JPH0694262A - クリーンルームの温湿度制御装置 - Google Patents
クリーンルームの温湿度制御装置Info
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- JPH0694262A JPH0694262A JP26556492A JP26556492A JPH0694262A JP H0694262 A JPH0694262 A JP H0694262A JP 26556492 A JP26556492 A JP 26556492A JP 26556492 A JP26556492 A JP 26556492A JP H0694262 A JPH0694262 A JP H0694262A
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- Japan
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 外調機によって一次温湿度制御及び清浄化の
施された空気をバックエリア用内調機に供給し、このバ
ックエリアより排出される空気の一部をベイエリア用内
調機の導入空気にすることで、クリーンルームの各エリ
ア内の温湿度制御を高精度に行えるようにする。 【構成】 温度及び湿度が管理され、更に清浄化された
空気をバックエリア１及びベイエリア２に供給するクリ
ーンルームにおいて、外気を取り込んで空調する外調機
５、この外調機５から供給される空気を所望の温湿度に
制御してバックエリア１に供給すると共に、該バックエ
リアとの間で空気を循環させる内調機１１、バックエリ
ア１からの空気を所望の温湿度に制御してベイエリア２
に供給すると共にベイエリア２との間で空気を循環させ
る内調機１２とを備えて構成する。
施された空気をバックエリア用内調機に供給し、このバ
ックエリアより排出される空気の一部をベイエリア用内
調機の導入空気にすることで、クリーンルームの各エリ
ア内の温湿度制御を高精度に行えるようにする。 【構成】 温度及び湿度が管理され、更に清浄化された
空気をバックエリア１及びベイエリア２に供給するクリ
ーンルームにおいて、外気を取り込んで空調する外調機
５、この外調機５から供給される空気を所望の温湿度に
制御してバックエリア１に供給すると共に、該バックエ
リアとの間で空気を循環させる内調機１１、バックエリ
ア１からの空気を所望の温湿度に制御してベイエリア２
に供給すると共にベイエリア２との間で空気を循環させ
る内調機１２とを備えて構成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、クリーンルーム内の温
度及び湿度を高精度に制御するための温湿度制御装置に
関するものである。
度及び湿度を高精度に制御するための温湿度制御装置に
関するものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体の製造においては、高清浄度の雰
囲気を要求する工程があり、このような現場にはクリー
ンルームが設置されている。一般にクリーンルームは、
出入口を備えた密閉空間を有する構造体、この構造体の
天井面に設置されると共に供給される空気中の塵埃や異
物を除去するフィルタ、このフィルタを経由して前記構
造体内の空気を循環させる循環路（ダクトなど）、及び
この循環路内に湿度及び温度を適正に管理した空気を送
り込む空調設備などから構成されている。
囲気を要求する工程があり、このような現場にはクリー
ンルームが設置されている。一般にクリーンルームは、
出入口を備えた密閉空間を有する構造体、この構造体の
天井面に設置されると共に供給される空気中の塵埃や異
物を除去するフィルタ、このフィルタを経由して前記構
造体内の空気を循環させる循環路（ダクトなど）、及び
この循環路内に湿度及び温度を適正に管理した空気を送
り込む空調設備などから構成されている。
【０００３】また、近年においては、図２に示すよう
に、内部を複数に区分、例えば、ベイエリア２（ウエハ
が取り扱われる高清浄度の領域であり、露光、エッチン
グなどのための装置類が設置される領域）と、バックエ
リア１（人が出入りしてベイエリア２の壁際に設置した
機器を保守・点検するための領域）に衝立部材によって
区分し、その各エリアを個別に清浄化するクリーンルー
ム３が主流になりつつある。これは半導体の高密度集積
化及び大容量化の傾向に伴うものである。
に、内部を複数に区分、例えば、ベイエリア２（ウエハ
が取り扱われる高清浄度の領域であり、露光、エッチン
グなどのための装置類が設置される領域）と、バックエ
リア１（人が出入りしてベイエリア２の壁際に設置した
機器を保守・点検するための領域）に衝立部材によって
区分し、その各エリアを個別に清浄化するクリーンルー
ム３が主流になりつつある。これは半導体の高密度集積
化及び大容量化の傾向に伴うものである。
【０００４】図３は従来のクリーンルームの温湿度制御
装置を示すブロック図である。
装置を示すブロック図である。
【０００５】外気４を取り込んで大雑把な温湿度制御
（一次温湿度制御及び一次浄化）を行うために外調機５
（図示を省略しているが、フィルタを内蔵している）が
設けられている。この外調機５には、その空調出力に対
して二次温湿度制御を行うための内調機６が接続されて
いる。内調機６は２つの空気循環系を有し、１つはバッ
クエリア１に接続され、他はベイエリア２に接続されて
おり、その各エリアとの間にフィルタ７及び８が設置さ
れている。バックエリア１に導入された空気の一部は排
気９として室外に取り出され、他は内調機６に戻され
る。同様に、ベイエリア２に導入された空気の一部は排
気１０として室外に取り出され、他は内調機６に戻され
る。
（一次温湿度制御及び一次浄化）を行うために外調機５
（図示を省略しているが、フィルタを内蔵している）が
設けられている。この外調機５には、その空調出力に対
して二次温湿度制御を行うための内調機６が接続されて
いる。内調機６は２つの空気循環系を有し、１つはバッ
クエリア１に接続され、他はベイエリア２に接続されて
おり、その各エリアとの間にフィルタ７及び８が設置さ
れている。バックエリア１に導入された空気の一部は排
気９として室外に取り出され、他は内調機６に戻され
る。同様に、ベイエリア２に導入された空気の一部は排
気１０として室外に取り出され、他は内調機６に戻され
る。
【０００６】以上の構成において、まず、外調機５によ
り外気４が取り込まれ、この外気４に対して一次温湿度
制御及びフィルタリングが施され、その空調された空気
は内調機６に送り込まれる。この内調機６では、バック
エリア１及びベイエリア２が必要とする温度及び湿度に
空調制御した空気をフィルタ７，８に供給する。フィル
タ７，８で清浄化された空気はバックエリア１及びベイ
エリア２に導入され、各エリア内の汚れた空気が内調機
６に戻されると共に一部がクリーンルーム３の外へ排出
される。
り外気４が取り込まれ、この外気４に対して一次温湿度
制御及びフィルタリングが施され、その空調された空気
は内調機６に送り込まれる。この内調機６では、バック
エリア１及びベイエリア２が必要とする温度及び湿度に
空調制御した空気をフィルタ７，８に供給する。フィル
タ７，８で清浄化された空気はバックエリア１及びベイ
エリア２に導入され、各エリア内の汚れた空気が内調機
６に戻されると共に一部がクリーンルーム３の外へ排出
される。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記した従来
技術にあっては、各エリアの空調を行う空調機を外調機
と内調機に分けて２段階に空調を行っているが、これに
よる温湿度は温度±２℃、湿度±５％程度が限度であ
り、高密度化に伴って要求される制御値（例えば、温度
±１℃、湿度±３％）に応えられないという問題があ
る。例えば、温度制御が高精度に行われないと露光光学
系の伸縮を招き、露光ウエハ上での縮尺を狂わせる原因
になり、所望の製品が作れなくなる。
技術にあっては、各エリアの空調を行う空調機を外調機
と内調機に分けて２段階に空調を行っているが、これに
よる温湿度は温度±２℃、湿度±５％程度が限度であ
り、高密度化に伴って要求される制御値（例えば、温度
±１℃、湿度±３％）に応えられないという問題があ
る。例えば、温度制御が高精度に行われないと露光光学
系の伸縮を招き、露光ウエハ上での縮尺を狂わせる原因
になり、所望の製品が作れなくなる。
【０００８】仮に、前記仕様を達成しようとすれば、空
調機の能力を大幅に強化しなければならず、設備コスト
の増大及び設置スペースの拡大を招くことになり、実現
性に乏しい。
調機の能力を大幅に強化しなければならず、設備コスト
の増大及び設置スペースの拡大を招くことになり、実現
性に乏しい。
【０００９】本発明の目的は、クリーンルームの各エリ
ア内の温湿度制御を高精度に行えるようにするクリーン
ルームの温湿度制御装置を提供することにある。
ア内の温湿度制御を高精度に行えるようにするクリーン
ルームの温湿度制御装置を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、この発明は、温度及び湿度が管理され、更に清浄
化された空気をバックエリア及びベイエリアに供給する
クリーンルームにおいて、外気を取り込んで空調する外
調機と、この外調機から供給される空気を所望の温湿度
に制御して前記バックエリアに供給すると共に、該バッ
クエリアとの間で空気を循環させる少なくとも１つのバ
ックエリア用内調機と、前記バックエリアからの空気を
所望の温湿度に制御して前記ベイエリアに供給すると共
に該ベイエリアとの間で空気を循環させる少なくとも１
つのベイエリア用内調機とを設けるようにしている。
めに、この発明は、温度及び湿度が管理され、更に清浄
化された空気をバックエリア及びベイエリアに供給する
クリーンルームにおいて、外気を取り込んで空調する外
調機と、この外調機から供給される空気を所望の温湿度
に制御して前記バックエリアに供給すると共に、該バッ
クエリアとの間で空気を循環させる少なくとも１つのバ
ックエリア用内調機と、前記バックエリアからの空気を
所望の温湿度に制御して前記ベイエリアに供給すると共
に該ベイエリアとの間で空気を循環させる少なくとも１
つのベイエリア用内調機とを設けるようにしている。
【００１１】
【作用】上記した手段によれば、外調機によって一次温
湿度制御及び清浄化の施された空気がバックエリア用内
調機に供給され、このバックエリアより排出される空気
の一部がベイエリア用内調機の導入空気にされ、ベイエ
リアとの間で循環使用される。したがって、ベイエリア
の空調は少なくとも３機の空調機（外調機，内調機）を
介して行われることになり、高精度の温湿度制御が行え
るようになる。
湿度制御及び清浄化の施された空気がバックエリア用内
調機に供給され、このバックエリアより排出される空気
の一部がベイエリア用内調機の導入空気にされ、ベイエ
リアとの間で循環使用される。したがって、ベイエリア
の空調は少なくとも３機の空調機（外調機，内調機）を
介して行われることになり、高精度の温湿度制御が行え
るようになる。
【００１２】
【実施例】図１は本発明によるクリーンルームの温湿度
制御装置の一実施例を示すブロック図である。なお、図
３に示したと同一であるものには、同一引用数字を用い
たので、ここでは重複する説明を省略する。
制御装置の一実施例を示すブロック図である。なお、図
３に示したと同一であるものには、同一引用数字を用い
たので、ここでは重複する説明を省略する。
【００１３】本実施例は、内調機を各エリア毎に設けた
ところに特徴がある。すなわち、バックエリア１のため
に内調機１１を設けると共にベイエリア２のために内調
機１２を設け、外調機５の空調出力を内調機１１に導入
し、バックエリア１の空調出力を内調機１２に導くよう
にしている。この場合、内調機１１と内調機１２を合わ
せた空調能力は、ほぼ内調機６に等しいものとなる。
ところに特徴がある。すなわち、バックエリア１のため
に内調機１１を設けると共にベイエリア２のために内調
機１２を設け、外調機５の空調出力を内調機１１に導入
し、バックエリア１の空調出力を内調機１２に導くよう
にしている。この場合、内調機１１と内調機１２を合わ
せた空調能力は、ほぼ内調機６に等しいものとなる。
【００１４】内調機１１の循環系は、内調機１１→フィ
ルタ７→バックエリア１→内調機１１の経路を有し、こ
のバックエリア１内の空気の一部が排気９とは別に内調
機１２に導入される。内調機１２の循環系は、内調機１
２→フィルタ８→ベイエリア２→内調機１２の経路を有
し、一部が排気１０としてエリア外へ排出され、残りが
内調機１２に戻される。
ルタ７→バックエリア１→内調機１１の経路を有し、こ
のバックエリア１内の空気の一部が排気９とは別に内調
機１２に導入される。内調機１２の循環系は、内調機１
２→フィルタ８→ベイエリア２→内調機１２の経路を有
し、一部が排気１０としてエリア外へ排出され、残りが
内調機１２に戻される。
【００１５】本実施例においては、まず、外調機５によ
って所望の温度及び湿度の近傍の値に制御され、さらに
フィルタリングされた空調出力が内調機１１に供給され
る。この内調機１１はバックエリア１のみの空調を担当
し、その制御精度としては、例えば温度２５±３℃、湿
度５０±５％の能力であればよい。内調機１１の空調出
力は、フィルタ７によって除塵ののちバックエリア１に
送り込まれる。バックエリア１から排出される空気の大
部分は内調機１１及び内調機１２に送られ、一部のみが
排気９となって室外へ排出される。内調機１１に戻され
た汚染空気は、内調機１１によって再度空調が施された
後、再びフィルタ７を介してバックエリア１へ供給され
る。
って所望の温度及び湿度の近傍の値に制御され、さらに
フィルタリングされた空調出力が内調機１１に供給され
る。この内調機１１はバックエリア１のみの空調を担当
し、その制御精度としては、例えば温度２５±３℃、湿
度５０±５％の能力であればよい。内調機１１の空調出
力は、フィルタ７によって除塵ののちバックエリア１に
送り込まれる。バックエリア１から排出される空気の大
部分は内調機１１及び内調機１２に送られ、一部のみが
排気９となって室外へ排出される。内調機１１に戻され
た汚染空気は、内調機１１によって再度空調が施された
後、再びフィルタ７を介してバックエリア１へ供給され
る。
【００１６】バックエリア１から内調機１２に送り込ま
れた空気は、内調機１２において温度２５±１℃、湿度
５０±３％の高精度で空調が行われ、フィルタ７を介し
てベイエリア２に導入される。このように高精度の制御
が可能になるのは、既に準高精度の空調が施されたもの
に対して内調機１２による空調を行っていると共に、小
スペースのエリアに区分して空調対象を限定し、個別に
空調を行っていることにある。そして、外気に対するフ
ィルタリングは、外調機５、内調機１１及び内調機１２
の３段で行われるため、異物除去効果も従来に比べて高
くすることができる。上記したように、ベイエリア２で
は露光などを行うための加工機器は精密な光学系が設置
されており、その温度及び湿度は高精度に管理される必
要があるが、上記仕様（温度±１℃、湿度±３％）は、
現状の加工機器の性能に影響を与えることがない値であ
る。さらに、ベイエリア２から排出される空気は、一部
が排気１０となるが、他の大部分は内調機１２へ戻され
て再度空調が行われる。
れた空気は、内調機１２において温度２５±１℃、湿度
５０±３％の高精度で空調が行われ、フィルタ７を介し
てベイエリア２に導入される。このように高精度の制御
が可能になるのは、既に準高精度の空調が施されたもの
に対して内調機１２による空調を行っていると共に、小
スペースのエリアに区分して空調対象を限定し、個別に
空調を行っていることにある。そして、外気に対するフ
ィルタリングは、外調機５、内調機１１及び内調機１２
の３段で行われるため、異物除去効果も従来に比べて高
くすることができる。上記したように、ベイエリア２で
は露光などを行うための加工機器は精密な光学系が設置
されており、その温度及び湿度は高精度に管理される必
要があるが、上記仕様（温度±１℃、湿度±３％）は、
現状の加工機器の性能に影響を与えることがない値であ
る。さらに、ベイエリア２から排出される空気は、一部
が排気１０となるが、他の大部分は内調機１２へ戻され
て再度空調が行われる。
【００１７】なお、上記実施例では、内調機を２機にし
たが、２機に限らず任意数にすることが可能である。ま
た、温湿度を変動させる装置（加熱源など）をバックエ
リアに設けることで、ベイエリアにおける温湿度の制御
精度を向上させることができる。
たが、２機に限らず任意数にすることが可能である。ま
た、温湿度を変動させる装置（加熱源など）をバックエ
リアに設けることで、ベイエリアにおける温湿度の制御
精度を向上させることができる。
【００１８】
【発明の効果】以上説明した通り、この発明は、温度及
び湿度が管理され、更に清浄化された空気をバックエリ
ア及びベイエリアに供給するクリーンルームにおいて、
外気を取り込んで空調する外調機と、この外調機から供
給される空気を所望の温湿度に制御して前記バックエリ
アに供給すると共に該バックエリアとの間で空気を循環
させる少なくとも１つのバックエリア用内調機と、前記
バックエリアからの空気を所望の温湿度に制御して前記
ベイエリアに供給すると共に、該ベイエリアとの間で空
気を循環させる少なくとも１つのベイエリア用内調機と
を設けるようにしたので、ベイエリアの空調は少なくと
も３機の空調機を介して行われることになり、高精度の
温湿度制御及び高度の清浄化が行えるようになる。
び湿度が管理され、更に清浄化された空気をバックエリ
ア及びベイエリアに供給するクリーンルームにおいて、
外気を取り込んで空調する外調機と、この外調機から供
給される空気を所望の温湿度に制御して前記バックエリ
アに供給すると共に該バックエリアとの間で空気を循環
させる少なくとも１つのバックエリア用内調機と、前記
バックエリアからの空気を所望の温湿度に制御して前記
ベイエリアに供給すると共に、該ベイエリアとの間で空
気を循環させる少なくとも１つのベイエリア用内調機と
を設けるようにしたので、ベイエリアの空調は少なくと
も３機の空調機を介して行われることになり、高精度の
温湿度制御及び高度の清浄化が行えるようになる。
【図１】本発明によるクリーンルームの温湿度制御装置
の一実施例を示すブロック図である。
の一実施例を示すブロック図である。
【図２】複数のエリアを有するクリーンルームの一例を
示す平面図である。
示す平面図である。
【図３】従来のクリーンルームの温湿度制御装置を示す
ブロック図である。
ブロック図である。
１ バックエリア ２ ベイエリア ３ クリーンルーム ４ 外気 ５ 外調機 ７，８ フィルタ ９，１０ 排気 １１，１２ 内調機
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 土山 博志 千葉県富津市新富20−１ 新日本製鐵株式 会社技術開発本部内 (72)発明者 川上 寛明 千葉県富津市新富20−１ 新日本製鐵株式 会社技術開発本部内 (72)発明者 伏見 光雅 千葉県富津市新富20−１ 新日本製鐵株式 会社技術開発本部内 (72)発明者 中島 英二 東京都千代田区神田駿河台４−６ 株式会 社日立製作所内 (72)発明者 小西 俊一 東京都千代田区内神田１−１−14 日立プ ラント建設株式会社内
Claims (1)
- 【請求項１】 温度及び湿度が管理され、更に清浄化さ
れた空気をバックエリア及びベイエリアに供給するクリ
ーンルームにおいて、外気を取り込んで空調する外調機
と、この外調機から供給される空気を所望の温湿度に制
御して前記バックエリアに供給すると共に該バックエリ
アとの間で空気を循環させる少なくとも１つのバックエ
リア用内調機と、前記バックエリアからの空気を所望の
温湿度に制御して前記ベイエリアに供給すると共に該ベ
イエリアとの間で空気を循環させる少なくとも１つのベ
イエリア用内調機とを具備することを特徴とするクリー
ンルームの温湿度制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4265564A JP2657449B2 (ja) | 1992-09-09 | 1992-09-09 | クリーンルームの温湿度制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4265564A JP2657449B2 (ja) | 1992-09-09 | 1992-09-09 | クリーンルームの温湿度制御装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0694262A true JPH0694262A (ja) | 1994-04-05 |
| JP2657449B2 JP2657449B2 (ja) | 1997-09-24 |
Family
ID=17418868
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4265564A Expired - Fee Related JP2657449B2 (ja) | 1992-09-09 | 1992-09-09 | クリーンルームの温湿度制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2657449B2 (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62228826A (ja) * | 1986-03-31 | 1987-10-07 | Chiyoda Chem Eng & Constr Co Ltd | 動物飼育室脱臭排気システム |
-
1992
- 1992-09-09 JP JP4265564A patent/JP2657449B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62228826A (ja) * | 1986-03-31 | 1987-10-07 | Chiyoda Chem Eng & Constr Co Ltd | 動物飼育室脱臭排気システム |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2657449B2 (ja) | 1997-09-24 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19970506 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
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