JPH069460A - ジ保護２，３−ヒドロキシメチルシクロブタノールの製造法 - Google Patents

ジ保護２，３−ヒドロキシメチルシクロブタノールの製造法

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JPH069460A
JPH069460A JP5122495A JP12249593A JPH069460A JP H069460 A JPH069460 A JP H069460A JP 5122495 A JP5122495 A JP 5122495A JP 12249593 A JP12249593 A JP 12249593A JP H069460 A JPH069460 A JP H069460A
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JP5122495A
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Janak Singh
ジャナック・シン
Gregory S Bisacchi
グレゴリー・エス・ビサッチ
Richard H Mueller
リチャード・エイチ・ミュラー
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Bristol Myers Squibb Co
ER Squibb and Sons LLC
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Bristol Myers Squibb Co
ER Squibb and Sons LLC
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    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02—Silicon compounds
    • C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
    • C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
    • C07F7/1872—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20
    • C07F7/1892—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20 by reactions not provided for in C07F7/1876 - C07F7/1888
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C67/00—Preparation of carboxylic acid esters
    • C07C67/28—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the hydroxylic moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group
    • C07C67/29—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the hydroxylic moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group by introduction of oxygen-containing functional groups

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Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は抗菌剤の製造中間体として有用なシ
クロブタノール化合物の改良製造法を提供する。 【構成】 本発明の製造法は、式： 【化１】 のシクロブタノン化合物を、ジアルキルアルミニウムク
ロリド、アルキルアルミニウムジクロリド、トリアルキ
ルアルミニウム化合物、ルテニウムブラックまたはルテ
ニウム／アルミナ触媒の存在下の水素、トリス（トリフ
ェニルホスフィン）ロジウム（Ｉ）クロリドの存在下の
ジフェニルシラン、および亜リン酸の存在下のイリジウ
ムテトラクロリドの群から選ばれる還元剤で処理して、
式： 【化２】 の目的とするシクロブタノール化合物を得ることを特徴
とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はジ保護２,３−ヒドロキ
シメチルシクロブタノールの製造法、更に詳しくは、特
定の保護されたシクロブタノンと還元剤を反応させるこ
とから成る、抗菌剤の製造中間体として有用なシクロブ
タノール化合物の改良製造法に関する。
【０００２】
【発明の構成】本発明に係る製造法は、式：
【化５】 （式中、Ｐrotは保護基である）で示されるジ保護２,３
−ヒドロキシメチルシクロブタノール（Ｉ）の製造法で
あって、式：
【化６】 のシクロブタノン化合物（ＩＩ）を、ジアルキルアルミ
ニウムクロリド、アルキルアルミニウムジクロリド、ト
リアルキルアルミニウム化合物、ルテニウムブラックま
たはルテニウム／アルミナ触媒の存在下の水素、トリス
（トリフェニルホスフィン）ロジウム（Ｉ）クロリドの
存在下のジフェニルシラン、および亜リン酸の存在下の
イリジウムテトラクロリドの群から選ばれる還元剤で処
理することにより、望ましくない式：
【化７】 の異性体化合物に優先して、所望の式（Ｉ）のシクロブ
タノール化合物を得ることを特徴とする。
【０００３】本発明の製造法において、シクロブタノン
化合物（ＩＩ）をその光学活性（２Ｓ−トランス）体
（以下、［２Ｓ，３Ｓ］で称すこともある）で使用しう
る。この場合、所望のシクロブタノール化合物（Ｉ）
も、光学活性、すなわち、［１Ｓ−（１α，２β，３
β）］となる。この光学活性なシクロブタノール化合物
（Ｉ）は、光学活性抗菌剤、たとえば［１Ｒ−（１α，
２β，３α）］−２−アミノ−９−［２,３−ビス（ヒ
ドロキシメチル）シクロブチル］−１,９−ジヒドロ−
６Ｈ−プリン−６−オンに変換することができる。
【０００４】また本発明の製造法において、シクロブタ
ノン化合物（ＩＩ）をラセミ化合物で使用することもで
き、この場合、所望のシクロブタノール化合物（Ｉ）は
光学活性、すなわち、（１α，２β，３β）となる。こ
のラセミ体のシクロブタノール化合物（Ｉ）は、ラセミ
体の抗菌剤、たとえば（±）−（１α，２β，３α）−
２−アミノ−９−［２,３−ビス（ヒドロキシメチル）
シクロブチル］−１,９−ジヒドロ−６Ｈ−プリン−６
−オンに変換することができる。
【０００５】式（Ｉ）のジ保護２,３−ヒドロキシメチ
ルシクロブタノールにおいて、シクロブチル環上の置換
基の相対的立体化学によれば、ヒドロキシ置換基は隣位
の−ＣＨ2−Ｏ−Ｐrot置換基に対しシスの位置にあり、
また２つの−ＣＨ2−Ｏ−Ｐrot置換基は互いにトランス
の位置にあるということが示される。
【０００６】上記シクロブタノン化合物（ＩＩ）を、ジ
アルキルアルミニウムクロリド（たとえばジイソブチル
アルミニウムクロリド）、アルキルアルミニウムジクロ
リド（たとえばイソブチルアルミニウムジクロリド）、
トリアルキルアルミニウム化合物（たとえばトリイソブ
チルアルミニウム）、ルテニウムブラックまたはルテニ
ウム／アルミナ触媒の存在下の水素、トリス（トリフェ
ニルホスフィン）ロジウム（Ｉ）クロリドの存在下のジ
フェニルシラン、および亜リン酸の存在下のイリジウム
テトラクロリドの群から選ばれる還元剤で処理すること
により、望ましくない異性体化合物（ＩＩＩ）に優先し
て、所望の目的とする式（Ｉ）のジ保護２,３−ヒドロ
キシメチルシクロブタノールが得られる。
【０００７】なお、「アルキル」とは、炭素数１〜２
０、好ましくは３〜１０の直鎖または分枝鎖基を指称す
る。
【０００８】Ｐrotはヒドロキシ保護基である。適当な
保護基としては、ヒンダードシリル基、たとえばｔ−ブ
チルジメチルシリル、ｔ−ブチルジフェニルシリル、
（トリフェニルメチル）ジメチルシリル、メチルジイソ
プロピルシリルおよびトリイソプロピルシリルが挙げら
れる。また適当な保護基として、ベンジルおよび置換ベ
ンジル基、たとえばｐ−メトキシベンジルおよび式：
【化８】 （式中、Ｒ1は炭素数１〜６の直鎖または分枝鎖低級ア
ルキルまたはフェニルである）のアシル基も挙げられ、
好ましいアシル保護基はＲ1がフェニルのベンゾイルで
ある。
【０００９】本発明の製造法で用いる還元剤がジアルキ
ルアルミニウムクロリドであるとき、適当な反応溶媒と
しては、塩化メチレン、トルエンなどの反応しない中性
溶媒が挙げられる。反応は、約−９０℃〜溶媒沸点、好
ましくは約−９０〜０℃、最も好ましくは約−４０℃の
温度で行うことができる。
【００１０】本発明の製造法で用いる還元剤がアルキル
アルミニウムジクロリド（たとえばイソブチルアルミニ
ウムジクロリド）またはトリアルキルアルミニウム化合
物（たとえばトリイソブチルアルミニウム）であると
き、適当な反応溶媒としては、塩化メチレン、トルエン
などの反応しない中性溶媒が挙げられる。反応は、約−
９０℃〜溶媒沸点、好ましくは約−９０〜０℃の温度で
行うことができる。使用する還元剤がトリアルキルアル
ミニウム化合物のときは、保護基Ｐrotはベンゾイルで
あってはならない。
【００１１】本発明の製造法で用いる還元剤が亜リン酸
の存在下のイリジウムテトラクロリドであるとき、適当
な反応溶媒としては、水、メタノール、プロパノール、
イソプロパノール等またはこれらの混合物（たとえば水
／イソプロパノール）などのヒドロキシル溶媒が挙げら
れる。反応は、約５０〜１００℃、最も好ましくは約８
０℃の温度で行うことができる。
【００１２】本発明の製造法で用いる還元剤がルテニウ
ムブラック触媒の存在下の水素であるとき、適当な反応
溶媒としては、メタノール、イソプロパノールまたはこ
れらの混合物などのヒドロキシル溶媒（好ましくはメタ
ノール）が挙げられる。
【００１３】本発明の製造法で用いる還元剤がルテニウ
ム／アルミナ触媒の存在下の水素であるとき、適当な反
応溶媒としては、ヒドロキシル溶媒、たとえばメタノー
ル（これが好ましい）、エタノール等が挙げられる（但
し、イソプロパノールを除く）。反応は、約−９０℃〜
溶媒沸点、好ましくは０〜５０℃、最も好ましくは約２
５℃の温度で行うことができる。
【００１４】本発明の製造法で用いる還元剤がトリス
（トリフェニルホスフィン）ロジウム（Ｉ）クロリドの
存在下のジフェニルシランであるとき、適当な反応溶媒
としては、ベンゼン、トルエン、ヘキサン、シクロヘキ
サン等（好ましくはトルエン）が挙げられ、あるいは別
法として、溶媒の非存在下で反応を行うこともできる。
反応を溶媒存在下で行う場合、約０℃〜溶媒沸点、好ま
しくは約２５℃の温度で反応を行う。反応を溶媒なしで
行う場合、約０〜１２０℃の温度で反応を行う。
【００１５】本発明の好ましい製造法において、還元剤
はジアルキルアルミニウムクロリド、最も好ましくはジ
イソブチルアルミニウムクロリド、保護基Ｐrotはベン
ゾイル、および出発物質のシクロブタノン化合物（Ｉ
Ｉ）は光学活性な（２Ｓ−トランス）体である。
【００１６】式（ＩＩ）の光学活性（２Ｓ−トランス）
ジ保護２,３−ヒドロキシメチルシクロブタノンは、ビ
サッチらのＵ.Ｓ.特許Ｎｏ.５０６４９６１、ノルベッ
クらのヨーロッパ特許出願Ｎｏ.３６６０５９、イチカ
ワらのヨーロッパ特許出願Ｎｏ.３５８１５４、パリザ
らのヨーロッパ特許出願Ｎｏ.４５２７２９、またはア
マッドのヨーロッパ特許出願Ｎｏ.４５８６４３の記載
に従って製造することができる。式（ＩＩ）のラセミ体
の（トランス）−ジ保護２,３−ヒドロキシメチルシク
ロブタノンは、スラシャーシク（Ｓlusarchyk）らのヨ
ーロッパ特許出願Ｎｏ.３３５３５５並びに上述のノル
ベックらおよびイチカワらのヨーロッパ特許出願の記載
に従って製造することができる。光学活性シクロブタノ
ン化合物（ＩＩ）の他の製造法は、ゴッドフレイらの
Ｕ.Ｓ.特許Ｎｏ.５１８５４６３に記載されている。
【００１７】ビサッチらのＵ.Ｓ.特許Ｎｏ.５０６４９
６１に開示の如く、式（Ｉ）の光学活性［１Ｓ−（１
α，２β，３β）］ジ保護２,３−ヒドロキシメチルシ
クロブタノールを塩化トシルで処理することにより、
式：
【化９】 のシクロブタン化合物（ＩＶ）を得ることができる。
【００１８】次いでシクロブタン化合物（ＩＶ）を、
式：
【化１０】 のベンジルオキシグアニジン（Ｖ）で処理して、式：
【化１１】 の化合物（ＶＩ）を得る。
【００１９】化合物（ＶＩ）の保護基を脱離することに
より、抗菌剤である［１Ｒ−（１α，２β，３α）］−
２−アミノ−９−［２,３−ビス（ヒドロキシメチル）
シクロブチル］−１,９−ジヒドロ−６Ｈ−プリン−６
−オンを得る。
【００２０】
【実施例】次に挙げる実施例は、本発明製造法の具体例
である。 実施例１ ［１Ｓ−（１α，２β，３β）］−３−ヒドロキシ−
１,２−シクロブタンジメタノール・ジベンゾエートエ
ステルの製造：−機械式撹拌機、内部デジタル式温度
計、滴下漏斗、および窒素入口を備えた３ｌの三ツ首フ
ラスコに、２３８５ｍｌの無水塩化メチレンを充填す
る。−４０℃に冷却後、ジイソブチルアルミニウムクロ
リド（１５６.６ｇ、８８６ミリモル、１.２７モル当
量）を加える。この冷溶液に、塩化メチレン（６００ｍ
ｌ）中の（２Ｓ−トランス）−２,３−ビス［（ベンゾ
イルオキシ）メチル］シクロブタノン（２３５ｇ、６９
９ミリモル）の溶液を滴下漏斗で、６３分にわたって滴
下する。反応液を−４０℃でさらに７０分間維持する。
メタノール（５０２ｍｌ）をゆっくり加えて、反応を抑
える。反応を抑えている間、温度は１時間にわたって、
約−４０℃から−３２℃まで上昇する。冷却浴を取除
き、飽和塩化アンモニウム水溶液（５０２ｍｌ）を加え
る。１８時間撹拌後、混合物を無水硫酸マグネシウム
（５０２ｇ）で濾過し、濾過ケーキを塩化メチレンで完
全に洗う。濾液を減圧濃縮し、残渣をポンプ吸引下３５
℃で乾燥して、２８７.３ｇの粗生成物を得る。少し湿
った固体を約２ｌのメタノールおよび約４００ｍｌの水
より結晶化して、１６０.６ｇ（収率６８％）の［１Ｓ
−（１α，２β，３β）］−３−ヒドロキシ−１,２−
シクロブタンジメタノール・ジベンゾエートエステルを
得る。ｍ.ｐ.７５〜７７℃、ＴＬＣ（シリカゲル、４０
％酢酸エチル／ヘキサン），Ｒｆ＝０.３９、［α］D＝
−１５.３°（Ｃ＝１.１、クロロホルム）、ＨＰＬＣ：
ＨＩ（２１５ｎｍ、ゾラバックス（Ｚorabax）−シアノ
カラム、水／アセトニトリル勾配）９９.５％。元素分析 （Ｃ20Ｈ20Ｏ5として） 計算値：Ｃ ７０.３８、Ｈ ５.９４、Ｈ2Ｏ ０.２７ 実測値：Ｃ ６９.９２、Ｈ ５.８７、Ｈ2Ｏ ０.２７
【００２１】実施例２ ［１Ｓ−（１α，２β，３β）］−３−ヒドロキシ−
１,２−シクロブタンジメタノール・ジベンジルエーテ
ルの製造：−イソブチルアルミニウムクロリドの０.７
１Ｍヘキサン溶液（３.４１ｍｌ、２.４２ミリモル）に
−７８℃にて、トルエン（１ｍｌ）中の（２Ｓ−トラン
ス）−２,３−ビス［（ベンジルオキシ）メチル］シク
ロブタノン（０.５ｇ、１.６１ミリモル）を滴下する。
混合物を２時間にわたって室温まで徐々に加温せしめ
る。室温で３０分間撹拌後、混合物を０℃で一夜静置す
る。酢酸エチルで希釈後、反応混合物に１０％塩酸を加
えて、反応を抑える。有機相を塩水で洗い、乾燥（硫酸
マグネシウム）し、溶媒蒸発して、［１Ｓ−（１α，２
β，３β）］−３−ヒドロキシ−１,２−シクロブタン
ジメタノール・ジベンジルエーテルを得る。ＴＬＣ（５
０％酢酸エチル／ヘキサン），Ｒｆ＝０.５３。
【００２２】実施例３ ［１Ｓ−（１α，２β，３β）］−３−ヒドロキシ−
１,２−シクロブタンジメタノール・ジベンジルエーテ
ルの製造：−トルエン（２ｍｌ）中のトリイソブチルア
ルミニウム（０.９１Ｍヘキサン溶液、０.９ｍｌ、０.
８１６ミリモル）の溶液に−４０℃にて、トルエン（４
ｍｌ）中の（２Ｓ−トランス）−２,３−ビス［（ベン
ジルオキシ）メチル］シクロブタノン（０.２ｇ、０.６
４５ミリモル）の溶液を１０分にわたって滴下する。混
合物を−５０℃で４時間および−４０℃で１時間撹拌す
る。反応混合物に、トリイソブチルアルミニウム溶液
（１ｍｌ、０.９１ミリモル）を加える。３０分間撹拌
後、−４０℃にて１０％塩酸（２ｍｌ）を加えて反応を
抑える。有機相を塩水で洗い、乾燥（硫酸マグネシウ
ム）し、溶媒蒸発して、［１Ｓ−（１α，２β，３
β）］−３−ヒドロキシ−１,２−シクロブタンジメタ
ノール・ジベンジルエーテルを得る。ＴＬＣ（３０％酢
酸エチル／ヘキサン），Ｒｆ＝０.３。生成物は約５％
の異性体化合物を含有する。ＴＬＣ（３０％酢酸エチル
／ヘキサン），Ｒｆ＝０.２。
【００２３】実施例４ ［１Ｓ−（１α，２β，３β）］−３−ヒドロキシ−
１,２−シクロブタンジメタノール・ジベンジルエーテ
ルの製造：−イソプロパノール（３ｍｌ）中の（２Ｓ−
トランス）−２,３−ビス［（ベンジルオキシ）メチ
ル］シクロブタノン（０.２５ｇ、０.８０６ミリモ
ル）、イリジウムテトラクロリド（０.０１６ｇ、０.０
４８３ミリモル）、亜リン酸（０.３９７ｇ、４.８４ミ
リモル）および水（０.３ｍｌ）の混合物を、一夜還流
する。溶媒を回転エバポレータで蒸発する。残渣を酢酸
エチルに溶かし、１０％塩酸、塩水、および５％重炭酸
ナトリウムで連続して洗う。有機層を乾燥（硫酸マグネ
シウム）し、溶媒蒸発して、［１Ｓ−（１α，２β，３
β）］−３−ヒドロキシ−１,２−シクロブタンジメタ
ノール・ジベンジルエーテルを得る。ＴＬＣ（４０％酢
酸エチル／ヘキサン），Ｒｆ＝０.５１。
【００２４】実施例５ （１α，２β，３β）−３−ヒドロキシ−１,２−シク
ロブタンジメタノール・ジベンゾエートエステルの製
造：−イソプロパノール（１ｍｌ）中のルテニウムブラ
ック（２０ｍｇ）の懸濁液を、予め１気圧の水素下室温
で１時間水素添加する。この混合物に、イソプロパノー
ル（１１ｍｌ）中の（トランス）−２,３−ビス［（ベ
ンゾイルオキシ）メチル］シクロブタノン（２００ｍ
ｇ）を加え、コンバインした混合物を１気圧の水素下室
温で撹拌する。２１時間後、ＨＰＬＣにより、（１α，
２β，３β）−３−ヒドロキシ−１,２−シクロブタン
ジメタノール・ジベンゾエートエステルと、異性体化合
物の（１α，２β，３α）−３−ヒドロキシ−１,２−
シクロブタンジメタノール・ジベンゾエートエステルが
８４：１６の比率で存在することが認められる。
【００２５】実施例６ （１α，２β，３β）−３−ヒドロキシ−１,２−シク
ロブタンジメタノール・ジベンゾエートエステルの製
造：−メタノール（２ｍｌ）中の（トランス）−２,３
−ビス［（ベンゾイルオキシ）メチル］シクロブタノン
（５０ｍｇ）および５％ルテニウム／アルミナ（１０ｍ
ｇ）の混合物を、１気圧の水素下室温で撹拌する。４６
時間後、ＨＰＬＣにより、（１α，２β，３β）−３−
ヒドロキシ−１,２−シクロブタンジメタノール・ジベ
ンゾエートエステルと、異性体化合物の（１α，２β，
３α）−３−ヒドロキシ−１,２−シクロブタンジメタ
ノール・ジベンゾエートエステルが７３：２７の比率で
存在することが認められる。
【００２６】実施例７ （１α，２β，３β）−３−ヒドロキシ−１,２−シク
ロブタンジメタノール・ジベンゾエートエステルの製
造：−トルエン（０.７５ｍｌ）中の（トランス）−２,
３−ビス［（ベンゾイルオキシ）メチル］シクロブタノ
ン（５０ｍｇ、０.１４８ミリモル）およびトリス−
（トリフェニルホスフィン）−ロジウム（Ｉ）クロリド
（１.４ｍｇ、０.００１５ミリモル）の撹拌溶液に、ジ
フェニルシラン（２７.４μｌ、０.１４８ミリモリ）を
滴下し、アルゴン雰囲気下室温で１５分間保持する。次
いで、反応混合物を濃縮して油状物とし、触媒量のｐ−
トルエンスルホン酸を含有する１０％水性メタノール
（１ｍｌ）と共に、室温で１時間撹拌する。混合物を濃
縮して油状物とし、これを水と酢酸エチル間に分配す
る。酢酸エチル層を飽和重炭酸ナトリウム水溶液および
塩水で洗い、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、溶媒を除
去して、５５ｍｇの透明油状物を得る。この油状物のＨ
ＰＬＣにより、（１α，２β，３β）−３−ヒドロキシ
−１,２−シクロブタンジメタノール・ジベンゾエート
エステルと、異性体化合物の（１α，２β，３α）−３
−ヒドロキシ−１,２−シクロブタンジメタノール・ジ
ベンゾエートエステルが８２：１８の比率で存在するこ
とが認められる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 グレゴリー・エス・ビサッチ アメリカ合衆国ニュージャージー州ローレ ンスビル、テイラー・コート12133番 (72)発明者 リチャード・エイチ・ミュラー アメリカ合衆国ニュージャージー州リンゴ ーズ、リンドバーグ・ロード66番

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 式： 【化１】 （式中、ヒドロキシ置換基は隣位の−ＣＨ2−Ｏ−Ｐrot
    置換基に対しシスの位置にあり、２つの−ＣＨ2−Ｏ−
    Ｐrot置換基は互いにトランスの位置にある）で示され
    る化合物の製造法であって、式： 【化２】 の化合物を、ジアルキルアルミニウムクロリド、アルキ
    ルアルミニウムジクロリド、トリアルキルアルミニウム
    化合物、ルテニウムブラックまたはルテニウム／アルミ
    ナ触媒の存在下の水素、トリス（トリフェニルホスフィ
    ン）ロジウム（Ｉ）クロリドの存在下のジフェニルシラ
    ン、および亜リン酸の存在下のイリジウムテトラクロリ
    ドの群から選ばれる還元剤で処理し、ここで、アルキル
    は炭素数１〜２０の直鎖または分枝鎖基、Ｐrotはヒン
    ダードシリル基、ベンジル、置換ベンジルまたは 【化３】 、Ｒ1は炭素数１〜６の直鎖または分枝鎖低級アルキル
    またはフェニル、但し、還元剤がトリアルキルアルミニ
    ウム化合物のとき、Ｐrotは 【化４】 ではないことを特徴とする製造法。
  2. 【請求項２】 還元剤がジアルキルアルミニウムクロリ
    ド、アルキルが炭素数３〜１０の直鎖または分枝鎖基、
    およびＰrotがｔ−ブチルジメチルシリル、ｔ−ブチル
    ジフェニルシリル、（トリフェニルメチル）ジメチルシ
    リル、メチルジイソプロピルシリルおよびトリイソプロ
    ピルシリルの群から選ばれるヒンダードシリル、もしく
    はＰrotがベンジル、ｐ−メトキシベンジルまたはベン
    ゾイルである請求項１に記載の製造法。
  3. 【請求項３】 還元剤がジイソブチルアルミニウムクロ
    リドおよびＰrotがベンゾイルであって、塩化メチレン
    およびトルエンの群から選ばれる中性溶媒の存在下、約
    −９０℃〜溶媒沸点の温度で反応を行う請求項２に記載
    の製造法。
  4. 【請求項４】 還元剤がアルキルアルミニウムジクロリ
    ド、アルキルが炭素数３〜１０の直鎖または分枝鎖基、
    およびＰrotがｔ−ブチルジメチルシリル、ｔ−ブチル
    ジフェニルシリル、（トリフェニルメチル）ジメチルシ
    リル、メチルジイソプロピルシリルおよびトリイソプロ
    ピルシリルの群から選ばれるヒンダードシリル、もしく
    はＰrotがベンジル、ｐ−メトキシベンジルまたはベン
    ゾイルである請求項１に記載の製造法。
  5. 【請求項５】 還元剤がイソブチルアルミニウムジクロ
    リドであって、塩化メチレンおよびトルエンの群から選
    ばれる中性溶媒の存在下、約−９０℃〜溶媒沸点の温度
    で反応を行う請求項４に記載の製造法。
  6. 【請求項６】 還元剤がトリアルキルアルミニウム化合
    物、アルキルが炭素数３〜１０の直鎖または分枝鎖基、
    およびＰrotがｔ−ブチルジメチルシリル、ｔ−ブチル
    ジフェニルシリル、（トリフェニルメチル）ジメチルシ
    リル、メチルジイソプロピルシリルおよびトリイソプロ
    ピルシリルの群から選ばれるヒンダードシリル、もしく
    はＰrotがベンジルまたはｐ−メトキシベンジルである
    請求項１に記載の製造法。
  7. 【請求項７】 還元剤がトリイソブチルアルミニウムで
    あって、塩化メチレンおよびトルエンの群から選ばれる
    中性溶媒の存在下、約−９０℃〜溶媒沸点の温度で反応
    を行う請求項６に記載の製造法。
  8. 【請求項８】 還元剤がルテニウムブラックの存在下の
    水素、およびＰrotがｔ−ブチルジメチルシリル、ｔ−
    ブチルジフェニルシリル、（トリフェニルメチル）ジメ
    チルシリル、メチルジイソプロピルシリルおよびトリイ
    ソプロピルシリルの群から選ばれるヒンダードシリル、
    もしくはＰrotがベンジル、ｐ−メトキシベンジルまた
    はベンゾイルであって、メタノール、イソプロパノール
    およびこれらの混合物の群から選ばれる溶媒中、約−９
    ０℃〜溶媒沸点の温度で反応を行うか；または還元剤が
    ルテニウム／アルミニウムの存在下の水素、およびＰro
    tがｔ−ブチルジメチルシリル、ｔ−ブチルジフェニル
    シリル、（トリフェニルメチル）ジメチルシリル、メチ
    ルジイソプロピルシリルおよびトリイソプロピルシリル
    の群から選ばれるヒンダードシリル、もしくはＰrotが
    ベンゾイルであって、メタノールおよびエタノールの群
    から選ばれる溶媒中、約−９０℃〜溶媒沸点の温度で反
    応を行う請求項１に記載の製造法。
  9. 【請求項９】 還元剤がトリス（トリフェニルホスフィ
    ン）ロジウム（Ｉ）クロリドの存在下のジフェニルシラ
    ン、およびＰrotがｔ−ブチルジメチルシリル、ｔ−ブ
    チルジフェニルシリル、（トリフェニルメチル）ジメチ
    ルシリル、メチルジイソプロピルシリルおよびトリイソ
    プロピルシリルの群から選ばれるヒンダードシリル、も
    しくはＰrotがベンジル、ｐ−メトキシベンジルまたは
    ベンゾイルであって、ベンゼン、トルエン、ヘキサンお
    よびシクロヘキサンの群から選ばれる溶媒中、約０℃〜
    溶媒沸点の温度で反応を行うか、または溶媒非存在下、
    約０〜１２０℃の温度で反応を行う請求項１に記載の製
    造法。
  10. 【請求項１０】 還元剤が亜リン酸の存在下のイリジウ
    ムテトラクロリド、およびＰrotがｔ−ブチルジメチル
    シリル、ｔ−ブチルジフェニルシリル、（トリフェニル
    メチル）ジメチルシリル、メチルジイソプロピルシリル
    およびトリイソプロピルシリルの群から選ばれるヒンダ
    ードシリル、もしくはＰrotがベンジル、ｐ−メトキシ
    ベンジルまたはベンゾイルであって、水、メタノール、
    プロパノール、イソプロパノールおよびこれらの混合物
    の群から選ばれる溶媒の存在下、約５０〜１００℃の温
    度で反応を行う請求項１に記載の製造法。
JP5122495A 1992-05-26 1993-05-25 ジ保護２，３−ヒドロキシメチルシクロブタノールの製造法 Withdrawn JPH069460A (ja)

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