JPH08194914A

JPH08194914A - 磁気ヘッド、それ用のコアおよびそれらの製造方法

Info

Publication number: JPH08194914A
Application number: JP2133795A
Authority: JP
Inventors: Satoru Nishiyama; 哲西山; Kiyoshi Ogata; 潔緒方
Original assignee: Nissin Electric Co Ltd
Current assignee: Nissin Electric Co Ltd
Priority date: 1995-01-13
Filing date: 1995-01-13
Publication date: 1996-07-30

Abstract

(57)【要約】【目的】摺動面の耐摩耗性および耐凝着性に優れた磁
気ヘッド、それ用のコアおよびそれらの製造方法を提供
する。【構成】この磁気ヘッド用コア２は、磁気記録媒体と
の摺動面６に、窒化炭素（ＣＮ）から成る保護膜８を被
覆している。この保護膜８を、ダイヤモンド構造の炭
素、アモルファス構造の炭素およびグラファイト構造の
炭素の内の少なくとも一種と窒化炭素とが混じり合って
成るものとしても良い。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、例えばオーディオ装
置、ビデオテープレコーダ、コンピュータ、カードリー
ダ等に用いられる磁気ヘッド、それ用のコアおよびそれ
らの製造方法に関し、より具体的には、磁気ヘッドおよ
びそれ用のコアの磁気記録媒体との摺動面を保護する保
護膜の改良に関する。

【０００２】

【従来の技術】特開昭６３−２２２３１４号公報には、
磁気ヘッド用コアの磁気記録媒体との摺動面に、その機
械的な保護等のために、ダイヤモンド結晶を含む炭素膜
を被覆することが提案されている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ようなダイヤモンド結晶を含む炭素膜を摺動面に被覆し
た磁気ヘッド用コアは、耐摩耗性および耐凝着性に優れ
ているとは言い難い。

【０００４】なぜなら、炭素膜は、磁気テープ等の磁気
記録媒体との摺動によって大気中において温度が上昇す
ると、膜表面が酸化され、それによって耐摩耗性が劣化
するからである。

【０００５】また、磁気テープ等の磁気記録媒体の磁性
体を構成する物質として酸化鉄がよく用いられるが、炭
素膜は磁性体中の鉄と反応し易いので、反応物質が膜表
面に凝着し易いからである。反応物質が膜表面に凝着す
ると、磁気記録媒体との摺動性を劣化させてしまう。

【０００６】そこでこの発明は、摺動面の耐摩耗性およ
び耐凝着性に優れた磁気ヘッド、それ用のコアおよびそ
れらの製造方法を提供することを主たる目的とする。

【０００７】

【発明の概要】この発明に係る磁気ヘッドおよびそれ用
のコアは、簡単に言えば、磁気記録媒体との摺動面に、
窒化炭素から成る保護膜を被覆していることを特徴とす
る。

【０００８】この発明に係る製造方法は、簡単に言え
ば、真空雰囲気中で、保護膜被覆前の磁気ヘッドまたは
それ用のコアの磁気記録媒体との摺動面に、炭素の蒸着
と、窒素イオンの照射とを行うことによって、前記摺動
面に、窒化炭素を含む保護膜を被覆することを特徴とす
る。

【０００９】

【作用】窒化炭素は、ダイヤモンドと同程度に高硬度で
あり、しかも磁気記録媒体との摩擦等による温度上昇に
よる硬度低下も少ない。それゆえ、摺動面にこのような
窒化炭素から成る保護膜を被覆した上記磁気ヘッドおよ
びそれ用のコアは、磁気記録媒体が保護膜表面を摺動し
ても膜の摩耗が少なく、従って摺動面の耐摩耗性に優れ
ている。

【００１０】しかも上記窒化炭素は、化学的安定性が高
く、磁気記録媒体の磁性体を構成する鉄やニッケル等と
反応しない。それゆえ、摺動面にこのような窒化炭素か
ら成る保護膜を被覆した上記磁気ヘッドおよびそれ用の
コアは、磁気記録媒体が保護膜表面を摺動しても反応物
質が膜表面に殆ど生成しないので、反応物質が膜表面に
凝着しにくく、耐凝着性に優れている。従って、磁気記
録媒体との摺動性劣化も生じにくい。

【００１１】上記製造方法によれば、磁気ヘッドまたは
それ用のコアの摺動面における蒸着炭素と照射窒素イオ
ンとの衝突によって炭素と窒素との反応が起こり、それ
によって低温下で、窒化炭素を含む保護膜を前記摺動面
に容易に形成することができる。

【００１２】

【実施例】図１は、この発明に係る磁気ヘッド用コアの
一例を拡大して示す概略平面図である。

【００１３】この磁気ヘッド用コア２は、磁気記録媒体
との摺動面６に、窒化炭素（ＣＮ）から成る保護膜８を
被覆している。４はギャップである。

【００１４】コア２の材質、形状、構造等に限定はな
い。

【００１５】例えば、コア２の材質としては、パーマロ
イ、センダスト、フェライト、ミューメタル、コバルト
等が採り得る。

【００１６】コア２の形状としては、例えば、図１、図
３に示すような馬てい形状、図４に示すような四角形
状、更にはその他の形状が採り得る。

【００１７】コア２の構造としては、例えば、一体構
造、薄板の積層構造、薄膜ヘッド用の薄膜構造、更には
その他の構造が採り得る。

【００１８】相手の磁気記録媒体は、例えば、磁気テー
プ、磁気ディスク、磁気カード等であって任意である。

【００１９】保護膜８の膜厚は、あまり厚くせずに例え
ば数μｍ程度以下にするのが好ましい。これは、その膜
厚が大きくなるほど、コア２を磁気ヘッドとして使用す
るとときにその摺動面６と相手側の磁気記録媒体との間
の空隙長が大きくなって損失（スペーシングロス）が増
大し、それによって感度（ＳＮ比）等の磁気特性が低下
する傾向にあるからである。

【００２０】具体的には、保護膜８の膜厚は、用途等に
応じて適宜選択すれば良い。例えば、コンピュータ、ビ
デオテープレコーダ用の場合は５０ｎｍ程度以下、オー
ディオ用の場合は１００ｎｍ程度以下、カードリーダ用
の場合は数μｍ程度以下にするのが好ましい。膜厚の下
限は、特に限定はないが、長期間の使用による摩耗を考
慮すると、例えば数Å〜数ｎｍ程度にするのが好まし
い。

【００２１】窒化炭素は、ダイヤモンドと同程度に高硬
度であり、しかも磁気記録媒体との摩擦等による温度上
昇による硬度低下も少ない。それゆえ、摺動面６にこの
ような窒化炭素から成る保護膜８を被覆した上記磁気ヘ
ッド用コア２は、磁気記録媒体が保護膜８の表面を摺動
しても膜の摩耗が少なく、従って摺動面の耐摩耗性に優
れている。

【００２２】しかも上記窒化炭素は、化学的安定性が高
く、磁気記録媒体の磁性体を構成する鉄やニッケル等と
反応しない。それゆえ、摺動面６にこのような窒化炭素
から成る保護膜８を被覆した上記磁気ヘッド用コア２
は、磁気記録媒体が保護膜８の表面を摺動しても反応物
質が膜表面に殆ど生成しないので、反応物質が膜表面に
凝着しにくく、耐凝着性に優れている。従って、磁気記
録媒体との摺動性劣化が生じにくい。

【００２３】上記保護膜８を、窒化炭素と窒化炭素以外
の炭素とが混じり合って成るものとしても良い。この場
合、窒化炭素以外の炭素は、ダイヤモンド構造、アモル
ファス構造、グラファイト構造のいずれの構造でも良
い。即ち、保護膜８を、ダイヤモンド構造の炭素、アモ
ルファス構造の炭素およびグラファイト構造の炭素の内
の少なくとも一種と窒化炭素とが混じり合って成るもの
としても良い。

【００２４】保護膜８を、アモルファス構造の炭素およ
びグラファイト構造の炭素の少なくとも一種と窒化炭素
とが混じり合って成るものとすれば、窒化炭素はダイヤ
モンドと同等の硬度を有するので、それとアモルファス
構造の炭素やグラファイト構造の炭素と混合しても保護
膜８の耐摩耗性はあまり低下しない反面、アモルファ
ス構造の炭素やグラファイト構造の炭素は粒子が細かい
ため保護膜８の表面が滑らかになり、潤滑性が向上す
る、アモルファス構造の炭素やグラファイト構造の炭
素は窒化炭素よりも靱性が高いので、これらを混ぜると
保護膜８の靱性が向上して膜のチッピング（欠け）が少
なくなる、等の利点が生じる。

【００２５】保護膜８を、窒化炭素とダイヤモンド構造
の炭素とが混じり合って成るものとすれば、窒化炭素と
ダイヤモンド構造の炭素は共に高硬度であるので、保護
膜８の硬度を更に高めてその耐摩耗性を更に向上させる
ことも可能になる。

【００２６】保護膜８を、窒化炭素、アモルファス
構造の炭素とグラファイト構造の炭素の少なくとも一
種、およびダイヤモンド構造の炭素が混じり合って成
るものとすれば、上記理由から、保護膜８の耐摩耗性向
上、潤滑性向上および靱性向上を並立させることができ
る。

【００２７】上記保護膜８中の窒化／炭素の組成比（Ｎ
／Ｃ組成比）は、０．１〜１にするのが好ましい。０．
１未満だと窒化炭素が十分に生成されずその効果が発揮
できないからである。Ｎ／Ｃ組成比が０．１以上あれ
ば、保護膜８中には窒化炭素が幾らかの割合で存在して
おり、仮に窒化炭素以外の部分が酸化されたとしても、
保護膜８中には窒化炭素が残っていて、この窒化炭素に
よる保護膜８の硬度劣化防止作用および反応物質の凝着
防止作用が期待できるので、保護膜８は従来例の炭素の
みの膜よりも、耐摩耗性および耐凝着性に優れている。
１より大にしないのは、化学量論的組成比である１を超
えるのは困難だからである。

【００２８】次に、磁気ヘッド用コアに上記のような保
護膜８を被覆する方法の例を図２を参照して説明する。

【００２９】保護膜被覆前の磁気ヘッド用コア２ａが例
えばホルダ２２に取り付けられて真空容器（図示省略）
内に収納されており、それに向けて蒸発源２４およびイ
オン源２８が配置されている。なお、必要に応じて複数
のコア２ａを並べてホルダ２２に取り付けても良い。

【００３０】蒸発源２４は、例えば電子ビーム蒸発源で
あり、蒸発材料２５として炭素ペレットを有しており、
それを電子ビームによって加熱蒸気化して得られる炭素
２６をコア２ａの摺動面６に蒸着させることができる。
もっとも、炭素は昇華性であるため電子ビーム蒸発源で
は膜形成速度が遅い場合もあり、その場合は蒸発源２４
として、炭素から成るターゲットを不活性ガスイオンの
照射やマグネトロン放電によってスパッタさせる方式の
もの、あるいは炭素から成るカソードにおける真空アー
ク放電によって炭素を蒸発させる方式のもの等としても
良く、更にはこれらを併用しても良い。

【００３１】イオン源２８も、イオン（具体的にはイオ
ンビーム）３０を加速して引き出すことができるもので
あれば、その方式は問わない。例えば、多極磁場型のい
わゆるバケット型イオン源が、大面積大電流であって一
度に大面積の処理が可能になる等の点で好ましいが、勿
論それ以外のイオン源でも良い。

【００３２】このイオン源２８から引き出すイオン３０
は、この例では、窒素イオン、または窒素イオンと不活
性ガスイオン（例えばＡr イオン、Ｈe イオン、Ｎe イ
オン、Ｋr イオン、Ｘe イオン）との混合イオンであ
る。

【００３３】成膜に際しては、真空容器内を例えば１０
^-5〜１０^-7Ｔｏｒｒ程度まで排気した後、蒸発源２４か
らの炭素２６をコア２ａの摺動面６に蒸着させるのと同
時に、またはそれと交互に、あるいは間歇的に、イオン
源２８からの上記のようなイオン３０を当該摺動面６に
向けて照射する。

【００３４】その結果、コア２ａの摺動面６における蒸
着炭素と照射窒素イオンとの衝突によって炭素と窒素と
の反応が起こり、それによって摺動面６に、窒化炭素を
含む、即ち窒化炭素から成る、またはダイヤモンド構造
の炭素、アモルファス構造の炭素およびグラファイト構
造の炭素の内の少なくとも一種と窒化炭素とが混じり合
って成る、前述したような保護膜８が形成され、前述し
たような磁気ヘッド用コア２が作られる。

【００３５】しかも、照射イオン３０のエネルギーによ
る炭素の励起作用を利用して窒化炭素を生成することが
できるため、コア２ａを敢えて加熱する必要はなく、上
記のような窒化炭素を含む保護膜８を低温下で、例えば
磁気ヘッドやそれ用のコアを構成する物質に対して熱的
な損傷を与えないような低温下で、容易に形成すること
ができる。例えば、後述する図５に示す磁気ヘッド１０
では、充填物１６の耐熱性を考慮して１００℃以下にて
保護膜８を形成する必要があるが、この発明に係る方法
では上記温度以下で保護膜８を形成することができる。

【００３６】また、イオン３０の押し込み（ノックオ
ン）作用によって、コア２ａの母材と保護膜８との界面
付近にそれらの構成元素より成る混合層が形成され、こ
れがあたかも楔のような働きをするので、摺動面６に対
する密着性の高い保護膜８が得られる。

【００３７】また、上記イオン３０を、窒素イオンと不
活性ガスイオンとの混合イオンにすれば、不活性ガスイ
オンが、保護膜８中で窒化炭素にならずに残った炭素
を、即ち通常はグラファイト構造の炭素を、ダイヤモン
ドに結晶成長させるための核形成エネルギー供給源とし
て作用するので、保護膜８中にダイヤモンド構造の炭素
を生成しやすくなる。勿論、窒素イオンと不活性ガスイ
オンとを別のイオン源から摺動面６に照射するようにし
ても良い。

【００３８】摺動面６のみに保護膜８を被覆する必要が
ある場合は、例えば摺動面６のみが露出ようなマスクを
用いる等すれば良い。また、ギャップ４に保護膜８が被
覆されても、当該保護膜８は非磁性だから特に支障はな
い。

【００３９】照射イオンのエネルギーは、その照射によ
って保護膜８の内部にダメージ（欠陥部）が発生するの
を極力少なくする観点、および磁気ヘッドやそのコアを
構成する物質に対する熱的な損傷を防ぐ観点から、１０
ＫｅＶ程度以下の低エネルギーにするのが好ましく、下
限は、あまり低くすると窒化炭素が生成されにくくなる
ので数百ｅＶ以上にするのが好ましい。このような範囲
内でも、１ＫｅＶ〜数ＫｅＶ程度のエネルギーがより好
ましい。

【００４０】摺動面６に対するイオンの照射角度（即ち
摺動面６の表面に対する垂線との間の角度）は、０度〜
８０度程度の範囲内にするのが好ましく、そのようにす
れば、イオンの照射に伴う蒸着炭素のスパッタを小さく
抑えることができる。

【００４１】また、膜作製時には、コア２ａに対する熱
的影響をより少なくするために、必要に応じてコア２ａ
を冷却手段（図示省略）よって例えば室温〜１００℃程
度以内になるように冷却しても良い。

【００４２】次により具体的な実施例を説明すると、図
２に示したような装置を用いて、実施例１として、Ｍn
−Ｚn フェライトより成るＶＴＲ用の磁気ヘッド用コア
２ａの摺動面６に、炭素の蒸着と窒素イオンの照射とを
行って保護膜８を形成した。このとき、保護膜８の膜厚
は３０ｎｍ、成膜前の真空度は２．０×１０^-6Ｔｏｒ
ｒ、成膜中の真空度は５．０×１０^-5Ｔｏｒｒ、イオン
の加速エネルギーは１．０ＫｅＶ、膜中のＮ／Ｃ組成比
は０．５とした。

【００４３】実施例２として、照射イオンを、窒素イオ
ンとアルゴンイオンとの混合イオンにした。このとき窒
素／アルゴンのイオン比は１とした。その他は実施例１
と同じにした。

【００４４】比較例として、照射イオンをアルゴンイオ
ンのみにした。その他は実施例１と同じにした。

【００４５】上記実施例１、２および比較例によって得
られた磁気ヘッド用コアを用いて、酸化鉄テープの走行
テストを行った結果を次に示す。

【００４６】（１）温度２５℃、湿度５０％の下での耐
摩耗性テスト：実施例１、２および比較例の磁気ヘッド
用コアは、いずれも、５００時間の耐摩耗性を発揮し
た。

【００４７】（２）温度６０℃、湿度５０％の下での耐
凝着性テスト：実施例１および２の磁気ヘッド用コア
は、５００時間走行中にテープ粉の凝着は見られなかっ
たのに対して、比較例の磁気ヘッド用コアは、２００時
間走行でテープ粉が膜表面に凝着した。

【００４８】上記のような結果になったのは、比較例の
磁気ヘッド用コアは、保護膜形成時の照射イオンをアル
ゴンイオンのみとしたため、保護膜中に窒化炭素が全く
生成されなかったためである。

【００４９】図３および図４は、この発明に係る磁気ヘ
ッドの例を拡大して示す概略平面図である。

【００５０】この磁気ヘッド１０は、前述したような磁
気ヘッド用コア２にコイル１２を巻いたものである。そ
して、その磁気記録媒体との摺動面６に、前述したよう
な、窒化炭素から成る、あるいは窒化炭素を含む保護膜
８を被覆している。摺動面６に保護膜８を被覆する方法
は、前記と同様である。

【００５１】但し、コア２の形状、構造およびコイル１
２の巻き方等は、この例のようなもの以外でも良い。

【００５２】この磁気ヘッド１０も、前記と同様の理由
から、摺動面の耐摩耗性および耐凝着性に優れている。

【００５３】なお、コアでない部分にも上記のような保
護膜８を被覆しても良い。そのようにした磁気ヘッドの
例を図５に示す。

【００５４】図５の磁気ヘッド１０は、例えばオーディ
オ用のものであり、上下二つのコア２間にシールド板１
４を介在させたものの前面部を、例えば樹脂より成る充
填物１６内に埋め込み、更にそれらをケース１８内に収
納して成る。

【００５５】このような磁気ヘッドの場合、磁気テープ
はコア２の前面だけでなく、シールド板１４、充填物１
６およびケース１８の前面にも接触摺動するので、その
ような磁気テープとの摺動面２０の全体に、前述したよ
うな保護膜８を被覆している。

【００５６】このようにすれば、磁気テープが摺動する
面全体において、耐摩耗性および耐凝着性を向上させる
ことができる。

【００５７】薄膜ヘッドの場合も、磁気記録媒体との摺
動面に上記のような保護膜８を被覆すれば良く、それに
よって摺動面の耐摩耗性および耐凝着性を向上させるこ
とができる。

【００５８】

【発明の効果】この発明は、上記のとおり構成されてい
るので、次のような効果を奏する。

【００５９】請求項１の磁気ヘッド用コアは、磁気記録
媒体との摺動面に窒化炭素から成る保護膜を被覆してお
り、窒化炭素はダイヤモンドと同程度に高硬度でありか
つ温度上昇による硬度低下が少なく、しかも化学的安定
性が高くて磁気記録媒体の磁性体を構成する鉄やニッケ
ル等と反応しないので、摺動面の耐摩耗性および耐凝着
性に優れている。

【００６０】請求項２の磁気ヘッド用コアは、磁気記録
媒体との摺動面に、ダイヤモンド構造の炭素、アモルフ
ァス構造の炭素およびグラファイト構造の炭素の内の少
なくとも一種と窒化炭素とが混じり合って成る保護膜を
被覆しており、保護膜中に窒化炭素を含んでいるので、
摺動面の耐摩耗性および耐凝着性に優れている。それに
加えて、ダイヤモンド構造の炭素を含むことによって保
護膜の耐摩耗性をより向上させることができ、アモルフ
ァス構造の炭素またはグラファイト構造の炭素を含むこ
とによって保護膜の潤滑性向上および靱性向上を実現す
ることができる。

【００６１】請求項３の磁気ヘッドは、磁気記録媒体と
の摺動面に窒化炭素から成る保護膜を被覆しており、窒
化炭素はダイヤモンドと同程度に高硬度でありかつ温度
上昇による硬度低下が少なく、しかも化学的安定性が高
くて磁気記録媒体の磁性体を構成する鉄やニッケル等と
反応しないので、摺動面の耐摩耗性および耐凝着性に優
れている。

【００６２】請求項４の磁気ヘッドは、磁気記録媒体と
の摺動面に、ダイヤモンド構造の炭素、アモルファス構
造の炭素およびグラファイト構造の炭素の内の少なくと
も一種と窒化炭素とが混じり合って成る保護膜を被覆し
ており、保護膜中に窒化炭素を含んでいるので、摺動面
の耐摩耗性および耐凝着性に優れている。それに加え
て、ダイヤモンド構造の炭素を含むことによって保護膜
の耐摩耗性をより向上させることができ、アモルファス
構造の炭素またはグラファイト構造の炭素を含むことに
よって保護膜の潤滑性向上および靱性向上を実現するこ
とができる。

【００６３】請求項５の製造方法によれば、磁気ヘッド
用コアの摺動面における蒸着炭素と照射窒素イオンとの
衝突によって炭素と窒素との反応が起こり、それによっ
て同コアを構成する物質に対して熱的な損傷を与えない
ような低温下で、窒化炭素を含む保護膜を前記摺動面に
容易に形成することができる。

【００６４】請求項６の製造方法によれば、請求項５の
製造方法の効果に加えて、不活性ガスイオンが、保護膜
中で窒化炭素にならなかった炭素をダイヤモンドに結晶
成長させるための核形成エネルギー供給源として作用す
るので、保護膜中にダイヤモンド構造の炭素を生成しや
すくなる、という更なる効果を奏する。

【００６５】請求項７の製造方法によれば、磁気ヘッド
の摺動面における蒸着炭素と照射窒素イオンとの衝突に
よって炭素と窒素との反応が起こり、それによって磁気
ヘッドを構成する物質に対して熱的な損傷を与えないよ
うな低温下で、窒化炭素を含む保護膜を前記摺動面に容
易に形成することができる。

【００６６】請求項８の製造方法によれば、請求項７の
製造方法の効果に加えて、不活性ガスイオンが、保護膜
中で窒化炭素にならなかった炭素をダイヤモンドに結晶
成長させるための核形成エネルギー供給源として作用す
るので、保護膜中にダイヤモンド構造の炭素を生成しや
すくなる、という更なる効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明に係る磁気ヘッド用コアの一例を拡大
して示す概略平面図である。

【図２】この発明に係る製造方法を実施する装置の一例
を示す概略図である。

【図３】この発明に係る磁気ヘッドの一例を拡大して示
す概略平面図である。

【図４】この発明に係る磁気ヘッドの他の例を拡大して
示す概略平面図である。

【図５】この発明に係る磁気ヘッドの更に他の例を拡大
して示す概略正面図である。

【符号の説明】

２磁気ヘッド用コア２ａ保護膜被覆前の磁気ヘッド用コア６摺動面８保護膜１０磁気ヘッド２０摺動面２４蒸発源２６炭素２８イオン源３０イオン

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】磁気記録媒体との摺動面に、窒化炭素か
ら成る保護膜を被覆していることを特徴とする磁気ヘッ
ド用コア。
【請求項２】磁気記録媒体との摺動面に、ダイヤモン
ド構造の炭素、アモルファス構造の炭素およびグラファ
イト構造の炭素の内の少なくとも一種と窒化炭素とが混
じり合って成る保護膜を被覆していることを特徴とする
磁気ヘッド用コア。
【請求項３】磁気記録媒体との摺動面に、窒化炭素か
ら成る保護膜を被覆していることを特徴とする磁気ヘッ
ド。
【請求項４】磁気記録媒体との摺動面に、ダイヤモン
ド構造の炭素、アモルファス構造の炭素およびグラファ
イト構造の炭素の内の少なくとも一種と窒化炭素とが混
じり合って成る保護膜を被覆していることを特徴とする
磁気ヘッド。
【請求項５】真空雰囲気中で、保護膜被覆前の磁気ヘ
ッド用コアの磁気記録媒体との摺動面に、炭素の蒸着
と、窒素イオンの照射とを行うことによって、前記摺動
面に、窒化炭素を含む保護膜を被覆することを特徴とす
る磁気ヘッド用コアの製造方法。
【請求項６】真空雰囲気中で、保護膜被覆前の磁気ヘ
ッド用コアの磁気記録媒体との摺動面に、炭素の蒸着
と、窒素イオンおよび不活性ガスイオンの照射とを行う
ことによって、前記摺動面に、窒化炭素を含む保護膜を
被覆することを特徴とする磁気ヘッド用コアの製造方
法。
【請求項７】真空雰囲気中で、保護膜被覆前の磁気ヘ
ッドの磁気記録媒体との摺動面に、炭素の蒸着と、窒素
イオンの照射とを行うことによって、前記摺動面に、窒
化炭素を含む保護膜を被覆することを特徴とする磁気ヘ
ッドの製造方法。
【請求項８】真空雰囲気中で、保護膜被覆前の磁気ヘ
ッドの磁気記録媒体との摺動面に、炭素の蒸着と、窒素
イオンおよび不活性ガスイオンの照射とを行うことによ
って、前記摺動面に、窒化炭素を含む保護膜を被覆する
ことを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。