JPH07106913B2 - ガラス融解方法及び融解タンク - Google Patents

ガラス融解方法及び融解タンク

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JPH07106913B2
JPH07106913B2 JP2154986A JP15498690A JPH07106913B2 JP H07106913 B2 JPH07106913 B2 JP H07106913B2 JP 2154986 A JP2154986 A JP 2154986A JP 15498690 A JP15498690 A JP 15498690A JP H07106913 B2 JPH07106913 B2 JP H07106913B2
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Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、ガラス融解技術に関し、特に、電気加熱を行
うガラス融解タンクに関する。
（従来技術とその問題点） ガラス融解タンクが融解チャンバを含み、そのチャンバ
内で固形バッチ材料が加熱されて融解ガラスとなり、そ
の融解ガラスが清澄化チャンバに入って、清澄化が起こ
るのに充分な温度にされて、ガラス中の不純物や泡に起
因する欠陥が減少させられることは周知である。一般
に、ガラスは清澄化チャンバから調整ゾーンを通過し、
このゾーンにおいて、ガラスが出口を通して該タンクか
ら出て成形プロセスへ移行する前に冷却制御により熱調
整が行われる。斯かるタンクは、融解ガラスの連続生産
に使用することが出来、特に、板ガラスの製造のために
高品位ガラスの製造に使用することが出来る。
斯かるタンクの融解チャンバで電気加熱のみを利用する
ときには、普通は、融解チャンバ内の融解ガラスを固形
バッチ材料の低温の頂部で覆うが、この固形バッチ材料
は、融解チャンバ内のガラスに沈められている電極から
の熱により徐々に融解される。電気融解を利用すると
き、融解していないバッチ材料が融解ガラスに運ばれて
清澄ゾーンに入る確率を小さくするために融解チャンバ
から清澄化チャンバへの融解ガラスの流動経路は、融解
チャンバのベースに隣接するスロート（のど）を通る。
火炎点火炉では、一般に、清澄化チャンバ内の融解ガラ
スの深さは、融解ガラスが対流で循環できる程度に充分
に深くて、清澄ゾーン内のガラスの上側層は該ゾーンの
下流側端部に向かって流れ、帰還流が該清澄化チャンバ
の下側領域に生ずる。融解チャンバの後にライザー・チ
ャンバを設けることが知られている。このライザー・チ
ャンバに加熱手段を設けることも知られている。しか
し、特に、高品位板ガラスの製造に必要なように、融解
チャンバから入ってくるガラスの温度より高い適当な清
澄化温度までライザー・チャンバが融解ガラスの温度を
昇温させる場合において、上方に流れるガラスによるラ
イザー・チャンバの耐火壁の好ましくはい腐食から重大
な問題が生じることがある。
また、例えば、米国特許第4900337号の第１図及び第２
図から、ライザー・チャンバに電極を使用して、融解チ
ャンバからのスロートに続く調整チャンバを形成するこ
とも知られている。しかし、この調整は、電極が、温度
を融解チャンバから出てゆくガラスの温度より高くする
ためにではなくて、融解ガラスの温度の損失速度を制御
するために使用される冷却制御である。スロートを通し
てライザーへ入った後に温度が高められない場合には、
温度が比較的に低いのでライザーにおける腐食の問題は
比較的に厳しくない。ガラスの温度が融解チャンバから
出た後に高められない斯かる構成は、容器用のガラス又
はファイバーガラスを作るのには適しているが、斯かる
構成により達成できる清澄化は、フロートガラス製造ラ
インに使用される様に高品位板ガラスの製造に必要な程
度の清澄化ではない。
（発明の概要） 本発明の目的は、改良されたガラス融解タンクと、融解
チャンバから出た後にガラス温度が高められる場合にラ
イザー・チャンバ内の腐食の問題を軽減する改良された
ガラス融解方法を提供することである。斯かる構成は、
高品位板ガラスの製造に使用することの出来るものであ
る。
本発明は、ガラス融解タンク内で融解ガラスを形成する
方法を提供するものであり、この方法は、融解チャンバ
内でバッチ材料を加熱して融解ガラスを作り、該融解ガ
ラスを清澄化ゾーンで清澄化し、該タンクから出口を通
して該ガラスを連続的に流す前に該ガラスを熱的に調整
するステップから成り、前記方法は更に、該融解チャン
バ及び該清澄化チャンバの間のライザー・チャンバを通
して該融解ガラスを流動させるステップを有し、ガラス
はライザー・チャンバのベースのスロートを通してライ
ザー・チャンバに入り、その上端部の出口を通してライ
ザー・チャンバから出てゆき、ガラスは、ライザー・チ
ャンバ内の、ライザー・チャンバの壁から離間した中央
ゾーンで加熱され、これによりライザー・チャンバ内で
ガラス中に不均一な温度分布が形成されると共に、融解
ガラスはライザー・チャンバの前記中央ゾーンで上方に
流れ、前記チャンバ壁付近で下方に流れ、ライザー・チ
ャンバ内でガラスに加えられる熱は、ライザー・チャン
バ内のガラスの温度を上昇させるとともに、前記スロー
トの反対側のライザー・チャンバのベースに隣接するガ
ラスの温度を、該スロートを通してライザー・チャンバ
に入るガラスの温度より高い温度に維持する。
好ましくは、ライザー・チャンバを通る流れはドーナツ
型であり、該ドーナツの中央に上昇流があり、該ドーナ
ツの外側の周囲に下降流がある。
好ましくは、この方法は、前記スロート内のガラスの温
度を感知し、且つ前記スロートの反対側のライザー・チ
ャンバのソースに隣接するガラスの温度を感知すること
を含む。
好ましくは、この方法は、前記ライザー・チャンバの上
流側壁及び下流側壁を冷却することを含む。
好ましくは、ライザー・チャンバのベースから上方に突
出する複数の電極により、ライザー・チャンバ内のガラ
スに熱が加えられる。
好ましくは、ライザー・チャンバ内の融解ガラスの深さ
は、ライザー・チャンバ内の電極の高さの少なくとも２
倍である。
本発明は、下流側端部における出口へ融解ガラスを連続
的に供給するガラス融解タンクも提供するものであり、
このタンクは、タンクの上流側端部の融解チャンバと、
清澄化チャンバと、該融解チャンバ及び清澄化チャンバ
の間のライザー・チャンバとから成り、前記融解チャン
バは、バッチ材料を融解して融解ガラスを作る加熱手段
と、該チャンバの下流側端部で該融解チャンバのベース
に隣接する融解ガラスの出口とを有し、スロートが、前
記融解チャンバから融解ガラスを受け取るように前記ラ
イザー・チャンバのベースの入口に前記出口を接続し、
前記ライザー・チャンバは、融解ガラスを清澄化する前
記清澄化チャンバに接続された出口を上端部に有し、前
記ライザー・チャンバは、融解ガラスの温度を上昇させ
る加熱手段と、該スロートからの入口に隣接する上流側
壁及び該清澄化チャンバへの出口に隣接する下流側壁を
含むチャンバ壁と、前記上流側壁及び下流側壁の両方を
冷却する手段と、ライザー・チャンバ内の融解ガラスに
沈んでライザー・チャンバのベースから上方に突出する
加熱電極とを有し、前記電極はライザー・チャンバのベ
ースの中央ゾーンに位置してライザー・チャンバの壁か
ら離間しており、これにより、ライザー・チャンバ内で
ガラス中に不均一な温度分布が生じて、融解ガラスは、
ライザー・チャンバの前記中央ゾーンで上方に流れ、前
記チャンバ壁に隣接して前記上方へのガラス流を囲む下
降ガラス流を生じ、ライザー・チャンバ内の該加熱手段
は、ライザー・チャンバ内のガラスの温度を上昇させる
とともに、前記スロートの反対側のライザー・チャンバ
のベースに隣接するガラスの温度を、該スロートを通し
てライザー・チャンバに入るガラスの温度より高い温度
に維持する。
好ましくは、前記ライザー・チャンバは融解チャンバ及
び清澄化チャンバからそれぞれ離間した上流側チャンバ
壁及び下流側チャンバ壁を有し、これによりライザー・
チャンバの前記上流側壁及び下流側壁のための冷却手段
として作用する空隙が生じる。
好ましくは、ライザー・チャンバのベースに隣接する融
解ガラスの温度を検出する第１温度検出装置がライザー
・チャンバの下流側端部に隣接して配置される。
好ましくは、該スロートを通過する融解ガラスの温度を
検出する第２温度検出装置が前記スロートに配置され
る。
好ましくは、ライザー・チャンバ内の電極は、ライザー
・チャンバ内のガラスの深さの半分を越えない高さを有
する。
本発明の前述の方法及び装置は、例えばフロートガラス
を含む高品位板ガラスの製造のために融解ガラスを供給
するのに特に適している。
次に、本発明のいくつかの実施例を、添付図面を参照し
て説明する。
（実施例） この例では、ガラス融解タンクは、融解チャンバ11と、
清澄化チャンバ12と、調整チャンバ13とから成る。ライ
ザー・チャンバ14は、融解チャンバ11と清澄化チャンバ
12との間に位置する。該タンクは、フロートガラス等の
高品位板ガラスを製造するのに適している。
使用の際には、ガラスを作るための固形バッチ材料がホ
ッパーシステム等のシステムを通して融解チャンバ11の
うえに供給され、固形バッチ材料の層15が融解チャンバ
内の融解ガラス16の上にある。電極17の配列（アレイ）
により、熱が融解ガラス16に供給され、該電極は、融解
チャンバのベース18に取りつけられて、融解ガラス16に
沈んで垂直に上方に突出している。電源19は、電極に接
続され、制御装置20により制御される。融解ガラスは、
融解チャンバの下流側壁22に隣接する、融解チャンバの
ベース18の、中央に位置する出口21を通して融解チャン
バ11から流出する。出口21は、中央を延在してライザー
・チャンバ14の下側部分に通じる液面下のスロート23に
続く。熱電対24は、スロート23のベースに装置され、ス
ロート23内の融解ガラスの温度を検出する。熱電対24
は、制御装置20に接続されている。
ライザー・チャンバ14は配列された電極25を備えてお
り、該電極は、ライザー・チャンバのベース26に装置さ
れ、ライザー・チャンバ内の融解ガラスに沈んで垂直に
上方に突出している。電極25は、下流に流れるガラスの
温度を高め、この下流に流れるガラスは、ライザー14か
ら出てゆくときには、スロート23を通して入ってくるガ
ラスの温度より高い適当な清澄化温度となっている。電
極25は、ライザー・チャンバ14の中央ゾーンに位置し、
四つの壁（ライザー・チャンバの上流側壁28、下流側壁
29及び相対する側壁30及び31）のすべてから離間してい
る。この様にして、ライザー・チャンバ内の、該チャン
バの全ての壁の領域にある融解ガラスには熱が供給され
ない様になっている。電極25は、電源19に接続されてお
り、電極17と同様に、ジュール効果によって融解ガラス
を熱する。熱電対32は、スロート23の反対側の下流側壁
29に近いライザー・チャンバのベース26に装置されてお
り、ライザー・チャンバの底の、下流側壁に近い領域の
融解ガラスの温度を検出する。熱電対24及び32によって
検出された温度に応じて電極25に供給される電力を制御
するために、熱電対32は制御装置20に接続されている。
制御装置20は、融解チャンバ16内の電極17に供給される
電力の制御とは無関係に、ライザー・チャンバ14内の電
極25に供給される電力を制御する。融解タンク内の各チ
ャンバの壁は、タンク内の融解ガラスに耐える様に、耐
火材から形成されている。しかし、ライザー・チャンバ
14内は、ライザー・チャンバを通して融解チャンバ16か
ら清澄化チャンバ12に移動するガラスによる腐食効果を
なるべく小さくする様に構成されている。ライザー・チ
ャンバの上流側壁28のための冷却手段として作用する空
隙35を設けるために、ライザー・チャンバの上流側壁28
は融解チャンバの壁22から離隔されている。同様に、ラ
イザー・チャンバの下流側壁29は空隙36によって清澄化
チャンバ12の上流側壁37から離隔されている。この空隙
36は、ライザー・チャンバの下流側壁29を冷却する冷却
手段として作用する。ライザー・チャンバの二つの側壁
30及び31は、融解チャンバ及び清澄化チャンバなどの加
熱されるチャンバに面しておらず、従ってライザー・チ
ャンバの側の充分な冷却が可能となる。ライザー・チャ
ンバの上流側壁及び下流側壁が空隙35及び36によって充
分に冷却される様にし、且つ、ライザー・チャンバの熱
入力がライザー・チャンバの側壁からの充分に離間した
中央領域に限定されることとなる様に電極25を配置する
ことによって、第２図に示されている様にライザー・チ
ャンバにガラスの対流が生じる。その結果として、ドー
ナツ型の流れが生じ、ライザー・チャンバの中央領域の
ガラスは、ライザー・チャンバの壁に隣接して環状を成
して下方に流れるガラスに囲まれて、上方に流れる。こ
の様にして、スロート23を通じてライザー・チャンバに
入るガラスは、中央の流れの中で、ライザー・チャンバ
の壁に隣接て下降した後に中央の上昇流経路で上昇する
再循環ガラスとともに上昇する。中央領域で上昇するガ
ラスは分割されて、一部は、清澄化チャンバに続くダム
39を越えて流れ、残りはライザー・チャンバ内でドーナ
ツパターンを成して再循環する。このシステムを使用す
れば、ダム39を前方に越えて清澄化チャンバに流入する
ガラスは、ライザー・チャンバの耐火壁と接触せずにラ
イザー・チャンバ内を上昇したガラスであるので、該側
壁での腐食から汚染されている可能性が非常に低い。該
側壁に相対して下方に流れるガラスは、空隙35及び36の
冷却効果によって冷却されるので、該側壁での腐食の可
能性が低くされていて、その結果として生じる汚染は、
ガラスがライザー・チャンバ中を上方に再循環されると
きには比較的に高温の中央の流れで上昇するので、少な
くされている。ライザー・チャンバの底に、特に下流側
壁29に隣接して低温のガラスを蓄積させないために、熱
電対24及び32を使用して電極25からの熱入力を制御する
ことが出来る。若しその様に低温のガラスが蓄積する
と、スロート23が徐々に絞られて、前方に流れるガラス
がライザー・チャンバに流入するときの流速が高くなっ
てゆき、ライザー・チャンバに入るときの壁28の足の位
置での腐食の可能性が高まる。ライザー・チャンバでの
腐食をなるべく少なくするためには、スロート23から流
入するガラスが壁28に直に接して上昇するのを防止する
ことが大切である。全体としてのガラス融解タンク中の
流れの方向のゆえに、ライザー・チャンバ内での腐食の
可能性は上流側壁28及び下流側壁29で最大であるが、こ
の危険は、比較的に低温の下降ガラス流がこれらの壁に
係合するようなドーナツ状流動パターンによって小さく
される。下流側壁29に隣接しスロート23の反対側に位置
するライザー14のベース付近の融解ガラスの温度が、常
に、スロート23内の熱電対24を通過するガラスの温度よ
り高くなる様に、熱電対32を介して制御を行うことが出
来る。ライザー14内に正しい温度分布を実現するため
に、ライザー・チャンバ14の下側部分に熱を入力するよ
うに電極25が配置される。電極25の高さは、ライザー・
チャンバ14内の融解ガラスの深さの20％と50％の間、好
ましくは30％と40％の間である。これにより、低温のガ
ラスがチャンバ14の底に蓄積するのを防止するのに充分
な熱がライザー・チャンバの下側部分に入力されること
になる。好適な構成では、電極25は、少なくとも電極25
の高さと同じ距離だけライザー・チャンバ14の壁から離
間する。電極25の対の間の横間隔は、スロート23の幅と
電極25の高さとの和に等しくてもよい。電極25の列の間
の前進方向における間隔は、電極25の高さの0.8倍ない
し1.4倍である。タンクを通過するガラスの負荷Ｌに対
するライザー・チャンバ14内のガラスの体積Ｖの比は、
好ましくは、1.25ないし2.5m3hr/tonneの範囲内にあ
る。ライザー・チャンバ14で必要とされる電力は、典型
的には40ないし60kw/m3の範囲内にある。モリブデン電
極25についての出力密度は、典型的には、沈められてい
るモリブデン電極の20ないし40kw/dm3の範囲内にある。
ダム39を越えて清澄化チャンバに流入した融解ガラスは
更に熱せられて、不純物による汚染を減少させ、泡を放
出する。ガラスはチャンバ12内で矢印の示すように再循
環し、前方に流れるガラスは清澄化チャンバの上部にあ
り、比較的に低温の帰還流は該チャンバの底にある。40
及び41に記したポートなどを通して作動するガスバーナ
ーによってライザー・チャンバ14及び清澄化チャンバ12
内の融解ガラスの上に追加の熱が加えられる。
該ガラス融解タンクには、清隙化チャンバ12と調整チャ
ンバ13との接続部に隣接する腰43が形成されている。
横向きの水冷パイプ44の形の障害物が該腰43を横断して
延在し、融解ガラスの、上側前方流経路中に沈められて
いる。該パイプは、熱調整ゾーン13に入るガラスの温度
を低下させるために水で冷却され、清澄化チャンバ12か
ら流出する高温のガラスの流速を低下させることによ
り、ガラスを清澄化チャンバ12に充分な時間保持して充
分な清澄化を行わせる。水パイプ44の効果により、清澄
化チャンバ12のベースの帰還流に合流する或る程度の下
降ガラス流をその点に生じさせる。かき混ぜ器45の配列
（これも水で冷却することが出来る）が水パイプ44の下
流側に、該水パイプ44に隣接して配置されている。パイ
プ44及びかき混ぜ器45は、調整ゾーン13に入るガラスの
温度及び均一性を改善することが出来る。ゾーン13は通
常は加熱されず、ガラスの温度は、ガラス成形プロセス
に通じる出口48に向かって調整ゾーン13中を流れている
ときに徐々に低下させられる。出口48は調整ゾーンの下
流側壁49の上側部分に位置しているので、調整ゾーン13
の上側部分で前方に流れているガラスだけが出口48を通
して出てゆく。調整ゾーンの、より低いレベルは、調整
ゾーンの下側部分で帰還流として再循環し、出口48を通
して出てゆく前に清澄化ゾーンを通して戻されて更に清
澄化される。
上記したように、この例においてライザー・チャンバ14
は、前方（下流）に流れるガラスの温度を上昇させるの
に使われるが、冷却のためには使われない。融解タンク
を通じて前方に流れるガラスの典型的温度パターンが第
５図に示されている。融解チャンバ11から出てゆくガラ
スの温度T1は、スロート23を通過するときに僅かに低下
し、ライザー・チャンバ14に入るときには、有効な清澄
化が行われるには充分でない温度T2となっている。ライ
ザー・チャンバ14における熱入力は冷却効果を上回るの
で、ダム39を越えてライザー・チャンバ14から出てゆく
ガラスの温度T3は、T2より高い適当な清澄化温度となっ
ている。清澄化チャンバ12を通過するときに、前方に流
れるガラスは温度T4まで冷えるが、常にT2よりは高く
て、清澄化を行うのに充分な温度である。腰43を通過す
るとき、温度はT5まで低下し、調整ゾーン13を通過する
ときに出口温度T6まで冷却される。
本発明は、以下の例の詳細に限定されない。
特に、該装置の清澄化ゾーン及び調整ゾーンは、融解ガ
ラス中に色々な流れを生じさせる様に設計することの出
来るものである。
上記の例の代替の第３図及び第４図に示されている。第
３図は、下流側調整ゾーン50が清澄化ゾーン12より遥か
に浅いことを示す。これにより、ガラス中に、腰43を越
える前進する流れだけが生じることになる。この様にす
れば、例えばより大量のガラス装入を可能にする調整の
ために使用可能な領域をより効率的に利用することが出
来る。比較的に深い清澄化ゾーン12は、腰に位置する水
冷障害物44及びかき混ぜ器45及び清澄化チャンバの端壁
による冷却効果によってガラス中に生ずる帰還流ととも
に作動し続ける。帰還流の量は、充分に深い清澄化ゾー
ン及び調整ゾーンを備える場合に比べると少なくて、こ
れにより、大きな熱効率が得られる。
第４図は、第３図の例とは異なって、清澄化ゾーン51、
腰43及び調整ゾーン50がすべて同様の浅い深さを持って
いることを示す。この様な条件下で、ライザーゾーン14
を越える前進する流れだけがガラス中に存在する。これ
により、帰還流を再熱する必要がないので、エネルギー
要求量が減少する。腰部43は、清澄化ゾーンから出てゆ
く表面流を妨げる浅い水パイプ44を保有している。清澄
化ゾーン51は、ガラスの上のバーナー41又はガラス下の
電気加熱により、又はこれら２方向の組合せにより、加
熱することの出来るものである。
希望に応じて、例えば複数の融解チャンバから複数のス
ロートを通してライザー・チャンバに融解ガラスを供給
することが出来ることが分かる。そのスロートはライザ
ー・チャンバのいろいろな壁を通ることが出来るが、該
ライザー・チャンバは長方形でなくても良く、４個以外
の数の壁を持つことが出来る。各々のスロートから供給
される複数のライザー・チャンバ14を設けることが出来
る。複数のライザーを使用し、共通の調整チャンバに接
続することが出来る。
【図面の簡単な説明】
第１図は、本発明のガラス融解タンクの平面図である。 第２図は、第１図のガラス融解タンクの垂直断面図であ
る。 第３図は、第２図に類似した図であり、本発明の別の実
施例を示す。 第４図は、第２図に類似した図であり、本発明の他の実
施例を示す。 第５図は、第１図及び第２図に示されているタンクの全
長に沿って前方に流れるガラスの温度変化を示すグラフ
である。 11……融解チャンバ、 12、51……清澄化チャンバ、 13、50……調整チャンバ、 14……ライザー・チャンバ、 16……融解ガラス、 17、25……電極、 20……制御装置、 23……スロート、 24、32……熱電対、 26……ベース、28……上流側壁、 29……下流側壁、 35、36……空隙、 44……水パイプ、 45……かき混ぜ器

Claims (23)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】ガラス融解タンク内で融解ガラスを形成す
    る方法であって、融解チャンバ内でバッチ材料を加熱し
    て融解ガラスを作り、該融解ガラスを清澄化ゾーンで清
    澄化し、該タンクから出口を通して該ガラスを連続的に
    流す前に該ガラスを熱的に調整するステップを備え、前
    記方法は更に、該融解チャンバ及び該清澄化チャンバの
    間のライザー・チャンバを通して該融解ガラスを流動さ
    せるステップを有し、ガラスはライザー・チャンバのベ
    ースのスロートを通してライザー・チャンバに入り、そ
    の上端部の出口を通してライザー・チャンバから出てゆ
    き、ガラスは、ライザーチャンバ内の、ライザー・チャ
    ンバの壁から離間した中央ゾーンで加熱され、その間前
    記ライザー・チャンバの上流側壁及び下流側壁が冷却さ
    れ、これによりライザー・チャンバ内でガラス中に不均
    一な温度分布が形成され、融解ガラスはライザー・チャ
    ンバの前記中央ゾーンで上方に流れると共に前記チャン
    バ壁付近で下方に流れ、ライザー・チャンバ内でガラス
    に加えられる熱は、ライザー・チャンバ内のガラスの温
    度を上昇させるとともに、前記スロートの反対側のライ
    ザー・チャンバのベースに隣接するガラスの温度を、該
    スロートを通してライザー・チャンバに入るガラスの温
    度より高い温度に維持することを特徴とする方法。
  2. 【請求項２】ライザー・チャンバを通る流れは略ドーナ
    ツ型であり、該ドーナツの中央に上昇流があり、該ドー
    ナツの外側の周囲に下降流があることを特徴とする請求
    項１に記載の方法。
  3. 【請求項３】前記スロート内のガラスの温度を感知し、
    且つ前記スロートの反対側のライザー・チャンバのベー
    スに隣接するガラスの温度を感知することを含むことを
    特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
  4. 【請求項４】前記ライザー・チャンバのベースに隣接し
    て位置する電極によってライザー・チャンバ内のガラス
    に熱が入力されることを特徴とする請求項１ないし３の
    いずれか一に記載の方法。
  5. 【請求項５】ライザー・チャンバの下流側壁のベースに
    隣接するライザー・チャンバ内の融解ガラスの温度を検
    出し、前記の検出された温度に応じて前記ライザー・チ
    ャンバ内の前記電極への電力を制御することを更に含む
    ことを特徴とする請求項４に記載の方法。
  6. 【請求項６】前記スロートを通してライザー・チャンバ
    に流入する融解ガラスの温度を検出することを更に含む
    ことを特徴とする請求項１ないし５のいずれか一に記載
    の方法。
  7. 【請求項７】前記ライザー・チャンバ内の電極への電力
    は、検出された温度からの信号に依存して制御されるこ
    とを特徴とする請求項５または６に記載の方法。
  8. 【請求項８】ライザー・チャンバ内の融解ガラスの深さ
    は、ライザー・チャンバ内の電極の高さの少なくとも２
    倍であることを特徴とする請求項４に記載の方法。
  9. 【請求項９】ガラスは、ライザー・チャンバに入るガラ
    スの温度より高い温度で、前記清澄化チャンバに入るこ
    とを特徴とする請求項１ないし８のいずれか一に記載の
    方法。
  10. 【請求項１０】清澄化及び熱調整の間で前進するガラス
    の流れを、この前進するガラスの流れに配置された冷却
    装置により、妨げることを更に含むことを特徴とする請
    求項１ないし９のいずれか一に記載の方法。
  11. 【請求項１１】清澄化及び熱調整の間で、前進するガラ
    スの流れをかき混ぜることを更に含むことを特徴とする
    請求項１ないし10のいずれか一に記載の方法。
  12. 【請求項１２】下流側端部にある出口へ融解ガラスを連
    続的に供給するガラス融解タンクであって、タンクの上
    流端部の融解チャンバと、清澄化チャンバと、該融解チ
    ャンバ及び清澄化チャンバの間のライザー・チャンバと
    を有し、前記融解チャンバは、バッチ材料を融解して融
    解ガラスを作る加熱手段と、該チャンバの下流側端部で
    該融解チャンバのベースに隣接する融解ガラスの出口と
    を有し、スロートが、前記融解チャンバから融解ガラス
    を受け取るように前記ライザー・チャンバのベースの入
    口に前記出口を接続し、前記ライザー・チャンバは、融
    解ガラスを清澄化する前記清澄化チャンバに接続された
    出口を上端部に有し、前記ライザー・チャンバは、融解
    ガラスの温度を上昇させる加熱手段と、該スロートから
    の入口に隣接する上流側壁及び該清澄化チャンバへの出
    口に隣接する下流側壁を含むチャンバ壁と、前記上流側
    壁及び下流側壁の両方を冷却する手段と、ライザー・チ
    ャンバ内の融解ガラスに沈んでライザー・チャンバのベ
    ースから上方に突出する加熱電極とを有し、前記電極は
    ライザー・チャンバのベースの中央ゾーンに位置してラ
    イザー・チャンバのチャンバ壁から離間しており、これ
    により、ライザー・チャンバ内でガラス中に不均一な温
    度分布が生じて、融解ガラスは、ライザー・チャンバの
    前記中央ゾーンで上方に流れ、前記チャンバ壁付近で前
    記上方へのガラス流を囲むとともに下方に流れ、ライザ
    ー・チャンバ内の該加熱手段は、ライザー・チャンバ内
    のガラスの温度を上昇させるとともに、前記スロートの
    反対側のライザー・チャンバのベースに隣接するガラス
    の温度を、該スロートを通してライザー・チャンバに入
    るガラスの温度より高い温度に維持することを特徴とす
    るガラス融解タンク。
  13. 【請求項１３】前記ライザー・チャンバは融解チャンバ
    及び清澄化チャンバからそれぞれ離間した上流側チャン
    バ壁及び下流側チャンバ壁を有し、これによりライザー
    ・チャンバの前記上流側壁及び下流側壁のための冷却手
    段として作用する空隙が生じることを特徴とする請求項
    12に記載のガラス融解タンク。
  14. 【請求項１４】第１温度検出装置がライザー・チャンバ
    の下流側端部に隣接して配置されてライザー・チャンバ
    のベースに隣接する融解ガラスの温度を検出することを
    特徴とする請求項12又は13に記載のガラス融解タンク。
  15. 【請求項１５】更に、前記スロートを通過する融解ガラ
    スの温度を検出する第２温度検出装置が前記スロートに
    配置されていることを特徴とする請求項14に記載のガラ
    ス融解タンク。
  16. 【請求項１６】前記第１及び第２の温度検出装置に接続
    され、ライザー・チャンバ内に所要のガラス流を維持す
    るためにライザー・チャンバ内の前記電極への給電を制
    御する制御手段を更に有することを特徴とする請求項12
    ないし15のいずれか一に記載のガラス融解タンク。
  17. 【請求項１７】前記ライザー・チャンバ内の加熱手段
    は、ライザー・チャンバのベースから融解ガラスの深さ
    の半分を越えない高さまで上方に突出する複数の電極を
    備えることを特徴とする請求項12ないし16のいずれか一
    に記載のガラス融解タンク。
  18. 【請求項１８】電極は、ライザー・チャンバの壁から、
    少なくとも該電極の高さに等しい距離だけ離間している
    ことを特徴とする請求項17に記載のガラス融解タンク。
  19. 【請求項１９】前記ライザー・チャンバ内の電極は、ラ
    イザー・チャンバにおいて横方向に離間した少なくとも
    ２個の電極と、該チャンバに沿って長手方向に離間した
    少なくとも２個の電極とを有する電極の配列を備えるこ
    とを特徴とする請求項12ないし18のいずれか一に記載の
    ガラス融解タンク。
  20. 【請求項２０】前記清澄化チャンバに接続されて、ガラ
    スが該タンクの下流側端部の出口から流出する前にガラ
    スを熱的に調整する調整チャンバを更に有することを特
    徴とする請求項12ないし19のいずれか一に記載のガラス
    融解タンク。
  21. 【請求項２１】調整チャンバへの入口に隣接して配置さ
    れ、前方に流れる融解ガラスの上側領域を横断して延在
    する冷却手段が設けられていることを特徴とする請求項
    20に記載のガラス融解タンク。
  22. 【請求項２２】前記冷却手段は水冷パイプを備えること
    を特徴とする請求項21に記載のガラス融解タンク。
  23. 【請求項２３】調整チャンバに隣接して前方に流れるガ
    ラスの経路に配置されたかき混ぜ手段を更に有すること
    を特徴とする請求項21又は22に記載のガラス融解タン
    ク。
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