JPH0656646B2 - 磁気ヘツド - Google Patents
磁気ヘツドInfo
- Publication number
- JPH0656646B2 JPH0656646B2 JP59088340A JP8834084A JPH0656646B2 JP H0656646 B2 JPH0656646 B2 JP H0656646B2 JP 59088340 A JP59088340 A JP 59088340A JP 8834084 A JP8834084 A JP 8834084A JP H0656646 B2 JPH0656646 B2 JP H0656646B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- alloy film
- magnetic alloy
- magnetic head
- core
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/21—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features the pole pieces being of ferrous sheet metal or other magnetic layers
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は磁気記録再生用の磁気ヘッドに係り、特に高密
度磁気記録に好適なな複合材からなる磁気ヘッド関す
る。
度磁気記録に好適なな複合材からなる磁気ヘッド関す
る。
高保磁力磁気記録媒体と組み合せて使用するに適した磁
気ヘッドは、高透磁率、高飽和磁束密度の磁性合金を使
用して構成することによって短かい記録波長で、高保磁
力の磁気記録媒体を有効に磁化し、広帯域の磁気記録を
行なうことができる。
気ヘッドは、高透磁率、高飽和磁束密度の磁性合金を使
用して構成することによって短かい記録波長で、高保磁
力の磁気記録媒体を有効に磁化し、広帯域の磁気記録を
行なうことができる。
このような磁気ヘッドは、実用面を考慮して、磁気的飽
和が問題となるヘッドコアの作動ギャップ近傍のみを飽
和磁束密度Bsの大きい磁性合金膜によって構成し、ヘッ
ドコアの他の部分は耐摩耗性に優れたフェライトによっ
て構成した複合材からなる磁気ヘッドが提案されてい
る。
和が問題となるヘッドコアの作動ギャップ近傍のみを飽
和磁束密度Bsの大きい磁性合金膜によって構成し、ヘッ
ドコアの他の部分は耐摩耗性に優れたフェライトによっ
て構成した複合材からなる磁気ヘッドが提案されてい
る。
その一例の構成を第１図に示す。図(a)は上面図、図(b)
は側面図である。すなわち、この磁気ヘッドの主な磁気
回路をなすコア部片10，10′は高透磁率フェライトから
なっており、作動ギャップgeを形成する部分が高透磁
率、高飽和磁束密度の磁性合金膜11，11′で構成され、
該磁性合金膜11，11′はそれぞれ12，12′面でフェライ
トコア部片10，10′に接合されて、コイル巻線窓13を有
するリング状の磁気回路を構成している。さらにこの構
成では、磁性合金膜11，11′とフェライトコア部片10，
10′の接合部12，12′が作動ギャップgeの対向面と平行
になっているため、磁性合金膜11，11′とフェライトコ
ア部片10，10′との比透磁率が互いに異なった値を有し
ている場合には、作動ギャップgeを挾む２個の接合部1
2，12′が凝似ギャップ作用を呈することがあり、磁気
ヘッドの記録再生特性に障害となる欠点をもっている。
また、高周波特性を良くするために、第２図に拡大上面
図で示したように、磁性合金膜11，11′を絶縁中間層1
4，14′を介して多層化すると、さらに凝似ギャップ作
用を呈する部分が増して記録再生特性に障害となる。
は側面図である。すなわち、この磁気ヘッドの主な磁気
回路をなすコア部片10，10′は高透磁率フェライトから
なっており、作動ギャップgeを形成する部分が高透磁
率、高飽和磁束密度の磁性合金膜11，11′で構成され、
該磁性合金膜11，11′はそれぞれ12，12′面でフェライ
トコア部片10，10′に接合されて、コイル巻線窓13を有
するリング状の磁気回路を構成している。さらにこの構
成では、磁性合金膜11，11′とフェライトコア部片10，
10′の接合部12，12′が作動ギャップgeの対向面と平行
になっているため、磁性合金膜11，11′とフェライトコ
ア部片10，10′との比透磁率が互いに異なった値を有し
ている場合には、作動ギャップgeを挾む２個の接合部1
2，12′が凝似ギャップ作用を呈することがあり、磁気
ヘッドの記録再生特性に障害となる欠点をもっている。
また、高周波特性を良くするために、第２図に拡大上面
図で示したように、磁性合金膜11，11′を絶縁中間層1
4，14′を介して多層化すると、さらに凝似ギャップ作
用を呈する部分が増して記録再生特性に障害となる。
上記の欠点を解消するために、例えば、第３図(a)，(b)
にそれぞれ上面図、側面図で示すような構成の磁気ヘッ
ドが提案された。すなわち、この磁気ヘッドでは、主な
磁気回路をなすコア部片10，10′が高透磁率フェライト
からなっており、作動ギャップgeを形成する部分が高透
磁率、高飽和磁束密度の磁性合金膜11，11′で構成さ
れ、該磁性合金膜11，11′はそれぞれ作動ギャップgeと
斜交した面12，12′でフェライトコア部片10，10′と接
合されており、磁性合金膜11，11′とフェライトコア部
片10，10′の接合部における凝似ギャップ作用が作動ギ
ャップgeにおける記録再生特性に影響しないようにして
いる。このような磁気ヘッドは、特性が良好となるが、
磁性合金膜を用いる場合には高周波特性を確保するため
に、磁性合金膜を電気絶縁層を介して多層化する方法が
とられる。このような磁性合金膜を多層にした磁気ヘッ
ドの一例の磁気記録媒体との対向面の拡大平面図を第４
図に示す。第４図において、10，10′はフェライトコア
部片、11，11′は磁性合金膜で、14，14′は磁性合金膜
11，11′を多層化するために用いた中間絶縁層（例えば
SiO2層）である。このような構造を有する磁気ヘッドに
おいて、磁性合金膜を絶縁材料を中間層として多層にし
た場合、高周波特性に十分効果を与える程度にに中間絶
縁層を厚くすると、突起部の頂部15，15′において、凝
似ギャップ作用が現われてしまう欠点がある。
にそれぞれ上面図、側面図で示すような構成の磁気ヘッ
ドが提案された。すなわち、この磁気ヘッドでは、主な
磁気回路をなすコア部片10，10′が高透磁率フェライト
からなっており、作動ギャップgeを形成する部分が高透
磁率、高飽和磁束密度の磁性合金膜11，11′で構成さ
れ、該磁性合金膜11，11′はそれぞれ作動ギャップgeと
斜交した面12，12′でフェライトコア部片10，10′と接
合されており、磁性合金膜11，11′とフェライトコア部
片10，10′の接合部における凝似ギャップ作用が作動ギ
ャップgeにおける記録再生特性に影響しないようにして
いる。このような磁気ヘッドは、特性が良好となるが、
磁性合金膜を用いる場合には高周波特性を確保するため
に、磁性合金膜を電気絶縁層を介して多層化する方法が
とられる。このような磁性合金膜を多層にした磁気ヘッ
ドの一例の磁気記録媒体との対向面の拡大平面図を第４
図に示す。第４図において、10，10′はフェライトコア
部片、11，11′は磁性合金膜で、14，14′は磁性合金膜
11，11′を多層化するために用いた中間絶縁層（例えば
SiO2層）である。このような構造を有する磁気ヘッドに
おいて、磁性合金膜を絶縁材料を中間層として多層にし
た場合、高周波特性に十分効果を与える程度にに中間絶
縁層を厚くすると、突起部の頂部15，15′において、凝
似ギャップ作用が現われてしまう欠点がある。
第５図は最も一般的な従来例を示す磁気ヘッドである。
この磁気ヘッドは非磁性基板16，16′に磁性合金膜11，
11′を中間絶縁層14，14′を介して多層に形成し、さら
にその上に非磁性基板16″，16接合した一対の磁気コ
ア半体を作動ギャップgeを介して接合して作成される。
この磁気ヘッドにおいては、凝似ギャップ作用もなく、
高周波特性も優れた構造を有する。しかし、従来からそ
の実用化が遅れている理由の一つに、量産性に欠けてい
るという欠点があった。
この磁気ヘッドは非磁性基板16，16′に磁性合金膜11，
11′を中間絶縁層14，14′を介して多層に形成し、さら
にその上に非磁性基板16″，16接合した一対の磁気コ
ア半体を作動ギャップgeを介して接合して作成される。
この磁気ヘッドにおいては、凝似ギャップ作用もなく、
高周波特性も優れた構造を有する。しかし、従来からそ
の実用化が遅れている理由の一つに、量産性に欠けてい
るという欠点があった。
本発明の目的は、以上述べたような従来の磁気ヘッドの
欠点を除去し、高保磁力記録媒体に対しても優れた記録
再生特性を示し、高周波特性の優れた磁気ヘッドを提供
することにある。
欠点を除去し、高保磁力記録媒体に対しても優れた記録
再生特性を示し、高周波特性の優れた磁気ヘッドを提供
することにある。
本発明は、上記の目的を達成するために、ギャップ対向
面側が逆Ｖ字状に突出している突出部を有する２個の直
方体状磁性合金膜保持用コア部片の該突出部の少なくと
も両側面上に高飽和磁束密度、高透磁率の磁性合金膜が
被着され、前記突出部の先端部において、非磁性絶縁層
からなる作動ギャップ形成層を介して前記２個の磁性合
金膜保持用コア部片の磁性合金膜同志が相対峙して磁気
回路を構成してなる磁気ヘッドにおいて、前記磁性合金
膜が中間絶縁層を間に介在させた多層膜からなり、か
つ、前記作動ギャップ形成層に向かうすべての前記中間
絶縁層の端部が該作動ギャップ形成層面に露出すなわち
作動ギャップ形成層に連接する構成としたものである。
これによって、中間絶縁層による凝似ギャップ作用が回
避でき、かつ、高周波特性を確保できる厚みで中間絶縁
層を形成することができる。
面側が逆Ｖ字状に突出している突出部を有する２個の直
方体状磁性合金膜保持用コア部片の該突出部の少なくと
も両側面上に高飽和磁束密度、高透磁率の磁性合金膜が
被着され、前記突出部の先端部において、非磁性絶縁層
からなる作動ギャップ形成層を介して前記２個の磁性合
金膜保持用コア部片の磁性合金膜同志が相対峙して磁気
回路を構成してなる磁気ヘッドにおいて、前記磁性合金
膜が中間絶縁層を間に介在させた多層膜からなり、か
つ、前記作動ギャップ形成層に向かうすべての前記中間
絶縁層の端部が該作動ギャップ形成層面に露出すなわち
作動ギャップ形成層に連接する構成としたものである。
これによって、中間絶縁層による凝似ギャップ作用が回
避でき、かつ、高周波特性を確保できる厚みで中間絶縁
層を形成することができる。
本発明における中間絶縁層はSiO2，Al2O3，高融点ガラ
ス、あるいは種々のセラミック材から選ばれる電気抵抗
の高い材料からなる。その厚さは0.1μｍ〜0.5μｍの範
囲が適当であり、0.1μｍ未満では良好な高周波特性が
得られず、0.5μｍを越えると磁束の流れが悪くなる傾
向があるが、特にその厚さを限定するものではない。
ス、あるいは種々のセラミック材から選ばれる電気抵抗
の高い材料からなる。その厚さは0.1μｍ〜0.5μｍの範
囲が適当であり、0.1μｍ未満では良好な高周波特性が
得られず、0.5μｍを越えると磁束の流れが悪くなる傾
向があるが、特にその厚さを限定するものではない。
磁性合金膜保持用コア部片の突出部に形成される磁性合
金膜は該保持用コア部片がフェライトである場合には該
フェライトより飽和磁束密度の高い磁性合金が用いら
れ、好適には飽和磁束密度Bs≧8000の磁性合金が用いら
れる。
金膜は該保持用コア部片がフェライトである場合には該
フェライトより飽和磁束密度の高い磁性合金が用いら
れ、好適には飽和磁束密度Bs≧8000の磁性合金が用いら
れる。
磁性合金の膜厚は、第１層目は少なくとも２μｍ〜10μ
ｍ、第２層目以下は１〜10μｍで、総膜厚は５〜50μｍ
の時に好適な特性を得ることができる。
ｍ、第２層目以下は１〜10μｍで、総膜厚は５〜50μｍ
の時に好適な特性を得ることができる。
本発明の磁性合金膜保持用コア部片は耐摩耗性を確保す
るために磁性合金膜よりも摺動強度の高い材料を用い
る。例えば、Mn-Zn系、Ni-Zn系の高透磁率フェライトか
らなる磁性合金膜保持用コア部片と高飽和磁束密度磁性
合金膜を組み合せて磁気回路を構成することによって優
れた磁気ヘッド特性を得ることができる。また、磁気回
路を磁性合金膜のみで構成し、磁性合金膜保持用コア部
片を非磁性フェライト、セラミック、ガラス等の非磁性
体とすることによって、摺動雑音の低い磁気ヘッドを得
ることができる。この場合、磁性合金膜が磁性合金膜保
持用コア部片に形成されたコイル巻線窓の内側を周回し
て磁気回路を構成することが必要である。
るために磁性合金膜よりも摺動強度の高い材料を用い
る。例えば、Mn-Zn系、Ni-Zn系の高透磁率フェライトか
らなる磁性合金膜保持用コア部片と高飽和磁束密度磁性
合金膜を組み合せて磁気回路を構成することによって優
れた磁気ヘッド特性を得ることができる。また、磁気回
路を磁性合金膜のみで構成し、磁性合金膜保持用コア部
片を非磁性フェライト、セラミック、ガラス等の非磁性
体とすることによって、摺動雑音の低い磁気ヘッドを得
ることができる。この場合、磁性合金膜が磁性合金膜保
持用コア部片に形成されたコイル巻線窓の内側を周回し
て磁気回路を構成することが必要である。
以下に本発明を実施例によって詳細に説明する。第６図
(a)，(b)はそれぞれ本発明による磁気ヘッドの構造の概
略を示す上面図、側面図である。図において、20，20′
はMn-Znフェライトからなる磁性合金膜保持用コア部片
であり、両者の突き合せ部が逆Ｖ字状に突出している突
出部を有し、該突出部の両側面上に中間絶縁膜を介して
多層の磁性合金膜21，21′（例えば、Co,Ni,Feのうちの
少なくとも一種を主成分とした、多結晶質また非晶質の
磁性合金膜）をスパッタリング法によって形成してあ
る。
(a)，(b)はそれぞれ本発明による磁気ヘッドの構造の概
略を示す上面図、側面図である。図において、20，20′
はMn-Znフェライトからなる磁性合金膜保持用コア部片
であり、両者の突き合せ部が逆Ｖ字状に突出している突
出部を有し、該突出部の両側面上に中間絶縁膜を介して
多層の磁性合金膜21，21′（例えば、Co,Ni,Feのうちの
少なくとも一種を主成分とした、多結晶質また非晶質の
磁性合金膜）をスパッタリング法によって形成してあ
る。
上記磁性合層は一層の膜厚が第１層目は少なくとも２μ
ｍ〜10μｍ、第２層目以後１μｍ〜10μｍからなり、総
膜厚が５μｍ〜50μｍとなるように構成する。
ｍ〜10μｍ、第２層目以後１μｍ〜10μｍからなり、総
膜厚が５μｍ〜50μｍとなるように構成する。
また、上記中間絶縁層は0.1μｍ〜0.5μｍからなり、Si
C2，Ａｌ２Ｏ３等の電気抵抗の高い材料を用いる。
C2，Ａｌ２Ｏ３等の電気抵抗の高い材料を用いる。
23は作動ギャップを示し、磁性合金膜21，21′の突き合
せ面上に形成された、厚さ約0.3μｍのSiO2スパッタ・
ギャップ形成層を介して作製される。
せ面上に形成された、厚さ約0.3μｍのSiO2スパッタ・
ギャップ形成層を介して作製される。
22，22′は低融点ガラス等からなる非磁性充填材層、24
はコイル巻線用窓である。
はコイル巻線用窓である。
磁気回路は作動ギャップ23の近傍部が高飽和磁束密度、
高透磁率の磁性合金多層膜からなり、他の部分はこれと
接合したフェライトもしくは非磁性体からなる磁性合金
膜保持用コア部片から形成されている。また、この磁気
ヘッドの磁気記録媒体対向面では、作動ギャップ以外の
磁性合金膜と磁性合金膜保持用コア部片との接合部が作
動ギャップと平行な部分あるいは作動ギャップに近い磁
性合金膜の突起部を持たず、多層磁性合金膜はすべて作
動ギャップと斜交した構造を有するので凝似ギャップ作
用は現われない。
高透磁率の磁性合金多層膜からなり、他の部分はこれと
接合したフェライトもしくは非磁性体からなる磁性合金
膜保持用コア部片から形成されている。また、この磁気
ヘッドの磁気記録媒体対向面では、作動ギャップ以外の
磁性合金膜と磁性合金膜保持用コア部片との接合部が作
動ギャップと平行な部分あるいは作動ギャップに近い磁
性合金膜の突起部を持たず、多層磁性合金膜はすべて作
動ギャップと斜交した構造を有するので凝似ギャップ作
用は現われない。
第７図は本発明の磁性合金膜の多層構造の一例を詳細に
説明するために磁気ヘッドの拡大上面図である。
説明するために磁気ヘッドの拡大上面図である。
図において、磁性合金膜保持用コア部片20，20′の突出
部の両側面に被着された磁性合金膜21，21′は中間絶縁
層25，25′によって多層化され、その先端部を研摩によ
ってトラック幅となるように平坦化し、作動ギャップ形
成面とする。この場合、多層磁性合金膜21，21′の研摩
は磁性合金膜間に介在する中間絶縁膜25，25′の作動ギ
ャップ23に向う一端が作動ギャップ形成面に露呈するよ
うにする。第８図は好適な多層膜の構成例を示す表図で
ある。本実施例においては、各層の磁性合金膜はほぼ等
間隔で形成されているが、特にこれに限定されるもので
はない。しかし、特に第１層目の磁性合金膜の膜厚を２
μｍ以下にすると、第１層目の中間絶縁膜を作動ギャッ
プ形成面に露呈させるための研摩制御が困難となり、中
間絶縁層が研摩されずに残ったり、研摩がすぎると磁性
合金膜保持用コア部片の突出部の先端部が作動ギャップ
形成面に現われてしまい好ましくない。
部の両側面に被着された磁性合金膜21，21′は中間絶縁
層25，25′によって多層化され、その先端部を研摩によ
ってトラック幅となるように平坦化し、作動ギャップ形
成面とする。この場合、多層磁性合金膜21，21′の研摩
は磁性合金膜間に介在する中間絶縁膜25，25′の作動ギ
ャップ23に向う一端が作動ギャップ形成面に露呈するよ
うにする。第８図は好適な多層膜の構成例を示す表図で
ある。本実施例においては、各層の磁性合金膜はほぼ等
間隔で形成されているが、特にこれに限定されるもので
はない。しかし、特に第１層目の磁性合金膜の膜厚を２
μｍ以下にすると、第１層目の中間絶縁膜を作動ギャッ
プ形成面に露呈させるための研摩制御が困難となり、中
間絶縁層が研摩されずに残ったり、研摩がすぎると磁性
合金膜保持用コア部片の突出部の先端部が作動ギャップ
形成面に現われてしまい好ましくない。
第９図は本発明の磁気ヘッドにおける磁性合金膜の多層
構造の他の一例を詳細に説明するための磁気ヘッドの拡
大上面図である。本実施例では、一層の磁性合金膜の厚
さを薄くして多層化しても中間絶縁層25，25′を作動ギ
ャップ23の面に露出することができる。すなわち、磁性
合金膜保持用コア部片20，20′の突出部側面上に形成さ
れる磁性合金膜21，21′の第１層目を厚くし、第２層目
以後を薄くして多層化する方法である。このようにすれ
ば、すべての中間絶縁膜25，25′の一端を作動ギャップ
面に露呈させるようにして、トラック幅出し研摩を容易
にすることができ、磁性合金膜保持用コア部片20，20′
の突出部先端まで研摩されずにすむ、第10図に本実施例
の好適な多層膜の構成例を示す表図である。第10図にお
いて第２層目以後の磁性合金膜の厚さは必らずしも同一
厚さでなくてもよい。
構造の他の一例を詳細に説明するための磁気ヘッドの拡
大上面図である。本実施例では、一層の磁性合金膜の厚
さを薄くして多層化しても中間絶縁層25，25′を作動ギ
ャップ23の面に露出することができる。すなわち、磁性
合金膜保持用コア部片20，20′の突出部側面上に形成さ
れる磁性合金膜21，21′の第１層目を厚くし、第２層目
以後を薄くして多層化する方法である。このようにすれ
ば、すべての中間絶縁膜25，25′の一端を作動ギャップ
面に露呈させるようにして、トラック幅出し研摩を容易
にすることができ、磁性合金膜保持用コア部片20，20′
の突出部先端まで研摩されずにすむ、第10図に本実施例
の好適な多層膜の構成例を示す表図である。第10図にお
いて第２層目以後の磁性合金膜の厚さは必らずしも同一
厚さでなくてもよい。
第11図(a)〜(f)は本発明の磁気ヘッドコアの製造工程の
概略を示す説明図である。
概略を示す説明図である。
同図(a)に示すよう、高透磁率Mn-Znフェライトからなる
２個の直方体状コア部片20（20′）のそれぞれの作動ギ
ャップ対向面となる面26（26′）に所定間隔で平板27
（27′）を残して、平板部27（27′）の間に隣接する一
対のＶ字状溝28（28′）を研削等により形成する。この
場合、隣接する一対のＶ字溝28（28′）に挾まれたコア
部片20（20′）の逆Ｖ字状突起29（29′）の頂部は平板
部27（27′）より所定の高さだけ低くなるように形成す
る。
２個の直方体状コア部片20（20′）のそれぞれの作動ギ
ャップ対向面となる面26（26′）に所定間隔で平板27
（27′）を残して、平板部27（27′）の間に隣接する一
対のＶ字状溝28（28′）を研削等により形成する。この
場合、隣接する一対のＶ字溝28（28′）に挾まれたコア
部片20（20′）の逆Ｖ字状突起29（29′）の頂部は平板
部27（27′）より所定の高さだけ低くなるように形成す
る。
図(b)に示すように、図(a)の工程を終ったコア部片20
（20′）の面26（26′）側面上に所定厚さの非磁性絶縁
膜（例えばSiO2膜）25（25′）を介して所定厚さのCo-N
b-Zr系非晶質磁性合金膜21（21′）を多層に積層した多
層磁性合金膜を形成する。
（20′）の面26（26′）側面上に所定厚さの非磁性絶縁
膜（例えばSiO2膜）25（25′）を介して所定厚さのCo-N
b-Zr系非晶質磁性合金膜21（21′）を多層に積層した多
層磁性合金膜を形成する。
図(c)に示すように、図(b)に示すコア部片20，20′の磁
性合金膜21（21′）上に磁性合金膜部分に残っているＶ
字状溝が少なくとも埋まるように低融点ガラスなどの非
磁性充填材層22（22′）を充填、形成する。
性合金膜21（21′）上に磁性合金膜部分に残っているＶ
字状溝が少なくとも埋まるように低融点ガラスなどの非
磁性充填材層22（22′）を充填、形成する。
その後、図(d)に示すように、ガラス層22（22′）をコ
ア部片20（20′）の平板部27（27′）まで研削、研摩す
る。このとき、コア部片20，20′のＶ字状突起部29（2
9′）の先端は研摩されずに残るが、磁性合金膜21（2
1′）のＶ字状突起部の先端部は磁性合金膜の第１層目
まで研摩され、多層磁性合金膜によって所定トラック幅
twをもった作動ギャップ形成面30（30′）が得られる。
このようにすれば、磁性合金膜21（21′）の間に介在す
る中間絶縁層25（25′）の作動ギャップ形成面30（3
0′）に向う一端部は作動ギャップ面30（30′）に露出
するようになる。このためには、コア部片20（20′）の
平板部27（27′）と逆Ｖ字状突起29（29′）の高さの
差、磁性合金膜21（21′）と中間絶縁層25（25′）の膜
厚を制御すればよい。
ア部片20（20′）の平板部27（27′）まで研削、研摩す
る。このとき、コア部片20，20′のＶ字状突起部29（2
9′）の先端は研摩されずに残るが、磁性合金膜21（2
1′）のＶ字状突起部の先端部は磁性合金膜の第１層目
まで研摩され、多層磁性合金膜によって所定トラック幅
twをもった作動ギャップ形成面30（30′）が得られる。
このようにすれば、磁性合金膜21（21′）の間に介在す
る中間絶縁層25（25′）の作動ギャップ形成面30（3
0′）に向う一端部は作動ギャップ面30（30′）に露出
するようになる。このためには、コア部片20（20′）の
平板部27（27′）と逆Ｖ字状突起29（29′）の高さの
差、磁性合金膜21（21′）と中間絶縁層25（25′）の膜
厚を制御すればよい。
ついで、図には示されていないが、一方のコア部片20′
のギャップ形成面30′側の面の所定位置にＶ字状溝28′
に直角にＶ字状28′よりも深い所定形状のコイル巻線窓
用溝を形成した後、全面にギャップ材となるSiO2膜等の
非磁性絶縁層を所定厚さに形成する。
のギャップ形成面30′側の面の所定位置にＶ字状溝28′
に直角にＶ字状28′よりも深い所定形状のコイル巻線窓
用溝を形成した後、全面にギャップ材となるSiO2膜等の
非磁性絶縁層を所定厚さに形成する。
図(e)に示すように、上記の工程を終ったコア部片20，2
0′を両者のギャップ形成面30，30′を対峙させて突き
合せ、ガラス層22，22′を加熱、溶融してコア部片20，
20′同志を接合し、隣接するＶ字状溝28，28′の頂部、
すなわち図の一点鎖線部で切断すれば、第10図に示す磁
気ヘッドが得られる。同図(a)は上面図、同図(b)側面図
である。
0′を両者のギャップ形成面30，30′を対峙させて突き
合せ、ガラス層22，22′を加熱、溶融してコア部片20，
20′同志を接合し、隣接するＶ字状溝28，28′の頂部、
すなわち図の一点鎖線部で切断すれば、第10図に示す磁
気ヘッドが得られる。同図(a)は上面図、同図(b)側面図
である。
なお、以上説明した製造工程において、コイル巻線窓用
溝は図(a)に示した工程において、コア部片20，20′に
Ｖ字状溝28，28′を加工した後、一方のコア部片20′に
Ｖ字状溝28′に直角に設けるか、もしくはＶ字状溝を形
成する前のコア部片20′にコイル巻線窓用溝を形成した
後に、コイル巻線窓用溝を形成されたコア部片20′とコ
イル巻線窓用溝を形成されていないコア部片20にそれぞ
れＶ字状溝2828′を加工し、その後に、磁性合金膜21，
21′を非磁性絶縁層25，25′を介して多層に形成するよ
うにしてもよい。この場合には、コイル巻線窓用溝の内
面上にもＶ字状溝上と連続して磁性合金膜21，21′が形
成されるので、得られる磁気ヘッドの磁性合金膜による
磁気回路は第12図に示すようにコイル巻線窓のところで
切断されることがない。そのため、このうな製造工程を
とれば、コア部片20，20′はフェライトである必要はな
く、非磁性絶縁材であってもよい。
溝は図(a)に示した工程において、コア部片20，20′に
Ｖ字状溝28，28′を加工した後、一方のコア部片20′に
Ｖ字状溝28′に直角に設けるか、もしくはＶ字状溝を形
成する前のコア部片20′にコイル巻線窓用溝を形成した
後に、コイル巻線窓用溝を形成されたコア部片20′とコ
イル巻線窓用溝を形成されていないコア部片20にそれぞ
れＶ字状溝2828′を加工し、その後に、磁性合金膜21，
21′を非磁性絶縁層25，25′を介して多層に形成するよ
うにしてもよい。この場合には、コイル巻線窓用溝の内
面上にもＶ字状溝上と連続して磁性合金膜21，21′が形
成されるので、得られる磁気ヘッドの磁性合金膜による
磁気回路は第12図に示すようにコイル巻線窓のところで
切断されることがない。そのため、このうな製造工程を
とれば、コア部片20，20′はフェライトである必要はな
く、非磁性絶縁材であってもよい。
以上説明したように、本発明によれば、ギャップ対向面
側が逆Ｖ字状に突出している突出部を有する２個の直方
体状の磁性合金膜保持用コア部片の該突出部の少なくと
も両側面上に高飽和磁束密度、高透磁率の磁性合金膜が
被着され、前記突出部の先端部において、非磁性絶縁層
からなる作動ギャップ形成層を介して前記２個の磁性合
金膜保持用コア部片の磁性合金膜が相対峙して磁気回路
を構成してなる磁気ヘッドにおいて、高周波特性を良く
するために前記磁性合金膜を中間縁層を介して多層化し
ても、中間層部における凝似ギャップ作用が起らない構
造となっているため優れた記録再生特性を得ることがで
きる。また、磁気ヘッド製造工程が容易であるため実用
性も高い。
側が逆Ｖ字状に突出している突出部を有する２個の直方
体状の磁性合金膜保持用コア部片の該突出部の少なくと
も両側面上に高飽和磁束密度、高透磁率の磁性合金膜が
被着され、前記突出部の先端部において、非磁性絶縁層
からなる作動ギャップ形成層を介して前記２個の磁性合
金膜保持用コア部片の磁性合金膜が相対峙して磁気回路
を構成してなる磁気ヘッドにおいて、高周波特性を良く
するために前記磁性合金膜を中間縁層を介して多層化し
ても、中間層部における凝似ギャップ作用が起らない構
造となっているため優れた記録再生特性を得ることがで
きる。また、磁気ヘッド製造工程が容易であるため実用
性も高い。
第１図(a)，(b)はそれぞれ磁性合金とフェライトとの複
合材からなるる従来の磁気ヘッドコアの上面図と側面
図、第２図は第１図の磁気ヘッドコアの磁性合金膜を多
層化した場合の上面図、第３図(a)，(b)はそれぞれ改良
された従来の複合材からなる磁気ヘッドの上面図と側面
図、第４図は第３図の磁気ヘッドコアの磁性合金膜を多
層化した場合の上面図、第５図は他の従来の磁気ヘッド
の上面図、第６図(a)，(b)はそれぞれ本発明の磁気ヘッ
ドコアの一例の概略を示す上面図、側面図、第７図は第
６図に示した磁気ヘッドにおける磁性合金膜の多層化構
造の一例を詳細に説明するための磁気ヘッドの上面図、
第８図は第７図の磁気ヘッドの多層磁性合金膜の多層構
成例を示す表図、第９図は第６図に示した磁気ヘッドに
おける磁性合金膜の多層化構造の他の例を詳細に説明す
るための磁気ヘッドの上面図、第10図は第９図の磁気ヘ
ッドの多層磁性合金膜の多層構成例を示す表図、第11図
は本発明の磁気ヘッドコアの製造工程の一例の説明図、
第12図(a)，(b)はそれぞれ第11図に示した製造工程で得
られた磁気ヘッドの上面図、側面図である。 図において、 20，20′……コア部片 21，21′……磁性合金膜 22，22′……非磁性充填材層 23……作動ギャップ 24……コイル巻線窓 25，25′……中間絶縁層 26，26′……作動ギャップ対向面となる面 27，27′……コア部片の平板部 28，28′……Ｖ字状溝 29，29′……コア部片の逆Ｖ字状突起 30，30′……作動ギャップ形成面
合材からなるる従来の磁気ヘッドコアの上面図と側面
図、第２図は第１図の磁気ヘッドコアの磁性合金膜を多
層化した場合の上面図、第３図(a)，(b)はそれぞれ改良
された従来の複合材からなる磁気ヘッドの上面図と側面
図、第４図は第３図の磁気ヘッドコアの磁性合金膜を多
層化した場合の上面図、第５図は他の従来の磁気ヘッド
の上面図、第６図(a)，(b)はそれぞれ本発明の磁気ヘッ
ドコアの一例の概略を示す上面図、側面図、第７図は第
６図に示した磁気ヘッドにおける磁性合金膜の多層化構
造の一例を詳細に説明するための磁気ヘッドの上面図、
第８図は第７図の磁気ヘッドの多層磁性合金膜の多層構
成例を示す表図、第９図は第６図に示した磁気ヘッドに
おける磁性合金膜の多層化構造の他の例を詳細に説明す
るための磁気ヘッドの上面図、第10図は第９図の磁気ヘ
ッドの多層磁性合金膜の多層構成例を示す表図、第11図
は本発明の磁気ヘッドコアの製造工程の一例の説明図、
第12図(a)，(b)はそれぞれ第11図に示した製造工程で得
られた磁気ヘッドの上面図、側面図である。 図において、 20，20′……コア部片 21，21′……磁性合金膜 22，22′……非磁性充填材層 23……作動ギャップ 24……コイル巻線窓 25，25′……中間絶縁層 26，26′……作動ギャップ対向面となる面 27，27′……コア部片の平板部 28，28′……Ｖ字状溝 29，29′……コア部片の逆Ｖ字状突起 30，30′……作動ギャップ形成面
フロントページの続き (72)発明者 森川 寿一 茨城県勝田市大字稲田1410番地 株式会社 日立製作所東海工場内 (72)発明者 小林 高行 茨城県勝田市大字稲田1410番地 株式会社 日立製作所東海工場内 (72)発明者 工藤 實弘 東京都国分寺市東恋ヶ窪１丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (56)参考文献 特開 昭58−155513（ＪＰ，Ａ)
Claims (4)
- 【請求項１】ギャップ対向面側が逆Ｖ字状に突出してい
る突出部を有する２個の直方体状の磁性合金膜保持用コ
ア部片の該突出部の少なくとも両側面上に高飽和磁束密
度、高透磁率の磁性合金膜が被着され、前記突出部の先
端部において非磁性絶縁層からなる作動ギャップ形成層
を介して前記２個の磁性合金膜保持用コア部片の磁性合
金膜同志が相対峙して時期回路を構成してなる磁気ヘッ
ドにおいて、前記磁性合金膜が中間絶縁層を間に介在さ
せた多層膜からなり、かつ、前記作動ギャップ形成層に
向かうすべての前記中間絶縁層の端部が作動ギャップ形
成層に連接する構成としたことを特徴とする磁気ヘッ
ド。 - 【請求項２】特許請求の範囲第１項記載の磁気ヘッドに
おいて、前記磁性合金膜保持用コア部片の突出部に形成
される前記多層磁性合金膜のうちの第１層目の膜厚が第
２層目以降の膜厚より厚くなっていることを特徴とする
磁気ヘッド。 - 【請求項３】特許請求の範囲第１項または第２項記載の
磁気ヘッドにおいて、前記磁性合金膜保持用コア部片が
高透磁率フェライトからなることを特徴とする磁気ヘッ
ド - 【請求項４】特許請求の範囲第１項または第２項記載の
磁気ヘッドにおいて、前記磁性合金膜保持用コア部片が
非磁性絶縁体からなることを特徴とする磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59088340A JPH0656646B2 (ja) | 1984-05-04 | 1984-05-04 | 磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59088340A JPH0656646B2 (ja) | 1984-05-04 | 1984-05-04 | 磁気ヘツド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60234209A JPS60234209A (ja) | 1985-11-20 |
| JPH0656646B2 true JPH0656646B2 (ja) | 1994-07-27 |
Family
ID=13940122
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59088340A Expired - Lifetime JPH0656646B2 (ja) | 1984-05-04 | 1984-05-04 | 磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0656646B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0758532B2 (ja) * | 1987-03-24 | 1995-06-21 | 株式会社日立製作所 | 磁気ヘツド |
| JP2644768B2 (ja) * | 1987-09-14 | 1997-08-25 | シャープ株式会社 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58155513A (ja) * | 1982-03-10 | 1983-09-16 | Hitachi Ltd | 複合型磁気ヘツドおよびその製造方法 |
-
1984
- 1984-05-04 JP JP59088340A patent/JPH0656646B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60234209A (ja) | 1985-11-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0542726B2 (ja) | ||
| JPH0656646B2 (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPS60231903A (ja) | 複合型磁気ヘツドおよびその製造方法 | |
| JPH0664703B2 (ja) | 磁気ヘツド | |
| JP2906641B2 (ja) | 磁気ヘッドおよびその製造方法 | |
| JPH0548244Y2 (ja) | ||
| JPH0684137A (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
| JPH045046Y2 (ja) | ||
| JPH0766492B2 (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPH0690776B2 (ja) | 磁気ヘツド | |
| JP3104185B2 (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPH0467246B2 (ja) | ||
| JPH05282619A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPH0156445B2 (ja) | ||
| JPS6366703A (ja) | 複合型磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPH0546009B2 (ja) | ||
| JPH0520628A (ja) | 磁気ヘツド及びその製造方法 | |
| JPS6251009A (ja) | 磁気コアおよびその製造方法 | |
| JPH06119611A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPS6174114A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPH0770023B2 (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPS6334709A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPS63108510A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPH0673165B2 (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH01227208A (ja) | 磁気ヘッド |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |