JPH07130788A - 半導体集積回路装置 - Google Patents

半導体集積回路装置

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JPH07130788A
JPH07130788A JP6162087A JP16208794A JPH07130788A JP H07130788 A JPH07130788 A JP H07130788A JP 6162087 A JP6162087 A JP 6162087A JP 16208794 A JP16208794 A JP 16208794A JP H07130788 A JPH07130788 A JP H07130788A
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JP
Japan
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power supply
selection
semiconductor chip
supply lead
leads
Prior art date
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Pending
Application number
JP6162087A
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English (en)
Inventor
Kenichi Yasuda
憲一 安田
Kiyohiro Furuya
清広 古谷
Hiroshi Miyamoto
博司 宮本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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Priority to US08/292,301 priority patent/US5587607A/en
Priority to KR1019940022764A priority patent/KR0150489B1/ko
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    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
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    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
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    • H01L2924/19Details of hybrid assemblies other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/1901Structure
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    • H01L2924/19041Component type being a capacitor

Abstract

(57)【要約】 【目的】 選択パッドを電源リードに接続するか否かに
よって語構成を切換えることができるDRAMにおい
て、1本の電源リードに対するボンディングの回数を減
らす。 【構成】 電源パッドMS1を電源リード31の近傍に
配置し、電源パッドMS2を電源リード32の近傍に配
置した。電源パッドMS1を電源リード31に接続する
か否か、さらに電源パッドMS2を電源リード32に接
続するか否かによって、語構成が切換わるようにした。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は半導体集積回路装置に
関し、さらに詳しくは、半導体チップ上のパッド配置の
改良に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体集積回路装置の中でも比較的生産
量の多いものの1つにダイナミック・ランダム・アクセ
ス・メモリ(以下「DRAM」という)がある。次の表
1は、64メガビットのDRAMの品種の一例を示すも
のである。
【0003】
【表1】
【0004】表1に示されるように、語構成としては、
「×1構成」と、「×4構成」と、「×8構成」と、
「×16構成」とがある。また、「×1構成」に対応す
る動作モードとして、「ファーストページモード」と、
「スタティックカラムモード」と、「ニブルモード」と
がある。「×4構成」に対応する動作モードは、上記
「×1構成」に対応するものと同じである。「×8構
成」に対応する動作モードとしては、「ファーストペー
ジモード」と、「スタティックカラムモード」とがあ
る。「×16構成」に対応する動作モードとしては、1
つの列アドレスストローブ信号(CAS)および2つの
ライトイネーブル信号(WE)を有するモードと、2つ
の列アドレスストローブ信号(CAS)および1つのラ
イトイネーブル信号(WE)を有するモードとがある。
さらに、その各モードにおいて、「ファーストページモ
ード」と、「スタティックカラムモード」とがある。
【0005】これらの品種においては、メモリセルなど
の中心部分は同じで、その周辺回路の一部が異なってい
るだけである。したがって、各品種ごとに開発を行なう
のは不経済である。
【0006】そこで、1枚の半導体チップ上に複数の機
能を有する回路を搭載しておき、その回路を切換えるこ
とによって各品種を生産する手法が採用されている。こ
の回路の切換方法としては、配線層のパターニングを変
更する方法、およびワイヤボンディングの仕方によって
切換える方法などがある。
【0007】図15は、ボンディングによって品種を切
換えるようにされた従来の半導体集積回路装置の一部を
示す平面図である。図15を参照して、半導体チップ2
上には複数のリード3が配置されている。これらのリー
ド3は、この半導体チップ2を収納するパッケージ(図
示せず)を通って外部に突出し、その突出部分がこの半
導体集積回路装置の外部ピンを構成する。このように、
リード3が半導体チップ2の上に配置される形態は、L
OC(lead on chip)と呼ばれている。
【0008】また、半導体チップ2上には複数の電源パ
ッド4が配置され、各電源パッド4は電源電位Vccま
たはVssが与えられる電源リード3とワイヤ5を介し
て接続されている。これらのワイヤ5は、ボンディング
によって形成される。
【0009】また、半導体チップ2上には電源パッド4
に隣接して2つの選択パッドMS1,MS2が配置され
ている。これらの選択パッドMS1,MS2を対応する
電源リード3とワイヤ5によって接続したり、接続しな
かったりすることによって、品種の切換えが行なわれ
る。
【0010】図16は、「1993年電子情報通信学会
春季大会講演論文集第5分冊」の5−267頁の図2に
示された選択回路である。図16を参照して、接地電位
Vssが与えられる電源リード3に選択パッドMS1が
接続される場合は、この選択パッドMS1の電位は接地
電位Vssになる。これにより、この接地電位Vssに
対応するL(ロー)レベルが、直列に接続された2つの
インバータ704,706を介して出力される。したが
ってこの場合は、Lレベルの内部モード選択信号MSI
が出力される。
【0011】一方、選択パッドMS1がいずれにも接続
されない場合は、この選択パッドMS1の電位はPチャ
ネルMOSトランジスタ702によって電源電位Vcc
にプルアップされる。これにより、この電源電位Vcc
に対応するH(ハイ)レベルが、2つのインバータ70
4,706を介して出力される。したがって、この場合
のモード選択信号MSIはHレベルになる。
【0012】このように、選択パッドMS1は電源リー
ド3に接続されている状態と接続されていない状態との
いずれかを有し、選択パッドMS2もまた電源リード3
に接続されている状態と接続されていない状態とのいず
れかを有する。このため、これら選択パッドMS1,M
S2が電源リード3と接続されるか否かによって、4つ
の品種を切換えることができる。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
半導体集積回路装置においては、図15に示されるよう
に2つの選択パッドMS1,MS2がともに1つの電源
リード3に接続される場合があった。このように、1つ
の電源リード3に複数のワイヤ5がボンディングされる
場合には、次のような問題があった。
【0014】第1に、1本目のワイヤ5をボンディング
した後、2本目のワイヤ5をボンディングする場合は、
その1本目をボンディングした位置と異なる位置に2本
目をボンディングしなければならない。2本目のワイヤ
5を前と同じ位置にボンディングすると、そのときの衝
撃によって1本目のワイヤ5が外れたり、切れたりする
ことがあるからである。したがって、リード3の幅はあ
る程度広くなければならないが、隣接するリードと一定
間隔を保たなければならないので、リード3の幅を極端
に広くすることはできない。
【0015】第2に、ボンディング時に半導体チップ2
がダメージを受けるという問題がある。図17は、図1
5に示した半導体チップ2とリード3との関係を示す側
面図である。この図17中の点線で示されるように、リ
ード3はボンディング時にボンディングアーム9によっ
て曲げられる。これにより、リード3の先端が半導体チ
ップ2の表面に接触することがある。1つのリード3に
対して複数回のボンディングが行なわれると、半導体チ
ップ2の同じ場所にダメージが繰り返し与えられる。ま
た、このリード3にもダメージが繰り返し与えられる。
したがって、1つのリード3に対するボンディングの回
数は少ない方が望ましい。
【0016】ところで、表1に示した品種の他に、リバ
ースベンド(逆ベンド)と呼ばれる製品が存在する。逆
ベンド品は、通常製品つまり正ベンド品と対称のピン配
置を有する。正ベンド品を両面プリント配線基板の表面
に実装し、逆ベンド品をその裏面に実装すれば、正ベン
ド品の各ピンを逆ベンド品の対応するピンと接続するこ
とができる。
【0017】この正および逆ベンド品は、図18の右側
に示されるように、半導体チップ2をパッケージ1によ
ってモールドした後、リード3を図上の下側に曲げる
か、あるいは上側に曲げるかによって製造することがで
きる。このような方法の場合、リード3はパッケージ1
の厚み方向の中心Cに配置されていなければならない。
しかしながら、図18の左側に示されるように、LOC
タイプの場合はその中心Cにリード3を配置することは
困難である。また、TSOPと呼ばれる超薄型パッケー
ジの場合も同様に、その中心Cにリード3を配置するこ
とは困難である。もしリード3をパッケージ1の厚み方
向の中心Cに配置することができないと、正ベンド品と
逆ベンド品とでは、リード3の形状が異なるという問題
が生じる。
【0018】この発明は上記のような問題点を解決する
ためになされたもので、ボンディングによって品種の切
換えが可能な半導体集積回路装置において、1つのリー
ドに対するワイヤボンディングの回数を少なくすること
を目的とする。
【0019】この発明の他の目的は、ワイヤボンディン
グ時に既にボンディングされたワイヤが外れるのを防止
することである。
【0020】この発明のさらに他の目的は、ワイヤボン
ディング時に半導体チップに与えるダメージを低減する
ことである。
【0021】この発明のさらに他の目的は、生産量の多
い半導体集積回路装置においてはそのワイヤボンディン
グの回数を少なくすることである。
【0022】この発明のさらに他の目的は、ワイヤボン
ディングの工程で種々の語構成を有するDRAMを製造
できるようにすることである。
【0023】この発明のさらに他の目的は、1種類のリ
ードを用いて正および逆ベンド品を製造できるようにす
ることである。
【0024】この発明のさらに他の目的は、LOC型の
正および逆ベンド品を製造できるようにすることであ
る。
【0025】
【課題を解決するための手段】請求項1に係る半導体集
積回路装置は、パッケージ、半導体チップ、複数のリー
ド、第1および第2の電源パッド、第1および第2の選
択パッド、ならびに第1の選択手段を備える。上記半導
体チップは、上記パッケージ内に収納され、かつ複数の
第1の所定動作のうちいずれかを行なう。上記複数のリ
ードの各々は、上記パッケージの外側から上記半導体チ
ップの周縁にわたって配置される。上記複数のリードに
は、第1および第2の電源リードが含まれる。上記第1
の電源リードは、電源電位を受けるためのものである。
上記第2の電源リードは、上記第1の電源リードから離
れたところに位置し、かつ上記電源電位と同じかあるい
は異なる電源電位を受けるためのものである。上記第1
の電源パッドは、上記半導体チップ上に配置され、かつ
上記第1の電源リードに接続される。上記第2の電源パ
ッドは、上記半導体チップ上に配置され、かつ上記第2
の電源リードに接続される。上記第1の選択パッドは、
上記半導体チップ上であって上記第1の電源リードの近
傍に配置され、かつ上記第1の電源リードに接続される
状態と接続されない状態とのいずれかを有する。上記第
2の選択パッドは、上記半導体チップ上であって上記第
2の電源リードの近傍に配置され、かつ上記第2の電源
リードに接続される状態と接続されない状態とのいずれ
かを有する。上記第1の選択手段は、上記第1および第
2の選択パッドの接続状態に応答して上記複数の第1の
所定動作のうちいずれかを選択する。
【0026】請求項2に係る半導体集積回路装置におい
ては、上記半導体チップはさらに、複数の第2の所定動
作のうちいずれかを行なう。上記複数のリードにはま
た、第3および第4の電源リードが含まれる。上記第3
の電源リードは、上記電源電位と同じかあるいは異なる
電源電位を受けるためのものである。上記第4の電源リ
ードは、上記第3の電源リードから離れたところに位置
し、かつ上記電源電位と同じかあるいは異なる電源電位
を受けるためのものである。また、上記半導体集積回路
装置はさらに、第3および第4の電源パッド、第3およ
び第4の選択パッド、ならびに第2の選択手段を備え
る。上記第3の電源パッドは、上記半導体チップ上に配
置され、かつ上記第3の電源リードに接続される。上記
第4の電源パッドは、上記半導体チップ上に配置され、
かつ上記第4の電源リードに接続される。上記第3の選
択パッドは、上記半導体チップ上であって上記第3の電
源リードの近傍に配置され、かつ上記第3の電源リード
に接続される状態と接続されない状態とのいずれかを有
する。上記第4の選択パッドは、上記半導体チップ上で
あって上記第4の電源リードの近傍に配置され、かつ上
記第4の電源リードに接続される状態と接続されない状
態とのいずれかを有する。上記第2の選択手段は、第1
の選択手段によって選択された動作と上記第3および第
4の選択パッドの接続状態とに応答して上記複数の第2
の所定動作のうちいずれかを選択する。
【0027】請求項3に係る半導体集積回路装置は、パ
ッケージ、半導体チップ、複数のリード、複数の第1お
よび第2の選択パッド、ならびに第1および第2の選択
手段を備える。上記半導体チップは、上記パッケージ内
に収納され、複数の第1の所定動作のうちいずれかを行
ない、複数の第2の所定動作のうちいずれかを行なう。
上記複数のリードの各々は、上記パッケージの外側から
上記半導体チップの周縁にわたって配置され。上記複数
の第1の選択パッドは、上記半導体チップ上であって上
記複数のリードのうちいずれかに対応して配置される。
複数の第1の選択パッドの各々は対応するリードに接続
される状態と接続されない状態とのいずれかを有する。
上記第1の選択手段は、上記複数の第1の選択パッドの
接続状態に応答して上記複数の第1の所定動作のうちい
ずれかを選択する。上記複数の第2の選択パッドは、上
記半導体チップ上であって上記複数のリードのうちいず
れかに対応して配置される。上記複数の第2の選択パッ
ドの各々は、対応するリードに接続される状態と接続さ
れない状態とのいずれかを有する。上記第2の選択手段
は、上記第1の選択手段によって選択された動作と上記
複数の第2の選択パッドの接続状態とに応答して上記複
数の第2の所定動作のうちいずれかを選択する。
【0028】請求項4に係る半導体集積回路装置におい
て、上記半導体チップは、上記第1の選択手段によって
決定された数ごとにデータを読出/書込可能な半導体記
憶装置である。
【0029】請求項5に係る半導体集積回路装置は、パ
ッケージ、半導体チップ、複数のリード、および複数の
パッドを備える。上記半導体チップは、上記パッケージ
内に収納される。上記複数のリードは、上記パッケージ
の対向する2つの辺に沿って配置される。上記複数のリ
ードの各々は、上記パッケージの外側から上記半導体チ
ップの周縁にわたって配置される。上記複数のパッド
は、上記半導体チップ上であって上記対向する2つの辺
と平行に上記複数のリードに対応して配置される。互い
に対向する2つのリードに対応する2つのパッドの一方
は、その2つのリードの一方に接続される。その2つの
パッドの他方は、その2つのリードの他方に接続され
る。その2つのパッドは、互いに隣接して配置される。
【0030】請求項6に係る半導体集積回路装置におい
ては、上記複数のリードの一端部が上記半導体チップ上
に配置される。
【0031】
【作用】請求項1に係る半導体集積回路装置において
は、互いに離れて配置された2つの電源リードの近傍に
対応して2つの選択パッドが配置されているため、その
各電源リードに対するボンディングの回数が減少する。
【0032】請求項2に係る半導体集積回路装置におい
ては、上記請求項1の作用に加えて、第1および第2の
選択パッドによって選択される動作によって、第3およ
び第4の選択パッドによって選択される動作が異なるた
め、所望の動作を行なう半導体集積回路装置、たとえば
生産量の多い半導体集積回路装置において、各電源リー
ドに対するボンディングの回数が減少する。
【0033】請求項3に係る半導体集積回路装置におい
ては、第1および第2の選択パッドによって選択される
動作によって、第3および第4の選択パッドによって選
択される動作が異なるため、所望の動作を行なう半導体
集積回路装置、たとえば生産量の多い半導体集積回路装
置において、各電源リードに対するボンディングの回数
が減少する。
【0034】請求項4に係る半導体集積回路装置におい
ては、第1の選択手段によって一度に読出す、または書
込むデータの数が決定されるため、種々の語構成を持つ
半導体集積回路装置を製造することができる。
【0035】請求項5に係る半導体集積回路装置におい
ては、互いに対向する2つのリードがその対応する2つ
のパッドと択一的に接続されるため、1種類のリードを
用いて正および逆ベンドの半導体集積回路装置を製造す
ることができる。しかも、その対応する2つのパッドは
互いに隣接して配置されているため、その対向する2つ
のリードとその対応する2つのパッドとの間にボンディ
ングされたワイヤが他のボンディングワイヤと接触する
ことはない。
【0036】請求項6に係る半導体集積回路装置におい
ては、リードの一端部が半導体チップ上に配置されてい
る、つまりLOC構造にされ、それによりその1つのリ
ードに対するボンディングの回数が減少するので、半導
体チップの同じ場所にダメージが与えられるのが防止さ
れる。また、LOC構造を有する正および逆ベンドの半
導体集積回路装置を容易に製造することができる。
【0037】
【実施例】以下、この発明の実施例を図面を参照して詳
しく説明する。
【0038】[実施例1]図2は、「×1構成」、「×
4構成」および「×8構成」を有する64メガビットの
DRAMの一般的なピン配置を示す。図2を参照して、
このDRAMは、34個のリードを有し、その各リード
の先端部分はパッケージから突出して外部ピンを構成し
ている。図2において、Vccは電源電位を示し、Vs
sは接地電位を示す。A0〜A12はアドレス信号を示
し、D,Q,DQ0〜DQ7はデータ信号を示す。/R
ASは行アドレスストローブ信号を示し、/CASは列
アドレスストローブ信号を示す。/Wはライトイネーブ
ル信号を示し、/OEは出力イネーブル信号を示す。
【0039】図2に示されるように、「×1構成」およ
び「×4構成」においては、電源電位Vccは両端の1
番ピンおよび17番ピンに与えられ、接地電位Vssは
その対向する両端の18番ピンおよび34番ピンに与え
られる。これに対し、「×8構成」においては、電源電
位Vccはさらに中央付近の7番ピンにも与えられ、接
地電位Vssはさらにその対向する中央付近の29番ピ
ンにも与えられる。
【0040】図3は、「×16構成」を有する64メガ
ビットのDRAMの一般的なピン配置を示す。図3に示
されるように、「×16構成」においては、電源電位V
ccは両端の1番ピンおよび27番ピンに与えられ、さ
らに中央付近の6番ピンおよび12番ピンにも与えられ
る。また、接地電位Vssはその対向する両端の28番
ピンおよび54番ピンに与えられ、さらにその対向する
中央付近の43番ピンおよび49番ピンにも与えられ
る。
【0041】ここで、「×1構成」においては、64メ
ガビットのメモリセルアレイが1つだけ設けられ、それ
により所望の1つのメモリセルからデータが1ビットご
とに読出されたり、あるいはその1つのメモリセルにデ
ータが1ビットごとに書込まれたりする。「×4構成」
においては、16メガビットのメモリセルアレイが4つ
設けられ、それにより所望の4つのメモリセルからデー
タが4ビットごとに読出されたり、あるいはその4つの
メモリセルにデータが4ビットごとに書込まれたりす
る。「×8構成」においては、8メガビットのメモリセ
ルアレイが8つ設けられ、それにより所望の8つのメモ
リセルからデータが8ビットごとに読出されたり、ある
いはその8つのメモリセルにデータが8ビットごとに書
込まれたりする。「×16構成」においては、4メガビ
ットのメモリセルアレイが16個設けられ、それにより
所望の16個のメモリセルからデータが16ビットごと
に読出されたり、あるいはその16個のメモリセルにデ
ータが16ビットごとに書込まれたりする。
【0042】図1は、この発明の実施例1によるDRA
Mの全体構成を示す平面図である。このDRAM10は
「×16構成」を有し、かつ64メガビットの記憶容量
を有する。
【0043】図1を参照して、このDRAM10は、樹
脂などからなるパッケージ1と、そのパッケージ内に収
納された半導体チップ2と、そのパッケージ1の対向す
る2つの辺に沿って配置された複数のリード3,31〜
38とを備える。各リードは、パッケージ1の外側から
半導体チップの周縁にわたって配置されている。また、
各リードの一端部は半導体チップ2の上方まで延びてい
る。したがって、このDRAMはLOC構造を有する。
【0044】また、半導体チップ2の上には、パッケー
ジ1の対向する2辺と平行して複数の電源パッド41〜
48が形成されている。電源パッド41は、電源電位V
ccが与えられる電源リード31にワイヤ5を介して接
続されている。電源パッド42は、電源電位Vccが与
えられる電源リード32にワイヤ5を介して接続されて
いる。電源パッド43は、電源電位Vccが与えられる
電源リード33にワイヤ5を介して接続されている。電
源パッド44は電源電位Vccが与えられる電源リード
34にワイヤ5を介して接続されている。電源パッド4
5は、接地電位Vssが与えられる電源リード35にワ
イヤ5を介して接続されている。電源パッド46は、接
地電位Vssが与えられる電源リード36にワイヤ5を
介して接続されている。電源パッド47は、接地電位V
ssが与えられる電源リード37にワイヤ5を介して接
続されている。電源パッド48は、接地電位Vssが与
えられる電源リード38にワイヤ5を介して接続されて
いる。
【0045】この半導体チップ2の上にはさらに、2つ
の選択パッドMS1,MS2が形成されている。選択パ
ッドMS1は、電源リード31の近傍であって電源パッ
ド41に隣接して配置されている。選択パッドMS2
は、電源リード32の近傍であって電源パッド46に隣
接して配置されている。なお図1では、選択パッドMS
1は、対応する電源リード31にワイヤ5を介して接続
されている。選択パッドMS2は、対応する電源リード
32にワイヤ5を介して接続されている。
【0046】図4は、半導体チップ2に搭載されている
語構成選択回路の構成を示す回路図である。図4を参照
して、この選択回路6は、選択パッドMS1と接地電位
Vssのノードとの間に接続されたNチャネルMOSト
ランジスタ601と、選択パッドMS2と接地電位Vs
sのノードとの間に接続されたNチャネルMOSトラン
ジスタ602とを備える。これらトランジスタ601,
602のゲート電極には、電源電位Vccが与えられ
る。
【0047】この選択回路6はさらに、6つのインバー
タ603〜608と、4つのNANDゲート609〜6
12とを備える。選択パッドMS1は、直列に接続され
たインバータ603および605を介してNANDゲー
ト609の一方の入力ノードとNANDゲート611の
一方の入力ノードとに接続される。インバータ605の
出力ノードは、インバータ607を介してNANDゲー
ト610の一方の入力ノードとNANDゲート612の
一方の入力ノードに接続される。
【0048】選択パッドMS2は、直列に接続されたイ
ンバータ604および606を介してNANDゲート6
11の他方の入力ノードとNANDゲート612の他方
の入力ノードとに接続される。インバータ606の出力
ノードは、インバータ608を介してNANDゲート6
09の他方の入力ノードとNANDゲート610の他方
の入力ノードとに接続される。NANDゲート609
は、「×1構成」を活性化するためのイネーブル信号/
EN1を出力する。NANDゲート610は、「×4構
成」を活性化するためのイネーブル信号/EN2を出力
する。NANDゲート611は、「×8構成」を活性化
するためのイネーブル信号/EN3を出力する。NAN
Dゲート612は、「×16構成」を活性化するための
イネーブル信号/EN4を出力する。
【0049】次の表2は、選択パッドMS1,MS2の
接続状態と語構成との対応関係を示す。
【0050】
【表2】
【0051】表2に示されるように、選択パッドMS1
およびMS2は、電源電位Vccが与えられる状態と、
いずれにも接続されないオープン状態とをそれぞれ有す
る。すなわち、選択パッドMS1が対応する電源リード
31に接続される場合とされない場合とがある。同様
に、選択パッドMS2が対応する電源リード32と接続
される場合と接続されない場合とがある。
【0052】たとえば選択パッドMS1が対応する電源
リード31に接続され、かつ選択パッドMS2はいずれ
にも接続されない、つまりオープンの場合は、選択回路
6におけるインバータ603にHレベルが与えられ、そ
れに対応してHレベルのモード選択信号MSI1がNA
NDゲート609および611に与えられ、さらにLレ
ベルのモード選択信号/MSI1がNANDゲート61
0および612に与えられる。一方、選択パッドMS2
の電位はトランジスタ602によって接地電位Vssに
プルダウンされ、それによりLレベルがインバータ60
4に与えられる。これに応答して、Lレベルのモード選
択信号MSI2がNANDゲート611および612に
与えられ、さらにHレベルのモード選択信号/MSI2
がNANDゲート609および610に与えられる。し
たがって、イネーブル信号/EN1だけがLレベルとな
り、それにより「×1構成」が活性化される。
【0053】また、選択パッドMS1およびMS2がと
もにオープン状態の場合は、イネーブル信号/EN2だ
けがLレベルとなり、それにより「×4構成」が活性化
される。
【0054】また、選択パッドMS1が対応する電源リ
ード31に接続され、かつ選択パッドMS2が対応する
電源リード32に接続される場合は、イネーブル信号/
EN3だけがLレベルとなり、それにより「×8構成」
が活性化される。
【0055】さらに、選択パッドMS1がオープン状態
で、かつ選択パッドMS2が対応する電源リード32に
接続される場合は、イネーブル信号/EN4だけがLレ
ベルとなり、それにより「×16構成」が活性化され
る。
【0056】図2および図3に示されるように、「×1
構成」および「×4構成」のDRAMにおいては両端の
リードだけに電源電位Vccが与えられるのに対し、
「×8構成」のDRAMにおいては両端のリードだけで
なく中央付近のリードにも電源電位Vccが与えられ
る。さらに、「×16構成」のDRAMにおいては両端
のリードだけでなく中央付近の2つのリードにも電源電
位Vccが与えられる。
【0057】したがって図1に示されるように、この実
施例1によるDRAM10においては、電源電位Vcc
が与えられる中央付近の電源リード32の近傍に選択パ
ッドMS2が配置されている。
【0058】ところで、「×1構成」または「×4構
成」の場合は、電源リード32には電源電位Vccは与
えられず、しかも選択パッドMS2は電源リード32に
接続されない。選択パッドMS2がオープン状態の場合
において、選択パッドMS1が電源リード31にボンデ
ィングワイヤ5を介して接続されると、電源パッドMS
1に電源電位Vccが与えられることになるので、上述
したように「×1構成」が選択される。一方、選択パッ
ドMS2だけでなく選択パッドMS1もオープン状態の
場合は、「×4構成」が選択される。
【0059】このように、選択パッドMS2は、「×1
構成」または「×4構成」では電源電位Vccが与えら
れないリード32の近傍に配置されている。しかしなが
ら、選択パッドMS2がオープン状態のときに「×1構
成」または「×4構成」が選択されるので、何らの問題
も生じない。
【0060】「×8構成」および「×16構成」の場合
は、電源リード32に電源電位Vccが与えられるの
で、選択パッドMS2が電源リード32にボンディング
ワイヤ5を介して接続されると「×8構成」または「×
16構成」が選択される。この場合において、選択パッ
ドMS1が電源リード31にボンディングワイヤ5を介
して接続されると「×8構成」が選択される。一方、選
択パッドMS1がオープン状態の場合は「×16構成」
が選択される。
【0061】図15に示された従来のDRAMにおいて
「×8構成」が選択される場合は、選択パッドMS1お
よびMS2がともに電源リード3に接続されるので、こ
の電源リード3には3本のワイヤ5がボンディングされ
ることになる。これに対し、この実施例1によるDRA
M10において「×8構成」が選択される場合は、選択
パッドMS1が電源リード31に接続され、選択パッド
MS2が電源リード32に接続されるので、電源リード
31には2本のワイヤ5がボンディングされるだけであ
る。
【0062】また、「×16構成」が選択れさる場合、
図15に示された従来のDRAMにおいては選択パッド
MS2が電源リード3に接続されるので、電源リード3
には2本のワイヤ5がボンディングされることになる。
これに対し、この実施例1によるDRAM10において
は選択パッドMS2は電源リード32に接続されるの
で、電源リード31には1本のワイヤ5がボンディング
されるだけである。
【0063】このように、電源リード31に対するボン
ディングの回数が従来よりも減少するので、ワイヤ5が
ボンディングされるときに既にボンディングされたワイ
ヤ5が外れたり、あるいは切断されたりする可能性は低
くなる。しかも、電源リード31の先端が半導体チップ
2の表面に接触する回数も減少するので、半導体チップ
2に与えられるダメージも低減される。
【0064】また、このDRAM10は、以下の工程を
経て製造される。まずシリコンウェハ上にいくつかのウ
ェルが形成され、さらにトランジスタ、キャパシタなど
の素子が形成される。続いて、金属配線が階層的に形成
され、さらにパッシベーション膜が形成される。このと
き、この製造されたウェハがテストされる。
【0065】続いて、この製造されたウェハがダイシン
グされ、それにより半導体チップ2が製造される。この
半導体チップ2はパッケージ1内に収納され、半導体チ
ップ2上のパッド41〜48,MS1,MS2と、リー
ド3,31〜38との間にワイヤ5がボンディングされ
る。このとき、選択パッドMS1,MS2がボンディン
グされるか否かによって語構成が選択される。そして、
この完成されたDRAM10の最終テストが行なわれた
後、このDRAM10は出荷される。
【0066】また、「×8構成」、「×16構成」など
の多ビット構成を有するDRAMにおいて、最近は「2
CAS」、「4CAS」などの多ビット構成に特有の品
種が増加している。多ビット構成を有するDRAMでは
電源電位Vccまたは接地電位Vssが与えられるリー
ドの数が増加する。したがって、このような追加的に電
源電位Vccなどが与えられる電源リードの近傍に選択
パッドが配置されれば、選択パッドは分散して配置され
ることになるので、1つのリードに対するボンディング
の回数が減少する。
【0067】なお、上記実施例1においては、選択パッ
ドMS1,MS2が電源リード31,32に接続される
か否かによって語構成が選択されるが、接地電位Vss
が与えられる電源リード35,36に選択パッドMS
1,MS2が接続されるか否かによって語構成が選択さ
れるようにしてもよい。また、選択パッドMS1,MS
2が電源リード31,32に接続されるか、電源リード
35,36に接続されるか、あるいはいずれにも接続さ
れないかによって語構成が選択されるようにしてもよ
い。この場合、1つの選択パッドが3つの状態を択一的
に持ち得るので、理論的には9種類の語構成から1種類
の語構成を選択することができる。
【0068】[実施例2]図5は、この発明の実施例2
によるDRAMの構成を示す平面図である。なお、上記
実施例1と同一または相当部分には同一符号を付してそ
の説明を省略する。
【0069】図5を参照して、このDRAM11におい
ては、さらに2つの選択パッドMS3,MS4が半導体
チップ2上であって電源リード33,38の近傍にそれ
ぞれ形成されている。
【0070】選択パッドMS3は、電源リード33に接
続されたり、あるいは接続されなかったりする。選択パ
ッドMS4は、電源リード38に接続されたり、あるい
は接続されなかったりする。
【0071】選択パッドMS1およびMS2は、上記実
施例1と同様に、図4に示された語構成選択回路6に接
続されている。したがって、選択パッドMS1,MS2
に電源電位Vccが与えられるか、あるいは選択パッド
MS1,MS2がオープン状態にされるかによって、4
つの語構成のうち1つが選択される。
【0072】選択パッドMS3およびMS4は、図6に
示される動作モード選択回路7に接続されている。図6
を参照して、この動作モード選択回路7は、選択パッド
MS3と接地電位Vssのノードとの間に接続されたN
チャネルMOSトランジスタ701と、選択パッドMS
4と電源電位Vccのノードとの間に接続されたPチャ
ネルMOSトランジスタ702とを備える。このトラン
ジスタ701のゲート電極には電源電位Vccが与えら
れ、トランジスタ702のゲート電極には接地電位Vs
sが与えられる。
【0073】この選択回路7はさらに、8個のインバー
タ703〜708,718,719と、9個の論理ゲー
ト709〜717とを備える。
【0074】選択パッドMS3は、直列に接続されたイ
ンバータ703および705を介して論理ゲート(NO
Rゲート)709および710の一方の入力ノードにそ
れぞれ接続される。インバータ705の出力ノードは、
インバータ707を介して論理ゲート(NORゲート)
711および712の一方の入力ノードにそれぞれ接続
され、さらにNANDゲート713の1つの入力ノード
に接続される。論理ゲート709および710の出力ノ
ードは、NORゲート716の入力ノードにそれぞれ接
続される。NORゲート716は、「ファーストページ
モード」を活性化するためのイネーブル信号/EN5を
出力する。論理ゲート711および712の出力ノード
は、NORゲート717の入力ノードにそれぞれ接続さ
れる。NORゲート717は、「スタティックカラムモ
ード」を活性化するためのイネーブル信号/EN6を出
力する。
【0075】選択パッドMS4は、直列に接続されたイ
ンバータ704および706を介して論理ゲート(NO
Rゲート)715の一方の入力ノードに接続される。イ
ンバータ706の出力ノードは、インバータ708を介
して論理ゲート709および711の他方の入力ノード
にそれぞれ接続され、NANDゲート713のもう1つ
の入力ノードに接続され、さらに論理ゲート(NORゲ
ート)714の一方の入力ノードに接続される。NAN
Dゲート713は、「ニブルモード」を活性化するため
のイネーブル信号/EN7を出力する。論理ゲート71
4の出力ノードはインバータ718の入力ノードに接続
される。インバータ718は、「2CASモード」を活
性化するためのイネーブル信号/EN8を出力する。論
理ゲート715の出力ノードは、インバータ719の入
力ノードに接続される。インバータ719は、「2WE
モード」を活性化するためのイネーブル信号/EN9を
出力する。
【0076】なお、この選択回路7における論理ゲート
710,712〜715には、図4に示された選択回路
6からのイネーブル信号/EN4が与えられる。
【0077】次の表3は、「×1構成」、「×4構成」
または「×8構成」の場合における選択パッドMS3,
MS4の接続状態と動作モードとの対応関係を示す。表
4は、「×16構成」の場合における選択パッドMS
3,MS4の接続状態と動作モードとの対応関係を示
す。
【0078】
【表3】
【0079】
【表4】
【0080】たとえば選択パッドMS3およびMS4が
ともにオープン状態の場合は、選択パッドMS3の電位
はトランジスタ701によって接地電位Vssにプルダ
ウンされ、それによりLレベルがインバータ703に与
えられる。これに応答して、Lレベルのモード選択信号
MSI3が論理ゲート709および710にそれぞれ与
えられる。また、Hレベルのモード選択信号/MSI3
が論理ゲート711〜713にそれぞれ与えられる。
【0081】選択パッドMS4の電位はトランジスタ7
02によって電源電位Vccにプルアップされ、それに
よってHレベルがインバータ704に与えられる。これ
に応答して、Lレベルのモード選択信号MSI4が論理
ゲート709,711,713,714にそれぞれ与え
られる。また、Hレベルのモード選択信号MSI4が論
理ゲート715に与えられる。
【0082】この場合において、図4に示された選択回
路6によって「×1構成」、「×4構成」または「×8
構成」が選択されている場合は、Hレベルのイネーブル
信号/EN4が、論理ゲート710,712〜715に
それぞれ与えられるので、イネーブル信号/EN5だけ
がLレベルとなる。このため、「ファーストページモー
ド」が選択される。
【0083】一方、選択パッドMS3およびMS4がと
もにオープン状態の場合において、選択回路6によって
「×16構成」が選択される場合は、Lレベルのイネー
ブル信号/EN4が論理ゲート710,712〜715
にそれぞれ与えられる。このため、イネーブル信号/E
N5および/EN8だけがLレベルとなり、これにより
「ファーストページモード」および「2CASモード」
が選択される。
【0084】その他、上記表3に示されるように、「×
1構成」、「×4構成」または「×8構成」が選択され
ている場合において、選択パッドMS3に電源電位Vc
cが与えられ、かつ選択パッドMS4がオープン状態の
場合は、「スタティックカラムモード」が選択される。
また、選択パッドMS3がオープン状態で、かつ選択パ
ッドMS4に接地電位Vssが与えられている場合は、
「ニブルモード」が選択される。
【0085】一方、上記表4に示されるように、「×1
6構成」の場合において、選択パッドMS3に電源電位
Vccが与えられている場合は、選択パッドMS4の接
続状態がどのような場合であっても、「スタティックカ
ラムモード」が選択される。また、選択パッドMS4に
接地電位Vssが与えられる場合は、選択パッドMS3
の接続状態がどのような場合であっても、「2WEモー
ド」が選択される。
【0086】ここで、これら動作モードについて簡単に
説明する。図7は、「ファーストスページモード」の動
作波形を示すタイミングチャートである。図7を参照し
て、「ファーストページモード」においては、行アドレ
スストローブ信号/RASの立下がりに応答して行アド
レスか取込まれる。さらに、行アドレスストローブ信号
/RASがLレベルで維持されている間に、列アドレス
ストローブ信号/CASが複数回トグルされ、その列ア
ドレスストローブ信号/CASの立下がりに応答して複
数の列アドレスが順次取込まれる。したがって、1つの
行アドレスに対して複数の列アドレスがアクセスされ
る。
【0087】図8は、「スタティックカラムモード」の
動作波形を示すタイミングチャートである。図8を参照
して、「スタティックカラムモード」においては、行ア
ドレスストローブ信号/RASの立下がり応答して行ア
ドレスが取込まれ、続いて列アドレスストローブ信号/
CASの立下がりに応答して列アドレスが取込まれる。
さらに、行アドレスストローブ信号/RASおよび列ア
ドレスストローブ信号CASがともにLレベルで維持さ
れている間に、列アドレスが変更され、これにより1つ
の行アドレスに対して複数の列アドレスがアクセスされ
る。
【0088】図9は、「ニブルモード」の動作波形を示
すタイミングチャートである。図9を参照して、「ニブ
ルモード」においては、行アドレスストローブ信号/R
ASの立下がり応答して行アドレスが取込まれ、続いて
列アドレスストローブ信号/CASの立下がりに応答し
て列アドレスが取込まれる。さらに、行アドレスストロ
ーブ信号/RASがLレベルで維持されている間に、列
アドレスストローブ信号/CASが3回トグルされる。
これにより、その取込まれた列アドレスに連続する3つ
の列アドレスが内部的に発生され、その結果、1つの行
アドレスに対して連続した4つの列アドレスがアクセス
される。
【0089】図10は、「2CASモード」の動作波形
を示すタイミングチャートである。図10を参照して、
「2CASモード」においては、2つの列アドレススト
ローブ信号/UCASおよび/LCASが供給される。
この上位列アドレスストローブ信号/UCASの立下が
りに応答して列アドレスが取込まれ、それにより対応す
る上位ビットのデータDQ9〜DQ16が出力される。
また、その下位列アドレスストローブ信号/LCASの
立下がりに応答して列アドレスか取込まれ、対応する下
位ビットのデータDQ1〜DQ8が出力される。
【0090】図11は、「2WEモード」の動作波形を
示すタイミングチャートである。図11を参照して、
「2WEモード」においては、2つのライトイネーブル
信号/UWおよび/LWが供給される。この上位ライト
イネーブル信号/UWがLレベルになると、対応する上
位ビットのデータDQ9〜DQ16がアクセスされたメ
モリセルに書込まれる。また、その下位ライトイネーブ
ル信号/LWがLレベルになると、その対応する下位ビ
ットのデータDQ1〜DQ8がそのアクセスされたメモ
リセルに書込まれる。
【0091】上述したようにこの実施例においては、選
択パッドMS3およびMS4がともにオープン状態の場
合に、「×1構成」、「×4構成」または「×8構成」
が選択されると、動作モードは「ファーストページモー
ドとなり、また、「×16構成」が選択されると、動作
モードは「ファーストページモード」でかつ「2CAS
モード」となる。
【0092】したがって、「×1構成」、「×4構成」
または「×8構成」では「ファーストページモード」の
DRAMの生産量が最も多く、「×16構成」では「フ
ァーストページモード」でかつ「2CASモード」のD
RAMの生産量が最も多い場合、これら生産量の多いD
RAMを製造するときに選択パッドMS3およびMS4
にボンディングをする必要がない。そのため、これら生
産量の多いDRAMの歩留りが向上し、それによりDR
AM全体の生産効率がよくなる。
【0093】もし「×1構成」、「×4構成」または
「×8構成」では「スタティックカラムモード」のDR
AMの生産量が最も多ければ、選択パッドMS3および
MS4がともにオープン状態のときに「スタティックカ
ラムモード」が選択されるように、図6に示された動作
モード選択回路7を変更すればよい。
【0094】[実施例3]図12および図13は、4メ
ガビットのDRAMのピン配置を示す。ただし、図12
は正ベンドのピン配置を示し、図13はリバースベンド
(逆ベンド)のピン配置を示す。
【0095】図12および図13を比較すれば明らかな
ように、これらDRAMのピン配置は互いに対称になっ
ている。すなわち、図12の正ベンド品では1番ピンか
ら26番ピンまでが反時計回りに配置されているのに対
し、図13の逆ベンド品では1番ピンから26番ピンま
でが時計回りに配置されている。
【0096】たとえば正ベンド品で電源電位Vccが与
えられるピンと、逆ベンド品で電源電位Vccが与えら
れるピンとは、互いに対向する位置にある。同様に、正
ベンド品でアドレス信号A0〜A3が与えられるピン
と、逆ベンド品でこれらのアドレス信号A0〜A3が与
えられるピンとは、それぞれ互いに対向する位置にあ
る。
【0097】図14は、この発明の実施例3によるDR
AMの構成を示す平面図である。図14を参照して、こ
のDRAM12は、樹脂などからなるパッケージ1と、
そのパッケージ1内に収納される半導体チップ2と、そ
のパッケージ1の対向する2つの辺に平行して配置され
た複数のリード3とを備える。各リード3は、パッケー
ジ1の外部から半導体チップ2の周縁にわたって配置さ
れている。また、各リード3の一端部は、半導体チップ
2の上方まで延びている。したがって、このDRAM1
2はLOC構造を有する。さらに、各リード3の他端部
は、パッケージ1から突出し、その突出部分により外部
ピンが構成されている。
【0098】また、半導体チップ2上には、パッケージ
1の対向する2つの辺に平行して複数のパッド8が一直
線に配置されている。これら複数のパッド8のうち互い
に隣接する2つのパッドは、対向する2つのリード3に
対応して配置されている。
【0099】正ベンド品の場合は、図14中実線で示さ
れるように、互いに隣接する2のパッド8のうち一方が
ワイヤ51を介して対応するリード3に接続されるとと
もに、他方のパッドがそのリード3と対向するリード3
にワイヤ51を介して接続される。
【0100】一方、逆ベンド品の場合は、互いに隣接す
る2つのパッド8のうち一方がその対応するリード3に
ワイヤ52を介して接続されるとともに、他方のパッド
がそのリード3と対向するリード3にワイヤ52を介し
て接続される。
【0101】したがって、図18に示されるようにリー
ド3を曲げる必要がないので、1種類のリード3を用い
て正ベンド品と逆ベンド品とを製造することができる。
【0102】また、互いに対向する2つのリード3と選
択的に接続される2つのパッド8は互いに隣接して配置
されているので、これらのパッド8をリード3に接続す
るワイヤ51,52が、他のワイヤと交差することはな
い。このため、ワイヤ同士が接触することもないので、
高い歩留りで正および逆ベンドのDRAMを製造するこ
とができる。
【0103】なお、実施例3ではLOC型のDRAMを
用いて説明したが、この発明は特にLOC型に限定され
るものではなく、また、DRAMに限定されるものでも
ない。したがって、この発明はあらゆる半導体集積回路
装置に適用することができる。
【0104】
【発明の効果】請求項1に係る半導体集積回路装置によ
れば、複数の選択パッドは複数のリードの近傍に分散し
て配置されているので、1つのリードに対するボンディ
ングの回数を減らすことができる。したがって、ワイヤ
をボンディングするときに既にボンディングされたワイ
ヤが外れたり、あるいは切れたりすることはない。
【0105】請求項2に係る半導体集積回路装置によれ
ば、請求項1の効果に加えて、第1および第2の選択パ
ッドによって選択される動作に応じて、第3および第4
の選択パッドによって選択される動作が変更されるの
で、たとえば第3および第4の選択パッドがオープン状
態のときに最も生産量の多い動作が選択されるようにし
ておけば、歩留りが向上し、それにより効率よく半導体
集積回路装置を製造することができる。
【0106】請求項3に係る半導体集積回路装置によれ
ば、第1の選択パッドによって選択される動作に応じ
て、第2の選択パッドによって選択される動作が変更さ
れるので、たとえば第2の選択パッドがオープン状態の
とき最も生産量の多い動作が選択されるようにしておけ
ば、歩留りが向上し、それにより効率よく半導体集積回
路装置を製造することができる。
【0107】請求項4に係る半導体集積回路装置によれ
ば、選択パッドを対応するリードに接続するか否かによ
って種々の語構成を有する半導体記憶装置を製造するこ
とができる。
【0108】請求項5に係る半導体記憶装置によれば、
互いに対向する2つのリードが対応する2つのパッドに
選択的に接続されるので、正および逆ベンド品を容易に
作り分けることができる。しかも、それらのパッドは隣
接して配置されているので、それらのパッドと対応する
リードを接続するワイヤが他のワイヤと接触することは
なく、それにより高い歩留りで正および逆ベンド品を作
り分けることができる。
【0109】請求項6に係る半導体記憶装置によれば、
LOC型であるにもかかわらず、ボンディング時にリー
ドが半導体チップに接触する回数が少なくなり、半導体
チップに与えられるダメージが低減される。
【図面の簡単な説明】
【図1】 この発明の実施例1によるDRAMの構成を
示す平面図である。
【図2】 「×1構成」、「×4構成」および「×8構
成」を有するDRAMのピン配置を示す図である。
【図3】 「×16構成」を有するDRAMのピン配置
を示す図である。
【図4】 図1に示されたDRAMにおける語構成選択
回路を示す回路図である。
【図5】 この発明の実施例2によるDRAMの構成を
示す平面図である。
【図6】 図5に示されたDRAMにおける動作モード
選択回路を示す回路図である。
【図7】 ファーストページモードの動作波形を示すタ
イムチャートである。
【図8】 スタティックカラムモードの動作波形を示す
タイムチャートである。
【図9】 ニブルモードの動作波形を示すタイムチャー
トである。
【図10】 2CASモードの動作波形を示すタイムチ
ャートである。
【図11】 2WEモードの動作波形を示すタイムチャ
ートである。
【図12】 正ベンド型のDRAMのピン配置を示す図
である。
【図13】 図12に示された正ベント型のDRAMに
対応して、逆ベンド型のDRAMのピン配置を示す図で
ある。
【図14】 この発明の実施例3によるDRAMの構成
を示す平面図である。
【図15】 従来のDRAMの一部構成を示す平面図で
ある。
【図16】 従来の選択回路を示す回路図である。
【図17】 図15に示されたDRAMのボンディング
時における問題点を説明するための側面図である。
【図18】 従来のDRAMを示す側面図であり、図中
右側は正および逆ベンド型のDRAMを製造する方法を
示す。
【符号の説明】
1 パッケージ、2 半導体チップ、3,31〜38
リード、4,41〜48 電源パッド、5 ワイヤ、6
語構成選択回路、7 動作モード選択回路、8 パッ
ド、10,11,12 DRAM、MS1〜MS4 選
択パッド、Vcc 電源電位、Vss 接地電位。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/822 27/10 301 7210−4M (72)発明者 宮本 博司 兵庫県伊丹市瑞原4丁目1番地 三菱電機 株式会社北伊丹製作所内

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 パッケージと、 前記パッケージ内に収納されかつ複数の第1の所定動作
    のうちいずれか行なう半導体チップと、 各々が前記パッケージの外側から前記半導体チップの周
    縁にわたって配置された複数のリードとを備え、前記複
    数のリードは、電源電位を受けるための第1の電源リー
    ドと、前記第1の電源リードから離れたところに位置し
    かつ電源電位を受けるための第2の電源リードとを含
    み、 前記半導体チップ上に配置されかつ前記第1の電源リー
    ドに接続された第1の電源パッドと、 前記半導体チップ上に配置されかつ前記第2の電源リー
    ドに接続された第2の電源パッドと、 前記半導体チップ上であって前記第1の電源リードの近
    傍に配置されかつ前記第1の電源リードに接続される状
    態と接続されない状態とのいずれかを有する第1の選択
    パッドと、 前記半導体チップ上であって前記第2の電源リードの近
    傍に配置されかつ前記第2の電源リードに接続される状
    態と接続されない状態とのいずれかを有する第2の選択
    パッドと、 前記第1および第2の選択パッドの接続状態に応答して
    前記複数の第1の所定動作のうちいずれかを選択する第
    1の選択手段とをさらに備えた半導体集積回路装置。
  2. 【請求項2】 前記半導体チップはさらに、複数の第2
    の所定動作のうちいずれかを行ない、 前記複数のリードはまた、電源電位を受けるための第3
    の電源リードと、前記第3の電源リードから離れたとこ
    ろに位置しかつ電源電位を受けるための第4の電源リー
    ドとを含み、 前記半導体チップ上に配置されかつ前記第3の電源リー
    ドに接続された第3の電源パッドと、 前記半導体チップ上に配置されかつ前記第4の電源リー
    ドに接続された第4の電源パッドと、 前記半導体チップ上であって前記第3の電源リードの近
    傍に配置されかつ前記第3の電源リードに接続される状
    態と接続されない状態とのいずれかを有する第3の選択
    パッドと、 前記半導体チップ上であって前記第4の電源リードの近
    傍に配置されかつ前記第4の電源リードに接続される状
    態と接続されない状態とのいずれかを有する第4の選択
    パッドと、 前記第1の選択手段によって選択された動作と前記第3
    および第4の選択パッドの接続状態とに応答して前記複
    数の第2の所定動作のうちいずれかを選択する第2の選
    択手段とをさらに備えたことを特徴とする請求項1に記
    載の半導体集積回路装置。
  3. 【請求項3】 パッケージと、 前記パッケージ内に収納され、複数の第1の所定動作の
    うちいずれかを行ないかつ複数の第2の所定動作のうち
    いずれかを行なう半導体チップと、 各々が前記パッケージの外側から前記半導体チップの周
    縁にわたって配置された複数のリードと、 前記半導体チップ上であって前記複数のリードのうちい
    ずれかに対応して配置され、各々が対応するリードに接
    続される状態と接続されない状態とのいずれかを有する
    複数の第1の選択パッドと、 前記複数の第1の選択パッドの接続状態に応答して前記
    複数の第1の所定動作のうちいずれかを選択する第1の
    選択手段と、 前記半導体チップ上であって前記複数のリードのうちい
    ずれかに対応して配置され、各々が対応するリードに接
    続される状態と接続されない状態とのいずれかを有する
    複数の第2の選択パッドと、 前記第1の選択手段によって選択された動作と前記複数
    の第2の選択パッドの接続状態とに応答して前記複数の
    第2の所定動作のうちいずれかを選択する第2の選択手
    段とを備えた半導体集積回路装置。
  4. 【請求項4】 前記半導体チップは、前記第1の選択手
    段によって決定された数ごとにデータを読出/書込可能
    な半導体記憶装置であることを特徴する請求項1から請
    求項3までのいずれかに記載の半導体集積回路装置。
  5. 【請求項5】 パッケージと、 前記パッケージ内に収納された半導体チップと、 前記パッケージの対向する2つの辺に沿って配置され、
    かつ、各々が前記パッケージの外側から前記半導体チッ
    プの周縁にわたって配置された複数のリードと、 前記半導体チップ上であって前記対向する2つの辺と平
    行に前記複数のリードに対応して配置された複数のパッ
    ドとを備え、互いに対向する2つのリードに対応する2
    つのパッドの一方はその2つのリードの一方に接続さ
    れ、その2つのパッドの他方はその2つのリードの他方
    に接続され、かつその2つのパッドは互いに隣接して配
    置されている、半導体集積回路装置。
  6. 【請求項6】 前記複数のリードの一端部が前記半導体
    チップ上に配置されていることを特徴とする請求項1か
    ら請求項5までのいずれかに記載の半導体集積回路装
    置。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0847058A2 (en) * 1996-12-03 1998-06-10 Texas Instruments Incorporated Improvements in or relating to integrated circuits
JP2009246086A (ja) * 2008-03-31 2009-10-22 Nec Electronics Corp 半導体装置
JP2017011110A (ja) * 2015-06-23 2017-01-12 ローム株式会社 半導体集積回路および選択検出回路

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5661082A (en) * 1995-01-20 1997-08-26 Motorola, Inc. Process for forming a semiconductor device having a bond pad
JP2679669B2 (ja) * 1995-02-28 1997-11-19 日本電気株式会社 半導体装置
US6388314B1 (en) 1995-08-17 2002-05-14 Micron Technology, Inc. Single deposition layer metal dynamic random access memory
JP2795315B2 (ja) * 1996-05-16 1998-09-10 日本電気株式会社 半導体装置
US5744870A (en) 1996-06-07 1998-04-28 Micron Technology, Inc. Memory device with multiple input/output connections
JP2828056B2 (ja) * 1996-08-20 1998-11-25 日本電気株式会社 半導体装置及びその製造方法
US5838072A (en) * 1997-02-24 1998-11-17 Mosel Vitalic Corporation Intrachip power distribution package and method for semiconductors having a supply node electrically interconnected with one or more intermediate nodes
US5903491A (en) 1997-06-09 1999-05-11 Micron Technology, Inc. Single deposition layer metal dynamic random access memory
US6008532A (en) * 1997-10-23 1999-12-28 Lsi Logic Corporation Integrated circuit package having bond fingers with alternate bonding areas
US6169331B1 (en) 1998-08-28 2001-01-02 Micron Technology, Inc. Apparatus for electrically coupling bond pads of a microelectronic device
JP2000100814A (ja) * 1998-09-18 2000-04-07 Hitachi Ltd 半導体装置
US6356958B1 (en) * 1999-02-08 2002-03-12 Mou-Shiung Lin Integrated circuit module has common function known good integrated circuit die with multiple selectable functions
US7247932B1 (en) 2000-05-19 2007-07-24 Megica Corporation Chip package with capacitor
US6525560B1 (en) 2001-12-12 2003-02-25 Xilinx, Inc. Method and structure for shipping a die as multiple products
DE10232721A1 (de) 2002-07-16 2004-02-12 Siemens Ag Druckgeber mit Drucksensor in mikromechanischer Bauweise
JP4185721B2 (ja) * 2002-07-17 2008-11-26 アルプス電気株式会社 照明装置及び液晶表示装置
US7737553B2 (en) * 2004-10-06 2010-06-15 Panasonic Corporation Semiconductor device
US10693468B2 (en) * 2017-06-28 2020-06-23 Texas Instruments Incorporated Integrated circuit and process for family of digital logic functions

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4956811A (en) * 1987-09-16 1990-09-11 Hitachi, Ltd. Semiconductor memory
JP2762292B2 (ja) * 1989-03-20 1998-06-04 株式会社日立製作所 半導体記憶装置
US5208782A (en) * 1989-02-09 1993-05-04 Hitachi, Ltd. Semiconductor integrated circuit device having a plurality of memory blocks and a lead on chip (LOC) arrangement
SG52794A1 (en) * 1990-04-26 1998-09-28 Hitachi Ltd Semiconductor device and method for manufacturing same
JPH04348045A (ja) * 1990-05-20 1992-12-03 Hitachi Ltd 半導体装置及びその製造方法
KR100276781B1 (ko) * 1992-02-03 2001-01-15 비센트 비. 인그라시아 리드-온-칩 반도체장치 및 그 제조방법

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0847058A2 (en) * 1996-12-03 1998-06-10 Texas Instruments Incorporated Improvements in or relating to integrated circuits
EP0847058A3 (en) * 1996-12-03 1999-10-20 Texas Instruments Incorporated Improvements in or relating to integrated circuits
JP2009246086A (ja) * 2008-03-31 2009-10-22 Nec Electronics Corp 半導体装置
JP2017011110A (ja) * 2015-06-23 2017-01-12 ローム株式会社 半導体集積回路および選択検出回路

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