導電性基材の表面に形成することが
できる。
特定層が単層型の有機感光層や、積層型或いは複合型の
感光層のうちの電荷輸送層である場合に、特定層中に含
有される電荷輸送材料としては、例えばポリ−Ｎ−ビニ
ルカルバゾール、ポリビニルピレン、ポリアセナフチレ
ン等の高分子化合物、ジニトロアントラセン等のニトロ
化化合物、1,1−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）
−4,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン等の共役不飽和化
合物、テトラシアノエチレン、フルオレノン系化合物、
フルオレン系化合物、無水コハク酸、無水マレイン酸、
ジブロモ無水マレイン酸、トリフェニルメタン系化合
物、オキサジアゾール系化合物、スチリル系化合物、カ
ルバゾール系化合物、ピラゾリン系化合物、アミン誘導
体、ヒドラゾン系化合物、ｍ−フェニレンジアミン系化
合物、インドール系化合物、オキサゾール系化合物、イ
ソオキサゾール系化合物、チアゾール系化合物、チアジ
アゾール系化合物、イミダゾール系化合物、ピラゾール
系化合物、ピラゾリン系化合物、トリアゾール系化合
物、縮合多環族化合物等が挙げられる。なお、上記電荷
輸送材料の中でも、前記ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール
等の光導電性を有する高分子材料は、成膜材料として、
ポリビニルアセタールと併用することができる。
感光層のうちの電荷輸送層である場合に、特定層中に含
有される電荷輸送材料としては、例えばポリ−Ｎ−ビニ
ルカルバゾール、ポリビニルピレン、ポリアセナフチレ
ン等の高分子化合物、ジニトロアントラセン等のニトロ
化化合物、1,1−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）
−4,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン等の共役不飽和化
合物、テトラシアノエチレン、フルオレノン系化合物、
フルオレン系化合物、無水コハク酸、無水マレイン酸、
ジブロモ無水マレイン酸、トリフェニルメタン系化合
物、オキサジアゾール系化合物、スチリル系化合物、カ
ルバゾール系化合物、ピラゾリン系化合物、アミン誘導
体、ヒドラゾン系化合物、ｍ−フェニレンジアミン系化
合物、インドール系化合物、オキサゾール系化合物、イ
ソオキサゾール系化合物、チアゾール系化合物、チアジ
アゾール系化合物、イミダゾール系化合物、ピラゾール
系化合物、ピラゾリン系化合物、トリアゾール系化合
物、縮合多環族化合物等が挙げられる。なお、上記電荷
輸送材料の中でも、前記ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール
等の光導電性を有する高分子材料は、成膜材料として、
ポリビニルアセタールと併用することができる。
一方、特定層が単層型の有機感光層や、積層型の有機感
光層のうちの電荷発生層である場合に、特定層中に含有
される電荷発生材料としては、例えば前記半導体材料の
粉末、ZnO、CdS等のII−VI族微結晶、ピリリウム塩、ア
ゾ系化合物、ビスアゾ系化合物、フタロシアニン系化合
物、アンサンスロン系化合物、インジゴ系化合物、トリ
フェニルメタン系化合物、スレン系化合物、トルイジン
系化合物、ピラゾリン系化合物、キナクリドン系化合
物、ピロロピロール系化合物が挙げられる。これらの電
荷発生材料は、それぞれ単独で用いられる他、複数種を
併用することもできる。
光層のうちの電荷発生層である場合に、特定層中に含有
される電荷発生材料としては、例えば前記半導体材料の
粉末、ZnO、CdS等のII−VI族微結晶、ピリリウム塩、ア
ゾ系化合物、ビスアゾ系化合物、フタロシアニン系化合
物、アンサンスロン系化合物、インジゴ系化合物、トリ
フェニルメタン系化合物、スレン系化合物、トルイジン
系化合物、ピラゾリン系化合物、キナクリドン系化合
物、ピロロピロール系化合物が挙げられる。これらの電
荷発生材料は、それぞれ単独で用いられる他、複数種を
併用することもできる。
また、前記特定層が、感光層の上に積層される表面保護
層である場合には、当該表面保護層中に、前記ポリビニ
ルアセタール等の他に、必要に応じて、前述した他の樹
脂材料や、導電性付与材、ベンゾキノン系紫外線吸収剤
等の添加剤を適宜量含有させることができる。
層である場合には、当該表面保護層中に、前記ポリビニ
ルアセタール等の他に、必要に応じて、前述した他の樹
脂材料や、導電性付与材、ベンゾキノン系紫外線吸収剤
等の添加剤を適宜量含有させることができる。
前述した各タイプの感光層のうち、単層型の有機感光層
における、成膜材料としての樹脂100重量部に対する電
荷発生材料の含有量は、２〜20重量部の範囲内、特に３
〜15重量部の範囲内であることが好ましい。また、上記
樹脂100重量部に対する、電荷輸送材料の含有量は、40
〜200重量部の範囲内、特に50〜100重量部の範囲内であ
ることが好ましい。電荷発生材料の含有量が２重量部未
満、または、電荷輸送材料の含有量が40重量部未満で
は、感光体の感度が不十分になったり、残留電位が大き
くなったりする虞がある。一方、電荷発生材料の含有量
が20重量部を超えた場合、または、電荷輸送材料の含有
量が200重量部を超えた場合には、感光体の耐摩耗性が
不足する虞がある。
における、成膜材料としての樹脂100重量部に対する電
荷発生材料の含有量は、２〜20重量部の範囲内、特に３
〜15重量部の範囲内であることが好ましい。また、上記
樹脂100重量部に対する、電荷輸送材料の含有量は、40
〜200重量部の範囲内、特に50〜100重量部の範囲内であ
ることが好ましい。電荷発生材料の含有量が２重量部未
満、または、電荷輸送材料の含有量が40重量部未満で
は、感光体の感度が不十分になったり、残留電位が大き
くなったりする虞がある。一方、電荷発生材料の含有量
が20重量部を超えた場合、または、電荷輸送材料の含有
量が200重量部を超えた場合には、感光体の耐摩耗性が
不足する虞がある。
上記単層型の有機感光層の厚みは特に限定されないが、
従来の単層型の有機感光層と同程度、すなわち、10〜50
μｍ、特に15〜25μｍの範囲内であることが好ましい。
従来の単層型の有機感光層と同程度、すなわち、10〜50
μｍ、特に15〜25μｍの範囲内であることが好ましい。
積層型の有機感光層を構成する各層のうち、電荷発生層
における、成膜材料としての樹脂100重量部に対する電
荷発生材料の含有量は、５〜500重量部の範囲内、特に1
0〜250重量部の範囲内であることが好ましい。電荷発生
材料の含有量が５重量部未満では、電荷発生能が小さ過
ぎ、500重量部を超えると、基材や隣設する他の層との
密着性が低下する虞がある。
における、成膜材料としての樹脂100重量部に対する電
荷発生材料の含有量は、５〜500重量部の範囲内、特に1
0〜250重量部の範囲内であることが好ましい。電荷発生
材料の含有量が５重量部未満では、電荷発生能が小さ過
ぎ、500重量部を超えると、基材や隣設する他の層との
密着性が低下する虞がある。
上記電荷発生層の厚みは特に限定されないが、0.01〜３
μｍ、特に0.1〜２μｍの範囲内であることが好まし
い。
μｍ、特に0.1〜２μｍの範囲内であることが好まし
い。
積層型の有機感光層または複合形感光層を構成する各層
のうち、電荷輸送層における、成膜材料としての樹脂10
0重量部に対する電荷輸送材料の含有量は、10〜500重量
部の範囲内、特に25〜200重量部の範囲内であることが
好ましい。電荷輸送材料の含有量が10重量部未満では、
電荷輸送能が十分でなく、500重量部を超えると、電荷
輸送層の機械的強度が低下する虞がある。
のうち、電荷輸送層における、成膜材料としての樹脂10
0重量部に対する電荷輸送材料の含有量は、10〜500重量
部の範囲内、特に25〜200重量部の範囲内であることが
好ましい。電荷輸送材料の含有量が10重量部未満では、
電荷輸送能が十分でなく、500重量部を超えると、電荷
輸送層の機械的強度が低下する虞がある。
上記電荷輸送層の厚みは特に限定されないが、２〜100
μｍ、特に５〜30μｍの範囲内であることが好ましい。
μｍ、特に５〜30μｍの範囲内であることが好ましい。
前記表面保護層の厚みは、0.1〜10μｍ、特に２〜５μ
ｍの範囲内であることが好ましい。
ｍの範囲内であることが好ましい。
なお、前記各タイプの感光層や表面保護層等に、従来公
知の酸化防止剤を併用すると、酸化の影響を受けやすい
構造を持つ、電荷輸送材料等の機能成分の、酸化による
劣化を防止することができる。
知の酸化防止剤を併用すると、酸化の影響を受けやすい
構造を持つ、電荷輸送材料等の機能成分の、酸化による
劣化を防止することができる。
上記各タイプの感光層が表面に形成される導電性基材
は、電子写真感光体が組み込まれる画像形成装置の機
構、構造に対応して、シート状あるいはドラム状等、適
宜の形状に形成される。
は、電子写真感光体が組み込まれる画像形成装置の機
構、構造に対応して、シート状あるいはドラム状等、適
宜の形状に形成される。
上記導電性基材は、全体を金属等の導電性材料で構成し
ても良く、また、基材自体は導電性を有さない構造材料
で形成して、その表面に導電性を付与しても良い。
ても良く、また、基材自体は導電性を有さない構造材料
で形成して、その表面に導電性を付与しても良い。
導電性基材の全体を導電性材料で構成する、前者の場合
に使用される導電性材料としては、例えばアルミニウ
ム、銅、錫、白金、金、銀、バナジウム、モリブデン、
クロム、カドミウム、チタン、ニッケル、パラジウム、
インジウム、ステンレス鋼、真鍮等の金属単体が挙げら
れる。そして、上記金属材料の中でも、表面がアルマイ
ト処理されたアルミニウムが好ましく、特に、硫酸アル
マイト法による陽極酸化を行い、酢酸ニッケルで封孔処
理したアルミニウムが好ましく用いられる。
に使用される導電性材料としては、例えばアルミニウ
ム、銅、錫、白金、金、銀、バナジウム、モリブデン、
クロム、カドミウム、チタン、ニッケル、パラジウム、
インジウム、ステンレス鋼、真鍮等の金属単体が挙げら
れる。そして、上記金属材料の中でも、表面がアルマイ
ト処理されたアルミニウムが好ましく、特に、硫酸アル
マイト法による陽極酸化を行い、酢酸ニッケルで封孔処
理したアルミニウムが好ましく用いられる。
一方、導電性を有さない構造材料からなる基材の表面に
導電性を付与する後者の場合には、合成樹脂製基材やガ
ラス基材の表面に、上記例示の金属や、ヨウ化アルミニ
ウム、酸化スズ、酸化インジウム等の導電性材料からな
る薄膜が、真空蒸着法、湿式めっき法等の公知の膜形成
方法によって形成された構造、上記合成樹脂製基材やガ
ラス基材の表面に上記金属材料等のフィルムがラミネー
トされた構造、または、上記合成樹脂製基材やガラス基
材の表面に、導電性を付与する物質が注入された構造等
を採用することができる。
導電性を付与する後者の場合には、合成樹脂製基材やガ
ラス基材の表面に、上記例示の金属や、ヨウ化アルミニ
ウム、酸化スズ、酸化インジウム等の導電性材料からな
る薄膜が、真空蒸着法、湿式めっき法等の公知の膜形成
方法によって形成された構造、上記合成樹脂製基材やガ
ラス基材の表面に上記金属材料等のフィルムがラミネー
トされた構造、または、上記合成樹脂製基材やガラス基
材の表面に、導電性を付与する物質が注入された構造等
を採用することができる。
なお、導電性基材は、必要に応じて、シランカップリン
グ剤やチタンカップリング剤等の表面処理剤で表面処理
を施し、感光層との密着性を高めても良い。
グ剤やチタンカップリング剤等の表面処理剤で表面処理
を施し、感光層との密着性を高めても良い。
以上で説明した感光層、表面保護層等の、樹脂を成膜材
料として含む層は、前述した各成分を含有する各層用の
塗布液を調整し、これら塗布液を、前述した層構成を形
成し得るように、各層毎に順次導電性基材上に塗布し、
乾燥または硬化させることで積層形成することができ
る。また、上記塗布液を調整する際、分散性、塗工性等
を向上させるため、界面活性剤やレベリング剤等を併用
しても良い。
料として含む層は、前述した各成分を含有する各層用の
塗布液を調整し、これら塗布液を、前述した層構成を形
成し得るように、各層毎に順次導電性基材上に塗布し、
乾燥または硬化させることで積層形成することができ
る。また、上記塗布液を調整する際、分散性、塗工性等
を向上させるため、界面活性剤やレベリング剤等を併用
しても良い。
また、上記塗布液は従来慣用の方法、例えばミキサー、
ボールミル、ペイントシェーカー、サンドミル、アトラ
イター、超音波分散機等を用いて調製することができ
る。
ボールミル、ペイントシェーカー、サンドミル、アトラ
イター、超音波分散機等を用いて調製することができ
る。
＜実施例＞ 以下に、実施例に基づき、この発明をより詳細に説明す
る。
る。
実施例１〜５ 成膜材料としてのポリアリレート（ユニチカ社製，商品
名Ｕ−100）10重量部、電荷輸送材料としての４−（N,N
−ジエチルアミノ）ベンズアルデヒド−N,N−ジフェニ
ルヒドラゾン10重量部および溶媒としてのジクロルメタ
ン100重量部をホモミキサーで撹拌混合して電荷輸送用
塗布液を調製し、この塗布液を外径78mm×長さ340mmの
アルミニウム管上に塗布した後、90℃で30分間加熱乾燥
させて、膜厚約20μｍの電荷輸送層を形成した。
名Ｕ−100）10重量部、電荷輸送材料としての４−（N,N
−ジエチルアミノ）ベンズアルデヒド−N,N−ジフェニ
ルヒドラゾン10重量部および溶媒としてのジクロルメタ
ン100重量部をホモミキサーで撹拌混合して電荷輸送用
塗布液を調製し、この塗布液を外径78mm×長さ340mmの
アルミニウム管上に塗布した後、90℃で30分間加熱乾燥
させて、膜厚約20μｍの電荷輸送層を形成した。
次に、0.2モル／のテトラキスアセチルアセトナトジ
ルコニウム［Zr（C5H7O2）４］（日本化学産業社製）
と、3.0モル／の水とを含有するｎ−ブチルアルコー
ルの溶液を調製した。
ルコニウム［Zr（C5H7O2）４］（日本化学産業社製）
と、3.0モル／の水とを含有するｎ−ブチルアルコー
ルの溶液を調製した。
そして、電荷発生材料としての2,7−ジブロモアンサン
スロン（ICI社製）160重量部およびメタルフリーフタロ
シアニン（BASF社製）40重量部、成膜材料としてのポリ
ビニルブチラール（電気化学工業社製，商品名デンカブ
チラール＃5000−Ａ）100重量部、並びに溶媒としての
ｎ−ブチルアルコール2000重量部を、上記ポリビニルブ
チラール中の水酸基に対する、テトラキスアセチルアセ
トナトジルコニウムの当量が次表に示す値となる量の前
記溶液と共に、ボールミルで２時間撹拌混合して、電荷
発生層用の塗布液を調製し、この塗布液を、上記電荷輸
送層上に塗布し、110℃で30分間加熱乾燥させて、膜厚
約0.5μｍの電荷発生層を形成した。
スロン（ICI社製）160重量部およびメタルフリーフタロ
シアニン（BASF社製）40重量部、成膜材料としてのポリ
ビニルブチラール（電気化学工業社製，商品名デンカブ
チラール＃5000−Ａ）100重量部、並びに溶媒としての
ｎ−ブチルアルコール2000重量部を、上記ポリビニルブ
チラール中の水酸基に対する、テトラキスアセチルアセ
トナトジルコニウムの当量が次表に示す値となる量の前
記溶液と共に、ボールミルで２時間撹拌混合して、電荷
発生層用の塗布液を調製し、この塗布液を、上記電荷輸
送層上に塗布し、110℃で30分間加熱乾燥させて、膜厚
約0.5μｍの電荷発生層を形成した。
次に、シラン加水分解物溶液（東芝シリコーン社製、商
品名トスガード520、非揮発性固形分21重量％）に、当
該溶液中の非揮発性固形分に対して50重量％のアンチモ
ンドープ酸化スズ微粉末（住友セメント社製、酸化スズ
と酸化アンチモンとの固溶体粒子、アンチモンを10重量
％含有）を配合し、ボールミル中で150時間撹拌混合し
て表面保護層用塗布液を調製し、この塗布液を、上記電
荷発生層上に塗布し、110℃で１時間加熱硬化させて、
膜厚約2.5μｍの表面保護層を形成し、積層形感光層を
有するドラム型の電子写真感光体を作製した。
品名トスガード520、非揮発性固形分21重量％）に、当
該溶液中の非揮発性固形分に対して50重量％のアンチモ
ンドープ酸化スズ微粉末（住友セメント社製、酸化スズ
と酸化アンチモンとの固溶体粒子、アンチモンを10重量
％含有）を配合し、ボールミル中で150時間撹拌混合し
て表面保護層用塗布液を調製し、この塗布液を、上記電
荷発生層上に塗布し、110℃で１時間加熱硬化させて、
膜厚約2.5μｍの表面保護層を形成し、積層形感光層を
有するドラム型の電子写真感光体を作製した。
比較例１〜３ テトラキスアセチルアセトナトジルコニウムの溶液に代
えて、ポリビニルブチラール中の水酸基に対し、0.2当
量のテトラキスアセチルアセトナトジルコニウムの粉末
を配合し、次表に示す時間撹拌混合して電荷発生層用の
塗布液を調製したこと以外は、上記実施例１〜５と同様
にして、電子写真感光体を作製した。
えて、ポリビニルブチラール中の水酸基に対し、0.2当
量のテトラキスアセチルアセトナトジルコニウムの粉末
を配合し、次表に示す時間撹拌混合して電荷発生層用の
塗布液を調製したこと以外は、上記実施例１〜５と同様
にして、電子写真感光体を作製した。
比較例４〜６ ポリビニルブチラール中の水酸基に対し、1.0当量のテ
トラキスアセチルアセトナトジルコニウムの粉末を配合
したこと以外は、上記比較例１〜３と同様にして、電子
写真感光体を作製した。
トラキスアセチルアセトナトジルコニウムの粉末を配合
したこと以外は、上記比較例１〜３と同様にして、電子
写真感光体を作製した。
比較例７ 電荷発生層用の塗布液に、テトラキスアセチルアセトナ
トジルコニウムの溶液を配合しなかったこと以外は、上
記実施例１〜５と同様にして、電子写真感光体を作製し
た。
トジルコニウムの溶液を配合しなかったこと以外は、上
記実施例１〜５と同様にして、電子写真感光体を作製し
た。
上記各実施例並びに比較例で作製した電子写真感光体に
ついて、下記の各試験を行った。
ついて、下記の各試験を行った。
表面電位測定 上記各電子写真感光体を、静電複写試験装置（ジェンテ
ック社製，ジェンテックシンシア30M型機）に装填し、
その表面を正に帯電させて、表面電位V1s.p.（Ｖ）を測
定した。
ック社製，ジェンテックシンシア30M型機）に装填し、
その表面を正に帯電させて、表面電位V1s.p.（Ｖ）を測
定した。
半減露光量、残留電位測定 上記帯電状態の各電子写真感光体を、上記静電複写試験
装置の露光光源であるハロゲンランプを用いて、露光強
度0.92mW/cm2、露光時間60m秒の条件で露光し、前記表
面電位V1s.p.が1/2になるのに要する時間を求め、半減
露光量E 1/2（μJ/cm2）を算出した。
装置の露光光源であるハロゲンランプを用いて、露光強
度0.92mW/cm2、露光時間60m秒の条件で露光し、前記表
面電位V1s.p.が1/2になるのに要する時間を求め、半減
露光量E 1/2（μJ/cm2）を算出した。
また、上記露光開始時から0.4秒経過後の表面電位を、
残留電位Vr.p.（Ｖ）として測定した。
残留電位Vr.p.（Ｖ）として測定した。
外観 表面保護層の外観を目視により観察した。
以上の結果を次表に示す。
上記表の結果より、テトラキスアセチルアセトナトジル
コニウムの粉末を配合した比較例１〜６では、上記粉末
の配合量が0.2当量で、且つ撹拌時間が24時間である比
較例３のみ、良好な電荷発生層を形成できたが、その他
の場合には、テトラキスアセチルアセトナトジルコニウ
ムを塗布中に完全に溶解することができず、塗膜に塗布
ムラや異物、縦筋等が生じ、良好な電荷発生層を形成で
きなかった。また、上記塗布ムラ等が生じた各比較例
は、何れも、テトラキスアセチルアセトナトジルコニウ
ムを配合しなかった比較例７と共に、半減露光量が大き
く、残留電位が高い等、十分な感光特性が得られなかっ
た。これに対し、実施例１〜５においては、テトラキス
アセチルアセトナトジルコニウムを1.5当量まで配合し
ても、僅か２時間撹拌しただけで、撹拌に24時間を要し
た比較例３と同程度の感光特性を有し、且つ外観が良好
な電荷発生層を形成できることが判明した。
コニウムの粉末を配合した比較例１〜６では、上記粉末
の配合量が0.2当量で、且つ撹拌時間が24時間である比
較例３のみ、良好な電荷発生層を形成できたが、その他
の場合には、テトラキスアセチルアセトナトジルコニウ
ムを塗布中に完全に溶解することができず、塗膜に塗布
ムラや異物、縦筋等が生じ、良好な電荷発生層を形成で
きなかった。また、上記塗布ムラ等が生じた各比較例
は、何れも、テトラキスアセチルアセトナトジルコニウ
ムを配合しなかった比較例７と共に、半減露光量が大き
く、残留電位が高い等、十分な感光特性が得られなかっ
た。これに対し、実施例１〜５においては、テトラキス
アセチルアセトナトジルコニウムを1.5当量まで配合し
ても、僅か２時間撹拌しただけで、撹拌に24時間を要し
た比較例３と同程度の感光特性を有し、且つ外観が良好
な電荷発生層を形成できることが判明した。
＜発明の効果＞ この発明の電子写真感光体およびその製造方法は、以上
のように構成されており、ポリビニルアセタールに起因
する残存水酸基量を低減するためのアセチルアセトン錯
塩を、アルコール及び水との溶液の状態で、上記ポリビ
ニルアセタールを含有する層を形成するための塗布液に
配合しているため、上記アセチルアセトン錯塩を、従来
よりも多量、且つ均一に配合することができ、層中に残
存する水酸基量を、ムラなく、しかも、従来よりも一層
低減することが可能となる。また、上記のように、アセ
チルアセトン錯塩は、塗布液中に配合されやすい溶液状
態になっているため、従来よりも製造に手間がかからな
い上、上記アセチルアセトン錯塩が、未溶解状態のまま
塗布液中中に残存することによって生じる、塗布ムラや
異物等の問題を解決することができる。
のように構成されており、ポリビニルアセタールに起因
する残存水酸基量を低減するためのアセチルアセトン錯
塩を、アルコール及び水との溶液の状態で、上記ポリビ
ニルアセタールを含有する層を形成するための塗布液に
配合しているため、上記アセチルアセトン錯塩を、従来
よりも多量、且つ均一に配合することができ、層中に残
存する水酸基量を、ムラなく、しかも、従来よりも一層
低減することが可能となる。また、上記のように、アセ
チルアセトン錯塩は、塗布液中に配合されやすい溶液状
態になっているため、従来よりも製造に手間がかからな
い上、上記アセチルアセトン錯塩が、未溶解状態のまま
塗布液中中に残存することによって生じる、塗布ムラや
異物等の問題を解決することができる。
Claims (2)
- 【請求項１】ポリビニルアセタールを含有する層を備え
た電子写真感光体において、上記層が、上記ポリビニル
アセタールを含有すると共に、アセチルアセトン錯塩と
アルコールと水とからなる溶液を配合した塗布液の塗
布、乾燥により形成されていることを特徴とする電子写
真感光体。 - 【請求項２】アセチルアセトン錯塩とアルコールと水と
からなる溶液を、ポリビニルアセタールを含有する塗布
液に配合した後、下地上に塗布し、乾燥させることで、
上記ポリビニルアセタールを含有する層を形成すること
を特徴とする電子写真感光体の製造方法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1280729A JPH071401B2 (ja) | 1989-10-27 | 1989-10-27 | 電子写真感光体およびその製造方法 |
| CA002028601A CA2028601C (en) | 1989-10-27 | 1990-10-25 | Electrophotographic photosensitive element and process of producing the same |
| EP90120565A EP0424952B1 (en) | 1989-10-27 | 1990-10-26 | Electrophotographic photosensitive element and process of producing the same |
| DE69027833T DE69027833T2 (de) | 1989-10-27 | 1990-10-26 | Elektrophotographisches lichtempfindliches Element und Verfahren zu dessen Herstellung |
| ES90120565T ES2091215T3 (es) | 1989-10-27 | 1990-10-26 | Elemento fotosensible electrofotografico y procedimiento para su produccion. |
| US07/604,238 US5135834A (en) | 1989-10-27 | 1990-10-29 | Electrophotographic polyvinyl acetal layer containing element and process of producing |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1280729A JPH071401B2 (ja) | 1989-10-27 | 1989-10-27 | 電子写真感光体およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03141366A JPH03141366A (ja) | 1991-06-17 |
| JPH071401B2 true JPH071401B2 (ja) | 1995-01-11 |
Family
ID=17629133
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1280729A Expired - Lifetime JPH071401B2 (ja) | 1989-10-27 | 1989-10-27 | 電子写真感光体およびその製造方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5135834A (ja) |
| EP (1) | EP0424952B1 (ja) |
| JP (1) | JPH071401B2 (ja) |
| CA (1) | CA2028601C (ja) |
| DE (1) | DE69027833T2 (ja) |
| ES (1) | ES2091215T3 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5270141A (en) * | 1991-01-25 | 1993-12-14 | Canon Kabushiki Kaisha | Image-holding member, and electrophotographic apparatus, apparatus unit, and facsimile machine employing the same |
| EP0632337B1 (en) * | 1993-06-29 | 1996-09-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Image forming method |
| US5834147A (en) * | 1993-11-05 | 1998-11-10 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Photosensitive member for electrophotography |
| US6207334B1 (en) * | 2000-05-12 | 2001-03-27 | Xerox Corporation | Photoreceptor with improved combination of overcoat layer and charge transport layer |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2106659B (en) * | 1981-07-28 | 1985-02-20 | Fuji Xerox Co Ltd | Electrophotographic photosensitive materials |
| JPS5987145A (ja) * | 1982-11-12 | 1984-05-19 | ダイセル化学工業株式会社 | 透明導電性積層体 |
| US4515882A (en) * | 1984-01-03 | 1985-05-07 | Xerox Corporation | Overcoated electrophotographic imaging system |
| JPS63166590A (ja) * | 1986-12-27 | 1988-07-09 | Ricoh Co Ltd | 直描型平版印刷原版 |
-
1989
- 1989-10-27 JP JP1280729A patent/JPH071401B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-10-25 CA CA002028601A patent/CA2028601C/en not_active Expired - Fee Related
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- 1990-10-26 DE DE69027833T patent/DE69027833T2/de not_active Expired - Fee Related
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- 1990-10-29 US US07/604,238 patent/US5135834A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
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| CA2028601A1 (en) | 1991-04-28 |
| CA2028601C (en) | 1994-11-15 |
| JPH03141366A (ja) | 1991-06-17 |
| EP0424952A2 (en) | 1991-05-02 |
| EP0424952A3 (en) | 1992-06-24 |
| ES2091215T3 (es) | 1996-11-01 |
| US5135834A (en) | 1992-08-04 |
| DE69027833T2 (de) | 1996-12-19 |
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