JPH0673541A - 蒸着装置用基板ホルダー - Google Patents
蒸着装置用基板ホルダーInfo
- Publication number
- JPH0673541A JPH0673541A JP22672992A JP22672992A JPH0673541A JP H0673541 A JPH0673541 A JP H0673541A JP 22672992 A JP22672992 A JP 22672992A JP 22672992 A JP22672992 A JP 22672992A JP H0673541 A JPH0673541 A JP H0673541A
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- JP
- Japan
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- substrate
- holding
- vapor deposition
- arm
- supporting
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 基板の取り付け及び取り外し作業を簡単に行
うことができ、且つ、種々の大きさ又は形状の基板を保
持できる蒸着装置用基板ホルダーを提供する。 【構成】 基板２を支持する支持台１と、基板２を支持
台１に保持する基板保持手段３とが備えられた蒸着装置
用基板ホルダーにおいて、基板保持手段３は、基板２の
厚さ方向と交差する方向に沿って移動自在に支持台１に
支持され、且つ、基板２に接近する側に復帰付勢された
保持部３０にて、基板２の外周縁部を保持するように構
成されている。
うことができ、且つ、種々の大きさ又は形状の基板を保
持できる蒸着装置用基板ホルダーを提供する。 【構成】 基板２を支持する支持台１と、基板２を支持
台１に保持する基板保持手段３とが備えられた蒸着装置
用基板ホルダーにおいて、基板保持手段３は、基板２の
厚さ方向と交差する方向に沿って移動自在に支持台１に
支持され、且つ、基板２に接近する側に復帰付勢された
保持部３０にて、基板２の外周縁部を保持するように構
成されている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、基板を支持する支持台
と、前記基板を前記支持台に保持する基板保持手段とが
備えられた蒸着装置用基板ホルダーに関する。
と、前記基板を前記支持台に保持する基板保持手段とが
備えられた蒸着装置用基板ホルダーに関する。
【０００２】
【従来の技術】かかる蒸着装置用基板ホルダーでは、従
来、支持台上の設定位置に板バネ等を基板保持手段とし
て設け、基板の外周縁部をその板バネ等で押さえて固定
することが考えられていた。
来、支持台上の設定位置に板バネ等を基板保持手段とし
て設け、基板の外周縁部をその板バネ等で押さえて固定
することが考えられていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記従来構成では、基
板の取り付け及び取り外し作業を行う際は、板バネ等を
持ち上げるだけの簡単な作業で行えるものの、板バネ等
の基板保持手段の位置が設定位置に固定されているため
に、所定の大きさ及び所定の形状の基板しか支持台に固
定保持することができず、基板の形状や大きさが所定の
大きさ又は所定の形状からずれたものは扱うことができ
ないという不都合があった。
板の取り付け及び取り外し作業を行う際は、板バネ等を
持ち上げるだけの簡単な作業で行えるものの、板バネ等
の基板保持手段の位置が設定位置に固定されているため
に、所定の大きさ及び所定の形状の基板しか支持台に固
定保持することができず、基板の形状や大きさが所定の
大きさ又は所定の形状からずれたものは扱うことができ
ないという不都合があった。
【０００４】種々の大きさ又は形状の基板を扱えるよう
にするためには、低融点金属であるインジウムを基板保
持手段として用いて、インジウムを介して基板と支持台
とを固定することが考えられているが、この場合、基板
の取り付け及び取り外し作業を支持台及び基板を加熱し
ながら行う必要があり、基板の取り付け及び取り外し作
業が非常に手間のかかるものとなっていた。本発明は、
上記実情に鑑みてなされたものであって、その目的は、
基板の取り付け及び取り外し作業を簡単に行うことがで
き、且つ、種々の大きさ又は形状の基板を保持できる蒸
着装置用基板ホルダーを提供することにある。
にするためには、低融点金属であるインジウムを基板保
持手段として用いて、インジウムを介して基板と支持台
とを固定することが考えられているが、この場合、基板
の取り付け及び取り外し作業を支持台及び基板を加熱し
ながら行う必要があり、基板の取り付け及び取り外し作
業が非常に手間のかかるものとなっていた。本発明は、
上記実情に鑑みてなされたものであって、その目的は、
基板の取り付け及び取り外し作業を簡単に行うことがで
き、且つ、種々の大きさ又は形状の基板を保持できる蒸
着装置用基板ホルダーを提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の蒸着装置用基板
ホルダーは、基板を支持する支持台と、前記基板を前記
支持台に保持する基板保持手段とが備えられたものであ
って、その特徴構成は、前記基板保持手段は、前記基板
の厚さ方向と交差する方向に沿って移動自在に前記支持
台に支持され、且つ、前記基板に接近する側に復帰付勢
された保持部にて、前記基板の外周縁部を保持するよう
に構成されている点にある。
ホルダーは、基板を支持する支持台と、前記基板を前記
支持台に保持する基板保持手段とが備えられたものであ
って、その特徴構成は、前記基板保持手段は、前記基板
の厚さ方向と交差する方向に沿って移動自在に前記支持
台に支持され、且つ、前記基板に接近する側に復帰付勢
された保持部にて、前記基板の外周縁部を保持するよう
に構成されている点にある。
【０００６】
【作用】本発明の特徴構成によれば、支持台に基板を取
り付ける際は、保持部を適当な位置まで移動させた後、
支持台に基板を載置して、基板に接近する側に復帰付勢
された保持部にて基板の外周縁部を保持する。又、支持
台から基板を取り外す際は、保持部を移動させて基板の
外周縁部から離した後、支持台から基板を取り外す。す
なわち、保持部を移動させるだけの簡単な作業で基板を
支持台に取り付けそして取り外しできるのである。しか
も、保持部が基板の厚さ方向と交差する方向に沿って移
動自在であるため、基板の大きさ又は形状に応じて保持
部を移動させることで、種々の大きさ又は形状の基板を
保持することができる。
り付ける際は、保持部を適当な位置まで移動させた後、
支持台に基板を載置して、基板に接近する側に復帰付勢
された保持部にて基板の外周縁部を保持する。又、支持
台から基板を取り外す際は、保持部を移動させて基板の
外周縁部から離した後、支持台から基板を取り外す。す
なわち、保持部を移動させるだけの簡単な作業で基板を
支持台に取り付けそして取り外しできるのである。しか
も、保持部が基板の厚さ方向と交差する方向に沿って移
動自在であるため、基板の大きさ又は形状に応じて保持
部を移動させることで、種々の大きさ又は形状の基板を
保持することができる。
【０００７】
【発明の効果】上記特徴構成によれば、上記の如く、基
板の取り付け及び取り外し作業を簡単に行うことがで
き、且つ、種々の大きさや形状の基板を保持できる蒸着
装置用基板ホルダーを提供することができる。
板の取り付け及び取り外し作業を簡単に行うことがで
き、且つ、種々の大きさや形状の基板を保持できる蒸着
装置用基板ホルダーを提供することができる。
【０００８】
【実施例】本発明を適用した蒸着装置用基板ホルダーに
ついて図面に基づいて説明する。図１に示すように、基
板２を支持する支持台１はアーム支持部１１を備えてお
り、アーム支持部１１には、先端に基板２の外周縁部を
保持する保持部３０を備えた基板保持アーム３が支持さ
れている。基板２は、支持台１の基板載置面１０上に載
置され、基板保持アーム３の先端の保持部３０にその外
周縁部を押圧保持される。
ついて図面に基づいて説明する。図１に示すように、基
板２を支持する支持台１はアーム支持部１１を備えてお
り、アーム支持部１１には、先端に基板２の外周縁部を
保持する保持部３０を備えた基板保持アーム３が支持さ
れている。基板２は、支持台１の基板載置面１０上に載
置され、基板保持アーム３の先端の保持部３０にその外
周縁部を押圧保持される。
【０００９】以下、各構成部分について詳細に説明す
る。支持台１は、厚板の円板状に形成され、上面に基板
載置面１０及びアーム支持部１１が設けられている。基
板載置面１０は適当な段差を有して上方に突出してお
り、アーム支持部１１はその基板載置面１０の四方の所
定箇所においてブロック状に突出している。尚、アーム
支持部１１には、基板保持アーム３を支えるための貫通
孔１１ａが形成されている。この支持台１は、図示しな
い真空蒸着装置の真空容器内の所定位置に、基板載置面
１０を蒸着源側に向けた状態で取り付けられる。
る。支持台１は、厚板の円板状に形成され、上面に基板
載置面１０及びアーム支持部１１が設けられている。基
板載置面１０は適当な段差を有して上方に突出してお
り、アーム支持部１１はその基板載置面１０の四方の所
定箇所においてブロック状に突出している。尚、アーム
支持部１１には、基板保持アーム３を支えるための貫通
孔１１ａが形成されている。この支持台１は、図示しな
い真空蒸着装置の真空容器内の所定位置に、基板載置面
１０を蒸着源側に向けた状態で取り付けられる。
【００１０】基板保持アーム３は、図２に示すように、
その先端側に断面がＬ字状の保持部３０が備えられ、基
端側にアーム基部３１が備えられており、保持部３０と
アーム基部３１とはらせん状バネ３２で接続されてい
る。この基板保持アーム３は、アーム基部３１のネジ部
３１ａが支持台１のアーム支持部１１の貫通孔１１ａに
貫通し、一組のロックナット３３で固定される状態で、
アーム支持部１１の夫々に取り付けられている。基板保
持アーム３の保持部３０は、らせん状バネ３２の伸縮に
よって基板２の厚さ方向と交差する方向に沿って移動自
在であり、又、ロックナット３３を緩めてアーム基部３
１を貫通孔１１ａ内で移動させることによって基板２の
厚さ方向と交差する方向に沿って移動自在である。
その先端側に断面がＬ字状の保持部３０が備えられ、基
端側にアーム基部３１が備えられており、保持部３０と
アーム基部３１とはらせん状バネ３２で接続されてい
る。この基板保持アーム３は、アーム基部３１のネジ部
３１ａが支持台１のアーム支持部１１の貫通孔１１ａに
貫通し、一組のロックナット３３で固定される状態で、
アーム支持部１１の夫々に取り付けられている。基板保
持アーム３の保持部３０は、らせん状バネ３２の伸縮に
よって基板２の厚さ方向と交差する方向に沿って移動自
在であり、又、ロックナット３３を緩めてアーム基部３
１を貫通孔１１ａ内で移動させることによって基板２の
厚さ方向と交差する方向に沿って移動自在である。
【００１１】以下、上記構成の蒸着装置用基板ホルダー
の使用状態における動作を説明する。先ず、基板２を蒸
着装置用基板ホルダーに取り付ける際は、各保持部３０
を夫々のらせん状バネ３２の付勢力に抗してアーム支持
部１１側に押し広げる。その状態で、基板載置面１０上
に基板２を載置して、各保持部３０の保持面３０ａを基
板２の外周縁部に緩やかに当てる。このとき、らせん状
バネ３２は保持部３０を基板２に接近する側に復帰付勢
されており、基板２は四方から保持部３０に押圧されて
基板載置面１０上に保持される。
の使用状態における動作を説明する。先ず、基板２を蒸
着装置用基板ホルダーに取り付ける際は、各保持部３０
を夫々のらせん状バネ３２の付勢力に抗してアーム支持
部１１側に押し広げる。その状態で、基板載置面１０上
に基板２を載置して、各保持部３０の保持面３０ａを基
板２の外周縁部に緩やかに当てる。このとき、らせん状
バネ３２は保持部３０を基板２に接近する側に復帰付勢
されており、基板２は四方から保持部３０に押圧されて
基板載置面１０上に保持される。
【００１２】支持台１上に取り付けるべき基板２の大き
さ又は形状が多少ばらついても、らせん状バネ３２の伸
縮のストローク範囲内であれば、らせん状バネ３２がそ
のばらつきを吸収して基板２を保持できる。又、基板２
の大きさ又は形状が極端にばらついてらせん状バネ３２
の伸縮で吸収できないような場合は、ロックナット３３
を緩めて基板保持アーム３を基板２の厚さ方向と交差す
る方向に沿って移動させて位置調整を行い、基板２を保
持できるようにする。
さ又は形状が多少ばらついても、らせん状バネ３２の伸
縮のストローク範囲内であれば、らせん状バネ３２がそ
のばらつきを吸収して基板２を保持できる。又、基板２
の大きさ又は形状が極端にばらついてらせん状バネ３２
の伸縮で吸収できないような場合は、ロックナット３３
を緩めて基板保持アーム３を基板２の厚さ方向と交差す
る方向に沿って移動させて位置調整を行い、基板２を保
持できるようにする。
【００１３】このようにして、基板２の取り付け作業を
終了すれば、支持台１を、真空蒸着装置の真空容器内の
所定位置に、基板載置面１０を蒸着源側に向けた状態で
取り付け、所望の蒸着作業を行う。蒸着作業の終了後
は、支持台１を真空容器内から取り外し、各保持部３０
を夫々のらせん状バネ３２の付勢力に抗して押し広げ、
基板２を基板載置面１０から取り去る。尚、上記の如
く、基板保持アーム３は基板保持手段として機能する。
終了すれば、支持台１を、真空蒸着装置の真空容器内の
所定位置に、基板載置面１０を蒸着源側に向けた状態で
取り付け、所望の蒸着作業を行う。蒸着作業の終了後
は、支持台１を真空容器内から取り外し、各保持部３０
を夫々のらせん状バネ３２の付勢力に抗して押し広げ、
基板２を基板載置面１０から取り去る。尚、上記の如
く、基板保持アーム３は基板保持手段として機能する。
【００１４】〔別実施例〕以下、別実施例を列記する。 上記実施例では、基板保持アーム３は４本備えられ
ているが、４本より多くても又少なくても良い。
ているが、４本より多くても又少なくても良い。
【００１５】 上記実施例では、基板保持手段を、図
２に示すような、保持部３０，らせん状バネ３２，及
び，アーム基部３１により構成しているが、図３に示す
ように、一部が屈曲した形状のアーム基部３５と、アー
ム基部３５の先端に斜め下方を向く状態で取り付けられ
たらせん状バネ３６と、らせん状バネ３６の先端に取り
付けられた保持部３４とから構成し、らせん状バネ３６
の復帰付勢力によって、基板２の外周縁部を斜め上方か
ら支持台１に押しつけるようにして基板２を保持するよ
うにしても良い。
２に示すような、保持部３０，らせん状バネ３２，及
び，アーム基部３１により構成しているが、図３に示す
ように、一部が屈曲した形状のアーム基部３５と、アー
ム基部３５の先端に斜め下方を向く状態で取り付けられ
たらせん状バネ３６と、らせん状バネ３６の先端に取り
付けられた保持部３４とから構成し、らせん状バネ３６
の復帰付勢力によって、基板２の外周縁部を斜め上方か
ら支持台１に押しつけるようにして基板２を保持するよ
うにしても良い。
【００１６】 上記実施例では、基板２を支持台１の
基板載置面１０上で保持しているが、図４に示すよう
に、基板保持手段を、有底筒体３９と、その有底筒体３
９の内面に摺動可能の挿入された円柱体３８と、有底筒
体３９の底部と円柱体３８の挿入側の端部とを接続する
らせん状バネ４０と、円柱体３８の先端に取り付けた断
面コの字状の保持部３７とから構成し、保持部３７の保
持面３７ａにて、らせん状バネ４０の復帰付勢力によっ
て基板２の外周縁部を押圧し、基板を支持台１から浮か
せた状態で保持するようにしても良い。 そして、この構成の基板保持手段は、有底筒体３９をア
ーム支持部１２の貫通孔１２ａに挿入した状態で、支持
部１２の上面側からねじ１２ｂによって締めつけられて
アーム支持部１２に固定される。上記構成の基板保持手
段においても、保持部３７は、らせん状バネ４０の伸縮
によって基板２の厚さ方向と交差する方向に沿って移動
自在であり、又、ねじ１２ｂを緩めて有底筒体３９を貫
通孔１２ａ内で移動させることによって基板２の厚さ方
向と交差する方向に沿って移動自在である。
基板載置面１０上で保持しているが、図４に示すよう
に、基板保持手段を、有底筒体３９と、その有底筒体３
９の内面に摺動可能の挿入された円柱体３８と、有底筒
体３９の底部と円柱体３８の挿入側の端部とを接続する
らせん状バネ４０と、円柱体３８の先端に取り付けた断
面コの字状の保持部３７とから構成し、保持部３７の保
持面３７ａにて、らせん状バネ４０の復帰付勢力によっ
て基板２の外周縁部を押圧し、基板を支持台１から浮か
せた状態で保持するようにしても良い。 そして、この構成の基板保持手段は、有底筒体３９をア
ーム支持部１２の貫通孔１２ａに挿入した状態で、支持
部１２の上面側からねじ１２ｂによって締めつけられて
アーム支持部１２に固定される。上記構成の基板保持手
段においても、保持部３７は、らせん状バネ４０の伸縮
によって基板２の厚さ方向と交差する方向に沿って移動
自在であり、又、ねじ１２ｂを緩めて有底筒体３９を貫
通孔１２ａ内で移動させることによって基板２の厚さ方
向と交差する方向に沿って移動自在である。
【００１７】尚、特許請求の範囲の項に図面との対照を
便利にするために符号を記すが、該記入により本発明は
添付図面の構造に限定されるものではない。
便利にするために符号を記すが、該記入により本発明は
添付図面の構造に限定されるものではない。
【図１】本発明を適用した蒸着装置用基板ホルダーの斜
視図
視図
【図２】本発明の実施例にかかる基板保持手段の側面図
【図３】本発明の別実施例にかかる基板保持手段の側面
図
図
【図４】本発明の別実施例にかかる基板保持手段の側面
視による部分断面図
視による部分断面図
１ 支持台 ２ 基板 ３ 基板保持手段 ３０ 保持部
Claims (1)
- 【請求項１】 基板（２）を支持する支持台（１）と、
前記基板（２）を前記支持台（１）に保持する基板保持
手段（３）とが備えられた蒸着装置用基板ホルダーであ
って、 前記基板保持手段（３）は、前記基板（２）の厚さ方向
と交差する方向に沿って移動自在に前記支持台（１）に
支持され、且つ、前記基板（２）に接近する側に復帰付
勢された保持部（３０）にて、前記基板（２）の外周縁
部を保持するように構成されている蒸着装置用基板ホル
ダー。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22672992A JPH0673541A (ja) | 1992-08-26 | 1992-08-26 | 蒸着装置用基板ホルダー |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22672992A JPH0673541A (ja) | 1992-08-26 | 1992-08-26 | 蒸着装置用基板ホルダー |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0673541A true JPH0673541A (ja) | 1994-03-15 |
Family
ID=16849701
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22672992A Pending JPH0673541A (ja) | 1992-08-26 | 1992-08-26 | 蒸着装置用基板ホルダー |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0673541A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5556477A (en) * | 1994-06-09 | 1996-09-17 | Leybold Aktiengesellschaft | Transport device for substrates to be coated in a vacuum coating system |
| EP1093155A2 (de) * | 1999-10-11 | 2001-04-18 | Leica Microsystems Wetzlar GmbH | Vorrichtung und Verfahren zum Laden von Substraten verschiedener Grösse in Substrathalter |
| KR20030003086A (ko) * | 2001-06-29 | 2003-01-09 | 산요 덴키 가부시키가이샤 | 일렉트로 루미네센스 표시 장치의 제조 방법 |
| KR100485300B1 (ko) * | 2001-06-29 | 2005-04-27 | 산요덴키가부시키가이샤 | 일렉트로 루미네센스 표시 장치의 제조 방법 |
| KR100741092B1 (ko) * | 2005-12-07 | 2007-07-19 | 삼성에스디아이 주식회사 | 박막 증착용 마스크 |
| JP2013166966A (ja) * | 2012-02-14 | 2013-08-29 | Mitsubishi Electric Corp | ウェハ保持構造およびそれを備えた蒸着装置 |
| CN110241396A (zh) * | 2019-07-16 | 2019-09-17 | 上海应用技术大学 | 一种真空镀膜基片夹具 |
| CN110284116A (zh) * | 2019-08-09 | 2019-09-27 | 严楚凡 | 一种基于真空的光学镜片镀膜装置 |
-
1992
- 1992-08-26 JP JP22672992A patent/JPH0673541A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5556477A (en) * | 1994-06-09 | 1996-09-17 | Leybold Aktiengesellschaft | Transport device for substrates to be coated in a vacuum coating system |
| EP1093155A2 (de) * | 1999-10-11 | 2001-04-18 | Leica Microsystems Wetzlar GmbH | Vorrichtung und Verfahren zum Laden von Substraten verschiedener Grösse in Substrathalter |
| EP1093155A3 (de) * | 1999-10-11 | 2005-04-06 | Leica Microsystems Semiconductor GmbH | Vorrichtung und Verfahren zum Laden von Substraten verschiedener Grösse in Substrathalter |
| KR20030003086A (ko) * | 2001-06-29 | 2003-01-09 | 산요 덴키 가부시키가이샤 | 일렉트로 루미네센스 표시 장치의 제조 방법 |
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| JP2013166966A (ja) * | 2012-02-14 | 2013-08-29 | Mitsubishi Electric Corp | ウェハ保持構造およびそれを備えた蒸着装置 |
| CN110241396A (zh) * | 2019-07-16 | 2019-09-17 | 上海应用技术大学 | 一种真空镀膜基片夹具 |
| CN110241396B (zh) * | 2019-07-16 | 2021-12-03 | 上海应用技术大学 | 一种真空镀膜基片夹具 |
| CN110284116A (zh) * | 2019-08-09 | 2019-09-27 | 严楚凡 | 一种基于真空的光学镜片镀膜装置 |
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