JPH0676263B2 - 電子部品用グレーズ組成物 - Google Patents

電子部品用グレーズ組成物

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JPH0676263B2
JPH0676263B2 JP29148187A JP29148187A JPH0676263B2 JP H0676263 B2 JPH0676263 B2 JP H0676263B2 JP 29148187 A JP29148187 A JP 29148187A JP 29148187 A JP29148187 A JP 29148187A JP H0676263 B2 JPH0676263 B2 JP H0676263B2
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glaze
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順 荒木
静輝 橋本
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株式会社住友金属セラミックス
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C8/00Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
    • C03C8/02Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form
    • C03C8/10Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form containing lead
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2209/00Compositions specially applicable for the manufacture of vitreous glazes

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 イ.発明の目的 [産業上の利用分野] 本発明は、電子部品用のグレーズ組成物に関し、特にア
ルミナ基板上にグレーズ層を塗布して焼成してなるサー
マルヘッド用に最適で低温焼成の可能なグレーズ組成物
に係るものである。
[従来の技術] アルミナ基板上にグレーズ層を塗布して焼成したグレー
ズ基板は、平滑性、耐熱性、蓄熱性、耐酸・アルカリ性
に優れているためサーマルヘッド用等電子部品用グレー
ズ基板として広く利用されている。
このため、グレーズ層を形成するガラス成分の研究は広
く行われている。例えば特公昭49-39359ではSiO2-Al2O3
-BaO-CaO-ZnO-PbO-B2O3系ガラス等について、ガラス薄
層をアルミナ基板に塗布して1220〜1300℃の温度で焼成
している。そのガラスは軟化点800℃以上である。
また、特公昭57-30840ではガラス膜の組成として、SiO2
-Al2O3-CaO-BaO-PbO-アルカリ金属酸化物系ガラスにつ
いて,セラミック基板上に塗布し、1280〜1380℃で溶融
固着させて平滑、平坦で且つ均質なグレーズセラミック
基板を得ている。そのガラスは軟化点は950〜1050℃で
ある。
また、特公昭58-6283ではガラス膜の組成として、SiO2-
Al2O3-CaO-BaO-PbO-B2O3−アルカリ金属酸化物系ガラス
について,セラミック基板上に塗布し、1250〜1350℃で
溶融固着させて平滑、平坦でかつ均質なグレーズセラミ
ック基板を得ている。そのガラスの軟化点は960〜1080
℃である。
また、特公昭58-21833ではSiO2-Al2O3-BaO-CaO-B2O3-Na
2O-k2O系、SiO2-Al2O3-BaO-CaO-PbO-B2O3-Na2O-k2O系等
のガラスを被覆してグレーズ層を形成して成るサーマル
ヘッド用グレーズ基板を挙げていて、焼成温度について
の記載はないが、そのガラスの軟化点は前記それぞれの
系の記載例では840℃、700℃、780℃である。
また、特公昭58-28213ではSiO2-CaO(BaO)-PbO-Al2O3-B2
O3-Na2O(Li2O,K2O)系のガラス組成物をアルミナ基板よ
りは熱膨張係数の大きいチタン酸バリウムセラミック基
板に塗布して、約1000℃で焼成し、軟化点800℃以下の
グレーズ用組成物を提供している。
[発明が解決しようとする問題点] 本発明者等はアルミナ基板上に塗布するグレーズ組成に
ついて、電子部品用グレーズ基板として優れた特性を有
することは勿論であるが、生産コストの低減を計るため
に、より低い焼成温度で焼成するためのグレーズ組成物
について研究した。
一般により高い温度で焼成することによって優れた特性
のグレーズ基板が得られている。特に重要な特性である
耐熱性と平滑性においては焼成温度が低くなることによ
り特性の劣化は顕著である。
また、グレーズアルミナ基板では基板中のAl2O3分がグ
レーズ中に拡散することが知られている。一例として、
グレーズ中へのAl2O3の拡散について第2図にSiO2-Al2O
3-RO-B2O3系グレーズを使用して、焼成温度は1150℃の
例で示している。縦軸はアルミナ基板およびグレーズ主
成分のX線強度、横軸はグレーズとアラミナ基板との境
界からの深さ(μm)を示す。グレーズ基板をXMA(ED
A)でライン分析(測定条件は加速電圧15KV、ビーム径
1μmφ)を行ったところ、グレーズ成分の端部を基板
との境界であると設定するとアルミナ基板中のAlが比較
的低温の1150℃焼成でグレーズ中に拡散していること
と、境界部にBaが偏析していることが判る。
また、グレーズ組成として広く用いられてるSiO2-Al2O3
-RO-B2O3系は分相傾向が強いので境界部分や周辺部のグ
レーズ厚が薄い部分ではBaO・Al2O3・2SiO2やCaO・Al2O3・2
SiO2等のRO-Al2O3-2SiO2系結晶が析出する。このためグ
レーズ基板の平滑性において、グレーズ厚が60μm以下
の薄い場合や1200℃以上の高温での焼成では、前述の分
相傾向のためグレーズの平滑性が損なはれる。又グレー
ズの軟化点付近で焼成を繰返し行うと周辺部が結晶化
し、外観が艶消し(マット)になり商品価値が損なはれ
る欠点があった。
また、グレーズ基板の耐熱性に関しては厚膜型基板の製
造の際のAuペースト、抵抗ペーストの焼成温度は750〜8
30℃で約10分であるので、グレーズの軟化点は850〜900
℃が適切である。
以上のことからグレーズ基板として、1200℃以下の低い
焼成温度で且つグレーズの軟化点が850〜900℃のグレー
ズ組成物を開発する必要があった。
本発明は上述の従来の材料とは異なりアルミナ基板上の
グレーズを塗布したサーマルヘッド基板製造上必要な平
滑性、耐熱性、蓄熱性、耐酸性、アルカリ性等の特性を
維持し且つ可能限り焼成温度を低下できる最適なグレー
ズ組成物を提供しようとするものである。
ロ、発明の構成 [問題点を解決するための手段] 本発明は重量%でSiO2 50〜55%、Al2O3 7〜14%、RO 1
8〜28%(ただし、ROはMgOを0.5〜7%を必須とし且つC
aOまたはBaOの少なくとも1種以上の酸化物からな
る)、PbOは前記ROの23〜58%、B2O3 4〜5%,および
アルカリ金属酸化物0.5〜5%のグレーズ組成からなる
ことを特徴とする電子部品用グレーズ組成物を提供する
ものである。
以下に、本発明の組成について説明する。
低温で焼成するためにはSiO2分を少なくしアルカリ土類
酸化物、PbO分をそれぞれ増すことが考えられるが、こ
の方法で低温焼成が可能な組成では網目組成に対して中
間修飾成分が多くなるため、耐熱性の劣化が避けられな
い。発明者等はこの点につき鋭意研究の結果、第1図に
示すように、PbO/ROに対する割合を28〜58重量%の範囲
であれば軟化点が850℃以上確保できることを見出し
た。このPbOの添加によりグレーズの焼成温度は1150〜1
200℃の低温焼成の温度として好ましい範囲となるた
め、アルミナ基板中のAl2O3がグレーズ中に拡散する量
が減少する。即ちAl2O3の拡散は少なく、アルカリ土類
酸化物の分相を増長せず、RO・Al2O3・2SiO2の発生を防止
するのに有効である。
次に、本発明の重要な成分はMgOの量であり、PbOにさら
にMgOを添加することでRO・Al2O3・2SiO2の析出を防止す
る効果がある。MgO0.5〜7%、PbO/ROが23〜58%の範囲
の場合には結晶発生率は抑えることができる。MgOを7
%以上添加した場合はPbO/ROの範囲を保つためにBaO、C
aOを減少することとなり、グレーズ溶融温度が高くなる
欠点があると共に平滑な面が得られず、グレーズ基板上
面がサザ波状の外観を呈して実用的でない。
その他の成分については、SiO2は55%を越えるとグレー
ズ溶融温度が高くなり、Al2O3は14%を越えるとグレー
ズ溶融温度が高くなり且つ粘性が上がる。B2O3の増加は
グレーズ溶融温度を下げる効果があるが、5%を越えて
も優れた効果はない。アルカリ金属酸化物は5%を越え
るとグレーズ溶融温度や粘性を下げる効果があるとはい
え、軟化点が大幅に低下するので好ましくない。
[実施例] 本発明の1〜6実施例をついて以下に詳細に説明する。
実施例1 焼成後SiO2 54.5%、Al2O3 7%、CaO 10%、BaO 6.5
%、MgO 6.5%、PbO 8%、B2O3 4.5%,Na2O 2%,K2O
1%になるように珪粉、アルミナ、炭酸カルシウム、炭
酸バリウム、酸化鉛、ホウ酸、炭酸ソーダ、炭酸カリウ
ムの出発原料を配合し、シャモット質坩堝で1400℃で均
一に溶解させる。溶解物を水中に投入しフリット塊にす
る。フリット塊はアルミナポット中で48時間粉砕し、乾
燥後原料とする。この原料にエチルセルローズをターペ
ノールに溶解したメジウムを加え、粘度を調整しスクリ
ーン印刷用ペーストとする。アルミナ基板上にステンレ
ススクリーンを使用して印刷し、乾燥後1150℃で焼成す
る。アルミナ基板寸法はサーマルヘッド基板として最も
一般的な形状である55W×240L×0.6tとした。この時に
得られた特性を第1表に示した。
軟化点は針入式グレーズ軟化点測定装置で測定し、結晶
発生率は、RO・Al2O2・2SiO2の発生率をXMA(EDA)でライ
ン分析(測定条件は加速電圧15KV、ビーム径1μmφ)
で測定し、表面粗度および基板反りは表面粗度計で測定
し、耐熱性は850℃加熱中で保持時間10分を1サイクル
とし、10サイクル繰り返した後に、外観、反りおよび表
面粗度を測定して初期値と比較して変化を調べた。
実施例1について、特性の詳細を第2表に示した。表面
平滑性とは表面粗度計で測定した単位長さ当たりの凹凸
差の最大値である。
実施例2〜6 実施例1と同様な方法で第1表のそれぞれの組成につい
て試料を作製し、その特性を調べた結果を第1表に示し
た。
比較例1〜4 比較例1はMgOを添加せずPbOを増加したため軟化点が低
く、ただし、結晶発生率は0である。
比較例2、3は何れも焼成温度が高い。これはSiOが高
すぎるためであり、またPbO/ROがそれぞれ22%,22%と
低い。
比較例4はSiO2とB2O3が範囲を外れている。
以上実施例および比較例から、本発明の重要な成分であ
るMgOの効果は、MgO 0.5〜7%、PbO/ROが23〜58%の範
囲の場合には結晶発生率は0であった。RO・Al2O3・2SiO2
の発生の防止は前述の比較例1に示すようにMgOを添加
せずPbOを増すことによってもできるが、その場合PbO/R
Oの値が高くなり軟化点は大幅に低下し、耐熱性は低下
した。
ハ、発明の効果 本発明は、グレーズ組成物をアルミナ基板に塗布し、低
い焼成温度で焼成することにより低コストで且つ平滑
性、耐熱性、蓄熱性、耐酸・アルカリ性等の優れた特性
を有する電子部品用基板を提供することを可能としたグ
レーズ組成物を得るものである。
【図面の簡単な説明】
第1図はPbO/ROの重量%と軟化点(℃)の関係を示す。 第2図はグレーズへのアルミナ基板中からのAl2O3の拡
散の1測定例を示す。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】重量%でSiO2 50〜55%、Al2O3 7〜14%、
    RO 18〜28%(ただし、ROはMgO 0.5〜7%を必須とし且
    つCaOまたはBaOの少なくとも1種以上の酸化物からな
    る)、PbOは前記ROの23〜58%、B2O3 4〜5%,および
    アルカリ金属酸化物0.5〜5%のグレーズ組成からなる
    ことを特徴とする電子部品用グレーズ組成物。
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