JPH0654533B2 - 磁気記録媒体 - Google Patents
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- JPH0654533B2 JPH0654533B2 JP62024378A JP2437887A JPH0654533B2 JP H0654533 B2 JPH0654533 B2 JP H0654533B2 JP 62024378 A JP62024378 A JP 62024378A JP 2437887 A JP2437887 A JP 2437887A JP H0654533 B2 JPH0654533 B2 JP H0654533B2
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/64—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent
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Description
【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は強磁性金属薄膜を設けてなる磁気記録媒体に関
し、さらに詳しくは耐蝕性にすぐれる磁気記録媒体に関
する。
し、さらに詳しくは耐蝕性にすぐれる磁気記録媒体に関
する。
近年、磁気記録システムにおける記録密度向上がますま
す強く要求されてきている。そのため、これまでの塗布
型記録媒体に代わり、真空蒸着、スパツタリング等によ
り形成される強磁性金属薄膜を記録層として設けたいわ
ゆる金属薄膜型媒体が研究されてきている。
す強く要求されてきている。そのため、これまでの塗布
型記録媒体に代わり、真空蒸着、スパツタリング等によ
り形成される強磁性金属薄膜を記録層として設けたいわ
ゆる金属薄膜型媒体が研究されてきている。
この金属薄膜型磁気記録媒体においては、飽和磁化の大
きい強磁性金属合金がバインダーを含有しない状態で厚
さ５０〜５００ｎｍで形成されている。したがつて、塗
布型媒体に比べ、磁性層が１〜２桁薄くなつており、短
波長域での減磁界の影響が小さくなり高密度記録が実現
される。また、塗布型と異なり有機溶剤を大量に使用す
る必要はなく、製造設備が簡略化できる。
きい強磁性金属合金がバインダーを含有しない状態で厚
さ５０〜５００ｎｍで形成されている。したがつて、塗
布型媒体に比べ、磁性層が１〜２桁薄くなつており、短
波長域での減磁界の影響が小さくなり高密度記録が実現
される。また、塗布型と異なり有機溶剤を大量に使用す
る必要はなく、製造設備が簡略化できる。
強磁性材料としては、鉄、コバルト、ニツケル、あるい
はこれらの合金が用いられる。中でもコバルトは一軸性
の結晶磁気異方性が大きいため、磁気記録媒体として要
求される高保磁力が比較的容易に得られる。たとえば磁
気テープとしては斜め入射蒸着法によるコバルト・ニツ
ケル合金薄膜が最も広範に研究されている。
はこれらの合金が用いられる。中でもコバルトは一軸性
の結晶磁気異方性が大きいため、磁気記録媒体として要
求される高保磁力が比較的容易に得られる。たとえば磁
気テープとしては斜め入射蒸着法によるコバルト・ニツ
ケル合金薄膜が最も広範に研究されている。
このような金属薄膜型磁気記録媒体の耐候性及び耐久性
を改良するために、イオンプレーテイングにより表面窒
化処理を施す方法（特開昭５０−３３８０６号）、スパ
ツタリングにより窒化ケイ素膜を設ける方法（特開昭５
３−３０３０４号）、磁性膜を窒素ガス等の雰囲気中で
の放電にさらして非磁性表面層を形成する方法（特開昭
５３−８５４０３号）、磁性金属薄膜上に窒化された金
属薄膜を設ける方法（特開昭５４−１４３１１１号）等
が知られている。また、ヨーロッパ特許８３２８号、或
いは特開昭５９−８７８０９号に開示されているような
窒化鉄或いは鉄及び窒化鉄よりなる磁性範膜がある。さ
らに、本出願人は先に非磁性基体上に酸化窒化鉄を主成
分とする磁性薄膜を設けてなる磁気記録媒体（特開昭６
１−５４０２３号）を提案した。この磁性薄膜は次の組
成式 Ｆe1-X-YＮＸＯＹ （ただし、式中０．２５≦Ｘ＋Ｙ≦０．６０である） で表わされるものである。
を改良するために、イオンプレーテイングにより表面窒
化処理を施す方法（特開昭５０−３３８０６号）、スパ
ツタリングにより窒化ケイ素膜を設ける方法（特開昭５
３−３０３０４号）、磁性膜を窒素ガス等の雰囲気中で
の放電にさらして非磁性表面層を形成する方法（特開昭
５３−８５４０３号）、磁性金属薄膜上に窒化された金
属薄膜を設ける方法（特開昭５４−１４３１１１号）等
が知られている。また、ヨーロッパ特許８３２８号、或
いは特開昭５９−８７８０９号に開示されているような
窒化鉄或いは鉄及び窒化鉄よりなる磁性範膜がある。さ
らに、本出願人は先に非磁性基体上に酸化窒化鉄を主成
分とする磁性薄膜を設けてなる磁気記録媒体（特開昭６
１−５４０２３号）を提案した。この磁性薄膜は次の組
成式 Ｆe1-X-YＮＸＯＹ （ただし、式中０．２５≦Ｘ＋Ｙ≦０．６０である） で表わされるものである。
一方、磁気デイスクとしては、スパツタリング法による
コバルト・クロム合金薄膜が熱心に研究されている。
コバルト・クロム合金薄膜が熱心に研究されている。
このタイプの媒体の磁性層は見かけは均一で鏡面状の表
面を呈しているが、微視的には１０〜１００ｎｍ程度の
経の金属微粒子が並んでいる構造を有している。そのた
め結露したり、亜硫酸ガス等を含んだ雰囲気に暴露した
りすると容易に腐蝕されてしまう。媒体表面に極めてわ
ずかな腐蝕物が存在していても、磁気ヘツドあるいは他
の機構部品との摺動によりそれが脱落してヘツド目詰り
を生じたり、ドロツプアウトの原因となつたりする。
面を呈しているが、微視的には１０〜１００ｎｍ程度の
経の金属微粒子が並んでいる構造を有している。そのた
め結露したり、亜硫酸ガス等を含んだ雰囲気に暴露した
りすると容易に腐蝕されてしまう。媒体表面に極めてわ
ずかな腐蝕物が存在していても、磁気ヘツドあるいは他
の機構部品との摺動によりそれが脱落してヘツド目詰り
を生じたり、ドロツプアウトの原因となつたりする。
この欠点を改良するため、ひとつには金属薄膜上に無機
あるいは有機物の保護層を設ける方法がとられている。
あるいは有機物の保護層を設ける方法がとられている。
しかしながら前述の方法によるときは、十分な効果を得
るには表面処理層を厚くしなければならず、分離損失の
点から好ましくない。また前述の窒化鉄あるいは窒化酸
化鉄を主成分とする媒体は、耐候性、耐蝕性が改善され
ているとしても、高出力を得るのに必要な飽和磁化が劣
るという欠点を有している。
るには表面処理層を厚くしなければならず、分離損失の
点から好ましくない。また前述の窒化鉄あるいは窒化酸
化鉄を主成分とする媒体は、耐候性、耐蝕性が改善され
ているとしても、高出力を得るのに必要な飽和磁化が劣
るという欠点を有している。
本発明は、これらの欠点を解消し、耐蝕性に富むととも
に高い磁気特性を有する実用的な磁気記録媒体を得よう
とするものである。
に高い磁気特性を有する実用的な磁気記録媒体を得よう
とするものである。
上記問題点は、磁性層に含まれる強磁性金属として鉄と
ともにコバルトを使用し、それらの一部を窒素及び酸素
と結合させることにより、窒化酸化薄膜を形成した時、
その組成を特定の範囲とすることによつて解決される。
ともにコバルトを使用し、それらの一部を窒素及び酸素
と結合させることにより、窒化酸化薄膜を形成した時、
その組成を特定の範囲とすることによつて解決される。
すなわち、本発明は、非磁性基体上に形成された鉄及び
コバルトを主材とする強磁性金属薄膜を磁性層として設
けてなる磁気記録媒体において、金属薄膜中に少なくと
も窒素原子と酸素原子が含まれており、鉄、コバルト、
窒素、酸素の存在量（原子百分率）をａ：ｂ：ｃ：ｄと
するとき、 ３２ａ９０ ｃ＋ｄ４０ ５ｂ５５ ２ｃ２８ ５ｄ２３ を満足することを特徴とする磁気記録媒体、に関する。
コバルトを主材とする強磁性金属薄膜を磁性層として設
けてなる磁気記録媒体において、金属薄膜中に少なくと
も窒素原子と酸素原子が含まれており、鉄、コバルト、
窒素、酸素の存在量（原子百分率）をａ：ｂ：ｃ：ｄと
するとき、 ３２ａ９０ ｃ＋ｄ４０ ５ｂ５５ ２ｃ２８ ５ｄ２３ を満足することを特徴とする磁気記録媒体、に関する。
この磁気記録媒体においては、金属薄膜中に含まれる
鉄、コバルト、窒素及び酸素は、前記の原子百分率の範
囲の中、 ４５ａ８５ ｃ＋ｄ４０ １５ｂ４５ ３ｃ２０ １０ｄ２２ を満足することが好ましく、さらにｃは１０附近である
ことが好ましく、ｄは１０から１７が好ましい。
鉄、コバルト、窒素及び酸素は、前記の原子百分率の範
囲の中、 ４５ａ８５ ｃ＋ｄ４０ １５ｂ４５ ３ｃ２０ １０ｄ２２ を満足することが好ましく、さらにｃは１０附近である
ことが好ましく、ｄは１０から１７が好ましい。
この鉄、コバルト、窒素及び酸素を含有する金属薄膜を
構成する物質は組成が複雑でわからないが、純鉄、純コ
バルト、窒化鉄、酸化鉄、窒化コバルト、酸化コバルト
の混合物、或いは複合体になつているものとみられる。
構成する物質は組成が複雑でわからないが、純鉄、純コ
バルト、窒化鉄、酸化鉄、窒化コバルト、酸化コバルト
の混合物、或いは複合体になつているものとみられる。
窒化鉄ＦexＮは種々の構造のものが知られているが、強
磁性を示すのはＦe4Ｎ、Ｆe8Ｎ（Ｆe16Ｎ２とも表わさ
れる）である。これらが複合して、上記組成の範囲内に
あるとき、耐候性、耐蝕性に優れるとともに塗布型媒体
を凌賀する大きな飽和磁化をもつ窒化酸化薄膜よりなる
金属薄膜型媒体が実現される。
磁性を示すのはＦe4Ｎ、Ｆe8Ｎ（Ｆe16Ｎ２とも表わさ
れる）である。これらが複合して、上記組成の範囲内に
あるとき、耐候性、耐蝕性に優れるとともに塗布型媒体
を凌賀する大きな飽和磁化をもつ窒化酸化薄膜よりなる
金属薄膜型媒体が実現される。
非磁性基体上にこの金属薄膜からなる磁性層を形成させ
るには、非磁性基体の表面上にいわゆる斜め蒸着法によ
り磁性蒸着膜を形成させる。この方法では、ルツボ内に
入れられた鉄・コバルト合金を電子ビームなどによつて
加熱し、鉄及びコバルト原子を蒸発させてその蒸気流を
非磁性基体上に斜めに入射させて蒸着させる。その際、
イオンガンによつて生成された少なくとも窒素イオンを
含むイオンビームを蒸着領域に導き、鉄およびコバルト
の粒子と反応させるようにする。酸素は、窒素イオンと
ともにイオンとして蒸気流と反応させてもよいし、また
蒸着領域に雰囲気ガスとして入れておいてもよい。
るには、非磁性基体の表面上にいわゆる斜め蒸着法によ
り磁性蒸着膜を形成させる。この方法では、ルツボ内に
入れられた鉄・コバルト合金を電子ビームなどによつて
加熱し、鉄及びコバルト原子を蒸発させてその蒸気流を
非磁性基体上に斜めに入射させて蒸着させる。その際、
イオンガンによつて生成された少なくとも窒素イオンを
含むイオンビームを蒸着領域に導き、鉄およびコバルト
の粒子と反応させるようにする。酸素は、窒素イオンと
ともにイオンとして蒸気流と反応させてもよいし、また
蒸着領域に雰囲気ガスとして入れておいてもよい。
磁性層に含有される元素の割合は、鉄、コバルドについ
ては該合金の組成及び電子ビームのパワー調節によつて
行い、窒素、および酸素についてはイオンガンに供給す
る窒素ガス及び酸素ガス量の調節、あるいは真空槽内の
残留ガス圧の調節によつて行う。
ては該合金の組成及び電子ビームのパワー調節によつて
行い、窒素、および酸素についてはイオンガンに供給す
る窒素ガス及び酸素ガス量の調節、あるいは真空槽内の
残留ガス圧の調節によつて行う。
第１図に本発明による金属薄膜を形成するための装置の
１例を示す。真空槽１の中に非磁性基体２を搬送する機
構とその下に金属蒸気流および窒素・酸素イオンを導く
蒸発源とイオン源が設置されている。非磁性基体２はパ
スローラ３を介して円筒状ドラム４の周面に沿つて搬送
される。るつぼ６に蒸着材料の鉄・コバルト合金７を入
れ、それに電子銃８から電子ビームを照射して鉄・コバ
ルト原子を蒸着させ、その蒸気流をマスク５を介して移
動する基体２に斜めに差し向ける。イオン銃９に導入管
１２を通して窒素を含むガスを流し、イオン化させ、そ
のイオンビームを蒸着領域に差し向ける。同時にガス導
入機構１０又は１１から酸素を含むガスを適宜導入し、
蒸着域の酸素分圧を一定に保つ。蒸着時の全圧は、鉄・
コバルト合金の蒸発量、真空ポンプの排気能力などによ
るが、大体１０-2〜10-4Ｐａが用いられる。
１例を示す。真空槽１の中に非磁性基体２を搬送する機
構とその下に金属蒸気流および窒素・酸素イオンを導く
蒸発源とイオン源が設置されている。非磁性基体２はパ
スローラ３を介して円筒状ドラム４の周面に沿つて搬送
される。るつぼ６に蒸着材料の鉄・コバルト合金７を入
れ、それに電子銃８から電子ビームを照射して鉄・コバ
ルト原子を蒸着させ、その蒸気流をマスク５を介して移
動する基体２に斜めに差し向ける。イオン銃９に導入管
１２を通して窒素を含むガスを流し、イオン化させ、そ
のイオンビームを蒸着領域に差し向ける。同時にガス導
入機構１０又は１１から酸素を含むガスを適宜導入し、
蒸着域の酸素分圧を一定に保つ。蒸着時の全圧は、鉄・
コバルト合金の蒸発量、真空ポンプの排気能力などによ
るが、大体１０-2〜10-4Ｐａが用いられる。
本発明の磁気記録媒体の上に設ける磁性層の厚さは、一
般には３０〜５０００ｎｍ、好ましくは５０〜５００ｎ
ｍである。
般には３０〜５０００ｎｍ、好ましくは５０〜５００ｎ
ｍである。
本発明で用いられる非磁性基体としては、ポリエチレン
テレフタレート、ポリイミド、ポリアミド、ポリ塩化ビ
ニール、三酢酸セルロース、ポリカーボネートのような
プラスチツクの基体があげられる。
テレフタレート、ポリイミド、ポリアミド、ポリ塩化ビ
ニール、三酢酸セルロース、ポリカーボネートのような
プラスチツクの基体があげられる。
上記のようにして作成した磁気記録媒体は、記録・再生
装置内で円滑な走行性、および十分な耐久性を持たなけ
ればならない。したがつて、たとえば、磁気テープとし
て用いるには磁性膜上には適当な保護・潤滑層が設けら
れるとともに、裏面にはバツク層が設けられる。
装置内で円滑な走行性、および十分な耐久性を持たなけ
ればならない。したがつて、たとえば、磁気テープとし
て用いるには磁性膜上には適当な保護・潤滑層が設けら
れるとともに、裏面にはバツク層が設けられる。
以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明
はこの実施例に限定されるものではない。
はこの実施例に限定されるものではない。
実施例１ 第１図に示す装置を用いて厚さ１２．５μｍのポリエチ
レンテレフタレートフイルム上に、前述した方法により
鉄、コバルト、窒素、酸素を含有する磁性薄膜を１５０
ｎｍの厚さに形成した。鉄、コバルトの蒸気流が基板に
入射する角度は７０゜から９０゜とした。種々の組成の
鉄・コバルト合金を蒸発させると共に、窒素イオンを含
むイオンビームを照射しながら磁性薄膜を形成した。ガ
ス導入機構１０又は１１から導入する酸素ガス、および
イオン銃より引き出す窒素を含むイオンビームの照射量
を変えることにより、磁性薄膜中に取り込まれる酸素お
よび窒素の量を変えたサンプル（サンプルNo.１〜５、
比較サンプルNo.６〜１０）を作成した。
レンテレフタレートフイルム上に、前述した方法により
鉄、コバルト、窒素、酸素を含有する磁性薄膜を１５０
ｎｍの厚さに形成した。鉄、コバルトの蒸気流が基板に
入射する角度は７０゜から９０゜とした。種々の組成の
鉄・コバルト合金を蒸発させると共に、窒素イオンを含
むイオンビームを照射しながら磁性薄膜を形成した。ガ
ス導入機構１０又は１１から導入する酸素ガス、および
イオン銃より引き出す窒素を含むイオンビームの照射量
を変えることにより、磁性薄膜中に取り込まれる酸素お
よび窒素の量を変えたサンプル（サンプルNo.１〜５、
比較サンプルNo.６〜１０）を作成した。
このようにして作成したサンプルの組成分析はオージエ
電子分光法（パーキンエルマー社製 ＰＨＩ５６０）に
より行つた。
電子分光法（パーキンエルマー社製 ＰＨＩ５６０）に
より行つた。
次に各サンプルに潤滑剤としてステアリン酸を６mg／ｍ
２〜１２mg／ｍ２塗布し、バツク側にカーボンブラツク
を含むバツク層を塗布した後、８mm幅に裁断した。この
サンプルについて、８ミリＶＴＲ（富士写真フイルム
(株)製ＦＵＪＩＸ−８Ｍ６）を用いて６ＭＨｘにおける
出力を測定した。基準としては富士写真フイルム(株)の
８mmテープを用いた。また耐蝕性については、５％のＮ
ａＣｌ水をエアゾール状にしてサンプルに吹き付け、６
０℃９０％相対湿度の下に４８時間放置した後、磁性膜
の表面を観察することにより評価した。腐蝕の進行度合
により、○…腐蝕なし、△…わずかに腐蝕あり、×…腐
蝕ありとした。以上の結果を第１表にまとめた。
２〜１２mg／ｍ２塗布し、バツク側にカーボンブラツク
を含むバツク層を塗布した後、８mm幅に裁断した。この
サンプルについて、８ミリＶＴＲ（富士写真フイルム
(株)製ＦＵＪＩＸ−８Ｍ６）を用いて６ＭＨｘにおける
出力を測定した。基準としては富士写真フイルム(株)の
８mmテープを用いた。また耐蝕性については、５％のＮ
ａＣｌ水をエアゾール状にしてサンプルに吹き付け、６
０℃９０％相対湿度の下に４８時間放置した後、磁性膜
の表面を観察することにより評価した。腐蝕の進行度合
により、○…腐蝕なし、△…わずかに腐蝕あり、×…腐
蝕ありとした。以上の結果を第１表にまとめた。
〔発明の効果〕 本発明の磁気記録媒体は、従来の窒化酸化鉄薄膜と比
べ、６ＭＨｚにおける出力が大きくなつており、高密度
記録に適している。また耐蝕性の方は窒化酸化鉄薄膜と
同等以上であり、かつメタルテープと比べても遜色ない
レベルにある。コバルトの添加量については鉄に対し１
０％程度から効果が出てくるが、あまり多くなると耐蝕
性の劣化が大きくなるので好ましくない。窒素の含有量
については、５％未満だと耐蝕性が悪く、逆に３０％以
上になると磁気特性の劣化が著しくなり、出力が下がつ
てしまう。酸素については、含有量があまりに少なくな
ると。出力変動が大きくなつてしまう。これは酸素があ
る程度はいつていた方が磁性層が摩耗しにくいことを意
味していると思われる。
べ、６ＭＨｚにおける出力が大きくなつており、高密度
記録に適している。また耐蝕性の方は窒化酸化鉄薄膜と
同等以上であり、かつメタルテープと比べても遜色ない
レベルにある。コバルトの添加量については鉄に対し１
０％程度から効果が出てくるが、あまり多くなると耐蝕
性の劣化が大きくなるので好ましくない。窒素の含有量
については、５％未満だと耐蝕性が悪く、逆に３０％以
上になると磁気特性の劣化が著しくなり、出力が下がつ
てしまう。酸素については、含有量があまりに少なくな
ると。出力変動が大きくなつてしまう。これは酸素があ
る程度はいつていた方が磁性層が摩耗しにくいことを意
味していると思われる。
第１図は、蒸着により本発明の磁気記録媒体を製造する
ための装置である。 １……真空槽、２……基体 ３……パスローラ、４……円筒状ドラム ５……マスク、６……るつぼ ７……蒸着材料、８……電子銃 ９……イオン銃 １０．１１．１２……ガス導入機構
ための装置である。 １……真空槽、２……基体 ３……パスローラ、４……円筒状ドラム ５……マスク、６……るつぼ ７……蒸着材料、８……電子銃 ９……イオン銃 １０．１１．１２……ガス導入機構
Claims (1)
- 【請求項１】非磁性基体上に形成された鉄およびコバル
トを主成分とする強磁性金属薄膜を設けてなる磁気記録
媒体において、金属薄膜中に少なくとも窒素原子と酸素
原子が含まれており、鉄、コバルト、窒素、および酸素
の存在量（原子百分率）をそれぞれａ、ｂ、ｃ、および
ｄとするとき、 ３２ａ９０ ｃ＋ｄ４０ ５ｂ５５ ２ｃ２８ ５ｄ２３ であることを特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62024378A JPH0654533B2 (ja) | 1987-02-04 | 1987-02-04 | 磁気記録媒体 |
| US07/151,722 US4873154A (en) | 1987-02-04 | 1988-02-03 | Magnetic recording medium containing Fe, Co, N and O |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62024378A JPH0654533B2 (ja) | 1987-02-04 | 1987-02-04 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63191314A JPS63191314A (ja) | 1988-08-08 |
| JPH0654533B2 true JPH0654533B2 (ja) | 1994-07-20 |
Family
ID=12136526
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62024378A Expired - Fee Related JPH0654533B2 (ja) | 1987-02-04 | 1987-02-04 | 磁気記録媒体 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4873154A (ja) |
| JP (1) | JPH0654533B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH046627A (ja) * | 1990-04-23 | 1992-01-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 高機能性薄膜とその製造方法 |
| JP2950912B2 (ja) * | 1990-05-22 | 1999-09-20 | ティーディーケイ株式会社 | 軟磁性薄膜 |
| US5476826A (en) * | 1993-08-02 | 1995-12-19 | Gas Research Institute | Process for producing carbon black having affixed nitrogen |
| JP2761859B2 (ja) * | 1995-09-27 | 1998-06-04 | 花王株式会社 | 磁気記録媒体 |
| US5800917A (en) * | 1995-09-28 | 1998-09-01 | Kao Corporation | Magnetic recording medium |
| JPH09212846A (ja) * | 1995-11-30 | 1997-08-15 | Kao Corp | 磁気記録媒体 |
| US7233458B2 (en) | 2002-09-11 | 2007-06-19 | International Business Machines Corporation | High magnetic moment Co-Fe-O-N films with soft magnetic properties |
| JP4645555B2 (ja) * | 2005-09-15 | 2011-03-09 | Ｔｄｋ株式会社 | 軟磁性膜とこの軟磁性膜を用いた記録ヘッド、ならびに前記軟磁性膜の製造方法と前記記録ヘッドの製造方法 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5571006A (en) * | 1978-11-22 | 1980-05-28 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic thin film and its manufacturing method |
| US4452857A (en) * | 1981-01-12 | 1984-06-05 | Shunpei Yamazaki | Magnetic medium |
| EP0122030B1 (en) * | 1983-03-08 | 1987-08-26 | Nihon Shinku Gijutsu Kabushiki Kaisha | A magnetic recording member and a manufacturing method for such a member |
| CA1235808A (en) * | 1984-03-22 | 1988-04-26 | Tetsuo Oka | Vertical magnetic recording medium and process for preparation thereof |
| JPH061551B2 (ja) * | 1984-08-24 | 1994-01-05 | 富士写真フイルム株式会社 | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPS63152017A (ja) * | 1986-12-16 | 1988-06-24 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
-
1987
- 1987-02-04 JP JP62024378A patent/JPH0654533B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1988
- 1988-02-03 US US07/151,722 patent/US4873154A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63191314A (ja) | 1988-08-08 |
| US4873154A (en) | 1989-10-10 |
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