JPH0666639B2 - 可変相互コンダクタンス素子のコンダクタンスを制御する回路 - Google Patents

可変相互コンダクタンス素子のコンダクタンスを制御する回路

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JPH0666639B2
JPH0666639B2 JP58150403A JP15040383A JPH0666639B2 JP H0666639 B2 JPH0666639 B2 JP H0666639B2 JP 58150403 A JP58150403 A JP 58150403A JP 15040383 A JP15040383 A JP 15040383A JP H0666639 B2 JPH0666639 B2 JP H0666639B2
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circuit
transconductance element
conductance
variable transconductance
controlling
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ザヤムクランガラ・ラマスワミイ・ヴイスワナザン
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ウエスターン エレクトリツク カムパニー,インコーポレーテツド
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    • H03H19/004Switched capacitor networks
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
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    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
    • HELECTRICITY
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    • H03H11/00Networks using active elements
    • H03H11/02Multiple-port networks
    • H03H11/04Frequency selective two-port networks
    • H03H11/0422Frequency selective two-port networks using transconductance amplifiers, e.g. gmC filters

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は第1の出力電流を有する相互コンダクタンス素
子(transconductance element)を含む回路に関する。
標準的なMOS製造技術を使用することにより単一の半導
体チツプ上にLSI回路を作成することが出来る。MOS技術
を使用するとFETデバイスの高密度アレイおよび高品質
で容量の小さなキヤパシタを容易に実現することが出来
る。しかしMOSチツプ上に形成される従来技術に従う拡
散による抵抗、即ちポリシリコン抵抗は通常利用可能な
チツプ面積の望ましくない程大きな部分を消費すること
になる。更にチツプの温度が変化すると、これら素子の
抵抗値もまた変化する。このような温度によつて引き起
された変化は高精度の能動フイルタの如きLSI回路の動
作特性に重大な影響を与える。
更にMOSデバイスは正負両極性の小信号に対する電圧に
より制御される抵抗として使用し得ることが知られてい
る。しかしこのデバイスの抵抗もまた温度に応じて変化
する。このようにして小信号動作を行う場合でも従来提
案されているMOSFETデバイスは温度変動に感応しない抵
抗が要求される高精度な応用用途には不適当である。
MOSチツプ中に面積の小さな温度に不感応な抵抗素子を
提供する魅力的な方法がある。その方法とはスイツチト
・キヤパシタ技法を用いて抵抗の振舞いを模擬すること
である。この技法を高精度の能動フイルタの設計に応用
することは周知である。これについては例えばアール・
ダブリユー・ブローダーセン、ピー・アール・グレイお
よびデイー・エー・ホツジの“MOSスイツチト・キヤパ
シタ・フイルタ”、プロシーディングズ・オブ・アイ・
イー・イー・イー、第67巻、頁61〜75、1979年1月を参
照されたい。このフイルタの動作特性は極めて安定度の
高い水晶により制御されたクロツク周波数とキヤパシタ
の比によつて決定される。
MOSキヤパシタの温度係数は通常極めて小さい。そして
キヤパシタの比の温度係数は更に小さいことが知られて
いる。実際MOSキヤパシタ・ネツトワークの温度による
変化は極めて小さく、ほとんどの応用用途において問題
とならない。従つて、スイツチト・MOSキヤパシタは実
質的に温度と感応しない高精度のLSI回路を実現する有
利な基礎を与える。
スイツチト・キヤパシタ・フイルタはサンプルド・デー
タ回路である。従つてそこに加えられる信号は帯域制限
されていなければならない。この帯域制限は連続信号型
のフイルタであるいわゆるアンチエイリアシング・フイ
ルタを使用することにより実現される。このアンチエイ
リアシング・フイルタはスイツチト・キヤパシタ技法を
使用したのでは実現出来ないLSI回路の代表例である。
このような回路に対しスイツチト・キヤパシタ技法以外
の方法で面積が小さく温度に不感応な抵抗を実現するこ
とが要求されている。
更に、例えばフイルタ操作を行うために前述のスイツチ
ト・キヤパシタ技法を適用することは音声周波数領域で
は有利であるが、より高い周波数でこの技法を用いるこ
とは困難であり、望ましくない程大きなレベルのスイツ
チング雑音が生じる。このようにしてより高い周波数に
おいて例えばフイルタ操作を行う場合にスイツチト・キ
ヤパシタに代わる雑音の小さな方法が要求されている。
このような応用用途にあつては面積の小さな温度に不感
応な連続的な相互コンダクタンス素子が明らかに極めて
有利な構成素子となる。
本発明に従い、この問題はキヤパシタと、間欠的に該キ
ヤパシタを充放電し、それによつて該キヤパシタを通る
第2の電流を発生する第1の回路と、前記キヤパシタお
よび素子に接続され、第1および第2の電流を比較し、
それに応動して制御電圧を発生する第2の回路と、第1
の電流を調整するために素子に制御電圧を加える導線に
より特徴づけられる第1の出力電流を有する相互コンダ
クタンス素子を含む回路により解決された。
ここで“相互コンダクタンス”なる用語は相互コンダク
タンスならびに自己コンダクタンスの両者を包含する総
称として使用するものとする。
以下で述べる回路は当業者にあつては周知の標準的な製
造技法を使用することにより作られる集積回路として実
現されるものと仮定する。以下で述べる回路の各々(例
えば第1図に示す基本回路)は単一チツプ中に含まれる
ものと仮定する。例えばこのようなチツプを通常のCMOS
技術を用いて製造すると有利である。CMOS技術を用いれ
ばnチヤネルおよびpチヤネルMOSFETデバイスならびに
高品質で値の小さい(約100PF以下)のキヤパシタより
成る高密度アレイを比較的単純な製造過程により実現で
きる。
第1図に示す基本回路において、集積回路チツプ11中に
形成された主可変相互コンダクタンス素子10の相互コン
ダクタンスは周知のスイツチト・キヤパシタのコンダク
タンスと実効的に整合がとれている。素子10の種々の実
現法について以下で述べる。
第1図のスイツチト・キヤパシタはその値がC1PFである
キヤパシタ12を含んでいる。ここでこのキヤパシタは図
示の如く関連するクロツクによつて動作するスイツチ14
〜17および基準電圧18に接続されている。図示の特定の
スイツチト・キヤパシタは、ケー・マーチンおよびエー
・エス・セドラの“双線形Z変換に基づく浮遊容量に不
感応なスイツチト・キヤパシタ・フイルタ”、エレクト
ロニクス・レターズ、第15巻、第13号、頁365−366(19
79年)に述べられているように寄生容量が何らの影響も
与えないという特徴を有している。
ここでスイツチ14〜17(第1図)の各々はマスタ・クロ
ツク回路20から加えられる制御パルスによりオン・オフ
・スイツチとして通常の仕方で動作する単一のMOSFETデ
バイスより成つている。その動作が標準的な極めて安定
度の高い水晶によつて制御されているユニツトに基づい
ている回路20は実質的に温度には不感応であるものと仮
定する。
マスタ・クロツク回路20の出力は第3図に示すようなパ
ルス列P1、P2およびP3である。各々のP1パルスに応動し
てそのパルス幅の期間中スイツチ14および15は閉じられ
る。それ以外では第1図に示すようにスイツチ14および
15は開いている。同様に各々のP2パルスに応動してその
パルス幅の期間中スイツチ16および17は閉じられる。パ
ルス列P3はスイツチ22の動作を制御するのに使用され
る。スイツチ22の動作については以下で述べる。第3図
において、Tは図示のパルスのクロツク周期を表わす。
第1図のスイツチ16は閉じられるとキヤパシタ12のノー
ド24に接続する。ノード24は通常の演算増幅器28の反転
入力端子26に直接接続されている。増幅器28はコンデン
サ30(その値はC2である)と共に当業者にあつては周知
の標準的な積分器を形成する。
第1図に示す積分器の出力はスイツチ22により周期的に
サンプルされ、出力キヤパシタ32に加えられる。キヤパ
シタの両端に現われる電圧は可変相互コンダクタンス素
子10に相互コンダクタンスを予め定められた値に設定・
保持するために導線34を介して加えられる制御電圧とし
て作用する。この制御電圧はまた導線36を介してチツプ
11中に含まれる他の即ち副可変相互コンダクタンス素子
に加えられる。2つの他の素子38および40が第1図に示
されている。これら他の素子は第1の素子10と同一であ
るかまたはある比率のスケールを有している。この例で
は素子38および40はチツプ11中に形成されている連続信
号に対する能動フイルタの構成素子である。
第1図の回路の動作はパルスP1がスイツチ14および15に
加えられる時刻t0(第3図)に開始される。パルスP1に
よりキヤパシタ12は基準電圧18の両端に接続される。基
準電圧の値はVRで表わすものとする。するとキヤパシタ
12は電圧VRに充電される。その後時刻t1においてパルス
P2はスイツチ16および17に加えられる。これにより容量
C1を有するキヤパシタ12はノード24に接続される。キヤ
パシタ12がスイツチ17を通して地気に向つて放電するこ
とによりノード24からキヤパシタに向つてC1VR/Tなる
電流が流れる。その結果、増幅器28の出力端子44の電圧
はC1VR/C2だけ増加する。
時刻t2(第3図)においてパルスP3は増幅器28のこの新
らたに微小増加した出力電圧をキヤパシタ32に加えて記
憶させる。この記憶された値が増加すると、素子10の相
互コンダクタンスは増加し、それによつてより多くの電
流がノード24に供給される。この電流により演算増幅器
の出力電圧は減少することになる。このように図示の回
路には負帰還効果がある。定常状態にあつては相互コン
ダクタンス素子10によりノード24に加えられる電流の値
はGVTEVRである。ここでGVTEは素子10の相互コンダクタ
ンスである。
定常状態にあつては、前述の2つの過程、即ちスイツチ
ト・キヤパシタを介して積分器から離散的に電荷を取除
く過程と、素子10から積分器に連続的に電荷を供給する
過程が互いに平衡することになる。これら2つの過程の
間に不平衡が生じると積分器の出力電圧は変化し、それ
によつて電荷の平衡状態が回復される。
電荷が平衡した状態にあつては、ノード24(第1図)か
らスイツチト・キヤパシタに向つて流れる電流は可変相
互コンダクタンス素子10からノード24に流れ込む電流に
等しい。前述の如く、これら電流の大きさは夫々C1VR
TおよびVVTEVRである。従つて、定常的な平衡状態では であり、これより となる。このようにして主素子10の相互コンダクタンス
はスイツチト・キヤパシタンスのコンダクタンスと整合
していることが分る。ここでこのコンダクタンスはキヤ
パシタ12の容量およびクロツク周期T(これらは共に温
度には不感応である)によつてのみ決定される。
更にその相互コンダクタンスを制御するために第1図の
主素子10に加えられる電圧はまた副素子38および40にも
加えられる。従つてこれら副素子の相互コンダクタンス
もまた各々スイツチト・キヤパシタンスのコンダクタン
スに整合していることになる。素子38、40(および関連
するキヤパシタ)を含む連続フイルタの時定数はこのよ
うにしてクロツク周期TとC1のフイルタ・キヤパシタン
スに対する比の積にのみ比例することになる。
チツプ11(第1図)の温度が変化すると、素子10、38お
よび40を含むチツプ上のすべての構成素子は同一の温度
変動を受けるものと仮定する。このようにして例えばチ
ツプ11の温度が増加すると、主素子10の予め定められた
相互コンダクタンスは減少する傾向を有する。しかしこ
の相互コンダクタンスが減少すると導線34を介して素子
10に加えられる制御電圧は変化し、素子10の相互コンダ
クタンスを予め定められた値に保持する。同様に副素子
38および40の相互コンダクタンスはまたそれによつて夫
々予め定められた値に保持される。
第1図に示す可変相互コンダクタンス素子10、38および
40の実現法には種々のものが考えられる。1つの実現法
ではこれらの素子の各々は単一のMOSFETデバイスより成
る。本発明の原理に従つて構成された単一のMOSFETより
成る主素子52と単一のMOSFETより成る副素子54および56
を含むチツプが第2図に示されている。第2図に示す他
の構成素子は第1図の相応する構成素子と同一であり、
従つて同じ引用番号が付されている。
ここで第2図に示すMOSFET52、54および56の各々は標準
のnチヤネル・デバイスである。本発明に従い、各デバ
イスはその電圧−電流特性が実質的に線形な非飽和・小
信号モードで動作している。各デバイスは同一であるか
または互いにある比率のスケールを有している。図のデ
バイスの長さは同じであるがその幅は異つており、それ
によつて特定の異なる相互コンダクタンスを実現するこ
とが出来る。
単一のMOSFET素子は入力信号に対し制限されたダイナミ
ツク・レンジを有しかつ比較的貧弱な高調波歪特性を有
している。従つてこれら素子を他の実際的な方法で実現
することが望ましい。このような他の実現法の1つでは
以下で述べるようないわゆるMOSFETデバイスの差動対を
使用している。
第4図は通常の差動対回路装置を示している。該回路は
MOSFETデバイス65によつて提供される電流2Iをバイアス
とする2つの同一のMOSFETデバイス60および62より成つ
ている。これらデバイスはすべてnチヤネル型のもので
あり、各々飽和状態で動作するようバイアスされてい
る。静止状態、即ちデバイス60と62のゲート電極の間に
電圧差が存在しない場合には、バイアス電流2Iはデバイ
ス60と62のドレイン・ソース間の回路に等しく分割され
る。
第4図に示す如く小振幅の電圧信号vがデバイス60と62
のゲート電極の間に加えられているものと仮定する。こ
れに応じてデバイス60のドレイン・ソース回路に流れる
電流はiだけ増加し、デバイス62のドレイン・ソース回
路に流れる電流は同じiだけ減少する。しかし導線64を
流れる電流は以前と同じ2Iである。
第4図に示す差動対の場合、 となることは良く知られている。ここでkは各FETと関
連する温度に依存するパラメータである。従つて差動対
の小信号微分相互コンダクタンスGDPは次式で与えられ
る。
実際の多くの応用用途では温度と実質的に無関係なバイ
アス電流を発生する必要が生じる。第5図に示す回路は
基準電圧源18が温度に不感応ならば温度と無関係なバイ
アス電流を提供する。このような温度に不感応な電圧源
は入手可能である。その1例は周知のバンド・ギヤツプ
基準電圧である。
本発明の原理の1つの特徴に従い、pチヤネル・デバイ
ス70および72より成る標準的電流ミラー回路の夫々のド
レイン電極から出て導線66および68を流れる一定電流I
を保持するよう設計された装置が第5図に示されてい
る。第5図の導線68を通つてノード24に流れ込む電流は
次式で与えられる。
前述の如く、C1およびTは実質的に温度に不感応であ
る。更に極めて安定で実質的に温度に不感応な電圧基準
源が知られている。このようにして、温度変化のために
電流Iが予め定められた値から変化する傾向にあるとキ
ヤパシタ32の両端の電圧はそれを補償するよう変化し、
nチヤネルMOSFETデバイス74のゲート電圧を変える。こ
れによつて導線66および68の各々を流れる電流は予め定
められた値に保持される。
第5図のMOSFETデバイス74を制御するのに使用される電
圧はまたデバイス76および78のゲート電極に加えられ
る。デバイス76および78はデバイス74と同一であるかま
たはある比率のスケールを有している。従つてデバイス
76および78の各々のドレイン・ソース回路を流れる電流
はまた一定に保持される。これらの電流は例えばチツプ
80上の関連する回路(図示せず)で使用されるバイアス
電流を形成する。このようにしてこれらバイアス電流は
温度変化とは無関係に一定に保持される。
更に本出願人は第5図に示す独立電圧源18によつて供給
される一定電圧VRによつて規定される従属電圧源で置き換えたならば、関
連する差動対の相互コンダクタンスは一定に保持し得る
ことを見出した。これは式(6)を式(5)のVRに代入
することにより理解される。代入を行うと次式を得る。
しかし、先に指摘したように次式が成立する。
従つて次式を得る。
このようにして差動対の相互コンダクタンスがスイツチ
ト・キヤパシタンスのコンダクタンスにより制御可能と
なる。
式(6)によつて規定されるような基準電圧VRを提供す
る特定の回路が第6図のチツプ84上の破線で囲つた部分
82に示されている。MOSFETデバイス85〜88より成る回路
はノード90に式(6)により規定される電圧VRを提供す
る。周知の如く、第6図に示す従属電圧源82の動作を開
始させるためには標準的ないわゆる指導回路(図示せ
ず)が要求される。
第6図において、電圧基準回路82中に含まれているpチ
ヤネルMOSFETデバイス85は2つの整合したpチヤネル・
デバイス70および72と同一のものとなるよう設計されて
いる。電圧基準回路中のnチヤネル・デバイス86および
87はその長さは同一であるが、デバイス87の幅はデバイ
ス86の幅の約4倍となるよう設計されている。更に電圧
基準回路中のnチヤネル・デバイス88のチツプ84上のデ
バイス92〜94と同一であるかまたはある比率のスケール
を有するよう設計されている。
第6図に示すデバイス93および94はチツプ84上の差動対
をバイアスするのに使用されている。重要なことはこれ
ら電流は差動対の相互コンダクタンスをスイツチト・キ
ヤパシタのコンダクタンスC1/Tに比例させるためスイ
ツチト・キヤパシタ装置により制御されていることであ
る。このようにして差動対の相互コンダクタンスは実際
温度に不感応な状態に保持される。
前述の仕方で制御される前述の差動対は第5図に示す型
の単一のMOSFET装置と比べて一般に有利である。しか
し、商業的に重要な多数の実際的な応用用途にあつて
は、差動対は入力信号に対し十分大きなダイナミツク・
レンジを有しておらず、歪も十分小とは言えないので魅
力的ではない。
本発明の原理の他の特徴に従い、単一のMOSFETおよび差
動対と比べて改善された特性を有する有利な可変相互コ
ンダクタンス素子が提供されている。この改良された素
子のブロツク図を第7図に示す。第7図の点線の囲んだ
部分96は第1図の全体回路中に示す素子10、38および40
の各々の特定の構成法を示している。
第7図に示す素子は複数個のnチヤネルおよびpチヤネ
ルMOSFETデバイスのみより成り、各デバイスは大きなダ
イナミツク・レンジ(例えば3V)の入力信号に対し自乗
則の電流−電圧特性を呈する。周知の1/4−自乗原理
を使用することにより、個々の自乗則デバイスを組合わ
せて入力制御電圧vcと大きなダイナミツク・レンジを有
する信号電圧vの積に比例した出力電流i0を提供する回
路を構成している。
第7図の素子の電圧ミラー回路および加/減算回路を含
むブロツク98を有している。ブロツク98において内部で
発生された電圧vc1およびvc2は次式により規定される。
vc1−vc2∝Vc (10) ここで∝は比例することを表わす記号である。電圧vc1
はv1およびv2のコモン・モード成分であり、vc2はv3
よびv4のコモン・モード成分であり、次のような関係が
ある。
第7図に示す如く、ブロツク98の出力は前述の電圧v1
v2、v3およびv4である。これら電圧は夫々自乗回路100
〜103に加えられる。ここで各自乗回路は単一のMOSFET
デバイスより成る。回路100〜103の夫々の出力は次式で
規定される電流i1、i2、i3およびi4である。
出力電圧i1およびi4はノード104において加算され、減
算器106の正入力端子に加えられ、出力電流i2およびi3
はノード108において加算され、減算器106の負入力端子
に加えられる。
第7図の減算器106の出力電流i0は従つて次式で規定さ
れる。
i0∝(i1+i4)−(i2+i3) (19) 即ち i0∝4v(vc1−vc2) (20) これは式(10)より次のようになる。
i0∝VVc (21) このようにして前述の如く、第7図の装置の出力電流i0
は入力制御電圧vcと入力信号電圧vの積に比例すること
になる。
第7図の回路96をすべてMOSFETで実現したものを第8図
に示す。第8図はnチヤネル・デバイス112〜115より成
る制御電圧(vc)ミラー・バツフア110を含んでいる。
更に第8図はnチヤネル・デバイス116〜119、124、12
6、128および130より成る信号電圧(v)ミラー・バツ
フアを含んでいる。4つの同じ整合したpチヤネル・デ
バイス120〜123は夫々第7図に示す自乗回路100〜103よ
り成つている。
第8図において、nチヤネル・デバイス116および124は
+vとvc1を組合わせ、それに比例したゲート・ソース
電圧を自乗デバイス120に加える。デバイス119および12
6は−vとvc1を組合わせ、それに比例したゲート・ソー
ス電圧を自乗デバイス121に加える。同様に、デバイス1
17および128は+vとvc2を組合わせ、それに比例したゲ
ート・ソース電圧を自乗デバイス122に加える。更にデ
バイス118および130は−vとvc2を組合わせ、それに比
例したゲート・ソース電圧を自乗デバイス123中に加え
る。
第8図に示す減算器回路132はnチヤネル・デバイス134
および136より成る。nチヤネル・デバイス140〜142よ
り成るバイアス回路138は図示の装置の予め定められた
電流を示す。
第8図において、デバイス112、113および116〜119は同
じ整合したnチヤネル・ユニツトである。デバイス11
4、115、124、126、128および130はまた同じ整合したn
チヤネル・ユニツトである。例えば第8図のVDDは+5V
でありVSSは−5Vである。
第8図は可変相互コンダクタンス素子として機能し得る
有利な装置の一例である。この装置は例えば3Vの入力信
号のダイナミツク・レンジ、約0.3パーセントの高調波
歪率および30MHzの帯域幅を有することを特徴とする。
第8図の装置は相互コンダクタンスの予め定められた値
は4つの自乗デバイス120〜123のスケーリングを適当に
選ぶことにより実現される。あるいは付加的な電流ミラ
ー回路を使用することにより標準的な仕方で出力電流i0
のスケールを変えることも出来る。
最後に、前述の回路および技法は本発明の原理を説明す
るためだけのものであることを理解されたい。本発明の
原理に従い、本発明の精神および範囲を逸脱することな
く多数の変形が当業者により考案し得ることは明らかで
ある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の原理に従う可変相互コンダクタンス素
子のスイツチト・キヤパシタ・コンダクタンス制御を行
う一般化された回路図、第2図は各々の可変素子が単一
のMOSFETデバイスより成る第1図の回路の特定の実施例
を示す図、第3図は第1、2、5および6図の実施例の
動作を制御するのに使用されるクロツク・パルスのタイ
ミング図、第4図は当業者にあつては周知の差動対を形
成するよう標準的な方法で相互接続された2つのMOSFET
デバイスを示す図、第5図は一定のバイアス電流を保持
するために出願人により考案された仕方でスイツチト・
キヤパシタ・コンダクタンス制御ループに接続された電
流ミラー回路を示す図、第6図は差動対の相互コンダク
タンスを一定に保持するために使用されるバイアス電流
を発生するのにスイツチト・キヤパシタ制御ループが使
用されている装置を示す図、第7図は第1図の回路で用
いるのに適した特に有利な可変相互コンダクタンス素子
のブロツク図、第8図は第7図の回路をすべてMOSFETで
実現した特定の実施例を示す図である。 <主要部の符号の説明> 相互コンダクタンス素子……10 第1の回路……18、14、15、16、17 第2の回路……28、30、22 導線……34
フロントページの続き (56)参考文献 実公 昭54−44535(JP,Y2) 「電子通信学会論文誌」昭和57年7月号 P.701〜P.704 「IEEE JOVNAL OF SO LID−STATE CIRCUITS」 VOL.SC−15,NO.5(1980年10 月)P.887〜P.894 「昭和57年度電子通信学会総合全国大会 講演論文集」分冊2 NO.507 「電子通信学会誌」昭和56年12月号 P.1294

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】集積回路チップ上の複数の可変相互コンダ
    クタンス素子の相互コンダクタンスを実質的に温度不感
    応性に維持する、可変相互コンダクタンス素子のコンダ
    クタンスを制御する回路において、 第1の電流がノード(24)へ流れている主可変相互コン
    ダクタンス素子(10)、 キャパシタ(12)、 該キャパシタを流れる第2の電流を発生するために該キ
    ャパシタを間欠的に充・放電する第1の回路(18、14、
    15、16、17)、 該主可変相互コンダクタンス素子と該第1の回路とに接
    続され、該第1及び第2の電流の和に応答して制御電圧
    を発生する第2の回路(28、30、22、32)、 該制御電圧を該主可変相互コンダクタンス素子へ印加し
    て該主可変相互コンダクタンス素子の相互コンダクタン
    スを調節し、かつそれにより該第1の電流を調節するた
    めに制御電圧を該主可変相互コンダクタンス素子へ印加
    する導体(34)、及び 該チップ上の複数の副可変相互コンダクタンス素子(3
    8、40)へ該制御電圧を印加する導体(36)からなり、 前記第1の回路は第1の電圧源(例えば18)と複数個の
    クロックによって動作するスイッチ(例えば14、15、1
    6、17)とからなり、キャパシタ(12)とともにスイッ
    チト・キャパシタ回路を構成し、前記主可変相互コンダ
    クタンス素子はトランジスタ(例えば52)からなり、前
    記第2の回路は積分器(例えば28、30)からなり、前記
    第1及び第2の電流は共に前記積分器の1つの入力端子
    (例えば26)に加えられ、該導体(例えば34)は該トラ
    ンジスタのゲートに接続されおり、前記制御電圧は該第
    1及び第2の電流が等しいときに安定しており、 前記第2の回路は更に積分器の出力を表す電圧をサンプ
    ル・ホールドする装置(例えば22、32)を含み、該装置
    は前記導体に接続されており、 該制御電圧の変化によって変化する、該主可変相互コン
    ダクタンス素子及び副可変相互コンダクタンス素子の相
    互コンダクタンスを変化させ、該主可変相互コンダクタ
    ンス素子及び副可変相互コンダクタンス素子の相互コン
    ダクタンスを温度不感応にすることを特徴とする可変相
    互コンダクタンス素子のコンダクタンスを制御する回
    路。
  2. 【請求項2】特許請求の範囲第1項記載の可変相互コン
    ダクタンス素子のコンダクタンスを制御する回路におい
    て、更に前記キャパシタ(例えば12)の第1の端子は第
    1のスイッチ(例えば14)を通して第1の電圧源(例え
    ば18)へ、第2のスイッチ(例えば17)を通して第2の
    電圧源(地気)へ接続されており、該キャパシタの第2
    の端子は第3のスイッチ(例えば16)を通して前記積分
    器の1つの入力へ、かつ第4のスイッチ(例えば15)を
    通して第2の一定電圧源へ接続されており、前記サンプ
    ル・ホールド装置は第2のキャパシタ(例えば32)と、
    前記積分器の出力を該第2のキャパシタ及び導体(例え
    ば34)へ接続する第5のスイッチ(例えば22)とからな
    り、すべてのスイッチは平常時は開いており、周期Tを
    有するパルス列のパルスによって短期間閉じ、第1及び
    第4のスイッチは第1のパルス列(例えばP1)によって
    制御され、第2及び第3のスイッチは第2のパルス列
    (例えばP2)によって制御され、第5のスイッチは第3
    のパルス列(例えばP3)によって制御され、第2のパル
    ス列は第1のパルス列より遅れているが第3のパルス列
    より進んでいることを特徴とする可変相互コンダクタン
    ス素子のコンダクタンスを制御する回路。
  3. 【請求項3】特許請求の範囲第2項記載の可変相互コン
    ダクタンス素子のコンダクタンスを制御する回路におい
    て、更に第1の電流は、GVTEを相互コンダクタンス素子
    の相互コンダクタンス、VRを第1の基準電圧源(例えば
    18)の電圧とするときGVTEVRに等しく、第2の電流はC1
    を第1のキャパシタの容量、Tを前記パルス列の周期と
    するときC1VR/Tに等しく、制御電圧は相互コンダクタ
    ンス素子の温度の関数であることを特徴とする可変相互
    コンダクタンス素子のコンダクタンスを制御する回路。
  4. 【請求項4】特許請求の範囲第2項記載の可変相互コン
    ダクタンス素子のコンダクタンスを制御する回路におい
    て、更に相互コンダクタンス素子は電流ミラー回路(例
    えば70、72)へ接続された第1のMOSFET(例えば74)を
    含み、該電流ミラー回路は積分器(例えば28、30)に導
    体を通して(例えば68)接続されていることを特徴とす
    る可変相互コンダクタンス素子のコンダクタンスを制御
    する回路。
  5. 【請求項5】特許請求の範囲第1項〜第4項のいずれか
    に記載の可変相互コンダクタンス素子のコンダクタンス
    を制御する回路において、更に前記素子の相互コンダク
    タンスはその温度及び制御電圧の関数であり、制御電圧
    は相互コンダクタンス素子の温度を表す出力電圧として
    使用されることを特徴とする可変相互コンダクタンス素
    子のコンダクタンスを制御する回路。
  6. 【請求項6】特許請求の範囲第4項記載の可変相互コン
    ダクタンス素子のコンダクタンスを制御する回路におい
    て、更に前記導体は第1のMOSFETのゲートに接続されて
    おり、第1のMOSFETの1つの出力端子は電流ミラー回路
    に接続されており、第1のMOSFETの別の出力端子は夫々
    MOSFETの差動対を形成する複数個の他のMOSFET回路(例
    えば93、94)に接続されていることを特徴とする可変相
    互コンダクタンス素子のコンダクタンスを制御する回
    路。
  7. 【請求項7】特許請求の範囲第6項記載の可変相互コン
    ダクタンス素子のコンダクタンスを制御する回路におい
    て、更に電流ミラー回路は定常状態電流Iを流す第2及
    び第3のMOSFETからなり、第1の電圧源(VREF)は、k
    を第1、第2及び第3のMOSFETと関連する温度に依存す
    るパラメータとするとき、 なる電圧を第1のスイッチ(例えば90、14)にて発生
    し、第2の電流はC1 2/T2kであり、積分器及び第1の電
    圧源に接続された回路は各差動対の各々のMOSFETを流れ
    る電流をC1 2/T2kに維持することを特徴とする可変相互
    コンダクタンス素子のコンダクタンスを制御する回路。
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