JPH0699669A - 画像形成材料およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明の目的は、解像度が良好で、画像の抜
けの生じない、ひいては画像の質感や濃度、解像性及び
色再現性が良好な画像形成材料およびその方法を提供す
ることにある。 【構成】 請求項１に記載の発明は、基材上に少なくと
もエチレン性不飽和結合を有する重合可能な化合物、光
重合開始剤および着色剤を含有する光重合性着色層を積
層した画像形成材料において、少なくとも基材と光重合
性着色層との間に多孔質構造の層を設けたことを特徴と
する画像形成材料である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、画像形成材料およびそ
の製造方法に関し、更に詳しくは、解像度が良好で、画
像の抜けの生じない、ひいては画像の質感や濃度、解像
性及び色再現性が良好な画像形成材料およびその製造方
法に関する。

【０００２】

【従来の技術および発明が解決しようとする課題】エチ
レン性不飽和結合を有する重合性化合物、光重合開始
剤、着色剤及び必要に応じて有機高分子バインダーから
なる光重合性組成物は、画像形成材料としてカラープル
ーフ等の着色画像の作成に使用されている。

【０００３】しかしながらこれらの光重合性組成物は紫
外光又は５００ｎｍ以下の可視光にのみしか感光域を有
しておらず、近年発展が著しいレーザー光、特に半導体
レーザー光での書き込みで光重合することは困難であっ
た。この問題点を克服するために長波長の可視光及び近
赤外光に対する書き込みが可能な光重合性組成物が幾つ
か提案されている。

【０００４】近赤外光領域以上の長波長に感度を有する
感光性組成物としては、例えば、特開昭６２−１４３０
４４号等においてカチオン性染料のボレート錯体を用い
た新規な光重合開始剤を含む系が開示され、更に該開始
剤系を用いた画像形成方法について提案されている。

【０００５】しかし前記公報中には、半導体レーザーに
対応できる７８０ｎｍ以上の波長に感光性を有する光重
合開始剤についての記述はなく、又、画像形成方法もマ
イクロカプセルなどの複雑な構成を要するという欠点が
あった。また特開平２−４８０４号等には、光重合開始
剤としてカチオン性染料とボレート化合物とを組み合わ
せて半導体レーザーに対応できる６００〜９００ｎｍの
波長に感光性を有する感光性材料が開示されている。

【０００６】一方、ドライ処理で画像を形成する方法と
しては、剥離現像を応用した方式や転写現像を用いた方
式などが提案されている。剥離現像を応用した方式とし
ては、例えば、特公昭４３−２２９０１号公報等におい
て開示されているように、透明支持体、光重合性組成物
層、および第２支持体からなる材料に画像を露光後、透
明支持体と第２支持体を引き剥がすことにより、一方の
支持体に陽画を、他方の支持体上に陰画を形成する画像
形成方法が知られている。また、転写現像を用いた画像
形成方法としては、支持体上に少なくとも光重合性組成
物層を設けた画像形成材料に色分解ネガまたはマスクを
介して画像を露光し、露光後の光重合性組成物層表面
を、受像体に必要に応じて熱を加えながら加圧密着させ
て未露光部を受像体上に転写して画像を形成する方法
が、例えば、米国特許３，０６０，０２３号、同３，０
６０，０２４号、同３，０６０，０２５号の各明細書、
特開昭６３−１４７１５４号公報等に開示されている。
こうしたドライ処理による画像形成方法は、環境汚染、
安全性、装置の小型化の面から好ましい方法である。

【０００７】このような長波長の可視光及び近赤外光に
対する書き込みが可能な感光性材料を用いて、剥離現像
方式あるいは転写現像方式などのドライ処理による画像
形成方法が、例えば、特願平４−７９９２８号公報等に
おいて提案されている。

【０００８】しかしながら、特に転写現像方式の場合に
は、画像を転写する被転写体が紙のように表面平滑性が
十分確保されない場合には解像度が劣ったり、画像の抜
けを生じる場合があり、ひいては画像の質感や濃度、解
像性及び色再現性を重視するカラープルーフ等の用途に
対しては満足する性能を得ることが困難であった。

【０００９】これらの欠点を克服する為に、画像形成方
法自体を工夫したり、特殊な被転写体を用いたり、エチ
レン性不飽和結合を有する重合性化合物、赤乃至赤外光
に感光する光重合開始剤、着色剤及び必要に応じて有機
高分子バインダーからなる光重合性組成物を工夫した
り、あるいは画像形成材料の基材としてクッション性の
あるものを用いたり、光重合性組成物と基材との間にク
ッション性および／または熱軟化性の樹脂からなる中間
層を設けること等が提案されているが、解像度や画像の
抜けに対して今だ十分とは言えない。

【００１０】本発明は前記の事情に基づいてなされたも
のである。即ち、本発明の目的は、解像度が良好で、画
像の抜けの生じない、ひいては画像の質感や濃度、解像
性及び色再現性が良好な画像形成材料および本発明の画
像形成材料に好適な製造方法を提供することにある。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
を解決するために鋭意検討した結果、基材上に少なくと
もエチレン性不飽和結合を有する重合可能な化合物、光
重合開始剤および着色剤を含有する光重合性着色層を積
層した画像形成材料において、少なくとも基材と光重合
性着色層との間に多孔質構造の層を設けると前記課題を
解決できることを見い出した。更に特定の多孔質構造の
層、更にそれに適した層構成も併せて見い出し、この発
明に到達した。

【００１２】即ち、前記課題を解決するための請求項１
に記載の発明は、エチレン性不飽和結合を有する重合可
能な化合物、光重合開始剤および着色剤を含有する光重
合性着色層を基材上に積層した画像形成材料において、
基材と光重合性着色層との間に多孔質構造の層を設けた
ことを特徴とする画像形成材料であり、請求項２に記載
の発明は、多孔質構造の層が、樹脂を溶媒に溶解し、基
材の表面に塗布した後に溶媒のみを溶解する液中に通し
て乾燥し形成した層である前記請求項１に記載の画像形
成材料であり、請求項３に記載の発明は、光重合性着色
層と多孔質構造の層との間に更に剥離層を設けてなる前
記請求項２に記載の画像形成材料であり、請求項４で記
載の発明は、剥離層と多孔質構造の層との間に更にバリ
ア層を設けてなる前記請求項３に記載の画像形成材料で
あり、請求項５に記載の発明は、光重合性着色層の上に
更に透明な酸素遮断層を設けてなる前記請求項１〜４の
いずれかに記載の画像形成材料であり、請求項６に記載
の発明は、酸素遮断層が樹脂フィルムからなる前記請求
項５に記載の画像形成材料であり、請求項７に記載の発
明は、エチレン性不飽和結合を有する重合可能な化合
物、光重合開始剤を含有する光重合性層及び着色剤を含
有する着色剤層を基材上に積層した画像形成材料におい
て、基材上に多孔質構造の層を設け、その上に光重合性
層及び着色剤層を設けたことを特徴とする画像形成材料
であり、請求項８に記載の発明は、多孔質構造の層が、
樹脂を溶媒に溶解し、基材の表面に塗布した後に溶媒の
みを溶解する液中に通して乾燥し形成した層である前記
請求項７に記載の画像形成材料であり、請求項９に記載
の発明は、多孔質構造の層、着色材層及び光重合性層を
基材上にこの順に積層してなる前記請求項８に記載の画
像形成材料であり、請求項１０に記載の発明は、多孔質
構造の層と着色材層との間に更に剥離層を設けてなる前
記請求項９に記載の画像形成材料であり、請求項１１に
記載の発明は、剥離層と多孔質構造の層との間に更にバ
リア層を設けてなる前記請求項８〜１０のいずれかに記
載の画像形成材料であり、請求項１２に記載の発明は、
着色剤層の上に更に透明な酸素遮断層を設けてなる前記
請求項８〜１１のいずれかに記載の画像形成材料であ
り、請求項１３に記載の発明は、酸素遮断層が樹脂フィ
ルムからなる前記請求項１２に記載の画像形成材料であ
り、請求項１４に記載の発明は、樹脂を溶媒に溶解した
溶液を基材の表面に塗布した後に、溶媒のみを溶解する
液中に浸漬し、乾燥して多孔質構造の層を形成すること
を特徴とする画像形成材料の製造方法であり、請求項１
５に記載の発明は、前記多孔質構造の層を形成した後
に、塗工法もしくは樹脂層転写法によりバリヤ層を形成
した後に、および／またはカレンダーロールにより表面
を平滑化処理した後に直接もしくは剥離層を介して光重
合性着色層または光重合性層及び着色剤層を積層形成す
る前記請求項１４に記載の画像形成材料の製造方法であ
り、請求項１６に記載の発明は、前記光重合着色層また
は着色剤層の表面に酸素遮断層を形成する前記請求項１
５に記載の画像形成材料の製造方法である。

【００１３】以下、本発明の画像形成材料およびその製
造方法、更に本発明で用いられる画像形成方法につい
て、詳細に説明する。

【００１４】（１）画像形成材料 本発明の画像形成材料は、基本的には、基材と光重合性
着色層とを、または基材と光重合性層及び少なくとも着
色剤を含有する着色剤層とを積層した画像形成材料にお
いて、基材上に少なくとも多孔質構造の層を設けること
により構成される。

【００１５】本発明の画像形成材料は、大きく以下の２
つの態様に分けることができる。

【００１６】第１の好適な態様としては、図１に示すよ
うな、基材１上に多孔質構造の層２と光重合性着色層３
とをこの順に有してなる画像形成材料である。第１の態
様においては、図２に示すように光重合性着色層３の表
面に更に酸素遮断層４を設けてもよい。また、図３に示
すように光重合性着色層３と多孔質構造の層２との間に
剥離層５を設けてもよい。更に、図４に示すように剥離
層５と多孔質構造の層２との間にバリア層６を設けても
よい。

【００１７】第２の好適な態様としては、図５に示すよ
うな、基材１上に多孔質構造の層２と着色剤層７と光重
合性層８とをこの順に有してなる画像形成材料である。
第２の態様においては、図６に示すように光重合性層８
の表面に更に酸素遮断層４を設けてもよい。また、図７
に示すように着色剤層７と多孔質構造の層２との間に剥
離層５を設けてもよい。更に、図８に示すように剥離層
５と多孔質構造の層２との間にバリア層６を設けてもよ
い。

【００１８】更にこの第２の態様においては着色剤層
７、光重合性層８の積層順を逆にすることもできる。そ
して、本発明においては、図５〜８に示されるように、
少なくとも着色剤層上に光重合性層を積層したものが、
着色剤層による光のロスも少ないために、光により重合
可能な化合物を効率的に重合させるのに好ましく、また
後述する画像形成の面からも好ましい。

【００１９】前記基材としては、紙、合成紙（例えば、
ポリプロピレンを主成分とする合成紙など）、樹脂のフ
ィルムあるいはシ−ト、更には前記樹脂を二層以上積層
してなるプラスチックフィルム又はシート、あるいは各
種高分子材料、金属、セラミックもしくは木材パルプや
セルロースパルプ、サルファイトパルプなどで抄造され
た紙等に、前記樹脂層を積層したフィルム又はシートな
どを挙げることができる。

【００２０】このようなを樹脂のフィルムあるいはシ−
トを構成する樹脂としては、例えば、アクリル酸エステ
ル、メタクリル酸エステル等のアクリル樹脂、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポ
リエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリアリ
レート等のポリエステル系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ
塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニリデン、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリスチレン等のポリオレフィン
系樹脂、ナイロン、芳香族ポリアミド等のポリアミド系
樹脂、ポリエーテルエーテルケトン、ポリスルホン、ポ
リエーテルスルホン、ポリイミド、ポリエーテルイミ
ド、ポリパラバン酸、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、
ウレタン樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、フェノ
ール樹脂、フッ素樹脂、シリコーン樹脂などが挙げられ
る。

【００２１】本発明において、樹脂からなる基材は、シ
ートあるいはフィルム状に延伸し、ヒートセットしたも
のが寸法安定性の面から好ましく、基材は、内部にミク
ロボイドがないものでも、あるいはミクロボイドのある
ものでも、用途に応じて適宜に選択することができる。

【００２２】本発明において用いられる紙は、天然パル
プ、合成パルプ、またはそれらの混合物から抄紙される
パルプ紙が好ましい。また、このような紙は、長網抄紙
機等を用いて抄造され、平滑度向上の目的で、抄紙後に
マシンカレンダー、スーパーカレンダー、熱カレンダー
等を用いてカレンダー処理することが好ましい。また、
平滑性向上のために、顔料を含有した樹脂層でコートし
た基紙も本発明においては好適に用いることができる。
本発明における紙としては、上質紙、アート紙、コート
紙、片艶紙、含浸紙、板紙等が挙げられる。

【００２３】なお、本発明で使用される紙において、白
色微粒子を含有するポリエチレン、ポリプロピレン等の
ポリオレフィン系樹脂のラミネ−ト層を有する場合に
は、平滑性を持たせるために、ラミネート層のベック平
滑度を５０秒以上にするのが好ましく、１００秒以上更
には２００秒以上にするのが特に好ましい。また、紙の
厚みとしては特に制限はないが、３０〜８００μｍが好
ましく、５０〜５００μｍがより好ましい。

【００２４】上記基材中には、必要に応じてサイズ剤、
定着剤、紙力増強剤、填料、帯電防止剤、染料、顔料、
蛍光増白剤、酸化防止剤、減摩剤等の添加剤が含まれて
いても良い。

【００２５】前記基材の厚みとしては、通常２０〜１，
０００μｍであり、好ましくは５０〜５００μｍであ
り、このような範囲の中から適宜に選定される。

【００２６】本発明では、上記のような基材上に、多孔
質構造の層を積層する。

【００２７】多孔質構造の層を形成する方法としては、
公知の方法をいずれも使用できる。公知の方法として、
例えば、１）樹脂を溶解する溶剤と、樹脂を溶解せず、
かつ樹脂を溶解する溶剤と相溶する溶剤からなる塗工液
を塗布・乾燥させる方法、２）中空粒子を含有させた塗
工液を塗布あるいは中空粒子を含有させた組成物をラミ
ネートする方法、３）既存の発泡剤を添加した塗工液を
塗布、あるいは溶融押し出しした後に、発泡剤を発泡さ
せる方法、４）機械的な撹拌により気泡を含有させた塗
工液を塗布する方法、５）溶融押し出しする際に、不活
性なガスを混錬する方法、６）ある溶剤に溶解する成分
と不溶な成分とからなる層を、溶剤に溶解する成分のみ
を溶解する溶剤に含浸させ、溶剤に溶解する成分を溶か
し出して形成する方法などが挙げられる。

【００２８】本発明においては、６）の方法で多孔質化
するのが、隙間が大きく十分に断熱効果及びクッション
性が得られるので、後述する画像の形成の際に、高解像
度で印字ムラが発生せず、更には色重ね性の良好な画像
を得ることができ、特に好ましい方法である。

【００２９】したがって、６）の方法において、樹脂を
溶媒に溶解した塗布液を塗布した後、前記樹脂を溶解せ
ず、前記溶媒を溶解する液中に通して乾燥して、多孔質
構造の層を形成する方法が特に好ましい。

【００３０】本発明にける多孔質構造の層の形成方法と
しては、樹脂を溶剤に溶解し、基材の表面に塗布した後
に、前記溶媒は溶かすが樹脂は溶解しない液中に通して
凝固させ乾燥すると、多孔質層が形成され、更に樹脂を
溶解した溶液に、塗工温度では溶剤に単独で溶解しない
ある種の液状化合物を混入させると、表面が均一で平坦
な多孔層を形成させることができる。更にマシンカレン
ダー、スーパーカレンダー、熱カレンダー等を用いてカ
レンダー処理により平滑化処理を行なうことにより表面
の平滑性を向上させる方が後述する他の樹脂層を積層す
る場合に表面性が確保されるので好ましい。

【００３１】多孔質構造の層を形成する樹脂としては、
例えば、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン、ポリ塩化
ビニルなどのポリオレフィン系樹脂、ポリビニルホルマ
ール、ポリビニルブチラールなどのポリビニルアセター
ル系樹脂、ニトロセルロースなどのセルロース系樹脂、
ポリメチルメタクリレートなどのアクリル系樹脂、ポリ
カーボネート、ポリアリレート、ポリイミド、ポリスル
フォン等の樹脂を一種単独をあるいは二種以上を併用す
ることができる。

【００３２】溶媒としては、アセトン、酢酸エチル、ジ
オキサン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド等が、また、樹脂は溶解しないが、溶媒は溶解する液
としては、水、アルコール等が挙げられる。また、塗工
温度では溶剤には単独で溶解しない液状化合物として
は、金属セッケン類、エポキシ系化合物等の安定化助
剤、ブチル錫系化合物等の有機金属化合物などが挙げら
れる。

【００３３】なお、この多孔質構造の層には、本発明の
目的を損なわない範囲で、必要に応じて、酸化防止剤、
熱安定剤、ＵＶ吸収剤、光安定剤、可塑剤、熱溶融性物
質、フィラー、顔料、蛍光増白剤等の添加剤を添加して
もよい。

【００３４】この方法で多孔質構造の層を形成するに
は、特開昭６３−２５２７９３号公報等に記載されてい
る方法などを用いることができる。

【００３５】なお、この多孔質構造の層の厚みとして
は、通常１〜１００μｍであり、好ましくは５〜５０μ
ｍの範囲において適宜に選択するのがよい。

【００３６】本発明では上述のような方法で多孔質構造
を有する層を形成しても良いし、そのような方法で多孔
質構造の層を予め設けてある市販品をそのまま用いても
良い。後述する実施例において、多孔質構造の層を予め
設けてある市販品を使用する場合、多孔質構造の層を予
め設けてある市販品を基材の欄にて説明してある。

【００３７】本発明において、上記の基材と多孔質構造
の層との接着性を向上させるために、基材の表面を表面
処理するのが良い。

【００３８】表面処理の方法としては、コロナ放電処
理、火炎処理、オゾン処理、紫外線処理、放射線処理、
粗面化処理、化学薬品処理、プラズマ処理、低温プラズ
マ処理、プライマー処理、グラフト化処理など公知の樹
脂表面改質技術をそのまま適用することができる。具体
的には「高分子表面の基礎と応用（下）」化学同人、２
章及び／又は「高分子新素材便覧」丸善、８章等に記載
の方法を参照でき、それらの一種あるいは二種以上を使
用することもできる。

【００３９】光重合性着色層または光重合性層に用いら
れる光重合開始剤としては下記一般式（化１）で表され
る化合物が好ましい。

【００４０】

【化１】

【００４１】式中、Ｄｙｅ＋はカチオン性色素を表し、
Ｒ₁ 、Ｒ₂ 、Ｒ₃ 及びＲ₄ は各々同じであっても異なっ
ていてもよく、各々置換又は非置換のアルキル基、アリ
ール基、アルケニル基、アルキニル基、複素環基又はシ
アノ基を表し、且つＲ₁ 、Ｒ ₂ 、Ｒ₃ 及びＲ₄ の少なく
とも一つはアルキル基であり、またＲ₁ 、Ｒ₂ 、Ｒ₃及
びＲ₄ は２個以上が互いに結合して環を形成してもよ
い。

【００４２】Ｄｙｅ＋で表されるカチオン性色素として
は、シアニン色素やポリメチン色素が好ましい。カチオ
ン性色素の具体例としては、例えば、特開昭６３−１４
３０４４号、同６３−２０８０３６号、同６４−８４２
４５号、同６４−８８４４４号、特開平１−１５２１０
８号、同３−２０２６０９号等の各公報に記載されてい
る化合物を用いることができる。

【００４３】エチレン性不飽和結合を有する重合可能な
化合物としては、付加重合もしくは架橋可能な公知のモ
ノマーを特に好適に使用することができる。具体的モノ
マーとしては、例えば、２−エチルヘキシルアクリレー
ト、２−ヒドロキシエチルアクルレート、２−ヒドロキ
シプロピルアクリレート等の単官能アクリル酸エステル
およびその誘導体あるいはこれらのアクリレートをメタ
クリレート、イタコネート、クロトネート、マレエート
等に代えた化合物、ポリエチレングリコールジアクリレ
ート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ビスフェ
ノールＡジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペ
ンチルグリコールのεーカプロラクトン付加物のジアク
リレート等の２官能アクリル酸エステルおよびその誘導
体あるいはこれらのアクリレートをメタクリレート、イ
タコネート、クロトネート、マレエート等に代えた化合
物、あるいはトリメチロールプロパントリ（メタ）アク
リレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ピロ
ガロールトリアクリレート等の多官能アクリル酸エステ
ルおよびその誘導体あるいはこれらのアクリレートをメ
タクリレート、イタコネート、クロトネート、マレエー
ト等に代えた化合物、さらには適当な分子量のオリゴマ
ーにアクリル酸、またはメタアクリル酸を導入し、光重
合性を付与した、いわゆるプレポリマーと呼ばれるもの
も好適に使用できる。

【００４４】この他に特開昭５８−２１２９９４号、同
６１−６６４９号、同６２−４６６８８号、同６２−４
８５８９号、同６２−１７３２９５号、同６２−１８７
０９２号、同６３−６７１８９号、特開平１−２４４８
９１号等の各公報に記載の化合物などを挙げることがで
き、更に「１１２９０の化学商品」化学工業日報社、第
２８６頁〜第２９４頁に記載された化合物、「ＵＶ・Ｅ
Ｂ硬化ハンドブック（原料編）」高分子刊行会、第１１
頁〜第６５頁に記載された化合物等も本発明においては
好適に用いることができる。

【００４５】これらの中で、分子内に２個以上のアクリ
ルまたはメタクリル基を有する化合物が本発明において
は好ましく、さらに分子量が１０，０００以下、より好
ましくは５，０００以下のものが好ましい。また本発明
ではこれらのモノマーあるいはプレポリマーのうち一種
または二種以上を混合して用いることができる。

【００４６】光重合性着色層または光重合性層には必要
に応じてバインダー樹脂が用いられる。

【００４７】バインダ−樹脂としては、ポリエステル系
樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリウレタン系樹
脂、ポリアミド系樹脂、セルロース系樹脂、オレフィン
系樹脂、塩化ビニル系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、
スチレン系樹脂、ポリカーボネート、ポリビニルアルコ
ール、ポリビニルピロリドン、ポリサルフォン、ポリカ
プロラクトン樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、尿素樹
脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ゴム系樹脂等が挙
げられる。

【００４８】また、樹脂内に不飽和結合を有する樹脂、
例えばジアリルフタレート樹脂およびその誘導体、塩素
化ポリプロピレンなどは前述のエチレン性不飽和結合を
有する化合物と重合させることが可能なため用途に応じ
て好適に用いることができる。

【００４９】バインダ−樹脂としては前述の樹脂の中か
ら、一種または二種以上のものを組み合わせて用いるこ
とができる。これらのバインダー樹脂は、前記付加重合
もしくは架橋可能なモノマー１００重量部に対して、５
００重量部以下、より好ましくは２００重量部以下の範
囲で添加混合して使用するのが好ましい。

【００５０】本発明の光重合性着色層または光重合性層
には感度向上及び光重合開始剤の消色を促進する目的で
下記一般式（化２）で表されるホウ素酸塩を添加するこ
とが好ましい。

【００５１】

【化２】

【００５２】式中、Ｒ₁ 、Ｒ₂ 、Ｒ₃ 及びＲ₄ は一般式
（１）で定義されたものと同義であり、Ｘ⁺ はカウンタ
ーカチオン（例えばアルカリ金属カチオン、アンモニウ
ムカチオン、ホスフォニュウムカチオン等）を表す。

【００５３】この化合物の具体例としては、例えば、特
開昭６４−１３１４２号、特開平２−４８０４号の各公
報に記載されている。

【００５４】増感剤としては、例えば、特開昭６４−１
３１４０号公報に記載のトリアジン系化合物、特開昭６
４−１３１４１号公報に記載の芳香族オニウム塩、芳香
族ハロニウム塩、特開昭６４−１３１４３号公報に記載
の有機過酸化物を用いることができる。更に特に好まし
い増感剤としては、特公昭４５−３７３７７号公報や米
国特許第３，６５２，２７５号明細書に記載のビスイミ
ダゾール化合物が挙げられる。

【００５５】熱重合防止剤としては、キノン系、フェノ
ール系等の化合物が好ましく用いられる。例えば、ハイ
ドロキノン、ピロガロール、ｐ−メトキシフェノール、
カテコール、βーナフトール、２，６−ジ−ｔ−ブチル
−ｐ−クレゾール等が挙げられる。エチレン性不飽和結
合を有する重合可能な化合物とバインダーの合計量１０
０量部に対して、１０重量部以下、好ましくは０．０１
〜５重量部程度添加される。

【００５６】酸素クエンチャーとしては、Ｎ，Ｎ−ジア
ルキルアニリン誘導体が好ましく、例えば米国特許４，
７７２，５４１号の第１１カラム第５８行目から第１２
カラム第３５行目に記載の化合物が挙げられる。

【００５７】可塑剤としては、例えば、フタル酸エステ
ル類、トリメリット酸エステル類、アジピン酸エステル
類、その他飽和あるいは不飽和カルボン酸エステル類、
クエン酸エステル類、エポキシ化大豆油、エポキシ化ア
マニ油、エポキシステアリン酸エポキシ類、正リン酸エ
ステル類、亜燐酸エステル類、グリコールエステル類な
どが挙げられる。

【００５８】熱溶融性化合物としては、常温で固体であ
り、加熱時に可逆的に液体となる化合物が用いられる。
前記熱溶融性物質としては、テルピネオール、メントー
ル、１，４−シクロヘキサンジオール、フェノール等の
アルコール類、アセトアミド、ベンズアミド等のアミド
類、クマリン、ケイ皮酸ベンジル等のエステル類、ジフ
ェニルエーテル、クラウンエーテル等のエーテル類、カ
ンファー、ｐ−メチルアセトフェノン等のケトン類、バ
ニリン、ジメトキシベンズアルデヒド等のアルデヒド
類、ノルボルネン、スチルベン等の炭化水素類、マルガ
リン酸等の高級脂肪酸、エイコサノール等の高級アルコ
ール、パルミチン酸セチル等の高級脂肪酸エステル、ス
テアリン酸アミド等の高級脂肪酸アミド、ベヘニルアミ
ン等の高級アミンなどに代表される単分子化合物、蜜ロ
ウ、キャンデリラワックス、パラフィンワックス、エス
テルワックス、モンタンロウ、カルナバワックス、アミ
ドワックス、ポリエチレンワックス、マイクロクリスタ
リンワックスなどのワックス類、エステルガム、ロジン
マレイン酸樹脂、ロジンフェノール樹脂等のロジン誘導
体、フェノール樹脂、ケトン樹脂、エポキシ樹脂、ジア
リルフタレート樹脂、テルペン系炭化水素樹脂、シクロ
ペンタジエン樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカプロ
ラクトン系樹脂、ポリエチレングリコール、ポリプロピ
レングリコールなどのポリオレフィンオキサイドなどに
代表される高分子化合物などを挙げることができる。

【００５９】本発明においては、上記記載の熱溶融性物
質の融点あるいは軟化点が、１０〜１５０℃のものが好
ましい。

【００６０】本発明における光重合性着色層または着色
剤を含有する着色剤層に含有される着色剤としては、公
知の画像形成に用いられる着色剤が挙げられ、得られる
画像の目的に応じて選択される。例えばカーボンブラッ
ク、酸化チタン、酸化鉄、フタロシアニン系色素、アゾ
系色素、アントラキノン系色素、アゾメチン系色素等の
顔料や染料が挙げられる。着色剤の添加量としては、光
重合性着色層または着色剤を含有する着色剤層形成組成
物中１〜５０重量％が好ましく、より好ましくは５〜３
０重量％である。

【００６１】着色剤層には更にバインダーや熱溶融性化
合物が添加される。バインダー及び熱溶融性化合物とし
ては上述の光重合性着色層または光重合性層で例示した
ものを用いることができる。光重合性着色層、光重合性
層および着色剤層には目的を損なわない範囲で、必要に
応じて酸化防止剤、フィラー、帯電防止剤などを添加し
てもよい。

【００６２】前記酸化防止剤としては、クロマン系化合
物、クラマン系化合物、フェノール系化合物、ハイドロ
キノン誘導体、ヒンダードアミン誘導体、スピロインダ
ン系化合物、硫黄系化合物、リン系化合物などが挙げら
れ、例えば、特開昭５９−１８２７８５号、同６０−１
３０７３５号、同６１−１５９６４４号、特開平１−１
２７３８７号等の各公報、「１１２９０の化学商品」化
学工業日報社の第８６２頁〜第８６８頁等、に記載の化
合物、および写真その他の画像記録材料に耐久性を改善
するものとして公知の化合物を挙げることができる。

【００６３】フィラーとしては、無機微粒子や有機樹脂
粒子を挙げることができる。この無機微粒子としては、
シリカゲル、炭酸カルシウム、酸化チタン、酸化亜鉛、
硫酸バリウム、タルク、クレー、カオリン、酸性白土、
活性白土、アルミナ等を挙げることができ、有機微粒子
としてはフッ素樹脂粒子、グアナミン樹脂粒子、アクリ
ル樹脂粒子、シリコン樹脂粒子等の樹脂粒子、帯電防止
剤としては、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活
性剤、非イオン性界面活性剤、高分子帯電防止剤、導電
性微粒子などのほか「１１２９０の化学商品」化学工業
日報社の第８７５頁〜第８７６頁等に記載の化合物など
も好適に用いることができる。

【００６４】本発明においては、光重合性着色層または
光重合性層の厚みとしては、用途により適宜に選択され
るが、０．２〜５μｍが好ましく、より好ましくは０．
５〜３μｍであり、また着色剤層の厚みとしては、０．
１〜３μｍが好ましく、より好ましくは０．３〜２．５
μｍである。

【００６５】なお、本発明においては、光重合性着色
層、光重合性層及び着色材層はそれぞれ単層で形成して
も良いし、二層以上の複数構造にしても良い。

【００６６】本発明では、上述の基材、多孔質構造の
層、光重合性着色層、または光重合性層および着色剤層
以外に接着性、剥離性、バリア性、保存性等の改良のた
めに他の層を設けてもよい。

【００６７】多孔質構造の層と光重合性着色層あるいは
着色剤層との剥離を良好にするためには、両者の間に剥
離層を設けることが好ましい。

【００６８】これらの剥離層を形成する樹脂としては、
前述の光重合性着色層あるいは着色剤層と接着力の強固
なものでなければ特に制限はなく、例えばポリビニルア
ルコール、ポリビニルホルマール、ポリビニルアセトア
セタール等のポリビニルアルコール誘導体、ゼラチン、
メチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等の
セルロース誘導体、ポリサルホン樹脂、ポリアリレート
樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリパラバン酸樹脂、ポ
リイミド樹脂などが挙げられる。また、前記の樹脂や光
重合性着色層または光重合性層で用いることのできるバ
インダー樹脂をシリコーンオイル（樹脂）、フッ素樹脂
で変性したものも好適に用いることができ、更にはシリ
コーンオイル、シリコーン樹脂、ポリエチレンワック
ス、アミドワックス、テフロンパウダー等の固型ワック
ス類、弗素系、燐酸エステル系の界面活性剤などの剥離
剤を添加して層を形成したもの、活性エネルギー線で硬
化するような樹脂、あるいは熱硬化可能な樹脂を架橋剤
等で硬化させて光重合性着色層あるいは着色剤層との接
着力を低くした層も本発明では好適に用いることができ
る。更に必要に応じて光重合性着色層、光重合性層およ
び着色剤層に記載された酸化防止剤、フィラー、帯電防
止剤などを添加してもよい。

【００６９】剥離層の厚みとしては、０．１〜２０μｍ
が好ましく、０．２〜１０μｍがより好ましい。

【００７０】剥離層と多孔質構造の層との間に、多孔質
構造の層への浸透防止や表面平滑性向上、剥離層と多質
孔質構造の層の接着性改良を目的にバリア層を設けても
よい。バリア層を形成する樹脂としては、ポリエステル
系樹脂、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ブタジエン
系樹脂、エチレン系樹脂、澱粉、カゼイン、ゼラチン、
コーンスターチ等が挙げられ、必要に応じて光重合性着
色層、光重合性層および着色剤層に記載された酸化防止
剤、フィラー、帯電防止剤などをを添加してもよい。

【００７１】バリア層の厚みとしては、０．５〜２０μ
ｍが好ましく、１〜１０μｍがより好ましい。

【００７２】前記の光重合性着色層または光重合性層の
上に画像形成材料の保存性向上を目的に酸素遮断層を設
けることが好ましい。

【００７３】酸素遮断層は、光重合性着色層または光重
合性層の表面上に塗工法で設けた樹脂層、転写箔のよう
に樹脂層を転写したものあるいは樹脂フィルムをラミネ
ートしたものでも用途に応じて適宜に用いることができ
るが、後述の画像形成時に、酸素遮断層上からレーザー
光を照射し光重合を行う場合にはレーザー光の波長を吸
収および／または散乱させないために、可視光、近赤外
線の透過性が良いこと（波長およそ３００ｎｍ〜２，０
００ｎｍにおいて透過率が４０％以上、好ましくは６０
％以上であること）、表面平滑性が高いものが好まし
い。

【００７４】酸素遮断層に用いられる樹脂としては、ポ
リビニルアルコール系樹脂、ポリエレンテレフタレー
ト、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル系樹
脂、メチルメタクリレート等のアクリル系樹脂、ポリエ
チレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂など
が挙げられ、更には基材として用いることのできる樹脂
フィルムも本発明では好適に用いることができる。本発
明では、後述する画像形成時の操作性や、酸素遮断層を
そのまま被転写体として用いる場合には、機械強度、寸
法安定性の面から樹脂フィルムを用いるのが好ましい。

【００７５】酸素遮断層の厚みとしては、０．１〜１０
０μｍが好ましく、０．５〜５０μｍがより好ましい。

【００７６】（２）画像形成材料の製造方法 本発明において（１）の画像形成材料の項に記載した方
法で、基材の上に多孔質構造の層を設けることができ
る。

【００７７】前記光重合性着色層、光重合性層、着色剤
層は形成成分を溶媒に分散あるいは溶解して塗工液を調
製し、この塗工液を積層させる面に塗布し乾燥する塗工
法や、剥離可能なシ−ト上に前記記載の層を形成した
後、積層させる面上に加熱および／または加圧すること
により光重合性着色層、光重合性層、着色剤層のみを転
写させる転写法等により形成することができる。

【００７８】上記塗工法に用いる溶媒としては、水、ア
ルコール類（例えばエタノール、プロパノール）、セロ
ソルブ類（例えばメチルセロソルブ、エチルセロソル
ブ）、芳香族類（例えばトルエン、キシレン、クロルベ
ンゼン）、ケトン類（例えばアセトン、メチルエチルケ
トン）、エステル系溶剤（例えば酢酸エチル、酢酸ブチ
ルなど）、エーテル類（例えばテトラヒドロフラン、ジ
オキサン）、塩素系溶剤（例えばクロロホルム、トリク
ロルエチレン）、アミド系溶剤（例えばジメチルホルム
アミド、Ｎ−メチルピロリドン）、ジメチルスルホキシ
ド等が挙げられる。前記塗工には、従来から公知のグラ
ビアロールによる面順次塗り別け塗布法、押し出し塗布
法、ワイヤーバー塗布法、ロール塗布法等を採用するこ
とができる。前記記載の層は、積層させる面の表面全体
に渡って形成されていても良いし、必要に応じて、表面
の一部に形成されていても良い。

【００７９】また、剥離層やバリア層は、光重合性着色
層、光重合性層、着色剤層を形成する方法と同様の方法
で設けることができる。

【００８０】本発明においては、多孔質構造の層の上に
積層する層を設ける前に、表面平滑性を確保するためマ
シンカレンダー、スーパーカレンダー、熱カレンダー等
を用いてカレンダー処理により平滑化処理を行なうこと
が好ましい。

【００８１】なお、本発明において、剥離層やバリヤ層
の接着強度が不十分な場合（例えば、積層する樹脂同士
の、ぬれ角度（接触角）の差が大きい場合、特に５ｄｅ
ｇ以上ある場合）は、積層しようとする層を設ける前
に、積層される表面に処理を施しておくことが好まし
く、この表面処理の方法としては、コロナ放電処理、火
炎処理、オゾン処理、紫外線処理、放射線処理、粗面化
処理、化学薬品処理、プラズマ処理、低温プラズマ処
理、プライマー処理、グラフト化処理など公知の樹脂表
面改質技術をそのまま適用することができる。具体的に
は「高分子表面の基礎と応用（下）」化学同人、２章及
び／又は「高分子新素材便覧」丸善、８章等に記載の方
法を参照でき、それらを一種あるいは二種以上を併用す
ることもできる。

【００８２】酸素遮断層を設ける場合には、塗工法や転
写法等により形成することができる。また樹脂フィルム
による酸素遮断層の場合には、積層させる面上に樹脂フ
ィルムを加圧圧着または加熱加圧圧着することにより設
けることができるが、剥離現像の場合にはアクリル系樹
脂などの弱粘着剤層、ワックスやエチレン−酢酸ビニル
などのホットメルト接着剤層を設けた樹脂フィルムを加
圧または加熱加圧させて酸素遮断層を設けても良い。ま
た、転写現像の場合には、フィルム表面をシリコーン系
及び／またはフッ素系の樹脂等により離型処理を施した
樹脂フィルムを加圧または加熱加圧させて酸素遮断層を
設けても良い。

【００８３】（３）画像形成方法 前述の光重合性着色層、または光重合性層を有する画像
形成用材料へのレーザー走査による画像露光と、剥離現
像または画像転写によるドライな処理を組み合わせるこ
とにより、環境上問題や廃液の処理が必要で、なおかつ
大きな処理装置を必要とする液体処理をすることなく、
簡便に、高精細な画像形成を行うことができる。

【００８４】画像露光を行うときの光照射方向は、基材
側または酸素遮断層側のいずれからであっても良いが、
本発明では基材側に存在する多孔質層による光散乱など
による光ロスを避けるために、酸素遮断層側から行うの
が重合可能な化合物を重合させる効率の面から好まし
い。

【００８５】画像を形成させるための光源としては、近
赤外線領域の波長（例えば７００ｎｍ〜２，０００ｎｍ
の波長範囲）を有し、光重合開始剤に対し活性な電磁波
を発生させるものは全て用いることができる。例えば、
レーザー、発光ダイオード、キセノンランプ、ハロゲン
ランプ、カーボンアーク燈、メタルハライドランプ、タ
ングステンランプ等を挙げることができる。キセノンラ
ンプ、ハロゲンランプ、カーボンアーク燈、メタルハラ
イドランプ、タングステンランプ等を用いて一括露光す
る場合には、画像形成材料の酸素遮断層側に、所望露光
画像のネガパターンを遮光性材料で形成したマスク材料
を重ね合わせ、露光すればよい。

【００８６】発光ダイオードアレイ等のアレイ型光源を
使用する場合や、ハロゲンランプ、メタルハライドラン
プ、タングステンランプ等の光源を、液晶、ＰＬＺＴ等
の光学的シャッター材料で露光制御する場合には、画像
信号に応じたデジタル露光をすることが可能である。こ
の場合はマスク材料を使用せず、直接書き込みを行うこ
とができる。

【００８７】レーザーの場合には、光をビーム状に絞
り、画像データに応じた走査露光が可能であるため、マ
スク材料を使用せず、直接の書き込みを行うのに適して
いる。またレーザーを光源として用いる場合には、露光
面積を微小サイズに絞ることが容易であり、高解像度の
画像形成が可能になる。

【００８８】本発明で用いられるレーザー光源として
は、近赤外線域に発振波長を有するのであれば一般によ
く知られている、ＹＡＧレーザー、ガラスレーザー等の
固体レーザー、Ｈｅ−Ｎｅレーザー、ＣＯ₂ レーザー、
ＣＯレーザー、その他の放電励起分子レーザー、エキシ
マーレーザーなどの気体レーザー、化学レーザー、色素
レーザー、半導体レーザー等を使用することができる。
その中でも、ＹＡＧレーザー、Ｈｅ−Ｎｅレーザー、半
導体レーザーが好ましく、特に半導体レーザーは小型、
安価であり、その組成により発振波長を変化させること
ができるので、使用する感光性組成物の感光波長域に合
わせて適宜に選択することも可能であり好ましい。好ま
しく用いられる半導体レーザーの組成とその発振波長範
囲を例示すれば、ＩｎＧａＰレーザー（０．６５〜１．
０μｍ）、ＡｌＧａＡｓレ−ザ−（０．７〜１．０μ
ｍ）、ＧａＡｓＰレーザー（０．７〜１．０μｍ）、Ｉ
ｎＧａＡｓレーザー（１．０〜３．５μｍ）、ＩｎＡｓ
Ｐレーザー（１．０〜３．５μｍ）、ＣｄＳｎＰ２レー
ザー（１．０１μｍ）、ＧａＳｂレーザー（１．５３μ
ｍ）等である。

【００８９】さらに、半導体レーザーの波長で重合可能
な画像形成材料と組み合わせて画像を形成する場合は、
半導体レーザーが小さいことによる装置の小型化だけで
なく、光重合性着色層または光重合性層を形成する組成
物に開始剤として含有させるカチオン性染料として、可
視光に吸収を持たないもしくは吸収の少ない染料を用い
ることができるので、特にカラー画像の形成を行う場合
に濁りのない良好な色を再現できるという利点を有して
いる。

【００９０】本発明では、複数の異なる色調の単色の画
像を形成した後、異なる色調の画像部を順次に同一の受
像体上に転写することで複数の色調を有する画像を受像
体上に形成することができる。特にイエロ−、マゼン
タ、シアンあるいはイエロ−、マゼンタ、シアン、ブラ
ックの各色の単色の画像を順次に同一の受像体上に転写
することで受像体上にフルカラー画像を形成することが
できる。

【００９１】フルカラー画像を形成するための画像形成
用材料としては、それぞれ色の異なる複数の画像形成用
材料を用いることで、複数の異なる色調の単色画像を形
成することができるが、好ましくは、イエロー、マゼン
タおよびシアン、またはイエロー、マゼンタ、シアンお
よびブラックの着色剤を含有する色の異なる複数の光重
合性組成物をそれぞれ同一の支持体上の別領域に塗布工
した光重合性組成物層を有するいわゆる面順次型の画像
形成用材料を用いることができる。このような面順次型
の画像形成用材料を用いることで、画像形成装置内での
画像形成用材料の搬送系の簡素化が可能となり、画像形
成装置を更にコンパクト化することが可能となる。

【００９２】また、フルカラー画像形成用の画像形成用
材料として、色の識別用の検知マークを設けたものを用
いてもよい。

【００９３】光重合性着色層または光重合性層の未露光
部分を支持体又は基材上に転写する方法としては、酸素
遮断層を除去した後、光重合性着色層あるいは着色剤層
面と転写される支持体又は基材とを接するように配置
し、加熱及び／又は加圧可能に構成されたローラー状又
は板状の部材に接触させる方法、熱線を含む電磁波を照
射する方法等任意に選択することができる。転写温度、
圧力等の転写条件は、露光された感光性組成物層の未露
光部分のみが転写される条件を適宜設定すればよい。

【００９４】転写時に加熱及び／又は加圧の他に、振動
を与え転写を促進することも好ましい。なお、このよう
な転写現像により画像を形成する場合において、１度中
間転写媒体のようなものに転写した後に、目的とする受
像体上に転写させても良い。

【００９５】形成後の画像に照射される光は、レーザ
ー、キセノンランプ、ハロゲンランプ、カーボンアーク
燈、メタルハライドランプ、タングステンランプ、赤外
線ランプ、高圧水銀灯、蛍光灯、日光等、感光性組成物
層に添加されている光重合開始剤に作用するものであれ
ば公知のいかなる光源も使用することができる。露光強
度、露光時間は少なくとも画像形成材料として実用上問
題ない程度に硬化することができれば、光重合性着色
層、光重合性層の組成、露光装置の条件により適宜に設
定すればよい。この場合は一括露光であっても走査露光
であっても同様の効果が得られる。

【００９６】形成後の画像の加熱硬化方法としては、公
知のいかなる加熱方法も使用できる。加熱温度、加熱時
間は少なくとも画像形成材料として実用上問題ない程度
に硬化することができれば、光重合性着色層、光重合性
層の組成、加熱装置の条件により適宜設定すればよい。

【００９７】酸素遮断層及び／または多孔質構造を有す
る層が積層された基材をそのまま受像体として用いる剥
離現像の場合には、上述の転写現像と同様の方法により
画像を形成した後に、酸素遮断層を剥離した後に目的と
する画像が形成された面を露光あるいは加熱露光するこ
とにより画像を形成することができる。

【００９８】

【実施例】以下、実施例により本発明を更に具体的に説
明するが、本発明は、これらの実施例に限定されるもの
ではない。なお、以下において「部」は、特に断りがな
い限り「有効成分としての重量部」を表わす。

【００９９】以下のようにして、本発明および比較例と
して多孔質構造の層（以下において多孔質層と略称する
ことがある。）を持たない画像形成材料を作成し、本発
明および比較の画像形成材料の構成を表１および表２に
示す。

【０１００】−−基材−− ａ）厚み１００μｍの延伸透明ポリエチレンテレフタレ
ートフィルム｛ダイアホイルヘキスト（株）製：Ｔ１０
０｝ ｂ）厚み１００μｍの延伸白色ポリエチレンテレフタレ
ートフィルム｛ダイアホイルヘキスト（株）製：Ｗ４１
０｝ ｃ）厚み１００μｍの延伸多孔質白色ポリエチレンテレ
フタレートフィルム｛ダイアホイルヘキスト（株）製：
Ｗ９００Ｊ｝。この基材は、本発明で言う基材の表面に
多孔質層が積層されてなるものである。

【０１０１】ｄ）厚み１５０μｍ、両面ともベック平滑
度２５０秒の上質紙に、平均粒径０．３μｍの酸化チタ
ン１０部を含有する、密度０．９１４ｇ／ｃｍ³ 、メル
トフロレート７．０ｇ／１０分の低密度ポリエチレン
を、多孔質層面側３０μｍ、反対面側に２０μｍの厚さ
で、それぞれ溶融押し出しし、樹脂被覆基材を製造し
た。

【０１０２】ｅ）全体の厚み１１０μｍ、両面３０μｍ
の多孔質層付きポリエチレンテレフタレートフィルム
｛日清紡（株）製：ピーチコートＷＥ−１１０｝。この
基材は、本発明で言う基材の表面に多孔質層が積層され
てなるものである。

【０１０３】ｆ）全体の厚み１１０μｍ、両面３０μｍ
の多孔質層付きポリプロピレンフィルム｛日清紡（株）
製：ピーチコートＷＰ−１１０｝。この基材は、本発明
で言う基材の表面に多孔質層が積層されてなるものであ
る。

【０１０４】−−表面処理−− ａ）表面をコロナ放電処理した。

【０１０５】ｂ）表面を空気／メタン＝１０５／１００
のモル比で火炎処理した。

【０１０６】ｃ）表面を紫外線（低波長タイプ：１８９
ｎｍ）を１０分間照射して、紫外線処理した。

【０１０７】ｄ）表面を７５０ＫＶの電子線加速器から
電子線を照射して、放射線処理した。

【０１０８】−−多孔質層−− ａ）下記の組成の塗布液をワイヤーバーコーティングに
より基材上に塗布し、水に６０秒間浸漬させ凝固させた
後に、８０℃の熱水に浸漬して多孔質化し、乾燥させ厚
さ３０μｍの多孔質構造を持った層を形成した。

【０１０９】 ポリエーテルスルホン・・・・・・・・・・・２０部 ｛三井東圧化学（株）製：ＰＥＳ４１００Ｐ｝ ブチル錫ラウレート・・・・・・・・・・・・・２部 ｛勝田加工（株）製：ＡＤＶＡＳＴＡＢ Ｔ−１２Ｐ｝ エポキシ化合物・・・・・・・・・・・・・・・２部 ｛勝田加工（株）製：ＡＤＶＡＳＴＡＢ Ｅ−８２｝ シリカ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・２部 ｛平均粒径；０．０１５μｍ｝ 酸化チタン・・・・・・・・・・・・・・・・・５部 ｛平均粒径；０．３μｍ｝ ジメチルホルムアミド・／・・・・・・・・・６９部。

【０１１０】ｂ）下記の組成の塗布液を用いて、ａと同
様の方法で多孔質化し、次いでスーパーカレンダーによ
り表面をカレンダー処理し、厚み３０μｍの多孔質構造
を持った層を形成した。

【０１１１】 ポリエステル・・・・・・・・・・・・・・・２０部 ｛ユニチカ（株）製：エリーテル ＵＥ−３６００｝ ブチル錫ラウレート・・・・・・・・・・・・・２部 ｛昭島化学工業（株）製：ＢＬ−４２Ａ｝ バリウムー亜鉛有機化合物・・・・・・・・・・２部 ｛昭島化学工業（株）製：ＬＴ７０１Ｂ｝ シリカ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・２部 ｛平均粒径；０．０１５μｍ｝ 炭酸カルシウム・・・・・・・・・・・・・・・２部 ｛平均粒径；０．２μｍ｝ ジメチルホルムアミド・・・・・・・・・・・７２部。

【０１１２】ｃ）下記の組成の塗布液を用いて、ａと同
様の方法で多孔質化し、次いでスーパーカレンダーによ
り表面をカレンダー処理し、厚み３０μｍの多孔質構造
を持った層を形成した。

【０１１３】 ポリアクリロニトリル・・・・・・・・・・・２０部 ｛三井東圧化学（株）製：バレックス６０００Ｎ｝ ブチル錫ラウレート・・・・・・・・・・・・・２部 ｛昭島化学工業（株）製：ＢＬ−４２Ａ｝ エポキシ化合物・・・・・・・・・・・・・・・２部 ｛昭島化学工業（株）製：ＬＴ７０１Ｂ｝ シリカ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・２部 ｛平均粒径；０．０１５μｍ｝ 酸化チタン・・・・・・・・・・・・・・・・・５部 ｛平均粒径；０．３μｍ｝ ジメチルホルムアミド・・・・・・・・・・・６９部。

【０１１４】−−バリア層−− ａ）下記の組成のバリア層形成塗工液を、ワイヤーバー
コーティングにより多孔質層上に、順次塗布・乾燥し、
厚み５μｍのバリア層を形成した。

【０１１５】 水溶性ポリエステル・・・・・・・・・・・・３０部 ｛東洋紡績（株）製：バイロナールＭＤ１９３０｝ 蒸留水・・・・・・・・・・・・・・・・・・７０部 ｂ）下記の組成のバリア層形成塗工液を、ワイヤーバー
コーティングにより多孔質層上に、順次塗布・乾燥し、
厚み３μｍのバリア層を形成した。

【０１１６】 ポリビニルアセトアセタール・・・・・・・・・５部 ｛積水化学工業（株）製：エスレックＫＸ−１｝ 蒸留水・・・・・・・・・・・・・・・・・９５部 ｃ）下記の組成のバリア層形成塗工液を、ワイヤーバー
コーティングにより中間層上に、順次塗布・乾燥し、厚
み１μｍのバリア層を形成した。

【０１１７】 ゼラチン・・・・・・・・・・・・・・・・９．７部 硬膜剤・・・・・・・・・・・・・・・・・０．３部 （ＮＨ₂ ＣＨ＝ＣＨＳＯ₂ ＣＨ₂ ＣＯＮＨＣＨ₂ −)₂ 蒸留水・・・・・・・・・・・・・・・・９０部 −−剥離層−− ａ）下記組成の剥離層形成塗工液を、ワイヤーバーコー
ティング法で多孔質層上あるいはバリア層上に、塗布・
乾燥し、厚み０．５μｍの剥離層を形成した。

【０１１８】 ポリビニルアルコール・・・・・・・・・１０部 ｛日本合成化学（株）製：ゴーセノールＧＬ−０５｝ 蒸留水・・・・・・・・・・・・・・・・９０部 ｂ）下記組成の剥離層形成塗工液を、ワイヤーバーコー
ティングにより中間層上に、順次塗布・乾燥し、厚み１
μｍの剥離層を形成した。

【０１１９】 ポリビニルアセトアセタール・・・・・・・・１０部 ｛積水化学工業（株）製：エスレックＫＷ−１｝ 蒸留水・・・・・・・・・・・・・・・・・・９０部 ｃ）下記組成の剥離層形成塗工液を、ワイヤーバーコー
ティングにより中間層上に、順次塗布・乾燥し、厚さ５
μｍの剥離層を形成した。

【０１２０】 ヒドロキシプロピルセルロース・・・・・・・１０部 ｛信越化学工業（株）製：信越ＨＰＣ ＬＥ−Ｇ｝ 蒸留水・・・・・・・・・・・・・・・・・・９０部 ｄ）下記組成の剥離層形成塗工液を、ワイヤーバーコー
ティングにより中間層上に、順次塗布・乾燥し厚さ０．
５μｍの剥離層を形成した。

【０１２１】 ポリアリレート・・・・・・・・・・・・・・１０部 ｛ユニチカ（株）製：Ｕポリマー、Ｕ−１００｝ ジオキサン・・・・・・・・・・・・・・・・９０部 ｅ）厚み２５μｍのポリエチレンテレフタレートフィル
ム｛ダイアホイルヘキスト（株）製：Ｓ｝の片面に、下
記組成の剥離層形成用塗工液、接着層形成塗工液をそれ
ぞれ調製し、ワイヤーバーコーティング法により乾燥後
の厚みがそれぞれ０．５μｍ、５μｍの厚みになるよう
に、順次塗布、乾燥して剥離層転写部材形成した。次い
で、剥離層転写部材の接着層表面および多孔質構造の層
あるいはバリア層表面と重ね合わせ、ヒートロールで加
熱加圧処理（温度１８０℃、圧力１．０Ｋｇ／ｃｍ² 、
送り速度０．５ｃｍ／秒）して剥離層を転写し形成し
た。

【０１２２】剥離層形成塗工液； ポリビニルアセトアセタール・・・・・・・・１０部 ｛積水化学工業（株）製：エスレックＫＷ−１｝ 蒸留水・・・・・・・・・・・・・・・・・・９０部 接着層形成用塗工液： エチレン−酢酸ビニル共重合体・・・・・・・３５部 ｛三井・デュポン ポリケミカル（株）製：エバフレッ
クスＥＶ−４０Ｙ｝ トルエン・・・・・・・・・・・・・・・・・６５部 −−光重合性着色層−− ａ）下記組成の光重合性着色層形成塗工液を、ワイヤー
バーコーティングにより多孔質層上あるいは剥離層上
に、塗布・乾燥し、厚み１．０μｍの光重合性着色層を
形成した。

【０１２３】

【０１２４】

【化３】

【０１２５】

【化４】

【０１２６】ｂ）下記組成の光重合性着色層形成塗工液
を、ワイヤーバーコーティングにより多孔質層上あるい
は剥離層上に、塗布・乾燥し、厚み１．０μｍの光重合
性着色層を形成した。

【０１２７】 ｃ）下記組成の光重合性着色層形成塗工液を、ワイヤー
バーコーティングにより多孔質層上あるいは剥離層上
に、塗布・乾燥し、厚み１．０μｍの光重合性着色層を
形成した。 ｄ）下記組成の光重合性着色層形成塗工液を、ワイヤー
バーコーティングにより多孔質層上あるいは剥離層上
に、塗布・乾燥し、厚み２．５μｍの光重合性着色層を
形成した。

【０１２８】

【０１２９】

【化５】

【０１３０】−−着色剤層−− ａ）下記組成の着色剤層形成塗工液を、ワイヤーバーコ
ーティングにより多孔質層上あるいは剥離層上に、塗布
・乾燥し、厚み１．２μｍの着色剤層を形成した。

【０１３１】 ｂ）下記組成の着色剤層形成塗工液を、ワイヤーバーコ
ーティングにより多孔質層上あるいは剥離層上に、塗布
・乾燥し、厚み１．０μｍの着色剤層を形成した。

【０１３２】 −−光重合性層−− ａ）下記組成の光重合性層形成塗工液を、ワイヤーバー
コーティングにより着色剤層上に、塗布・乾燥し、厚み
１．０μｍの光重合性層を形成。

【０１３３】 ｂ）下記組成の光重合性層形成塗工液を、ワイヤーバー
コーティングにより着色剤層上に、塗布・乾燥し、厚み
１．５μｍ光重合性層を形成。

【０１３４】 −−酸素遮断層−− ａ）下記組成の酸素遮断層形成塗工液を、ワイヤーバー
コーティングにより光重合性着色層あるいは光重合性層
上に、塗布・乾燥し、厚み３．０μｍの酸素遮断層を形
成した。

【０１３５】 ポリビニルアルコール・・・・・・・・・１５．０部 ｛日本合成化学（株）製：ゴーセノールＫＮ−０５｝ 蒸留水・・・・・・・・・・・・・・・・・・８５部 ｂ）厚み６μｍの片面離型処理したポリエチレンテレフ
タレ−トフィルム｛ダイアホイルヘキスト（株）製：Ａ
Ｒ｝の離型処理した面を、光重合性着色層あるいは光重
合性層表面と重ね合わせ、ヒートロールで加熱加圧処理
（温度８０℃、圧力２．０Ｋｇ／ｃｍ² 、送り速度２０
ｍｍ／秒）してポリエチレンテレフタレ−トフィルムを
貼り合わせ酸素遮断層を形成した。

【０１３６】ｃ）厚み２０μｍのポリエチレンフィルム
｛東然化学（株）製：ルピックＬ−１｝の片面を光重合
性着色層あるいは光重合性層表面と重ね合わせ、ヒート
ロールで加熱加圧処理（温度６０℃、圧力１．５Ｋｇ／
ｃｍ² 、送り速度１０ｍｍ／秒）してポリエチレンテレ
フタレ−トフィルムを貼り合わせ酸素遮断層を形成し
た。

【０１３７】ｄ）厚み５０μｍの透明ポリエチレンテレ
フタレ−トフィルム｛ダイアホイルヘキスト（株）製：
Ｔ１００｝の片面を、光重合性着色層あるいは光重合性
層表面と重ね合わせ、ヒートロールで加熱加圧処理（温
度８０℃、圧力２．０Ｋｇ／ｃｍ² 、送り速２０ｍｍ／
秒）してポリエチレンテレフタレ−トフィルムを貼り合
わせ酸素遮断層、兼画像形成層を形成した。

【０１３８】−−画像の形成−− ＜実施例１〜９５、比較例１〜１９＞ ａ）７２０ｎｍ以下の光をカットするフィルターを掛け
て、キセノンフラッシュランプ｛理想科学工業（株）
製：ゼノファクスＦＸ１８０を使用、露光時間は１ｍｍ
秒、露光エネルギーは１００ｍＪ／ｃｍ² ｝で一括露光
した後、画像形成材料の酸素遮断層を除去し、光重合性
着色層または光重合性層表面を白色ポリエチレンテレフ
タレートフィルム｛ダイアホイルヘキスト（株）製：Ｗ
４１０（１２５μｍ）｝、アート紙｛三菱製紙（株）
製：三菱特両アート（１０４．７ｇ／ｍ² ）｝と対面さ
せ、加熱加圧処理｛温度；９５℃、圧力；１Ｋｇ／ｃｍ
² 、送り速度；２０ｍｍ／秒｝により画像形成を行い、
転写された画像を、キセノンフラッシュランプで一括露
光してベタ画像の転写性を下記の基準で評価するととも
に、画像形成材料に７２０ｎｍ以下の光をカットするフ
ィルターを掛けて、解像度チャートをマスクしてキセノ
ンフラッシュランプで露光後、次いで酸素遮断層を除去
し、光重合着色層または着色剤層面をアート紙と対面さ
せ、加熱加圧処理｛温度；１００℃、圧力；１Ｋｇ／ｃ
ｍ² 、送り速度；１０ｍｍ／秒｝により画像形成を行
い、転写された画像を、キセノンフラッシュランプで一
括露光してアート紙上に再現されている解像度を下記の
基準で評価。評価した結果を表３に示す。

【０１３９】転写性；ルーゼックスＩＩ｛（株）ニレコ
製｝で２×２ｍｍのベタ画像部分のボイド率｛Ｘ｝を測
定した。

【０１４０】 ◎・・・Ｘ≦０．１ （％） ○・・・０．１＜Ｘ≦０．５ （％） △・・・０．５＜Ｘ≦１．０ （％） ×・・・１．０＜Ｘ （％） 解像度；プレートコントロールウエッジ（ＵＧＲＡ社
製）を用い１５０線／インチの網点２〜９８％の再現性
を顕微鏡で観察し、再現されている網点領域｛Ｚ｝を観
察した。

【０１４１】 ◎・・・２≦Ｚ≦９８ （％） ○・・・５≦Ｚ≦９５ （％） △・・・１０≦Ｚ≦９０ （％） ×・・・１５≦Ｚ≦８５ （％） ｂ）フルカラー画像をイエロー、マゼンタ、シアン、黒
の４色に色分解して作成した４枚のポジフィルムをマス
クにして、ａと同様の条件で露光し、露光されたイエロ
ーの画像形成材料を酸素遮断層を除去した後、ａの条件
で白色ポリエチレンテレフタレートフィルムおよびアー
ト紙上に転写した。転写された画像を、キセノンフラッ
シュランプで一括露光してイエローの画像を得た。得ら
れたイエロー画像の上に、同様の方法によりマゼンタ画
像、シアン画像、黒画像を順次に転写した。正確に位置
合わせをおこなって４色を重ね転写し色重ね性を下記の
基準で評価した。評価した結果を表４に示す。

【０１４２】色重ね性；目視で判断 ◎・・・４色重ね印字部均一転写、前の画像のエッチ部
に対して次の画像がきれいに転写 ○・・・４色重ね印字部均一転写するが、前の画像のエ
ッチ部に対して次の画像の一部が未転写 △・・・４色重ね印字部で極一部が未転写 ×・・・４色重ね印字部で未転写部が明らかに分かる。

【０１４３】ｃ）酸素遮断層側から半導体レーザー｛シ
ャープ（株）製 ＬＴ０９０ＭＤ、出力１００ｍＷ、主
波長８３０ｎｍ｝を用いて走査露光｛ビーム径８μｍ、
走査ピッチ５μｍ｝を施した後、酸素遮断層を剥離し、
光重合着色層または着色剤層面をアート紙と対面させ、
加熱加圧処理｛温度；１００℃、圧力；１．５Ｋｇ／ｃ
ｍ² 、送り速度；１０ｍｍ／秒｝により画像形成を行
い、転写された画像を、キセノンフラッシュランプで一
括露光してアート紙上に再現されている感度（画像形成
に必要最低の平均露光量）、解像度および転写性を下記
の基準で評価した。その結果を表５に示す。

【０１４４】感度；画像形成材料表面の平均露光量
｛Ｅ｝（必要最低の平均露光量） ◎・・・Ｅ≦５ （ｍＪ／ｍｍ² ） ○・・・５＜Ｅ≦１０ （ｍＪ／ｍｍ² ） △・・・１０＜Ｅ≦２０ （ｍＪ／ｍｍ² ） ×・・・２０＜Ｅ （ｍＪ／ｍｍ² ） 解像度；必要最低の平均露光量で画像を形成した際の１
ｍｍ当りの解像可能な線の本数｛Ｎ｝ ◎・・・１２０≦Ｎ （本） ○・・・８０≦Ｎ＜１２０ （本） △・・・４０≦Ｎ＜８０ （本） ×・・・Ｎ＜４０ （本） 転写性；ルーゼックスＩＩ｛（株）ニレコ製｝で２×２
ｍｍのベタ画像部分のボイド率｛Ｘ｝を測定した。

【０１４５】 ◎・・・Ｘ≦０．１ （％） ○・・・０．１＜Ｘ≦０．５ （％） △・・・０．５＜Ｘ≦１．０ （％） ×・・・１．０＜Ｘ （％） ｄ）ａと同様の条件で露光し、画像形成材料の酸素遮断
層を剥離し、形成された画像を、キセノンフラッシュラ
ンプで一括露光してベタ画像の転写性を下記の基準で評
価するとともに、画像形成材料に解像度チャートをマス
クしてキセノンフラッシュランプで露光後、次いで酸素
遮断層を剥離し、形成された画像を、キセノンフラッシ
ュランプで一括露光して再現されている解像度を下記の
基準で評価した。その結果を表６に示す。

【０１４６】転写性；ルーゼックスＩＩ｛（株）ニレコ
製｝で２×２ｍｍのベタ画像部分のボイド率｛Ｘ｝を測
定した。

【０１４７】 ◎・・・Ｘ≦０．１ （％） ○・・・０．１＜Ｘ≦０．５ （％） △・・・０．５＜Ｘ≦１．０ （％） ×・・・１．０＜Ｘ （％） 解像度；プレートコントロールウエッジ（ＵＧＲＡ社
製）を用い１５０線／インチの網点２〜９８％の再現性
を顕微鏡で観察し再現されている網点領域｛Ｚ｝を観察
した。

【０１４８】 ◎・・・２≦Ｚ≦９８ （％） ○・・・５≦Ｚ≦９５ （％） △・・・１０≦Ｚ≦９０ （％） ×・・・１５≦Ｚ≦８５ （％） 転写性；ルーゼックスＩＩ｛（株）ニレコ製｝で２×２
ｍｍのベタ画像部分のボイド率｛Ｘ｝を測定した。

【０１４９】 ◎・・・Ｘ≦０．１ （％） ○・・・０．１＜Ｘ≦０．５ （％） △・・・０．５＜Ｘ≦１．０ （％） ×・・・１．０＜Ｘ （％） ｅ）酸素遮断層側から半導体レーザー｛シャープ（株）
製：ＬＴ０９０ＭＤ、出力１００ｍＷ、主波長８３０ｎ
ｍ｝を用いて走査露光｛ビーム径８μｍ、走査ピッチ５
μｍ｝を施した後、酸素遮断層を剥離し、形成された画
像を、キセノンフラッシュランプで一括露光し再現され
ている感度（画像形成に必要最低の平均露光量）、解像
度および転写性を下記の基準で評価した。評価した結果
を表７に示す。

【０１５０】感度；画像形成材料表面の平均露光量
｛Ｅ｝（必要最低の平均露光量） ◎・・・Ｅ≦５ （ｍＪ／ｍｍ² ） ○・・・５＜Ｅ≦１０ （ｍＪ／ｍｍ² ） △・・・１０＜Ｅ≦２０ （ｍＪ／ｍｍ² ） ×・・・２０＜Ｅ （ｍＪ／ｍｍ² ） 解像度；必要最低の平均露光量で画像を形成した際の１
ｍｍ当りの解像可能な線の本数｛Ｎ｝ ◎・・・１２０≦Ｎ （本） ○・・・８０≦Ｎ＜１２０ （本） △・・・４０≦Ｎ＜８０ （本） ×・・・Ｎ＜４０ （本） 転写性；ルーゼックスＩＩ｛（株）ニレコ製｝で２×２
ｍｍのベタ画像部分のボイド率｛Ｘ｝を測定した。

【０１５１】 ◎・・・Ｘ≦０．１ （％） ○・・・０．１＜Ｘ≦０．５ （％） △・・・０．５＜Ｘ≦１．０ （％） ×・・・１．０＜Ｘ （％）

【０１５２】

【表１】

【０１５３】

【表２】

【０１５４】

【表３】

【０１５５】

【表４】

【０１５６】

【表５】

【０１５７】

【表６】

【０１５８】

【表７】

【０１５９】

【発明の効果】本発明によると、解像度が良好で、画像
の抜けの生じない、ひいては画像の質感や濃度、解像性
及び色再現性が良好な画像形成材料およびその製造方法
を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は、基材上に多孔質構造の層と光重合性着
色層とをこの順に有してなる画像形成材料の断面図であ
る。

【図２】図２は、基材上に多孔質構造の層と光重合性着
色層と酸素遮断層とをこの順に有してなる画像形成材料
の断面図である。

【図３】図３は、基材上に多孔質構造の層と剥離層と光
重合性着色層と酸素遮断層とをこの順に有してなる画像
形成材料の断面図である。

【図４】図４は、基材上に多孔質構造の層とバリア層と
剥離層と光重合性着色層と酸素遮断層とをこの順に有し
てなる画像形成材料の断面図である。

【図５】図５は、基材上に多孔質構造の層と着色剤層と
光重合性層とをこの順に有してなる画像形成材料の断面
図である。

【図６】図６は、基材上に多孔質構造の層と着色剤層と
光重合性層と酸素遮断層とをこの順に有してなる画像形
成材料の断面図である。

【図７】図７は、基材上に多孔質構造の層と剥離層と着
色剤層と光重合性層と酸素遮断層とをこの順に有してな
る画像形成材料の断面図である。

【図８】図８は、基材上に多孔質構造の層とバリア層と
剥離層と着色剤層と光重合性層と酸素遮断層とをこの順
に有してなる画像形成材料の断面図である。

【符合の説明】

１ 基材 ２ 多孔質構造の層 ３ 光重合性着色層 ４ 酸素遮断層 ５ 剥離層 ６ バリア層 ７ 着色剤層 ８ 光重合性層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 駒村 大和良 東京都日野市さくら町１番地 コニカ株式 会社内

Claims (16)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 エチレン性不飽和結合を有する重合可能
   な化合物、光重合開始剤および着色剤を含有する光重合
   性着色層を基材上に積層した画像形成材料において、基
   材と光重合性着色層との間に多孔質構造の層を設けたこ
   とを特徴とする画像形成材料。
2. 【請求項２】 多孔質構造の層が、樹脂を溶媒に溶解
   し、基材の表面に塗布した後に溶媒のみを溶解する液中
   に通して乾燥し形成した層である前記請求項１に記載の
   画像形成材料。
3. 【請求項３】 光重合性着色層と多孔質構造の層との間
   に更に剥離層を設けてなる前記請求項２に記載の画像形
   成材料。
4. 【請求項４】 剥離層と多孔質構造の層との間に更にバ
   リア層を設けてなる前記請求項３に記載の画像形成材
   料。
5. 【請求項５】 光重合性着色層の上に更に透明な酸素遮
   断層を設けてなる前記請求項１〜４のいずれかに記載の
   画像形成材料。
6. 【請求項６】 酸素遮断層が樹脂フィルムからなる前記
   請求項５に記載の画像形成材料。
7. 【請求項７】 エチレン性不飽和結合を有する重合可能
   な化合物、光重合開始剤を含有する光重合性層及び着色
   剤を含有する着色剤層を基材上に積層した画像形成材料
   において、基材上に多孔質構造の層を設け、その上に光
   重合性層及び着色剤層を設けたことを特徴とする画像形
   成材料。
8. 【請求項８】 多孔質構造の層が、樹脂を溶媒に溶解
   し、基材の表面に塗布した後に溶媒のみを溶解する液中
   に通して乾燥し形成した層である前記請求項７に記載の
   画像形成材料。
9. 【請求項９】 多孔質構造の層、着色材層及び光重合性
   層を基材上にこの順に積層してなる前記請求項８に記載
   の画像形成材料。
10. 【請求項１０】 多孔質構造の層と着色材層との間に更
    に剥離層を設けてなる前記請求項９に記載の画像形成材
    料。
11. 【請求項１１】 剥離層と多孔質構造の層との間に更に
    バリア層を設けてなる前記請求項８〜１０のいずれかに
    記載の画像形成材料。
12. 【請求項１２】 着色剤層の上に更に透明な酸素遮断層
    を設けてなる前記請求項８〜１１のいずれかに記載の画
    像形成材料。
13. 【請求項１３】 酸素遮断層が樹脂フィルムからなる前
    記請求項１２に記載の画像形成材料。
14. 【請求項１４】 樹脂を溶媒に溶解した溶液を基材の表
    面に塗布した後に、溶媒のみを溶解する液中に浸漬し、
    乾燥して多孔質構造の層を形成することを特徴とする画
    像形成材料の製造方法。
15. 【請求項１５】 前記多孔質構造の層を形成した後に、
    塗工法もしくは樹脂層転写法によりバリヤ層を形成した
    後に、および／またはカレンダーロールにより表面を平
    滑化処理した後に直接もしくは剥離層を介して光重合性
    着色層または光重合性層及び着色剤層を積層形成する前
    記請求項１４に記載の画像形成材料の製造方法。
16. 【請求項１６】 前記光重合着色層または着色剤層の表
    面に酸素遮断層を形成する前記請求項１５に記載の画像
    形成材料の製造方法。