JP2000156094A - メモリモジュール - Google Patents

メモリモジュール

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JP2000156094A JP32974598A JP32974598A JP2000156094A JP 2000156094 A JP2000156094 A JP 2000156094A JP 32974598 A JP32974598 A JP 32974598A JP 32974598 A JP32974598 A JP 32974598A JP 2000156094 A JP2000156094 A JP 2000156094A
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chips
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Kenji Ujiie
健二 氏家
Junichi Arita
順一 有田
Seiichiro Tsukui
誠一郎 津久井
Atsushi Nakamura
淳 中村
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Renesas Eastern Japan Semiconductor Inc
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Hitachi Ltd
Hitachi Tohbu Semiconductor Ltd
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 部分良品チップを含む複数のDRAM等を搭
載するメモリのモジュール基板の所要パターン数を削減
し、その実装密度を高めメモリモジュールの低コスト化
を図る。 【解決手段】 DRAM等を基本素子とするメモリモジ
ュールを、例えば3個の良品チップRAM1〜RAM3
と2個の部分良品チップRAM4〜RAM5とをもとに
構成し、RAM4及びRAM5の使用可能とされ又は実
際に使用されるI/Oブロックの数を2個に限定する。
また、RAM4及びRAM5の内側に、使用可能なI/
Oブロックのデータ端子に対応する3個のボンディング
リードブロックLB45〜LB47あるいはLB55〜
LB57をそれぞれ配置し、このうち外側に配置される
2個のボンディングリードブロックLB45及びLB4
7あるいはLB55及びLB57の対応するボンディン
グリードのそれぞれをワイヤドOR結合する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、メモリモジュー
ルに関し、例えば、部分良品チップを含む複数のシンク
ロナスDRAM(ダイナミック型ランダムアクセスメモ
リ)をチップ状態で1個のモジュール基板に搭載するメ
モリモジュールならびにその実装密度の向上及び低コス
ト化に利用して特に有効な技術に関する。
【0002】
【従来の技術】ダイナミック型メモリセルが格子配列さ
れてなるメモリアレイをその基本構成要素とし、所定の
クロック信号に従って同期動作するいわゆるシンクロナ
スDRAMがある。また、このようなシンクロナスDR
AM等のメモリチップを、パッケージ封入しないままい
わゆるベア(bare)チップ状態で1個のモジュール
基板上に複数個搭載してなるメモリモジュールがある。
メモリモジュールのモジュール基板には、メモリモジュ
ールを例えばパーソナルコンピュータ等のコネクタに装
着するためのモジュール端子が設けられ、さらにモジュ
ール端子とシンクロナスDRAMのチップ面上に形成さ
れたボンディングパッドとの間をワイヤボンディング接
続するためのボンディングリードが設けられる。
【0003】一方、シンクロナスDRAM等のメモリ集
積回路装置は、いわゆる多ビット構成とされることが多
く、例えば×8ビット又は×16ビット等の各種ビット
構成をとるシンクロナスDRAMがすでに開発され、市
販されている。多ビット構成とされるシンクロナスDR
AM等は、そのビット構成に応じて、記憶データが入力
又は出力される例えば8個又は16個のデータ端子を備
える。これらのシンクロナスDRAM等の製造工程で
は、特にその開発初期において、データ端子の一部が使
用不能な状態にある部分良品チップが所定の割合で発生
するが、このような部分良品チップを有効活用すること
でシンクロナスDRAM等の製品歩留りを高め、その低
コスト化を図る方法が各種提案されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本願発明者等は、この
発明に先立って、例えば×16ビット構成とされる複数
のシンクロナスDRAMを、部分良品チップを含めてベ
アチップ状態で搭載するメモリモジュールの開発に従事
し、その過程で次のような問題点に気付いた。すなわ
ち、このメモリモジュールに搭載されるシンクロナスD
RAMは、16個のデータ端子を備え、その部分良品チ
ップは、例えば1個のデータ端子のみ使用可能なものか
ら15個のデータ端子が使用可能なものまで、膨大な組
み合わせが存在するため、これに対応した様々な配線パ
ターンを持つ膨大な種類のモジュール基板を用意しなく
てはならない。これに対処するため、シンクロナスDR
AMのデータ端子に対応して設けられるボンディングパ
ッドを、例えば4個ずつグループ化して4個のI/Oブ
ロックを構成し、これらのI/Oブロックを単位として
部分良品チップ化することで、部分良品チップにおける
I/Oブロックの組み合わせ数を例えば14通りに削減
し、これによってメモリモジュールのモジュール基板の
パターン数を削減する方法をとっている。
【0005】一方、部分良品チップを搭載するこのメモ
リモジュールでは、使用不能な状態にあるデータ端子を
例えばプルアップ抵抗を介して電源電圧VDDに接続
し、これらのデータ端子に対応する入力回路で大きな直
流電流が流れ、あるいは不本意な高電圧の印加によって
寄生サイリスタを介するラッチアップが生ずるのを防止
する方法をとっている。したがって、モジュール基板上
には、部分良品チップの使用可能なデータ端子と対応す
るモジュール端子との間を接続するためのボンディング
リード及びプリント配線に加えて、使用不能なデータ端
子とプルアップ抵抗との間を接続するためのボンディン
グリードが設けられる。周知のように、ボンディングワ
イヤによる接続は、所定のボンディングルールに則って
行われ、各ボンディングリードの配置位置と対応するデ
ータ端子つまりそのボンディングパッドの配置位置との
間には、所定の制約が設けられる。
【0006】このメモリモジュールでは、上記のよう
に、シンクロナスDRAMのデータ端子つまりボンディ
ングパッドが4個のI/Oブロックとしてグループ化さ
れ、部分良品チップにおけるI/Oブロックの組み合わ
せが例えば14通りに削減される。しかし、これらのす
べてに組み合わせに対応してモジュール基板を個別に用
意しようとした場合、その所要パターン数が組み合わせ
に応じて多くなり、これを共通のモジュール基板で実現
しようとすると、モジュール基板のサイズが相当に大き
なものとなる。また、各組み合わせに対応して、使用可
能なデータ端子に対応するボンディングリードと使用不
能なデータ端子に対応するボンディングリードとをそれ
ぞれ設けなくてはならず、そのために比較的大きなレイ
アウト所要面積が必要となる。この結果、モジュール基
板の実装密度が低下し、そのサイズが大型化して、メモ
リモジュールの低コスト化が阻害される。
【0007】この発明の目的は、部分良品チップを含む
複数のシンクロナスDRAM等をベアチップ状態で搭載
するメモリモジュールのモジュール基板の所要パターン
数を削減し、その実装密度を高め、そのサイズを縮小し
て、メモリモジュールの低コスト化を図ることにある。
【0008】この発明の前記ならびにその他の目的と新
規な特徴は、この明細書の記述及び添付図面から明らか
になるであろう。
【0009】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、次
の通りである。すなわち、シンクロナスDRAM等を基
本素子とするメモリモジュールを、例えばm個つまり例
えば3個の良品チップとn個つまり例えば2個の部分良
品チップとをもとに構成し、部分良品チップの使用可能
とされ又は実際に使用されるI/Oブロックの数を2個
に限定するとともに、これらの部分良品チップの内側
に、使用可能なI/Oブロックのデータ端子に対応する
4個の第1のボンディングリードをそれぞれ含む3個の
ボンディングリードブロックを配置し、このうち外側に
配置される2個のボンディングリードブロックの対応す
るボンディングリードのそれぞれを結線論理和結合す
る。また、2個の部分良品チップの外側に、使用不能な
I/Oブロックのデータ端子とプルアップ又はプルダウ
ン抵抗との間を接続するための第2のボンディングリー
ドを配置する。
【0010】上記した手段によれば、1種類のモジュー
ル基板で、しかも所定のボンディングルールを満たしつ
つ、部分良品チップの使用可能な2個のI/Oブロック
のすべての組み合わせに対応できるとともに、ボンディ
ングリードの所要数と、特にデータ端子及びモジュール
端子間のプリント配線の所要数とを削減できる。この結
果、モジュール基板の所要パターン数を削減し、その実
装密度を高めサイズを縮小して、メモリモジュールの低
コスト化を図ることができる。
【0011】
【発明の実施の形態】図1には、この発明が適用された
メモリモジュールの一実施例の外観構造図が示されてい
る。同図をもとに、まずこの実施例のメモリモジュール
の外観構造及びその構成の概要について説明する。な
お、この実施例のメモリモジュールは、モジュール端子
MTを介してパーソナルコンピュータ等の対応するコネ
クタに装着され、その増設メモリとして使用される。ま
た、以下の構造図及び配置図等では、各図の位置関係を
もって、基板及びチップ等の上下左右を表す。
【0012】図1において、この実施例のメモリモジュ
ールは、モジュール基板PCBの長手方向に配置される
5個のシンクロナスDRAM(RAM1〜RAM5)を
備える。これらのシンクロナスDRAMは、ウエハ状態
での試験工程を経た後、チップに切断され、パッケージ
封入されないままのいわゆるベアチップとされる。ま
た、各シンクロナスDRAMは、後述するように、×1
6ビット構成とされてそれぞれk個つまり16個のデー
タ端子、すなわちデータ入出力端子DQ0〜DQ15を
備え、これらのデータ入出力端子は、所定の組み合わせ
で4個ずつグループ化されて4個のI/OブロックIO
B1〜IOB4を構成する。
【0013】この実施例において、メモリモジュールを
構成する5個のシンクロナスDRAM(RAM1〜RA
M5)のうち、m個つまり3個のシンクロナスDRAM
(RAM1〜RAM3)は、4個のI/OブロックIO
B1〜IOB4がすべて使用可能な良品チップとされ、
残りn個つまり2個のシンクロナスDRAM(RAM4
〜RAM5)は、4個のI/OブロックIOB1〜IO
B4のうち少なくとも2個が使用可能な部分良品チップ
とされる。また、これらの部分良品チップの使用可能な
I/Oブロックのうち、実際に使用されるI/Oブロッ
クの数は2個に限定され、部分良品チップが使用可能な
I/Oブロックを3個以上備える場合、残りの使用可能
なI/Oブロックはあえて使用されない。
【0014】メモリモジュールは、さらに、モジュール
基板PCBの一方の長辺に沿って形成される複数のモジ
ュール端子MTを備える。また、各シンクロナスDRA
Mのチップ面上には、長辺方向の中心線に沿って多数の
ボンディングパッドが形成され、各メモリチップの両側
には、そのデータ入出力端子を含む入力用又は出力用の
外部端子つまりボンディングパッドと対応するモジュー
ル端子MTあるいはプルアップ抵抗との間を接続するた
めの多数のボンディングリードBLが形成される。これ
らのボンディングリードBLは、その一方で対応するボ
ンディングワイヤBWを介して各メモリチップの対応す
るボンディングパッドに結合されるとともに、その他方
で対応する図示されないプリント配線を介して互いに結
合され、あるいは対応するモジュール端子MTにそれぞ
れ結合される。
【0015】前述のように、モジュール端子MTは、所
定のコネクタを介してパーソナルコンピュータに接続さ
れる。また、特に制限されないが、シンクロナスDRA
M(RAM1〜RAM5)の上部は、ボンディング処理
が施された後、所定のプラスチック材料によってパッケ
ージ封入され、保護される。
【0016】なお、メモリモジュールを構成するシンク
ロナスDRAM(RAM1〜RAM5)のブロック構成
については、後記図2をもとに具体的に説明し、そのボ
ンディングパッドの配置については、後記図3をもとに
具体的に説明する。また、メモリモジュールの機能的ブ
ロック構成については、後記図4をもとに具体的に説明
し、その良品チップ周辺及び部分良品チップ周辺におけ
るボンディングリードBLの配置については、後記図5
及び図6をもとに具体的に説明する。さらに、メモリモ
ジュールの良品チップ周辺における接続形態について
は、後記図7をもとに具体的に説明し、その部分良品チ
ップ周辺における接続形態については、後記図8ないし
図16をもとに具体的に説明する。
【0017】図2には、図1のメモリモジュールに含ま
れるシンクロナスDRAM(RAM1〜RAM5)の一
実施例のブロック図が示され、図3には、その一実施例
のパッド配置図が示されている。これらの図をもとに、
この実施例のメモリモジュールを構成するシンクロナス
DRAM(RAM1〜RAM5)のブロック構成及び動
作ならびにそのチップ面上におけるボンディングパッド
の配置について説明する。なお、図1の各ブロックを構
成する回路素子は、公知のMOSFET(金属酸化物半
導体型電界効果トランジスタ。この明細書では、MOS
FETをして絶縁ゲート型電界効果トランジスタの総称
とする)集積回路の製造技術により、単結晶シリコンの
ような1個の半導体基板面上に形成される。また、各シ
ンクロナスDRAMは、前述のように、ベアチップ状態
でモジュール基板PCBに搭載されるため、後述する各
端子は、すべてボンディングパッドとなる。
【0018】図2において、この実施例のシンクロナス
DRAMは、特に制限されないが、4個のバンクBNK
0〜BNK3を備え、これらのバンクのそれぞれは、そ
のレイアウト面積の大半を占めて配置されるメモリアレ
イMARYと、直接周辺回路たるロウアドレスデコーダ
RD,センスアンプSA,カラムアドレスデコーダC
D,ライトアンプWA及びメインアンプMAとを備え
る。
【0019】この実施例において、シンクロナスDRA
Mは、前述のように、×16ビット構成とされ、16個
のデータ入出力端子DQ0〜DQ15を備える。また、
シンクロナスDRAMのバンクBNK0〜BNK3を構
成するメモリアレイMARY及びその直接周辺回路は、
実際にはデータ入出力端子DQ0〜DQ15に対応して
それぞれ16個のメモリマットに分割される。同様に、
ライトアンプWA及びメインアンプMAは、データ入出
力端子DQ0〜DQ15に対応して16個の単位回路に
分割され、後述するデータ入力バッファIB及びデータ
出力バッファOBも、それぞれ16個の単位回路に分割
される。
【0020】バンクBNK0〜BNK3を構成するメモ
リアレイMARYは、図の垂直方向に平行して配置され
る所定数のワード線と、水平方向に平行して配置される
所定数組の相補ビット線とをそれぞれ含む。これらのワ
ード線及び相補ビット線の交点には、情報蓄積キャパシ
タ及びアドレス選択MOSFETからなる多数のダイナ
ミック型メモリセルがそれぞれ格子配置される。
【0021】バンクBNK0〜BNK3のメモリアレイ
MARYを構成するワード線は、対応するロウアドレス
デコーダRDに結合され、それぞれ択一的に選択状態と
される。これらのロウアドレスデコーダRDには、特に
制限されないが、ロウアドレスレジスタRAから12ビ
ットの内部アドレス信号X0〜X11が共通に供給さ
れ、タイミング発生回路TGから図示されない内部制御
信号RGが共通に供給される。また、ロウアドレスレジ
スタRAには、アドレスバッファABを介してXアドレ
ス信号AX0〜AX11となるアドレス信号A0〜A1
1が供給され、タイミング発生回路TGから内部制御信
号RLが供給される。さらに、アドレスバッファABに
は、アドレス入力端子A0〜A11を介して12ビット
のXアドレス信号AX0〜AX11ならびに8ビットの
Yアドレス信号AY0〜AY7が時分割的に供給され、
アドレス入力端子A12〜A13を介して2ビットのバ
ンクアドレス信号BA0〜BA1が供給される。
【0022】アドレスバッファABは、アドレス入力端
子A0〜A13を介して入力されるXアドレス信号AX
0〜AX11,Yアドレス信号AY0〜AY7ならびに
バンクアドレス信号BA0〜BA1を取り込み、ロウア
ドレスレジスタRA,カラムアドレスカウンタCCなら
びにバンクアドレスレジスタBAに伝達する。また、シ
ンクロナスDRAMがモードレジスタセットサイクルと
されるとき、アドレス入力端子A0〜A13には所定ビ
ットのモード制御信号が供給されるが、これらのモード
制御信号は、モードレジスタMRに伝達される。バンク
アドレスレジスタBAには、さらにタイミング発生回路
TGから内部制御信号BLが供給され、モードレジスタ
MRには図示されない内部制御信号MSが供給される。
【0023】モードレジスタMRは、モードレジスタセ
ットコマンドが実行されるとき、アドレス入力端子A0
〜A13からアドレスバッファABを介して入力される
モード制御信号を内部制御信号MSに従って取り込み、
保持する。また、これらのモード制御信号をデコードし
て、シンクロナスDRAMの動作モードを決定し、図示
されない各種モード制御信号を選択的に形成する。
【0024】バンクアドレスレジスタBAは、アドレス
バッファABからアドレス信号A12〜A13として伝
達されるバンクアドレス信号BA0〜BA1を内部制御
信号BLに従って取り込み、保持するとともに、内部バ
ンクアドレス信号B0〜B1としてバンク選択回路BS
に伝達する。また、バンク選択回路BSは、内部バンク
アドレス信号B0〜B1をデコードして、バンク選択信
号BS0〜BS3の対応するビットを選択的にハイレベ
ルとする。バンク選択信号BS0〜BS3は、対応する
バンクBNK0〜BNK3のロウアドレスデコーダR
D,カラムアドレスデコーダCDならびにセンスアンプ
SAにそれぞれ供給される。
【0025】ロウアドレスレジスタRAは、アドレスバ
ッファABからアドレス信号A0〜A11として伝達さ
れるXアドレス信号AX0〜AX11を内部制御信号R
Lに従って取り込み、保持するとともに、これらのXア
ドレス信号をもとに内部アドレス信号X0〜X11を形
成し、バンクBNK0〜BNK3のロウアドレスデコー
ダRDに供給する。各バンクのロウアドレスデコーダR
Dは、内部制御信号RGがハイレベルとされかつ対応す
るバンク選択信号BS0〜BS3がハイレベルとされる
ことでそれぞれ選択的に動作状態となり、ロウアドレス
レジスタRAから供給される内部アドレス信号X0〜X
11をデコードして、対応するメモリアレイMARYの
指定されたワード線を択一的に選択状態とする。
【0026】次に、バンクBNK0〜BNK3のメモリ
アレイMARYを構成する相補ビット線は、対応するセ
ンスアンプSAにそれぞれ結合される。各バンクのセン
スアンプSAには、対応するカラムアドレスデコーダC
Dから所定数のビット線選択信号が供給されるととも
に、タイミング発生回路TGから内部制御信号PC及び
PAが共通に供給される。また、各バンクのカラムアド
レスデコーダCDには、カラムアドレスカウンタCCか
ら8ビットの内部アドレス信号Y0〜Y7が共通に供給
され、タイミング発生回路TGから図示されない内部制
御信号YS及びCGが供給される。カラムアドレスカウ
ンタCCには、アドレスバッファABからアドレス信号
A0〜A7としてYアドレス信号AY0〜AY7が供給
され、タイミング発生回路TGから内部制御信号CLが
供給される。
【0027】カラムアドレスカウンタCCは、図示され
ない内部制御信号CCに従って歩進動作を行うバイナリ
ーカウンタを含む。このバイナリーカウンタは、アドレ
スバッファABから供給されるYアドレス信号AY0〜
AY7を内部制御信号CLに従って取り込み、保持す
る。また、これらのYアドレス信号AY0〜AY7を初
期値として歩進動作を行い、内部アドレス信号Y0〜Y
7を順次形成して、バンクBNK0〜BNK3のカラム
アドレスデコーダCDに供給する。
【0028】バンクBNK0〜BNK3のカラムアドレ
スデコーダCDは、内部制御信号CGがハイレベルとさ
れかつ対応するバンク選択信号BS0〜BS3がハイレ
ベルとされることでそれぞれ選択的に動作状態となり、
内部アドレス信号Y0〜Y7をデコードして、センスア
ンプSAに対するビット線選択信号の指定されたビット
を択一的にかつ内部制御信号YSに同期してハイレベル
とする。
【0029】バンクBNK0〜BNK3のセンスアンプ
SAは、対応するメモリアレイMARYの各相補ビット
線に対応して設けられる所定数の単位回路を含み、これ
らの単位回路のそれぞれは、Nチャンネル型の3個のプ
リチャージMOSFETが直並列結合されてなるビット
線プリチャージ回路と、一対のCMOS(相補型MO
S)インバータが交差結合されてなる単位増幅回路と、
Nチャンネル型の一対のスイッチMOSFETとを含
む。このうち、各単位回路のビット線プリチャージ回路
を構成するプリチャージMOSFETは、内部制御信号
PCのハイレベルを受けて選択的にオン状態となり、対
応するメモリアレイMARYの各相補ビット線の非反転
及び反転信号線を中間電圧にプリチャージする。
【0030】一方、センスアンプSAの各単位回路の単
位増幅回路は、内部制御信号PAがハイレベルとされか
つ対応するバンク選択信号BS0〜BS3がハイレベル
とされることで選択的にかつ一斉に動作状態となり、対
応するメモリアレイMARYの選択ワード線に結合され
る所定数のメモリセルから対応する相補ビット線を介し
て出力される微小読み出し信号を増幅して、ハイレベル
又はロウレベルの2値読み出し信号とする。また、各単
位回路のスイッチMOSFETは、ビット線選択信号の
対応するビットが択一的にハイレベルとされることで1
6組ずつ選択的にオン状態となり、メモリアレイMAR
Yの対応する16組の相補ビット線と相補共通データ線
CD0*〜CDF*(ここで、例えば非反転共通データ
線CD0T及び反転共通データ線CD0Bを、合わせて
相補共通データ線CD0*のように*を付して表す。ま
た、それが有効とされるとき選択的にハイレベルとされ
るいわゆる非反転信号等についてはその名称の末尾にT
を付して表し、それが有効とされるとき選択的にロウレ
ベルとされる反転信号等についてはその名称の末尾にB
を付して表す。以下同様)との間を選択的に接続状態と
する。
【0031】相補共通データ線CD0*〜CDF*は、
対応するライトアンプWAの各単位ライトアンプの出力
端子にそれぞれ結合されるとともに、対応するメインア
ンプMAの各単位メインアンプの入力端子にそれぞれ結
合される。
【0032】ライトアンプWA及びメインアンプMA
は、相補共通データ線CD0*〜CDF*に対応して設
けられる16個の単位ライトアンプ及び単位メインアン
プをそれぞれ含む。このうち、ライトアンプWAの各単
位ライトアンプの入力端子は、対応するライトデータバ
スWB0B〜WBFBに共通結合され、メインアンプM
Aの各単位メインアンプの出力端子は、対応するリード
データバスRB0B〜RBFBに共通結合される。ライ
トアンプWAの各単位ライトアンプには、タイミング発
生回路TGから内部制御信号WPが共通に供給され、メ
インアンプMAの各単位メインアンプには内部制御信号
RPが共通に供給される。
【0033】ライトデータバスWB0B〜WBFBは、
データ入力バッファIBの対応する単位データ入力バッ
ファの出力端子に結合され、リードデータバスRB0B
〜RBFBは、データ出力バッファOBの対応する単位
データ出力バッファの入力端子に結合される。データ入
力バッファDIBの各単位データ入力バッファの入力端
子及びデータ出力バッファDOBの各単位データ出力バ
ッファの出力端子は、対応するデータ入出力端子DQ0
〜DQ15にそれぞれ共通結合される。データ入力バッ
ファIBの各単位データ入力バッファには、タイミング
発生回路TGから内部制御信号ILが共通に供給され、
データ出力バッファDOBの各単位データ出力バッファ
には、内部制御信号DOCが共通に供給される。
【0034】データ入力バッファDIBの各単位データ
入力バッファは、シンクロナスDRAMが書き込みモー
ドで選択状態とされるとき、データ入出力端子DQ0〜
DQ15を介して入力される書き込みデータを取り込
み、保持するとともに、ライトデータバスWB0B〜W
BFBを介してライトアンプWAの各単位ライトアンプ
に伝達する。このとき、ライトアンプWAの各単位ライ
トアンプは、内部制御信号WPがハイレベルとされかつ
対応するバンク選択信号BS0〜BS3がハイレベルと
されることで選択的に動作状態となり、データ入力バッ
ファIBの対応する単位データ入力バッファから伝達さ
れる書き込みデータを所定の相補書き込み信号に変換し
た後、相補共通データ線CD0*〜CDF*を介して対
応するメモリアレイMARYの選択状態にある16個の
メモリセルに書き込む。
【0035】一方、各バンクのメインアンプMAの各単
位メインアンプは、内部制御信号RPがハイレベルとさ
れかつ対応するバンク選択信号BS0〜BS3がハイレ
ベルとされることで選択的に動作状態となり、対応する
メモリアレイMARYの選択された16個のメモリセル
から相補共通データ線CD0*〜CDF*を介して出力
される読み出し信号をそれぞれ増幅した後、リードデー
タバスRB0B〜RBFBを介してデータ出力バッファ
OBの各単位データ出力バッファに伝達する。このと
き、データ出力バッファOBの各単位データ出力バッフ
ァは、内部制御信号DOCのハイレベルを受けて選択的
に動作状態となり、メインアンプMAの対応する単位メ
インアンプからリードデータバスRB0B〜RBFBを
介して伝達される読み出し信号をデータ入出力端子DQ
0〜DQ15に出力する。
【0036】タイミング発生回路TGは、起動制御信号
として供給されるチップ選択信号CSB,ロウアドレス
ストローブ信号RASB,カラムアドレスストローブ信
号CASB,ライトイネーブル信号WEBならびに入出
力マスク信号DQMU及びDQMLと、クロック信号C
LK及びクロックイネーブル信号CKEとをもとに上記
各種の内部制御信号を選択的に形成し、各部に供給す
る。
【0037】この実施例において、シンクロナスDRA
Mには、端子VREFを介して所定の基準電圧VREF
が供給される。また、端子VDD,VDDi,VDDQ
ならびにVDDAを介して電源電圧VDD,VDDi,
VDDQならびにVDDAがそれぞれ供給され、端子V
SS,VSSi,VSSQならびにVSSAを介して接
地電位VSS,VSSi,VSSQならびにVSSAが
それぞれ供給される。このうち、基準電圧VREFは、
所定のレベル判定に供される。また、電源電圧VDD及
び接地電位VSSは、シンクロナスDRAMの直接周辺
部の動作電源として供され、電源電圧VDDi及び接地
電位VSSiは、その入力部の動作電源として供され
る。さらに、電源電圧VDDQ及び接地電位VSSQ
は、シンクロナスDRAMの出力部の動作電源として供
され、電源電圧VDDA及び接地電位VSSAは、その
メモリアレイ部の動作電源として供される。
【0038】なお、端子VDD及びVSSは、特に制限
されないが、実際にはそれぞれ3個の端子VDD1〜V
DD3ならびにVSS1〜VSS3からなり、端子VD
Di及びVSSiも、実際にはそれぞれ3個の端子VD
Di1〜VDDi3ならびにVSSi1〜VSSi3か
らなる。また、端子VDDQ及びVSSQは、実際には
それぞれ4個の端子VDDQ1〜VDDQ4ならびにV
SSQ1〜VSSQ4からなり、端子VDDA及びVS
SAは、実際にはそれぞれ5個の端子VDDA1〜VD
DA5ならびにVSSA1〜VSSA5からなる。
【0039】ところで、シンクロナスDRAMの各端子
に対応するボンディングパッドは、図3に示されるよう
に、チップCHIPの長辺方向の中心線に沿って直線状
に配置される。これらのボンディングパッドの両側に
は、図示されない4個のバンクBNK0〜BNK3とそ
の各ブロックが配置される。また、ボンディングパッド
のうち35個のボンディングパッドVDD3,VDDi
3,VSSi3,VSS3,VDDA5,VSSA5,
A4,A3,A5,A2,A6,A1,A7,A0,A
8,A10,A9,A12,VDDA4,VSSA4,
A11,A13,CSB,RASB,CKE,CAS
B,CLK,WEB,DQMU,DQML,VREF,
VDD2,VDDi2,VSSi2ならびにVSS2が
配置されるチップCHIPの上半分は、アドレス・クロ
ック領域とされる。
【0040】チップCHIPの下半分には、残り34個
のボンディングパッドVSSA3,VDDA3,DQ
8,DQ7,VDDQ4,VSSQ4,DQ9,DQ
6,DQ10,DQ5,VSSQ3,VDDQ3,DQ
11,DQ4,VSSA2,VDDA2,DQ12,D
Q3,VDDQ2,VSSQ2,DQ13,DQ2,D
Q14,DQ1,VSSQ1,VDDQ1,DQ15,
DQ0,VSSA1,VDDA1,VSS1,VSSi
1,VDDi1ならびにVDD1が配置され、データ入
出力端子たるボンディングパッドDQ0〜DQ15は、
4個ずつグループ化されて4個のI/OブロックIOB
1〜IOB4を構成する。
【0041】周知のように、半導体集積回路では、特に
その開発当初において種々の障害が発生する場合があ
り、この実施例のシンクロナスDRAMでも、データ入
出力端子DQ0〜DQ15からみて記憶データの書き込
み及び読み出し動作を正常に実行できるいわゆる使用可
能な部分と、正常に実行できない使用不能な部分とが含
まれる。したがって、データ入出力端子DQ0〜DQ1
5を単位としてシンクロナスDRAMの正常性を判定し
た場合、部分良品チップのデータ入出力端子からみた組
み合わせ数は、使用不能なデータ入出力端子を1個含む
場合の組み合わせ数から15個含む場合の組み合わせ数
の合計、つまり161 162 163 164 16
5 166 167 168 169 16101611
1612 161316141615となって膨大なもの
となり、そのそれぞれに対応してメモリモジュールの配
線パターンを用意することは非現実的となる。
【0042】これに対処するため、この実施例では、シ
ンクロナスDRAMの正常性を、それぞれ4個のデータ
入出力端子を含むI/OブロックIOB1〜IOB4を
単位として判定するとともに、実際にメモリモジュール
に組み込める部分良品チップの使用可能なI/Oブロッ
クの数を2に限定する方法をとっている。このため、部
分良品チップの使用可能なI/Oブロックからみた組み
合わせの数は、 42すなわち6となり、その具体的な
組み合わせは、IOB1とIOB2,IOB1とIOB
3,IOB1とIOB4,IOB2とIOB3,IOB
2とIOB4ならびにIOB3とIOB4の6通りとな
る。
【0043】言うまでもなく、I/Oブロックが使用可
能であるということは、これを構成する4個のデータ入
出力端子がすべて正常に機能できることを意味し、I/
Oブロックが使用不能であるということは、これを構成
する4個のデータ入出力端子のいずれかに正常に機能で
きないものが含まれることを意味する。また、メモリモ
ジュールは、前述のように、3個の良品チップと2個の
部分良品チップを搭載するが、このうち、良品チップと
は、4個のI/OブロックIOB1〜IOB4がすべて
使用可能な状態にあるチップを意味し、部分良品チップ
とは、その少なくとも2個が使用可能な状態にあるチッ
プを意味するものである。
【0044】図4には、図1のメモリモジュールの一実
施例のブロック図が示されている。同図をもとに、この
実施例のメモリモジュールの機能的なブロック構成とシ
ンクロナスDRAM(RAM1〜RAM5)の論理的な
接続形態について説明する。なお、図4では、その内部
が白い四角をもって各シンクロナスDRAM(RAM1
〜RAM5)の端子つまりボンディングパッドが示さ
れ、その内部が黒く塗りつぶされた四角をもってメモリ
モジュールのモジュール端子MTが示される。また、同
図には、メモリモジュールならびにシンクロナスDRA
M(RAM1〜RAM5)の機能的な端子及びボンディ
ングパッドのみが示され、各種の電源電圧や接地電位な
らびに基準電圧VREF等に関する端子は割愛される。
【0045】図4において、この実施例のメモリモジュ
ールは、前述のように、良品チップからなる3個のシン
クロナスDRAM(RAM1〜RAM3)と、部分良品
チップからなる2個のシンクロナスDRAM(RAM4
〜RAM5)とを備える。これらのシンクロナスDRA
Mのアドレス入力端子A0〜A13には、アドレス入力
用の共通のモジュール端子MTA0〜MTA13を介し
て、2ビットのバンクアドレス信号BA0〜BA1と、
12ビットのXアドレス信号AX0〜AX11ならびに
8ビットのYアドレス信号AY0〜AY7が時分割的に
供給される。また、各シンクロナスDRAMの制御信号
用入力端子CLK,CKE,CSB,RASB,CAS
B,WEBならびにDQMU及びDQMLには、モジュ
ール端子MTCLK,MTCKE,MTCSB,MTR
ASB,MTCASB,MTWEB,MTDQMUなら
びにDQMLを介して、クロック信号CLK,クロック
イネーブル信号CKE,チップ選択信号CSB,ロウア
ドレスストローブ信号RASB,カラムアドレスストロ
ーブ信号CASB,ライトイネーブル信号WEBならび
にデータマスク信号DQMU及びDQMLが共通に供給
される。
【0046】一方、良品チップたるシンクロナスDRA
M(RAM1)のデータ入出力端子DQ0〜DQ15
は、対応する16個のモジュール端子MTDQ0〜MT
DQ15にそれぞれ結合され、シンクロナスDRAM
(RAM2及びRAM3)のデータ入出力端子DQ0〜
DQ15は、対応する16個のモジュール端子MTDQ
16〜MTDQ31ならびにMTDQ32〜MTDQ4
7にそれぞれ結合される。また、部分良品チップたるシ
ンクロナスDRAM(RAM4)のデータ入出力端子D
Q0〜DQ15は、その使用可能な状態にある8個が選
択的にモジュール端子MTDQ48〜MTDQ55に結
合され、シンクロナスDRAM(RAM5)のデータ入
出力端子DQ0〜DQ15は、その使用可能な状態にあ
る8個が選択的にモジュール端子MTDQ56〜MTD
Q63に結合される。
【0047】上記記述から明らかなように、良品チップ
からなる3個のシンクロナスDRAM(RAM1〜RA
M5)は、22 ×212×28 つまりいわゆる4メガワー
ドのアドレス空間を有する×16ビット構成のメモリ、
すなわちいわゆる64メガビットの記憶容量を有するメ
モリとしてそれぞれ機能し、部分良品チップからなる2
個のシンクロナスDRAM(RAM4及びRAM5)
は、その半分つまり32メガビットの記憶容量を有する
メモリとしてそれぞれ機能する。したがって、メモリモ
ジュールは、4メガワード×64ビットなるアドレス構
成を有し、合計256メガビットの記憶容量を有するメ
モリとして機能する。
【0048】図5には、図1のメモリモジュールの良品
チップたるシンクロナスDRAM(RAM1)周辺に設
けられるボンディングリードの一実施例の部分的な配置
図が示され、図6には、その部分良品チップたるシンク
ロナスDRAM(RAM4)周辺に設けられるボンディ
ングリードの一実施例の部分的な配置図が示されてい
る。これらの図をもとに、この実施例のメモリモジュー
ルの良品チップ及び部分良品チップ周辺におけるボンデ
ィングリードの具体的レイアウトについて説明する。な
お、図5及び図6では、各シンクロナスDRAM(RA
M1又はRAM4)の搭載位置が、実際より横方向に圧
縮して点線で示される。また、良品チップたる他の2個
のシンクロナスDRAM(RAM2及びRAM3)周辺
におけるボンディングリードの配置は、図5のシンクロ
ナスDRAM(RAM1)と同一の配置形態とされ、部
分良品チップたるもう1個のシンクロナスDRAM(R
AM5)周辺におけるボンディングリードの配置は、図
6のシンクロナスDRAM(RAM4)と左右対称な配
置形態とされる。
【0049】図5において、モジュール基板PCB上の
良品チップたるシンクロナスDRAM(RAM1)の搭
載位置の左上部には、前記アドレス・クロック領域に含
まれるボンディングパッドVDDi3,VSS3,VS
SA5,A3,A2,A1,A0,A10,A12,V
SSA4,A13,RASB,CASB,WEB,DQ
ML,VDD2,VSSi2ならびにVSSA3に対応
する計18個のボンディングリードBLVDi3,BL
VS3,BLVSA5,BLA3,BLA2,BLA
1,BLA0,BLA10,BLA12,BLVSA
4,BLA13,BLRASB,BLCASB,BLW
EB,BLDQML,BLVD2,BLVSi2ならび
にBLVSA3が、ほぼ等間隔で配置される。
【0050】また、RAM1の搭載位置の右上部には、
やはりアドレス・クロック領域に含まれるボンディング
パッドVDD3,VSSi3,VDDA5,A4,A
5,A6,A8,A9,VDDA4,A11,CSB,
CKE,CLK,DQMU,VREF,VDDi2,V
SS2ならびにVDDA3に対応する計19個のボンデ
ィングリードBLVD3,BLVSi3,BLVDA
5,BLA4,BLA5,BLA6,BLA8,BLA
9,BLVDA4,BLA11,BLCSB,BLCK
E,BLCLK,BLDQMU,BLVREF,BLV
Di2,BLVS2ならびにBLVDA3が同様にほぼ
等間隔で配置される。
【0051】一方、RAM1の搭載位置の左下部には、
I/OブロックIOB1〜IOB4等に含まれるボンデ
ィングパッドDQ8,VDDQ4,DQ9,DQ10,
VSSQ3,DQ11,VSSA2,DQ12,VDD
Q2,DQ13,DQ14,VSSQ1,DQ15,V
SSA1,VSS1ならびにVDDi1に対応する合計
16個のボンディングリードBLDQ8,BLVDQ
4,BLDQ9,BLDQ10,BLVSQ3,BLD
Q11,BLVSA2,BLDQ12,BLVDQ2,
BLDQ13,BLDQ14,BLVSQ1,BLDQ
15,BLVSA1,BLVS1ならびにBLVDi1
がほぼ等間隔で配置される。
【0052】また、RAM1の搭載位置の右下部には、
やはりI/OブロックIOB1〜IOB4等に含まれる
ボンディングパッドDQ7,VSSQ4,DQ6,DQ
5,VDDQ3,DQ4,VDDA2,DQ3,VSS
Q2,DQ2,DQ1,VDDQ1,DQ0,VDDA
1,VSSi1ならびにVDD1に対応する計16個の
ボンディングリードBLDQ7,BLVSQ4,BLD
Q6,BLDQ5,BLVDQ3,BLDQ4,BLV
DA2,BLDQ3,BLVSQ2,BLDQ2,BL
DQ1,BLVDQ1,BLDQ0,BLVDA1,B
LVSi1ならびにBLVD1が同様にほぼ等間隔で配
置される。
【0053】次に、図6の場合、モジュール基板PCB
上の部分良品チップたるシンクロナスDRAM(RAM
4)の搭載位置の左上部には、良品チップの場合と同
様、アドレス・クロック領域に関する計18個のボンデ
ィングリードBLVDi3,BLVS3,BLVSA
5,BLA3,BLA2,BLA1,BLA0,BLA
10,BLA12,BLVSA4,BLA13,BLR
ASB,BLCASB,BLWEB,BLDQML,B
LVD2,BLVSi2ならびにBLVSA3がほぼ等
間隔で配置され、その右上部には、アドレス・クロック
領域に関する計19個のボンディングリードBLVD
3,BLVSi3,BLVDA5,BLA4,BLA
5,BLA6,BLA8,BLA9,BLVDA4,B
LA11,BLCSB,BLCKE,BLCLK,BL
DQMU,BLVREF,BLVDi2,BLVS2な
らびにBLVDA3がほぼ等間隔で配置される。
【0054】一方、RAM4の搭載位置の左下部には、
ボンディングリードブロックLB41〜LB44の関係
分を含む計25個のボンディングリードBLQ411,
BLQ412,BLVDP1,BLQ413,BLQ4
14,BLQ421,BLQ422,BLVDP2,B
LQ423,BLQ424,BLVSPB(10を超え
る追番には、アルファベットを用いる。以下同様),B
LVDP3,BLQ431,BLQ432,BLVDP
4,BLQ433,BLQ434,BLQ441,BL
Q442,BLVDP5,BLQ443,BLQ44
4,BLVDP6ないしBLVDP8がやや短い間隔で
ほぼ等間隔に配置され、その右下部には、ボンディング
リードブロックLB45〜LB47の関係分を含む計2
2個のボンディングリードBLVSP1,BLQ45
1,BLQ452,BLVSP2,BLQ453,BL
Q454,BLVSP3,BLQ461,BLQ46
2,BLVSP4,BLQ463,BLQ464,BL
VSP5,BLVSP6,BLQ471,BLQ47
2,BLVSP7,BLQ473,BLQ474,BL
VSP8ないしBLVSPAがやや短い間隔でほぼ等間
隔に配置される。
【0055】なお、部分良品チップからなるシンクロナ
スDRAM(RAM4)の搭載位置の左下部に配置され
る4個のボンディングリードブロックLB41〜LB4
4の計16個のボンディングリードBLQ411〜BL
Q414,BLQ421〜BLQ424,BLQ431
〜BLQ434ならびにBLQ441〜BLQ444
は、いわゆる第2のボンディングリードであって、シン
クロナスDRAM(RAM4)の使用不能な状態にある
データ入出力端子と対応するプルアップ抵抗との間のボ
ンディング接続に供される。また、シンクロナスDRA
M(RAM4)の搭載位置の右下部に配置される3個の
ボンディングリードブロックLB45〜LB47の計1
2個の第1のボンディングリードBLQ451〜BLQ
454,BLQ461〜BLQ464ならびにBLQ4
71〜BLQ474は、いわゆる第1のボンディングリ
ードであって、シンクロナスDRAM(RAM4)の使
用可能な状態にあるデータ入出力端子と対応するモジュ
ール端子との間のボンディング接続に供される。このこ
とについては、後で詳細に説明する。
【0056】上記説明から明らかなように、この実施例
では、部分良品チップたるシンクロナスDRAM(RA
M4及びRAM5)の使用可能なデータ入出力端子に対
応して、それぞれ3個のボンディングリードブロックL
B45〜LB47の12個のボンディングリードBLQ
451〜BLQ454,BLQ461〜BLQ464な
らびにBLQ471〜BLQ474が設けられ、k個つ
まり2個の部分良品チップに対応して設けられるデータ
入出力用ボンディングリードの総数24は、これらの部
分良品チップにk個つまり16個ずつ設けられるデータ
入出力端子の総数n×kつまり32に比較して少なくさ
れる。しかし、各ボンディングリードとシンクロナスD
RAM(RAM4及びRAM5)のチップ面上に設けら
れるボンディングパッドとの間のボンディング処理は、
所定のボンディングルールを満たしつつ行われる。この
ことについては、後で詳細に説明する。
【0057】図7には、図1のメモリモジュールのシン
クロナスDRAM(RAM1)周辺における具体的な接
続形態を説明するための一実施例の部分的な接続図が示
されている。同図をもとに、この実施例のメモリモジュ
ールの良品チップ周辺の具体的な接続形態について説明
する。なお、以下の接続図には、各シンクロナスDRA
Mのチップ面の下半分つまりデータ入出力端子に関する
部分のみが示され、そのアドレス・クロック領域に関す
る部分は割愛される。また、残り2個の良品チップつま
りシンクロナスDRAM(RAM2及びRAM3)につ
いては、図7のシンクロナスDRAM(RAM1)と同
様な接続形態とされる。さらに、各チップに設けられる
I/Oブロックの符号には、I/Oブロック自体の符号
IOB1〜IOB4に対してチップの追番が追加され、
IOB11〜IOB14,IOB41〜IOB44ある
いはIOB51〜IOB54のように示される。
【0058】図1において、シンクロナスDRAM(R
AM1)のI/OブロックIOB11を構成するデータ
入出力用のボンディングパッドDQ8及びDQ9は、対
応するボンディングワイヤBWを介して、チップ左側に
設けられるI/O用のボンディングリードBLDQ8及
びBLDQ9にそれぞれ結合され、ボンディングパッド
DQ7及びDQ6は、対応するボンディングワイヤBW
を介して、チップ右側に設けられるボンディングリード
BLDQ7及びBLDQ6にそれぞれ結合される。I/
OブロックIOB11に含まれる電源電圧用のボンディ
ングパッドVDDQ4は、チップ左側に設けられる電源
電圧用のボンディングリードBLVDQ4に結合され、
接地電位用のボンディングパッドVSSQ4は、チップ
右側に設けられる接地電位用のボンディングリードBL
VSQ4に結合される。
【0059】同様に、I/OブロックIOB12を構成
するデータ入出力用のボンディングパッドDQ10及び
DQ11は、チップ左側に設けられるI/O用のボンデ
ィングリードBLDQ10及びBLDQ11にそれぞれ
結合され、ボンディングパッドDQ5及びDQ4は、チ
ップ右側に設けられるボンディングリードBLDQ5及
びBLDQ4にそれぞれ結合される。また、I/Oブロ
ックIOB13を構成するボンディングパッドDQ12
及びDQ13は、チップ左側に設けられるボンディング
リードBLDQ12及びBLDQ13にそれぞれ結合さ
れ、ボンディングパッドDQ3及びDQ2は、チップ右
側に設けられるボンディングリードBLDQ3及びBL
DQ2にそれぞれ結合される。さらに、I/Oブロック
IOB14を構成するボンディングパッドDQ14及び
DQ15は、チップ左側に設けられるボンディングリー
ドBLDQ10及びBLDQ11にそれぞれ結合され、
ボンディングパッドDQ5及びDQ4は、チップ右側に
設けられるボンディングリードBLDQ5及びDQ4に
それぞれ結合される。
【0060】I/OブロックIOB12に含まれる電源
電圧用のボンディングパッドVDDQ3は、チップ右側
に設けられるボンディングリードBLVDQ3に結合さ
れ、接地電位用のボンディングパッドVSSQ3は、チ
ップ左側に設けられるボンディングリードBLVSQ3
に結合される。また、I/OブロックIOB13に含ま
れる電源電圧用のボンディングパッドVDDQ2は、チ
ップ左側に設けられるボンディングリードBLVDQ2
に結合され、接地電位用のボンディングパッドVSSQ
2は、チップ右側に設けられるボンディングリードBL
VSQ2に結合される。さらに、I/OブロックIOB
14に含まれる電源電圧用のボンディングパッドVDD
Q1は、チップ右側に設けられるボンディングリードB
LVDQ1に結合され、接地電位用のボンディングパッ
ドVSSQ1は、チップ左側に設けられるボンディング
リードBLVSQ1に結合される。
【0061】I/OブロックIOB14の下側に設けら
れる電源電圧用又は接地電位用のボンディングパッドV
SSA1,VSS1ならびにVDDi1は、チップ左側
に設けられるボンディングリードBLVSA1,BLV
S1ならびにBLVDi1にそれぞれ結合され、ボンデ
ィングパッドVDDA1,VSSi1ならびにVDD1
は、チップ右側に設けられるボンディングリードBLV
DA1,BLVSi1ならびにBLVD1にそれぞれ結
合される。
【0062】チップ右側に設けられるI/O用の8個の
ボンディングリードBLDQ0〜BLDQ7は、さら
に、モジュール基板PCBにプリント配線として設けら
れるデータ入出力線IO0〜IO7を介して、図示され
ないモジュール端子MTDQ0〜MTDQ7にそれぞれ
結合される。また、チップ左側に設けられる8個のボン
ディングリードBLDQ8〜BLDQ15は、さらに、
やはりプリント配線として設けられるデータ入出力線I
O8〜IO15を介して、図示されないモジュール端子
MTDQ8〜MTDQ15にそれぞれ結合される。
【0063】このように、シンクロナスDRAM(RA
M1)に代表される良品チップの場合、各ボンディング
パッドに対応して設けられる同数のボンディングリード
が、チップの左右に二分して、しかも比較的大きなピッ
チで配置される。このため、ボンディングパッド及びボ
ンディングリード間のボンディング処理は、所定のボン
ディングルールを満たしつつ、言い換えるならば対応す
るボンディングワイヤBWが長くなり過ぎず、また対応
するボンディングリードBLの延長方向とボンディング
ワイヤBWとの間の角度が大きくなり過ぎず、隣接する
ボンディングワイヤと交差しないように、比較的余裕を
もって行われる。
【0064】図8及び図9には、図1のメモリモジュー
ルのシンクロナスDRAM(RAM4及びRAM5)つ
まり部分良品チップ周辺の基本的な接続形態を説明する
ための第1及び第2の実施例の接続図がそれぞれ示さ
れ、図10,図11,図12,図13,図14ならびに
図15には、図1のメモリモジュールのシンクロナスD
RAM(RAM4)のI/OブロックIOB41及びI
OB42,IOB41及びIOB43,IOB41及び
IOB44,IOB42及びIOB43,IOB42及
びIOB44ならびにIOB43及びIOB44が使用
可能な状態にある場合の具体的な接続形態を説明するた
めの一実施例の接続図がそれぞれ示されている。これら
の図をもとに、この実施例のメモリモジュールにおける
部分良品チップ周辺の具体的な接続形態とその特徴につ
いて説明する。なお、図10ないし図15では、シンク
ロナスDRAM(RAM4)に関する説明をもって、シ
ンクロナスDRAM(RAM5)の具体的な接続形態の
説明とする。
【0065】まず、図8において、この実施例のメモリ
モジュールは、2個の部分良品チップつまりシンクロナ
スDRAM(RAM4及びRAM5)を備え、これらの
部分良品チップは、同じ2個のI/OブロックIOB4
1及びIOB42が使用可能な状態とされる。シンクロ
ナスDRAM(RAM4及びRAM5)は、互いに対を
なし、両チップの内側には、3個ずつ計6個の動作I/
O用ボンディングリードブロックLB45〜LB47な
らびにLB55〜LB57が設けられ、その外側には、
4個ずつ計8個の非動作I/O用ボンディングリードブ
ロックLB41〜LB44ならびにLB51〜LB54
が設けられる。
【0066】ここで、シンクロナスDRAM(RAM
4)に対応して設けられる動作I/O用ボンディングリ
ードブロックLB45〜LB47は、図6に示したよう
に、それぞれ4個のボンディングリードBLQ451〜
BLQ454,BLQ461〜BLQ464ならびにB
LQ471〜BLQ474を含み、非動作I/O用ボン
ディングリードブロックLB41〜LB44は、それぞ
れ4個のボンディングリードBLQ411〜BLQ41
4,BLQ421〜BLQ424,BLQ431〜BL
Q434ならびにBLQ441〜BLQ444を含む。
【0067】3個の動作I/O用ボンディングリードブ
ロックのうちの外側2個つまりボンディングリードブロ
ックLB45及びLB47を構成するI/O用ボンディ
ングリードBLQ451〜BLQ454ならびにBLQ
471〜BLQ474は、図10に示されるように、対
応する組み合わせつまりBLQ451及びBLQ47
1,BLQ452及びBLQ472,BLQ453及び
BLQ473ならびにBLQ454及びBLQ474な
る組み合わせでそれぞれ結線論理和(ワイヤドOR)結
合された後、プリント配線として設けられるデータ入出
力線IO48〜IO51を介して、図示されないモジュ
ール端子MTDQ48〜MTDQ51にそれぞれ結合さ
れる。また、残りのボンディングリードブロックLB4
6を構成するボンディングリードBLQ461〜BLQ
464は、やはりプリント配線として設けられるデータ
入出力線IO52〜IO55を介して、図示されないモ
ジュール端子MTDQ52〜MTDQ55にそれぞれ結
合される。
【0068】動作I/O用ボンディングリードブロック
LB45〜LB47内あるいはその中間又は両端に設け
られる10個の接地電位用ボンディングリードBLVS
P1〜VSPAは、接地電位VSSに論理的に共通結合
される。
【0069】一方、非動作I/O用ボンディングリード
ブロックLB41〜LB44を構成するI/O用ボンデ
ィングリードBLQ411〜BLQ414,BLQ42
1〜BLQ424,BLQ431〜BLQ434ならび
にBLQ441〜BLQ444は、対応するプルアップ
抵抗R11〜R1Gを介して電源電圧VDDに結合され
る。この電源電圧VDDには、非動作I/O用ボンディ
ングリードブロックLB41〜LB44内あるいはその
中間又は両側に設けられる8個の電源電圧用ボンディン
グリードBLVDP1〜BLVDP8が論理的に結合さ
れる。ボンディングリードブロックLB42及びLB4
3間に設けられる接地電位VSS用ボンディングリード
BLVSPBは、接地電位VSSに結合される。
【0070】図8の実施例のように、部分良品チップた
るシンクロナスDRAM(RAM4及びRAM5)で同
じ追番の2個のI/OブロックIOB41及びIOB4
2ならびにIOB51及びIOB52が使用可能な状態
とされるとき、例えばシンクロナスDRAM(RAM
4)の使用可能なI/OブロックIOB41及びIOB
42を構成するデータ入出力用ボンディングパッドDQ
8,DQ7,DQ9ならびにDQ6と、DQ10,DQ
5,DQ11ならびにDQ4は、図10に例示されるよ
うに、対応するボンディングワイヤBWを介して、両I
/Oブロックに近接して配置される2個の動作I/O用
ボンディングリードブロックLB45及びLB46の対
応するI/O用ボンディングリードBLQ451〜BL
Q454ならびにBLQ461〜BLQ464にそれぞ
れ結合される。
【0071】ボンディングリードブロックLB45及び
LB46を構成するこれらのI/O用ボンディングリー
ドは、前述のように、データ入出力線IO48〜IO5
5を介して対応するモジュール端子MT48〜MT55
に結合される。また、ボンディングリードブロックLB
45の対応するI/O用ボンディングリードと結線論理
和結合されたボンディングリードブロックLB47の各
I/O用ボンディングリードは、ボンディングが施され
ず開放状態とされる。
【0072】一方、シンクロナスDRAM(RAM4)
の使用不能な状態にあるI/OブロックIOB43及び
IOB44のそれぞれ4個のデータ入出力用ボンディン
グパッドDQ12,DQ3,DQ13ならびにDQ2と
DQ14,DQ1,DQ15ならびにDQ0は、対応す
るボンディングワイヤBWを介して、近接する例えば非
動作I/O用ボンディングリードブロックLB43及び
LB44の対応するI/O用ボンディングリードBLQ
431〜BLQ434ならびにBLQ441〜BLQ4
44にそれぞれ結合される。これらのI/O用ボンディ
ングリードは、前述のように、さらに対応するプルアッ
プ抵抗R19〜R1CならびにR1D〜R1Gを介して
電源電圧VDDに結合され、プルアップされる。
【0073】ところで、図6の実施例は、部分良品チッ
プたるシンクロナスDRAM(RAM4及びRAM5)
の対応する追番のI/OブロックIOB41及びIOB
42ならびにIOB51及びIOB52が使用可能な状
態とされ、いわゆるチップマウンタに使用可能なI/O
ブロックの組み合わせが同じである部分良品チップが収
納される場合に有効であるが、その一方で、使用可能な
I/Oブロックの組み合わせが限定されることによる制
約を受け、メモリモジュールの製品歩留りを思うように
高くすることができず、その製造工程も増える。
【0074】したがって、チップマウンタをいわゆるマ
ルチチップマウンタとしうる場合、図9に例示されるよ
うに、例えばIOB41及びIOB42とIOB52及
びIOB53との組み合わせ等、異なる追番のI/Oブ
ロックを組み合わせることができ、使用可能な2個のI
/Oブロックのすべての組み合わせに対応することが可
能となって、メモリモジュールの製造工程を簡略化しつ
つ、その製品歩留りをさらに高めることができるものと
なる。
【0075】すなわち、例えば部分良品チップたるシン
クロナスDRAM(RAM4)側でI/OブロックIO
B41及びIOB42が使用可能な状態とされる場合、
前記図10で示したように、使用可能なI/Oブロック
IOB41の各I/O用ボンディングパッドを、ボンデ
ィングリードブロックLB451の対応するI/O用ボ
ンディングリードにそれぞれボンディング接続し、I/
OブロックIOB42の各I/O用ボンディングパッド
を、ボンディングリードブロックLB452の対応する
I/O用ボンディングリードにそれぞれ接続すればよ
い。
【0076】一方、シンクロナスDRAM(RAM4)
側でI/OブロックIOB41及びIOB43が使用可
能な状態とされる場合、図11に示されるように、I/
OブロックIOB41のデータ入出力用ボンディングパ
ッドDQ8,DQ7,DQ9ならびにDQ6を、I/O
ブロックIOB41に近接して配置される動作I/O用
ボンディングリードブロックLB45の対応するI/O
用ボンディングリードBLQ451〜BLQ454にそ
れぞれボンディング接続し、I/OブロックIOB43
のデータ入出力用ボンディングパッドDQ12,DQ
3,DQ13ならびにDQ2を、I/OブロックIOB
43に近接して配置される動作I/O用ボンディングリ
ードブロックLB46の対応するI/O用ボンディング
リードBLQ461〜BLQ464にボンディング接続
すればよい。
【0077】また、シンクロナスDRAM(RAM4)
側でI/OブロックIOB41及びIOB44が使用可
能な状態とされる場合、図12に示されるように、I/
OブロックIOB41のデータ入出力用ボンディングパ
ッドDQ8,DQ7,DQ9ならびにDQ6を、I/O
ブロックIOB41に比較的近接して配置される動作I
/O用ボンディングリードブロックLB46の対応する
I/O用ボンディングリードBLQ461〜BLQ46
4にそれぞれボンディング接続し、I/OブロックIO
B44のデータ入出力用ボンディングパッドDQ14,
DQ1,DQ15ならびにDQ0を、I/OブロックI
OB44に近接して配置される動作I/O用ボンディン
グリードブロックLB47の対応するI/O用ボンディ
ングリードBLQ471〜BLQ474にボンディング
接続すればよい。
【0078】さらに、シンクロナスDRAM(RAM
4)側でI/OブロックIOB42及びIOB43が使
用可能な状態とされる場合、図13に示されるように、
I/OブロックIOB42のデータ入出力用ボンディン
グパッドDQ10,DQ5,DQ11ならびにDQ4
を、I/OブロックIOB42に近接して配置される動
作I/O用ボンディングリードブロックLB45の対応
するI/O用ボンディングリードBLQ451〜BLQ
454にそれぞれボンディング接続し、I/Oブロック
IOB43のデータ入出力用ボンディングパッドDQ1
2,DQ3,DQ13ならびにDQ2を、I/Oブロッ
クIOB43に近接して配置される動作I/O用ボンデ
ィングリードブロックLB46の対応するI/O用ボン
ディングリードBLQ461〜BLQ464にボンディ
ング接続すればよい。
【0079】同様に、シンクロナスDRAM(RAM
4)側でI/OブロックIOB42及びIOB44が使
用可能な状態とされる場合、図14に示されるように、
I/OブロックIOB42のデータ入出力用ボンディン
グパッドDQ10,DQ5,DQ11ならびにDQ4
を、I/OブロックIOB42に近接して配置される動
作I/O用ボンディングリードブロックLB46の対応
するI/O用ボンディングリードBLQ461〜BLQ
464にそれぞれボンディング接続し、I/Oブロック
IOB44のデータ入出力用ボンディングパッドDQ1
4,DQ1,DQ15ならびにDQ0を、I/Oブロッ
クIOB44に近接して配置される動作I/O用ボンデ
ィングリードブロックLB47の対応するI/O用ボン
ディングリードBLQ471〜BLQ474にボンディ
ング接続すればよい。
【0080】そして、シンクロナスDRAM(RAM
4)側でI/OブロックIOB43及びIOB44が使
用可能な状態とされる場合、図15に示されるように、
I/OブロックIOB43のデータ入出力用ボンディン
グパッドDQ12,DQ3,DQ13ならびにDQ2
を、I/OブロックIOB43に比較的近接して配置さ
れる動作I/O用ボンディングリードブロックLB46
の対応するI/O用ボンディングリードBLQ461〜
BLQ464にそれぞれボンディング接続し、I/Oブ
ロックIOB44のデータ入出力用ボンディングパッド
DQ14,DQ1,DQ15ならびにDQ0を、I/O
ブロックIOB44に近接して配置される動作I/O用
ボンディングリードブロックLB47の対応するI/O
用ボンディングリードBLQ471〜BLQ474にボ
ンディング接続すればよい。
【0081】上記各組み合わせにおいて、シンクロナス
DRAM(RAM4)の使用不能な状態にあるI/Oブ
ロックのデータ入出力用ボンディングパッドは、近接す
る非動作I/O用ボンディングリードブロックLB41
〜LB44の対応するI/O用ボンディングリードにそ
れぞれ接続され、プルアップされる。
【0082】以上のように、この実施例のメモリモジュ
ールは、良品チップからなる例えば3個のシンクロナス
DRAM(RAM1〜RAM3)と、部分良品チップか
らなる例えば2個のシンクロナスDRAM(RAM4〜
RAM5)を備える。また、部分良品チップのそれぞれ
は、例えば2個以上の使用可能なI/Oブロックを備え
るが、実際に使用されるI/Oブロックは、2個に限定
される。2個の部分良品チップは互いに対をなし、その
内側には、部分良品チップに設けられるデータ入出力端
子の総数より少ない、つまり使用可能なI/Oブロック
に対応するそれぞれ3個、合計6個の動作I/O用ボン
ディングリードブロックが配置され、両チップの外側に
は、使用不能なI/Oブロックに対応するそれぞれ4
個、合計8個の非動作I/O用ボンディングリードブロ
ックが配置される。
【0083】これらのことから、部分良品チップの使用
可能なI/Oブロックの組み合わせを6通りに削減でき
るとともに、1種類のモジュール基板で、しかも所定の
ボンディングルールを満たしつつ、上記6通りの組み合
わせのすべてに対応することができるとともに、ボンデ
ィングリードの所要数と、特にデータ端子及びモジュー
ル端子間のプリント配線の所要数とを削減することがで
きる。この結果、モジュール基板の所要パターン数を削
減し、その実装密度を高めサイズを縮小して、メモリモ
ジュールの低コスト化を図ることができるものである。
【0084】図16には、図1のメモリモジュールの部
分良品チップつまりシンクロナスDRAM(RAM4及
びRAM5)周辺の基本的な接続形態を説明するための
第3の実施例の接続図が示されている。なお、この実施
例は、図9の実施例を基本的に踏襲するものであるた
め、これと異なる部分について説明を追加する。
【0085】図16において、この実施例のメモリモジ
ュールは、4個のI/OブロックIOB41〜IOB4
4ならびにIOB51〜IOB54をそれぞれ備える2
個の部分良品チップ、つまりシンクロナスDRAM(R
AM4及びRAM5)をその基本素子として搭載する。
これらの部分良品チップは、互いに対をなし、その内側
には、それぞれ2個、合計4個の動作I/O用ボンディ
ングリードブロックLB45〜LB46ならびにLB5
5〜LB56が配置される。
【0086】この実施例において、シンクロナスDRA
M(RAM4及びRAM5)に設けられるI/Oブロッ
クIOB41〜IOB44ならびにIOB51〜IOB
54は、その少なくとも2個が使用可能な状態とされる
が、実際に使用されるI/Oブロックの数は、やはり2
個に限定される。これらの使用可能なI/Oブロック
は、その組み合わせに応じて、近接する動作I/O用ボ
ンディングリードブロックLB45,LB46あるいは
LB55,LB56に選択的に結合され、他の使用不能
なI/Oブロックは、両チップの外側に近接して配置さ
れる非動作I/O用ボンディングリードブロックLB4
1〜LB44あるいはLB51〜LB54に選択的に接
続され、プルアップされる。
【0087】つまり、この実施例では、前記図8の実施
例に比較してボンディングルールによる制約が少なく、
2個の動作I/O用ボンディングリードブロックを用意
することによって使用可能なI/Oブロックの6通りの
組み合わせに対応できるものとされる。この結果、ボン
ディングリードの所要数やデータ端子に関するプリント
配線の所要数をさらに削減することができ、これによっ
てモジュール基板PCBの実装密度をさらに高め、その
サイズを縮小して、メモリモジュールのさらなる低コス
ト化を図ることができるものである。
【0088】以上の実施例から得られる作用効果は、下
記の通りである。すなわち、 (1)シンクロナスDRAM等を基本素子とするメモリ
モジュールを、例えば3個の良品チップと2個の部分良
品チップとをもとに構成し、部分良品チップの使用可能
とされ又は実際に使用されるI/Oブロックの数を2個
に限定するとともに、2個の部分良品チップの内側に、
使用可能なI/Oブロックのデータ端子に対応する4個
の第1のボンディングリードをそれぞれ含む3個のボン
ディングリードブロックを配置し、このうち外側に配置
される2個のボンディングリードブロックの対応するボ
ンディングリードのそれぞれを結線論理和結合して、2
個の部分良品チップの外側に、使用不能のI/Oブロッ
クのデータ端子とプルアップ又はプルダウン抵抗との間
を接続するための第2のボンディングリードを配置する
ことで、1種類のモジュール基板で、しかも所定のボン
ディングルールを満たしつつ、部分良品チップの使用可
能な2個のI/Oブロックのすべての組み合わせに対応
することができるという効果が得られる。
【0089】(2)上記(1)項により、メモリモジュ
ールのモジュール基板におけるボンディングリードの所
要数と、特にデータ端子及びモジュール端子間のプリン
ト配線の所要数を削減することができるという効果が得
られる。 (3)上記(1)項及び(2)項により、モジュール基
板の所要パターン数を削減し、その実装密度を高めサイ
ズを縮小して、メモリモジュールの低コスト化を図るこ
とができるという効果が得られる。
【0090】(4)上記(1)項〜(3)項において、
ボンディングルールによる制約が比較的少ない場合、部
分良品チップの使用可能なI/Oブロックに対応して設
けられるボンディングリードブロックの数を2個に削減
することで、メモリモジュールのモジュール基板におけ
るボンディングリード及びプリント配線の所要数をさら
に削減することができるという効果が得られる。 (5)上記(4)項により、メモリモジュールのモジュ
ール基板の実装密度をさらに高め、そのサイズをさらに
縮小して、メモリモジュールのさらなる低コスト化を図
ることができるという効果が得られる。
【0091】以上、本発明者によってなされた発明を実
施例に基づき具体的に説明したが、この発明は、上記実
施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない
範囲で種々変更可能であることは言うまでもない。例え
ば、図1において、メモリモジュールは、それぞれ任意
数の良品チップ及び部分良品チップを搭載することがで
きるし、その搭載位置としてモジュール基板PCBの両
面を使用することも可能である。また、モジュール基板
PCB及びモジュール端子MTを含むメモリモジュール
の形状は、任意に設定することができるし、その全体を
例えば所定の材料からなるケースによって保護すること
も可能である。
【0092】図2において、シンクロナスDRAM(R
AM1〜RAM5)は、任意のビット構成をとることが
できるし、任意数のバンクを備えることができる。ま
た、バンクBNK0〜BNK3のメモリアレイMARY
は、その直接周辺回路を含めて任意数のメモリマットに
分割することができる。さらに、シンクロナスDRAM
のブロック構成は種々の実施形態をとりうるし、アドレ
ス信号のビット数及び組み合わせ,起動制御信号及び内
部制御信号等の名称及び組み合わせならびに電源電圧の
極性及び絶対値等も、種々の実施形態をとりうる。図3
において、シンクロナスDRAM(RAM1〜RAM
5)に設けられるボンディングパッドの配置位置ならび
にその順序等は、この発明による制約を受けないし、デ
ータ入出力端子をあえてI/Oブロックとしてグループ
化する必要もない。
【0093】図4において、メモリモジュールにおける
シンクロナスDRAM(RAM1〜RAM5)の接続形
態は、種々の実施形態をとりうる。すなわち、この実施
例では、シンクロナスDRAM(RAM1〜RAM5)
のデータ入出力端子DQ0〜DQ15を個別のデータ入
出力用モジュール端子に接続し、そのアドレス入力端子
A0〜A15やチップ選択信号CSB等の起動制御信号
入力端子をすべて共通結合することにより、4メガワー
ド×64ビットなるアドレス構成のメモリモジュールを
実現しているが、逆に各シンクロナスDRAMのデータ
入出力端子DQ0〜DQ15を共通結合し、シンクロナ
スDRAM(RAM1〜RAM5)のそれぞれを、例え
ば対応するチップ選択信号CSBに従って択一的に活性
状態とすることにより、16メガワード×16ビットな
るアドレス構成のメモリモジュールを実現することが可
能となる。部分良品チップたるシンクロナスDRAM
(RAM4及びRAM5)に割り当てられるモジュール
端子の番号等は、この実施例による制約を受けることな
く種々の組み合わせをとりうる。
【0094】図5及び図6において、メモリモジュール
の良品チップ及び部分良品チップ周辺に設けられるボン
ディングリードの組み合わせ及び配置は、種々の実施形
態をとりうるし、あえてボンディングリードブロックと
してグループ化する必要もない。図7ないし図16にお
いて、各チップ及びその周辺に設けられるボンディング
パッド及びボンディングリードの接続関係及び組み合わ
せは、これらの発明によって制約されることなく種々の
実施形態をとりうる。また、各実施例では、使用不能な
データ入出力端子がプルアップ抵抗を介して電源電圧V
DDに結合されるが、プルダウン抵抗を介して接地電位
VSSに結合してもよい。
【0095】以上の説明では、主として本発明者によっ
てなされた発明をその背景となった利用分野であるシン
クロナスDRAMを基本素子とするメモリモジュールに
適用した場合について説明したが、それに限定されるも
のではなく、例えば、通常のダイナミック型RAMやス
タティック型RAMを基本素子とする各種メモリモジュ
ールにも適用できる。この発明は、少なくとも部分良品
チップを含む複数のメモリチップを共通のモジュール基
板に搭載してなるメモリモジュールならびにこれを含む
装置又はシステムに広く適用できる。
【0096】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものにより得られる効果を簡単に説明すれば、下記
の通りである。すなわち、シンクロナスDRAM等を基
本素子とするメモリモジュールを、例えばm個つまり3
個の良品チップとn個つまり2個の部分良品チップとを
もとに構成し、部分良品チップの使用可能とされ又は実
際に使用されるI/Oブロックの数を例えば2個に限定
するとともに、2個の部分良品チップの内側に、使用可
能なI/Oブロックのデータ端子に対応する4個の第1
のボンディングリードをそれぞれ含む3個のボンディン
グリードブロックを配置し、このうち外側に配置される
2個のボンディングリードブロックの対応するボンディ
ングリードのそれぞれを結線論理和結合して、両部分良
品チップの外側に、使用不能のI/Oブロックのデータ
端子とプルアップ又はプルダウン抵抗との間を接続する
ための第2のボンディングリードを配置する。
【0097】これにより、1種類のモジュール基板で、
しかも所定のボンディングルールを満たしつつ、部分良
品チップの使用可能な2個のI/Oブロックのすべての
組み合わせに対応することができるとともに、ボンディ
ングリードの所要数と、特にデータ端子及びモジュール
端子間のプリント配線の所要数とを削減できる。この結
果、モジュール基板の所要パターン数を削減し、その実
装密度を高めサイズを縮小して、メモリモジュールの低
コスト化を図ることができる。
【0098】ボンディングルールによる制約が比較的少
ない場合、部分良品チップの使用可能なI/Oブロック
に対応して設けられるボンディングリードブロックを例
えば2個に削減することで、メモリモジュールのモジュ
ール基板におけるボンディングリード及びプリント配線
の所要数をさらに削減できるため、メモリモジュールの
モジュール基板の実装密度をさらに高め、そのサイズを
さらに縮小して、メモリモジュールのさらなる低コスト
化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明が適用されたメモリモジュールの一実
施例を示す外観構造図である。
【図2】図1のメモリモジュールに含まれるシンクロナ
スDRAMの一実施例を示すブロック図である。
【図3】図2のシンクロナスDRAMの一実施例を示す
パッド配置図である。
【図4】図1のメモリモジュールの一実施例を示すブロ
ック図である。
【図5】図1のメモリモジュールの良品チップ周辺に設
けられるボンディングリードの一実施例を示す部分的な
配置図である。
【図6】図1のメモリモジュールの部分良品チップ周辺
に設けられるボンディングリードの一実施例を示す部分
的な配置図である。
【図7】図1のメモリモジュールの良品チップ周辺の具
体的な接続形態を説明するための一実施例を示す部分的
な接続図である。
【図8】図1のメモリモジュールの部分良品チップ周辺
の基本的な接続形態を説明するための第1の実施例を示
す接続図である。
【図9】図1のメモリモジュールの部分良品チップ周辺
の基本的な接続形態を説明するための第2の実施例を示
す接続図である。
【図10】図1のメモリモジュールの部分良品チップの
IOブロックIOB41及びIOB42が使用可能な状
態にある場合の具体的な接続形態を説明するための一実
施例を示す部分的な接続図である。
【図11】図1のメモリモジュールの部分良品チップの
IOブロックIOB41及びIOB43が使用可能な状
態にある場合の具体的な接続形態を説明するための一実
施例を示す部分的な接続図である。
【図12】図1のメモリモジュールの部分良品チップの
IOブロックIOB41及びIOB44が使用可能な状
態にある場合の具体的な接続形態を説明するための一実
施例を示す部分的な接続図である。
【図13】図1のメモリモジュールの部分良品チップの
IOブロックIOB42及びIOB43が使用可能な状
態にある場合の具体的な接続形態を説明するための一実
施例を示す部分的な接続図である。
【図14】図1のメモリモジュールの部分良品チップの
IOブロックIOB42及びIOB44が使用可能な状
態にある場合の具体的な接続形態を説明するための一実
施例を示す部分的な接続図である。
【図15】図1のメモリモジュールの部分良品チップの
IOブロックIOB43及びIOB44が使用可能な状
態にある場合の具体的な接続形態を説明するための一実
施例を示す部分的な接続図である。
【図16】図1のメモリモジュールの部分良品チップ周
辺の基本的な接続形態を説明するための第3の実施例を
示す接続図である。
【符号の説明】
PCB……モジュール基板、RAM1〜RAM5……シ
ンクロナスDRAM又はそのチップ(RAM1〜RAM
3……良品チップ、RAM4〜RAM5……部分良品チ
ップ)、BL……ボンディングリード、BW……ボンデ
ィングワイヤ、MT……モジュール端子。BNK0〜B
NK3……バンク、MARY……メモリアレイ、RD…
…ロウアドレスデコーダ、SA……センスアンプ、CD
……カラムアドレスデコーダ、WA……ライトアンプ、
MA……メインアンプ、AB……アドレスバッファ、R
A……ロウアドレスレジスタ、BA……バンクアドレス
レジスタ、BS……バンク選択回路、CC……カラムア
ドレスカウンタ、MR……モードレジスタ、IB……デ
ータ入力バッファ、WB0B〜WBFB……反転ライト
データバス、RB0B〜RBFB……反転リードデータ
バス、OB……データ出力バッファ、TG……タイミン
グ発生回路。DQ0〜DQ15……入力又は出力データ
あるいはその入出力端子又はボンディングパッド(以
下、同様に各信号又は電圧等の名称あるいはその入力端
子又はボンディングパッドを表す)、CLK……クロッ
ク信号、CKE……クロックイネーブル信号、CSB…
…チップ選択信号、RASB……ロウアドレスストロー
ブ信号、CASB……カラムアドレスストローブ信号、
WEB……ライトイネーブル信号、DQMU,DQML
……データマスク信号、A0〜A13……アドレス信
号、VREF……基準電圧、VDD,VDDi,VDD
Q,VDDA……電源電圧、VSS,VSSi,VSS
Q,VSSA……接地電位。CHIP……チップ、IO
B1〜IOB4……I/Oブロック、VDD1〜VDD
3,VDDi1〜VDDi3,VDDQ1〜VDDQ
4,VDDA1〜VDDA5……電源電圧、VSS1〜
VSS3,VSSi1〜VSSi3,VSSQ1〜VS
SQ4,VSSA1〜VSSA5……接地電位。MTC
LK,MTCKE,MTCSB,MTRASB,MTC
ASB,MTWEB,MTDQMU,MTDQML,M
TDQ0〜MTDQ63,MTA0〜MTA13……モ
ジュール端子。BLCLK,BLCKE,BLCSB,
BLRASB,BLCASB,BLWEB,BLDQM
U,BLDQML,BLDQ0〜BLDQ15,BLA
0〜BLA13,BLVREF,BLVD1〜BLVD
3,BLVDi1〜BLVDi3,BLVDQ1〜BL
VDQ4,BLVDA1〜BLVDA5,BLVS1〜
BLVS3,BLVSi1〜BLVSi3,BLVSQ
1〜BLVSQ4,BLVSA1〜BLVSA5……ボ
ンディングリード。LB41〜LB47……I/O用ボ
ンディングリードブロック、BLQ411〜BLQ47
4,BLVDP1〜BLVDP7,BLVSP1〜BL
VSPB……ボンディングリード。BP……ボンディン
グパッド、IO0〜IO63……データ入出力線。IO
B11〜IOB14,IOB41〜IOB44,IOB
51〜IOB54……I/Oブロック、R1〜R2,R
11〜R1G……プルアップ抵抗、LB51〜LB57
……ボンディングリードブロック。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 27/10 491 H01L 25/04 Z (72)発明者 有田 順一 東京都小平市上水本町五丁目20番1号 株 式会社日立製作所半導体事業本部内 (72)発明者 津久井 誠一郎 埼玉県入間郡毛呂山町大字旭台15番地 日 立東部セミコンダクタ株式会社内 (72)発明者 中村 淳 埼玉県入間郡毛呂山町大字旭台15番地 日 立東部セミコンダクタ株式会社内 Fターム(参考) 5B024 AA07 AA15 CA16 CA17 CA21 5F083 AD00 GA09 LA21 ZA23 ZA30 5L106 AA01 CC16 CC31 EE02 FF00 GG00 GG06

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 データが入力又は出力されるk個のデー
    タ端子をそれぞれ備え、該データ端子のすべてが使用可
    能な状態にあるm個の良品チップ、及びその一部が使用
    可能な状態にあり他の一部が使用不能な状態にあるn個
    の部分良品チップをモジュール基板上に搭載してなるも
    のであって、かつ、 上記部分良品チップの使用可能なデータ端子と対応する
    モジュール端子との間を接続するために上記モジュール
    基板上に設けられる第1のボンディングリードの数が、
    上記n個の部分良品チップに設けられる上記データ端子
    の総数n×kより少なくされることを特徴とするメモリ
    モジュール。
  2. 【請求項2】 請求項1において、 上記モジュール基板上には、さらに、 上記部分良品チップの使用不能な状態にあるデータ端子
    を所定電位にプルアップ又はプルダウンするための抵抗
    手段と、 上記部分良品チップの使用不能な状態にあるデータ端子
    のそれぞれと対応する上記抵抗手段との間を接続するた
    めの第2のボンディングリードとが設けられるものであ
    ることを特徴とするメモリモジュール。
  3. 【請求項3】 請求項1又は請求項2において、 上記部分良品チップの数nは、偶数であり、該部分良品
    チップのそれぞれは、隣接する部分良品チップとそれぞ
    れ対をなすものであって、 上記第1のボンディングリードは、上記対をなす2個の
    部分良品チップの内側に配置され、上記第2のボンディ
    ングパッドは、その外側に配置されるものであることを
    特徴とするメモリモジュール。
  4. 【請求項4】 請求項1,請求項2又は請求項3におい
    て、 上記良品チップの数mは、3であり、上記部分良品チッ
    プの数nは、2であることを特徴とするメモリモジュー
    ル。
  5. 【請求項5】 請求項1,請求項2,請求項3又は請求
    項4において、 上記良品チップ及び部分良品チップのそれぞれは、4個
    の上記データ端子をそれぞれ含む4個のI/Oブロック
    を備えるものであり、 上記部分良品チップの使用可能又は実質的に使用される
    上記I/Oブロックの数は、2に限定されるものであっ
    て、 上記モジュール基板上には、上記部分良品チップのそれ
    ぞれに対応して、4個の上記第1のボンディングリード
    をそれぞれ含む3個のボンディングリードブロックが設
    けられるものであることを特徴とするメモリモジュー
    ル。
  6. 【請求項6】 請求項5において、 上記3個のボンディングリードブロックのうち、外側に
    配置される2個を構成する上記第1のボンディングリー
    ドの対応するそれぞれは、互いに結線論理和結合される
    ものであることを特徴とするメモリモジュール。
  7. 【請求項7】 請求項1,請求項2,請求項3又は請求
    項4において、 上記良品チップ及び部分良品チップのそれぞれは、4個
    のデータ端子をそれぞれ含む4個のI/Oブロックを備
    えるものであって、 上記モジュール基板上には、上記部分良品チップのそれ
    ぞれに対応して、4個の上記第1のボンディングリード
    をそれぞれ含む2個のボンディングリードブロックが設
    けられるものであることを特徴とするメモリモジュー
    ル。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006332360A (ja) * 2005-05-26 2006-12-07 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置およびその製造方法
JP2008193041A (ja) * 2007-02-06 2008-08-21 Hynix Semiconductor Inc 半導体パッケージ
JP2008198280A (ja) * 2007-02-13 2008-08-28 Elpida Memory Inc 半導体記憶装置及びその動作方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006332360A (ja) * 2005-05-26 2006-12-07 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置およびその製造方法
JP4597771B2 (ja) * 2005-05-26 2010-12-15 三菱電機株式会社 半導体装置およびその製造方法
JP2008193041A (ja) * 2007-02-06 2008-08-21 Hynix Semiconductor Inc 半導体パッケージ
JP2008198280A (ja) * 2007-02-13 2008-08-28 Elpida Memory Inc 半導体記憶装置及びその動作方法

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