JPH0641009A - 安定剤としてのヒドロキシフェニルアルカノールのカルボン酸エステル - Google Patents

安定剤としてのヒドロキシフェニルアルカノールのカルボン酸エステル

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JPH0641009A
JPH0641009A JP5059686A JP5968693A JPH0641009A JP H0641009 A JPH0641009 A JP H0641009A JP 5059686 A JP5059686 A JP 5059686A JP 5968693 A JP5968693 A JP 5968693A JP H0641009 A JPH0641009 A JP H0641009A
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butyl
tert
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Paul Dubs
デューブ パウル
Rita Pitteloud
ピテラウド リタ
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Ciba Geigy AG
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    • C07C69/007Esters of unsaturated alcohols having the esterified hydroxy group bound to an acyclic carbon atom

Abstract

(57)【要約】 【構成】 式(I): 【化1】 (式中、nは4ないし8の範囲の整数を表し、mは1な
いし4の範囲の整数を表し;Aは1ないし4塩基性のカ
ルボン酸の脂肪族、芳香族、アルアリファティックもし
くは複素環基を表し、R1 およびR1'は、互いに独立し
て炭素原子数1ないし24のアルキル基または炭素原子
数5ないし8のシクロアルキル基を表す)で表される新
規な化合物。 【効果】 上記化合物は熱的、酸化的または化学線的崩
壊に対する有機材料、特に合成有機ポリマーの安定剤と
して優れている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、新規なω−(3,5−
ジアルキル−4−ヒドロキシフェニル)アルカノールの
カルボン酸エステル、それらの化合物を使用した熱的、
酸化的および化学線的崩壊に対して安定化された有機材
料、安定剤としての新規な化合物の使用方法ならびに新
規なω−(3,5−ジアルキル−4−ヒドロキシフェニ
ル)アルカノールに関する。
【従来の技術】
【0002】有機材料に対する安定剤としてω−ヒドロ
キシフェニル−α−カルボン酸エステルのエステル類の
使用は公知である。
【0003】多くの発表が相当する逆エステルに関す
る:Chem.Abstr.84 32016k、独国
特許DE−A−2147544号、ヨーロッパ特許EP
−B−171139号、ヨーロッパ特許EP−A−34
9380号、オランダ特許−A−79−05000号、
英国特許GB−A−1509876号、Chem.Ab
str.106 15600lu、米国特許US−A−
4910286号、米国特許US−A−4311637
号、米国特許US−A−4104252号および米国特
許US−A−3919097号は、3−(3,5−ジ−
第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)アルカン−1−
オール、3−(3−第三ブチル−5−メチル−4−ヒド
ロキシフェニル)アルカン−1−オールおよび個々の4
−(3,5−ジアルキル−4−ヒドロキシフェニル)ア
ルカン−1−オールのカルボン酸エステルならびにそれ
らのポリマー安定剤としての用途を記述している。
【0004】
【課題を解決するための手段】幾つかの新規なω−
(3,5−ジアルキル−4−ヒドロキシフェニル)アル
カノールのカルボン酸エステルはいまや特別に良好な安
定剤特性をもつことが見出された。
【0005】従って本発明の一つの主題は式(I):
【化15】 (式中、nは4ないし8の範囲の整数を表し、mは1な
いし4の範囲の整数を表し;m=1の場合、Aは未置換
のまたは炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基によ
り置換された炭素原子数1ないし25のアルキル基;ま
たは炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基もしくは
−S−、−O−および/または−NR2 −の基の1個以
上で中断されている炭素原子数2ないし25のアルキル
基を表し;あるいは;m=1の場合、Aは未置換のまた
は炭素原子数1ないし12のアルキル基もしくは炭素原
子数2ないし12のアルケニル基により置換された炭素
原子数5ないし8のシクロアルキル基;未置換のまたは
炭素原子数1ないし12のアルキル基もしくは炭素原子
数2ないし12のアルケニル基により置換された炭素原
子数6ないし8のシクロアルケニル基;未置換のまたは
炭素原子数1ないし12のアルキル基もしくは炭素原子
数2ないし12のアルケニル基により置換されたフェニ
ル基;未置換のまたは炭素原子数1ないし12のアルキ
ル基もしくは炭素原子数2ないし12のアルケニル基に
より置換されたナフチル基;未置換のまたは炭素原子数
1ないし12のアルキル基もしくは炭素原子数2ないし
12のアルケニル基により置換されたビフェニル基;ま
たは炭素原子数2ないし25のアルケニル基;炭素原子
数6ないし10のビシクロアルケニル基;炭素原子数7
ないし12のフェニルアルキル基;炭素原子数8ないし
12のフェニルアルケニル基;炭素原子数11ないし1
6のナフチルアルキル基;炭素原子数12ないし16の
ナフチルアルケニル基;炭素原子数13ないし18のビ
フェニルアルキル基;炭素原子数14ないし18のフェ
ニルアルケニル基;または式II:
【化16】 で表される基を表し;m=2の場合、Aは直接結合;炭
素原子数1ないし12のアルキレン基;炭素原子数2な
いし12のアルケニレン基;未置換のまたは炭素原子数
1ないし12のアルキル基もしくは炭素原子数2ないし
12のアルケニル基により置換された炭素原子数5ない
し8のシクロアルキレン基;未置換のまたは炭素原子数
1ないし12のアルキル基もしくは炭素原子数2ないし
12のアルケニル基により置換された炭素原子数6ない
し8のシクロアルケニレン基;炭素原子数6ないし10
のビシクロアルケニレン基;フェニレン基;ナフチレン
基;水素原子もしくは置換基−R2 により窒素原子上で
飽和されている、フラン環、チオフェン環またはピロー
ル環からなる群からの二価の複素環基を表し;あるいは
m=2の場合、Aは炭素原子数5ないし8のシクロアル
キレン基またはフェニレン基または−S−、−O−もし
くは−NR2 −の基の少なくとも1個により中断されて
いる炭素原子数2ないし36のアルキレン基を表し;m
=3の場合、Aは炭素原子数1ないし8のアルカントリ
イル基;炭素原子数2ないし8のアルケントリイル基;
ベンゼントリイル基;ナフタレントリイル基;式:
【化17】 で表される3価の基;または−S−、−O−もしくは−
NR2 −の基の少なくとも1個により中断されている炭
素原子数2ないし18のアルカントリイル基を表し;あ
るいは;m=4である場合、Aは4個の自由原子価をも
つベンゼン基、ナフチル基、テトラヒドロフリル基また
はシクロヘキシル基を表し;R1 およびR1'は、互いに
独立して炭素原子数1ないし24のアルキル基または炭
素原子数5ないし8のシクロアルキル基を表し;R2
Hまたは炭素原子数1ないし4のアルキル基を表し;R
3 およびR4 は、互いに独立して、炭素原子数1ないし
4のアルキル基を表し;ならびにR5 、R6 およびR7
は、互いに独立して、炭素原子数1ないし3のアルキレ
ン基を表す。)で表される化合物からなるものである。
【0006】炭素原子数1ないし24のアルキル基また
は炭素原子数5ないし8のアルキル基であるR1 および
1'は、例えば、互いに独立して、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、
ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、シクロ
ペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基また
はシクロオクチル基である。
【0007】R1'は好ましくは第二もしくは第三炭素原
子数3ないし24のアルキル基であり、例えば2−ブチ
ル(第二ブチル)基、第三ブチル基、2−ペンチル基、
2−ヘキシル基もしくは3−ヘキシル基であり、あるい
はR1'は例えばシクロヘキシル基のような炭素原子数3
ないし8のシクロアルキル基であり、ならびにR1 は炭
素原子数1ないし10のアルキル基または炭素原子数5
ないし8のシクロアルキル基である。
【0008】R1'は特に好ましくは第二または第三炭素
原子数3ないし18のアルキル基または炭素原子数5な
いし8のシクロアルキル基であり、例えばイソプロピル
基、第二ブチル基、第三ブチル基もしくはシクロヘキシ
ル基であり、ならびにR1 は炭素原子数3ないし8のア
ルキル基または炭素原子数5ないし8のシクロアルキル
基であり、あるいはメチル基である。
【0009】式Iの特別に好ましい化合物はR1 がメチ
ル基、第三ブチル基またはシクロヘキシル基、特にメチ
ル基であり、そしてR1'は第三ブチル基またはシクロヘ
キシル基、特に第三ブチル基である。
【0010】炭素原子数1ないし4のアルキル基R2
3 およびR4 はメチル基、エチル基、1−プロピル基
(n−プロピル基)、2−プロピル基(イソプロピル
基)、1−ブチル基(n−ブチル基)、2−ブチル基
(第二ブチル基)、2−メチルプロピル基(イソブチル
基)または1,1−ジメチルエチル基(第三ブチル基)
であり;メチル基もしくは第三ブチル基が好ましい。
【0011】炭素原子数1ないし3のアルキレン基
5 、R6 およびR7 はメチレン基、1,1−もしくは
1,2−エチレン基をでありまたは1,1−、1,2、
2,2−もしくは1,3−プロピレン基である。メチレ
ン基が好ましい。
【0012】Aが炭素原子数1ないし25のアルキル基
である場合、それは枝分かれ鎖または直鎖の基であり、
炭素原子数メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロ
ピル基、n−ブチル基、第二ブチル基、イソブチル基、
第三ブチル基、2−エチルブチル基、n−ペンチル基、
イソペンチル基、1−メチルペンチル基、1,3−ジメ
チルブチル基、n−ヘキシル基、1−メチルヘキシル
基、n−ヘプチル基、イソヘプチル基、1,1,3,3
−テトラメチルブチル基、1−メチルヘプチル基、3−
メチルヘプチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシ
ル基、1,1,3−トリメチルヘキシル基、1,1,
3,3−テトラメチルペンチル基、ノニル基、デシル
基、ウンデシル基、1−メチルウンデシル基、ドデシル
基、1,1,3,3,5,5−ヘキサメチルヘキシル
基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンダデシル基、
ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、エ
イコシル基、ドコシル基またはペンタコシル基であり;
直鎖アルキル基が好ましく、直鎖炭素原子数6ないし1
8のアルキル基がとりわけ好ましい。
【0013】炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基
によって置換された炭素原子数1ないし25のアルキル
基としてのAは、例えば、シクロペンチルメチル基、シ
クロヘキシルメチル基、シクロヘプチルメチル基、シク
ロオクチルメチル基、シクロヘキシルエチル基、2−シ
クロヘキシル−n−プロピル基、3−シクロヘキシル−
n−ブチル基、または4−シクロヘキシル−n−ブチル
基である。
【0014】炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基
もしくは−S−、−O−および/または−NR2 −の1
個以上の基で中断されている炭素原子数2ないし25の
アルキル基としてのAは、メチル基を除いた上述したア
ルキル基の一つであり、その鎖中に、シクロペンチレン
もしくはシクロペンチリデン、シクロヘキシレンもしく
はシクロヘキシリデン、シクロヘプチレンもしくはシク
ロヘプチリデン、シクロオクチレンもしくはシクロオク
チリデンが1つの部位に挿入されているかまたは、上記
の1以上の部位に挿入されているヘテロ原子を含む基で
挿入されているものである。従って、Aは例えば式:
【化18】 、−CH2 −S−C4 9 、−C2 4 −O−C2 4
−O−C1225、−C1836−N(C4 9 2 を包含
する。
【0015】未置換のまたは炭素原子数1ないし12の
アルキル基もしくは炭素原子数2ないし12のアルケニ
ル基により置換された炭素原子数5ないし8のシクロア
ルキル基または炭素原子数6ないし8のシクロアルケニ
ル基としての、Aは例えば、シクロペンチル基、シクロ
ヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、2
−もしくは4−メチルシクロヘキシル基、ジメチルシク
ロヘキシル基、トリメチルシクロヘキシル基、第三ブチ
ルシクロヘキシル基、2−シクロヘキセニル基、3−シ
クロヘプテニル基、シクロオクタテトラエニル基または
4−第三ブチルシクロヘキセ−2−ニル基である。シク
ロヘキシル基およびシクロヘキセニル基、特にシクロヘ
キシル基が好ましい。
【0016】炭素原子数1ないし12のアルキル基もし
くは炭素原子数2ないし12のアルケニル基により置換
されたフェニル基、ナフチル基またはビフェニル基とし
ての、Aは、特に、メチルフェニル基、ジメチルフェニ
ル基、トリメチルフェニル基、エチルフェニル基、ビニ
ルフェニル基、ジエチルフェニル基、イソプロピルフェ
ニル基、第三ブチルフェニル基、ジ−第三ブチルフェニ
ル基、メチル−ジ−第三ブチルフェニル基、1,1,
3,3−テトラメチルブチルフェニル基および1,1,
3,3,5,5−ヘキサメチルヘキシルフェニル基、ド
デセニルブチルフェニル基、1−メチルナフチル基、2
−メチルナフチル基、1−エチルナフチル基、2−プロ
ピルビフェニル−4−イルまたは4−(1−ヘキセ−3
−エニル)ビフェニル−8−イル基である。未置換のも
しくは1ないし3個、例えば1ないし2個および特に1
個の炭素原子数1ないし4のアルキル基、特にメチル基
で置換されたものが好ましい。
【0017】炭素原子数2ないし25のアルケニル基と
してのAは、例えば、ビニル基、プロペニル基、イソプ
ロペニル基、2−ブテニル基、3−ブテニル基、イソブ
テニル基、n−ペンタ−2,4−ジエニル基、3−メチ
ルブテ−2−エニル基、n−オクテ−2−エニル基、n
−ドデセ−2−エニル基、イソドデセニル基、n−オク
タデセ−2−エニル基またはn−オクタデセ−4−エニ
ル基である。
【0018】炭素原子数7ないし12のフェニルアルキ
ル基、炭素原子数7ないし12のフェニルアルケニル
基、炭素原子数11ないし16のナフチルアルキル基、
炭素原子数11ないし16のナフチルアルケニル基、炭
素原子数13ないし18のビフェニルアルキル基または
炭素原子数13ないし18のビフェニルアルケニル基と
してのAは、フェニル基、ナフチル基もしくはビフェニ
ル基により置換された炭素原子数1ないし6のアルキル
基または炭素原子数1ないし6のアルケニル基は、例え
ばベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル
基、α−メチルベンジル基、α,α−ジメチルベンジル
基、2−フェニルエテニル基、1−フェニルプロプ−2
−エニル基、6−フェニルヘキシル基、1−ナフチルメ
チル基、2−ナフチルメチル基、1−ナフチルエチ−1
−イル基、2−(4−ビフェニルイル)プロプ−2−イ
ルもしくは1−(4−ビフニルイル)ペント−3−エン
−1−イル基である。
【0019】炭素原子数6ないし10のビシクロアルケ
ニル基または炭素原子数6ないし10のビシクロアルケ
ニレン基としてのAは、不飽和2環式、6ないし10個
の炭素原子の1価または2価の基であり、1価の基で
は、例えばビシクロ[2.2.1]ヘプタ−5−エン−
2−イルであってよくならびに2価の基では例えば式:
【化19】 であり得る。
【0020】2価(m=2に対応)、3価(m=3に対
応)および4価(m=4に対応)の基Aは上述の1価の
基から誘導される。2価の基は相当する1価の基と異な
って、その中の1個の水素原子の代わりに1個の開放結
合を含みおよび;3価の基は相当する1価の基と異なっ
て、その中の2個の水素原子の代わりに2個の開放結合
を含み;4価の基は相当する1価の基と異なって、その
中の3個の水素原子の代わりに3個の開放結合を含む。
このため、示した意味の枠内で、Aは2価の基としては
例えばまたメチレン基、エチレン基、−CH2 −C(C
3 2 −CH2 −、プロペ−2−エニリリデン基、
1,3−プロピレン基、1,4−ブチレン基、1,5−
ペンチレン基、1,6−ヘキシレン基、o−、m−もし
くはp−フェニレン基、
【化20】 、−C2 4 −S−C2 4 −または−C2 4 −O−
2 4 −であってよく、3価の基としては、例えば、
【化21】 であってよく;および4価の基としては、例えば
【化22】 であってよい。
【0021】式Iで表される新規なエステルは慣用のエ
ステル化またはエステル交換法によって、式IV:
【化23】 で表されるω−ヒドロキシフェニルアルカノールおよび
式V:
【化24】 で表される有機カルボン酸またはそのようなカルボン酸
の誘導体から製造され、例えばTetrahedron
36,2409(1980)に記載されているような
方法で製造される。式IVおよびV中の記号R1 、R1'
A、nおよびmは式Iに対して上述された意味をもつ。
適当なカルボン酸誘導体は、例えば、無水物、塩化物ま
たは、メチルもしくはエチルエステルのような低級アル
キルエステルである。鉱酸(例えば硫酸)またはスルホ
ン酸(例えばp−トルエンスルホン酸)のような適当な
エステル化触媒は、適当ならば合成中に使用することが
出来る。
【0022】反応はそれ自体公知の方法で行うことがで
き、都合良くは、2つの抽出物の一方を第二の抽出物に
加え、および2つの反応物を完全に混合することによ
り、好ましくは酸素を除外して行うことができる。反応
はトルエンのような溶媒の存在下、または不在下でも行
うことができる。温度調節は厳密ではない;温度は反応
混合物の融点および沸点の間でよく、例えば−50℃お
よび100度の間、好ましくは0℃および50℃の間で
ある。得られた生成物の精製はまた例えば水/HClで
洗浄し、有機溶媒で抽出しそして結晶化および/または
クロマトグラフィーを行うことによるような公知の方法
により行うことができる。抽出用のおよびクロマトグラ
フィーによる精製段階用の好ましい溶媒はヘキサン、酢
酸エチルまたはそれらの混合物である。
【0023】反応で使用される式Vのカルボン酸の誘導
体が酸クロライドの場合、酸受容体を反応混合物に添加
するのが都合よい。適当な酸受容体は例えば、ピリジン
もしくはトリエチルアミンのようなアミンである。好ま
しい酸受容体の量は酸クロライドの量の少なくとも当量
であり、例えば酸クロライドに関して1ないし2当量、
特に1.2ないし1.7当量である。
【0024】反応が式IVのアルコールと式Vのカルボン
酸とのエステル交換により行われる場合は、慣用のエス
テル交換触媒を反応混合物に添加するのが都合良い。こ
のような触媒は例えば、有機もしくは無機塩基(例えば
リチウムアミド、リチウムメトキシド、水酸化カリウム
およびそれらに類するものである。)またはルイス酸
(ジブチル錫オキシド)である。
【0025】式Vのカルボン酸および式IVのアルコール
が直接的に抽出物として使用される場合、反応は水分離
器を使用して、水を留去しておよび/または例えばジク
ロロヘキシルカーボジイミドのような遊離した水を吸着
する試薬を使用して行われるのが都合良い。
【0026】式Vのカルボン酸もしくはその誘導体の混
合物の使用は式Iで表される化合物の製造おいて特に実
際的に関心となりうる。そのような混合物は、得られる
式Iで表される化合物の混合物に相当する、上述の方法
による合成に対して使用できる。式Iの化合物の混合物
はそれ自体安定剤として使用できる。
【0027】式IVのアルコールはそれら自体、安定剤と
しても有効である。(a)熱的、酸化的および/または
化学線的崩壊を受けやすい有機材料および(b)式IVで
表される化合物からなる組成物、ならびに熱的、酸化的
および/または化学線的崩壊に対して有機材料を安定化
するために式IVの化合物を使用することもまた、それゆ
えに本発明のさらなる主題である。
【0028】本発明による組成物は好ましくは、R1'
第二もしくは第三炭素原子数3ないし24のアルキル基
または炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基の意味
を表し;およびR1 は炭素原子数1ないし10のアルキ
ル基または炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基の
意味を表す式IVの化合物を含むものである。特別に好ま
しくは、R1'が第二もしくは第三炭素原子数3ないし1
8のアルキル基または炭素原子数5ないし8のシクロア
ルキル基例えば、イソプロピル基、第二ブチル基、第三
ブチル基もしくはシクロヘキシル基の意味を表し;およ
びR1 は炭素原子数3ないし8のアルキル基または炭素
原子数5ないし8のシクロアルキル基の意味を表すか、
あるいはメチル基を表す。
【0029】R1 がメチル基、第三ブチル基またはシク
ロヘキシル基、特にメチル基であり、R1'が第三ブチル
基もしくはシクロヘキシル基、特に第三ブチル基を表
す、式IVの化合物は本発明による組成物のうちとりわけ
好ましい。
【0030】本発明による組成物は好ましくはnが5な
いし8の範囲の数、例えば6ないし8、および特別には
6の数である式IVの化合物を含む。
【0031】さらに以下に記述する式III のアルコール
は本発明による組成物のうちまた特別に好ましい。
【0032】式IVのω−(ヒドロキシフェノール)アル
カノールは公知の方法またはそのような方法と同様に製
造できる。このため、式IVの化合物は例えば、米国特許
US−A−4260832号に記述されている方法によ
りまたはこれと同様の方法により入手可能である。
【0033】相当する2,6−二置換フェノールはそこ
で、アルカリ金属、アルカリ金属水酸化物もしくはアル
カリ金属アルコキシドの存在下、200℃ないし300
℃の温度で反応中に形成される水の除去とともにα、ω
−アルカンジオールと反応させる。
【0034】生成物は次に慣用の方法により単離できお
よび式Vで表されるカルボン酸誘導体との反応に使用で
きる;しかしまた、粗生成物は、更に式Iの化合物の製
造のために更に精製することなしに直接的に使用するこ
ともできる。
【0035】置換基のないまたは最大1つのアルキル置
換基もしくはシクロアルキル置換基が第三ブチル基であ
る2,6−二置換フェノールが米国特許US−A−42
60832号に記述された開始フェノールの代わりに使
用される場合は、式III
【化25】 (式中、G1 およびG1'は、R1 およびR1'に対して示
された意味を表すが、G1 に対しては第三ブチルの意味
を除く。)で表される化合物が得られる。式Iに対して
さらに上記で定義されたのものと同様に、nは4ないし
8の整数を表す。
【0036】式III で表される化合物もまた本発明の主
題である。
【0037】式III で表される好ましい化合物はG1'
第二もしくは第三炭素原子数3ないし24のアルキル基
または炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基の意味
を表し;そしてG1 は炭素原子数1ないし10のアルキ
ル基または炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基の
意味を表す。G1'は特に好ましくはイソプロピル基、第
二ブチル基、第三ブチル基またはシクロヘキシル基を意
味し、およびG1 は第三ブチルを除いた炭素原子数3な
いし8のアルキル基、または炭素原子数5ないし8のシ
クロアルキル基、またはメチル基である。
【0038】G1 がメチル基またはシクロヘキシル基、
特にメチル基であり、ならびにG1'が第三ブチル基また
はシクロヘキシル基、特に第三ブチル基である式III の
化合物が特別に好ましい。
【0039】nが5ないし8の範囲の数、例えば6ない
し8、特別には6の数である式IIIの化合物は好まし
い。
【0040】それにより、またはそれに類似のものによ
り、式III の化合物および式IVの化合物を製造できる他
の方法は例えば独国特許DE−A−2147544およ
びオランダ国特許NL−A−79−05000に記載ま
たは言及されている。
【0041】上述したように式I中の基Aはm−塩基性
カルボン酸から誘導される。酸は芳香族、脂肪族、芳香
族−脂肪族混合の、脂環式またはビシクロ脂肪族の酸ま
たはその不飽和誘導体であってよく、例えば以下の酸で
ある。カプリル酸、酢酸、ステアリン酸、ポリイソブテ
ニルコハク酸、n−ヘキサコサノン酸、トリメチル酢
酸、プロピオン酸、イソバレリン酸、ラウリン酸、オレ
イン酸、アクリル酸、メタクリル酸、ソルビン酸、リノ
レン酸、マレイン酸、イタコン酸、グルタコン酸;シュ
ウ酸、コハク酸、イソ−ドデシルコハク酸、グルタル
酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン
酸もしくはセバシン酸のような二塩基性酸;例えばIn
d.and Eng. Chem.33.86−89
(1941)に記載されているタイプの脂肪酸のポリマ
ー、その二量体および三量体のようなもの;ヘテロ原子
含有酸例えばニトリロトリ酢酸、シクロヘキサンカルボ
ン酸、のような環式脂肪族酸、1,2−および1,4−
シクロヘキサンジカルボン酸およびナフテン酸であり、
例えばシクロペンタンカルボン酸、シクロペンチル酢
酸、3−メチルシクロペンチル酢酸、ショウノウ酸、4
−メチルシクロヘキサンカルボン酸を含むもの;ならび
に2,4,6−トリメチルシクロヘキサンカルボン酸、
ビシクロ[2.2.2]オクタ−5−エン−2,3−ジ
カルボン酸およびビシクロ[2.2.1]ヘプタ−5−
エン−2−カルボン酸、芳香族カルボン酸例えば、安息
香酸、o−、m−およびp−トルイン酸、フタル酸、テ
レフタル酸、トリメリット酸、トリメシン酸、1,2,
4,5−ベンゼンテトラカルボン酸、ジフェニン酸、1
−ナフトエ酸、2−ナフトエ酸、ナフタレン−1,8−
ジカルボン酸、ナフタレン−1,4−ジカルボン酸、ナ
フタレン−1,4,5−トリカルボン酸等;パラフィン
系ω−アリール酸、例えばフェニル酢酸、ハイドロシナ
ミン酸、フェニル酪酸、γ−(1−ナフチル)酪酸、δ
−フェニレン−n−バレリン酸、ε−フェニル−n−カ
プロン酸、o−、m−もしくはp−フェニレン二酢酸ま
たはo−フェニレン酢酸−β−プロピオン酸、ならびに
不飽和のフェニル酸、例えばシナミン酸である。
【0042】式Ia:
【化26】 (式中、nは4ないし8の範囲の整数を表し、mは1な
いし3の範囲の整数を表し;m=1の場合、Aは未置換
のまたは炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基によ
り置換された炭素原子数1ないし25のアルキル基;ま
たは炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基もしくは
−S−、−O−および/または−NR2 −の基の1個以
上で中断されている炭素原子数2ないし25のアルキル
基を表し;あるいは;m=1の場合、Aは未置換のまた
は炭素原子数1ないし12のアルキル基もしくは炭素原
子数2ないし12のアルケニル基により置換された炭素
原子数5ないし8のシクロアルキル基;未置換のまたは
炭素原子数1ないし12のアルキル基もしくは炭素原子
数2ないし12のアルケニル基により置換された炭素原
子数6ないし8のシクロアルケニル基;未置換のまたは
炭素原子数1ないし12のアルキル基もしくは炭素原子
数2ないし12のアルケニル基により置換されたフェニ
ル基;未置換のまたは炭素原子数1ないし12のアルキ
ル基もしくは炭素原子数2ないし12のアルケニル基に
より置換されたナフチル基;未置換のまたは炭素原子数
1ないし12のアルキル基もしくは炭素原子数2ないし
12のアルケニル基により置換されたビフェニル基を表
し;あるいはAは炭素原子数2ないし25のアルケニル
基;炭素原子数6ないし10のビシクロアルケニル基;
炭素原子数7ないし12のフェニルアルキル基;炭素原
子数7ないし12のフェニルアルケニル基;炭素原子数
11ないし16のナフチルアルキル基;炭素原子数11
ないし16のナフチルアルケニル基;炭素原子数13な
いし18のビフェニルアルキル基;炭素原子数13ない
し18のビフェニルアルケニル基;または式II:
【化27】 で表される基を表し;m=2の場合、Aは直接結合;炭
素原子数1ないし12のアルキレン基;炭素原子数2な
いし12のアルケニレン基;未置換のまたは炭素原子数
1ないし12のアルキル基もしくは炭素原子数2ないし
12のアルケニル基により置換された炭素原子数5ない
し8のシクロアルキレン基を表し;またはAは未置換の
または炭素原子数1ないし12のアルキル基もしくは炭
素原子数2ないし12のアルケニル基により置換された
炭素原子数6ないし8のシクロアルケニレン基;または
Aは炭素原子数6ないし10のビシクロアルケニレン基
を表し;フェニレン基;ナフチレン基;あるいは炭素原
子数5ないし8のシクロアルキレン基またはフェニレン
基または−S−、−O−もしくは−NR2 −の基の少な
くとも1個により中断されている炭素原子数2ないし1
8のアルキレン基を表し;m=3の場合、Aは炭素原子
数1ないし8のアルカントリイル基;炭素原子数2ない
し8のアルケントリイル基;ベンゼントリイル基;ナフ
タレントリイル基;式:
【化28】 で表される3価の基;または−S−、−O−もしくは−
NR2 −の基の少なくとも1個により中断されている炭
素原子数2ないし18のアルカントリイル基を表し;R
1 はメチル基または第三ブチル基を表し;R2 はHまた
は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表し、R3 およ
びR4 は、互いに独立して炭素原子数1ないし4のアル
キル基を表し、ならびにR5 、R6 およびR7 は、互い
に独立して、炭素原子数1ないし3のアルキレン基を表
す。)で表される化合物は本発明の好ましい主題であ
る。
【0043】好ましい式Iの化合物はnが4ないし8の
範囲の整数であり、mが1ないし4の範囲の整数であ
り;m=1の場合、Aは未置換のまたは炭素原子数5な
いし8のシクロアルキル基により置換された炭素原子数
1ないし25のアルキル基;または炭素原子数5ないし
8のシクロアルキル基もしくは−S−、−O−および/
または−NR2 −の基の1個以上で中断されている炭素
原子数2ないし25のアルキル基を表し;あるいは;m
=1の場合、Aは未置換のまたは炭素原子数1ないし1
2のアルキル基により置換された炭素原子数5ないし8
のシクロアルキル基;未置換のまたは炭素原子数1ない
し12のアルキル基により置換された炭素原子数6ない
し8のシクロアルケニル基;未置換のまたは炭素原子数
1ないし12のアルキル基により置換されたフェニル
基;または炭素原子数2ないし25のアルケニル基;炭
素原子数7ないし12のフェニルアルキル基;または式
II:
【化29】 で表される基を表し;m=2の場合、Aは直接結合;炭
素原子数1ないし12のアルキレン基;炭素原子数2な
いし12のアルケニレン基;未置換のまたは炭素原子数
1ないし12のアルキル基により置換された炭素原子数
5ないし8のシクロアルキレン基;未置換のまたは炭素
原子数1ないし12のアルキル基により置換された炭素
原子数6ないし8のシクロアルケニレン基;フェニレン
基;水素原子もしくは置換基−R 2 により窒素原子上で
飽和されている、フラン環、チオフェン環またはピロー
ル環からなる群からの二価の複素環基を表し;あるいは
m=2の場合、Aは炭素原子数5ないし8のシクロアル
キレン基またはフェニレン基または−S−、−O−もし
くは−NR2 −の基の少なくとも1個により中断されて
いる炭素原子数2ないし18のアルキレン基を表し;m
=3の場合、Aは炭素原子数1ないし8のアルカントリ
イル基;炭素原子数2ないし8のアルケントリイル基;
ベンゼントリイル基;式:
【化30】 で表される3価の基;または−S−、−O−もしくは−
NR2 −の基の少なくとも1個により中断されている炭
素原子数2ないし18のアルカントリイル基を表し;お
よびm=4である場合、Aは4個の自由原子価をもつベ
ンゼン基またはシクロヘキシル基を表し;R1 およびR
1'は、互いに独立して炭素原子数1ないし10のアルキ
ル基または炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基を
表し;R2 はHまたは炭素原子数1ないし4のアルキル
基を表し;R3 およびR4 は、互いに独立して、炭素原
子数1ないし4のアルキル基を表し;ならびにR5 、R
6 およびR7 は、互いに独立して、炭素原子数1ないし
3のアルキレン基を表す。)で表される化合物である。
【0044】R1'が第三ブチル基またはシクロヘキシル
基を表しおよびR1 がメチル基、第三ブチル基またはシ
クロヘキシル基を表し;nは4ないし6の範囲の数値を
表し;およびm=1の場合、Aは炭素原子数6ないし1
8のアルキル基または炭素原子数2ないし12のアルケ
ニル基を表し;m=2の場合、Aは直接結合;炭素原子
数1ないし12のアルキレン基;フェニレン基;基
【化31】 ;または1ないし5個の酸素原子もしくは硫黄原子によ
り中断された炭素原子数2ないし36のアルキレン基を
表し;m=3の場合、Aはベンゼントリイル基または
式:
【化32】 で表される三価の基を表し;ならびにm=4の場合、A
は4個の自由原子価を持つベンゼン基を表す式Iで表さ
れる化合物は、特に好ましい主題である。
【0045】これらの化合物の中で、顕著に重要な化合
物は、m=1の場合、Aは炭素原子数2ないし12のア
ルケニル基であり;m=2の場合、Aはフェニレン基;
基:
【化33】 ;1ないし5個の酸素原子により中断された炭素原子数
2ないし36のアルキレン基;あるいは基:−(C
2 ) k −S−(CH2 ) k −〔kは1ないし3の範囲
の整数を表す。〕であり;そして特別にはmが1または
2である化合物である。
【0046】とりわけ好ましい式Iの化合物はnが5な
いし8の範囲、特に6ないし8の範囲、特別には6の整
数であるものである。
【0047】式Iで表される化合物のうち、式:
【化34】 〔式中、Aは−(CH2 ) j −;−(CH2 ) k −S−
(CH2 ) k −;
【化35】 または−(CH2 ) 2 −O−[(CH2 ) 2 −O−]j
−(CH2 2 −;(基中、jは0または1ないし4の
範囲の整数を表し;およびkは1ないし3の範囲の整数
を表す。)を表す。〕で表される化合物が特に際立って
よい。
【0048】以下に示す化合物は特に際立って重要であ
る:構造式が
【化36】
【化37】 で表される、a)6−(3−第三ブチル−4−ヒドロキ
シ−5−メチルフェニル)ヘキシルステアレート; b)6−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフ
ェニル)ヘキシルステアレート; c)ビス[6−(3−第三ブチル−4−ヒドロキシ−5
−メチルフェニル)ヘキシル]サクシネート; d)ビス[6−(3−第三ブチル−4−ヒドロキシ−5
−メチルフェニル)ヘキシル]アジペート; e)ビス[6−(3−第三ブチル−4−ヒドロキシ−5
−メチルフェニル)ヘキシル]スベレート; f)ビス[6−(3−第三ブチル−4−ヒドロキシ−5
−メチルフェニル)ヘキシル]イソフタレート; g)ビス[6−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロ
キシフェニル)ヘキシル]イソフタレート; h)トリス[6−(3−第三ブチル−4−ヒドロキシ−
5−メチルフェニル)ヘキシル]トリメリテート; j)トリス[6−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒド
ロキシフェニル)ヘキシル]トリメリテート; k)トリス[6−(3−第三ブチル−4−ヒドロキシ−
5−メチルフェニル)ヘキシル]トリメセート;および l)トリス[6−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒド
ロキシフェニル)ヘキシル]トリメセートである。
【0049】nが4ないし6の範囲の整数の式Iの化合
物、特にnが4ないし6の範囲の整数である化合物であ
り、およびm=1の場合、Aは炭素原子数6ないし20
のアルキル基であり、m=2の場合、Aは直接結合、炭
素原子数1ないし10のアルキレン基;フェニレン基;
または−S−により中断されている炭素原子数2ないし
6のアルキレン基を表し;m=3の場合、Aはベンゼン
トリイル基である化合物は特に工業的に重要である。
【0050】好ましい本発明の主題はまたmが2であ
り、Aが少なくとも1個の酸素原子で中断された炭素原
子数4ないし36のアルキレン基である式Iの化合物で
ある。
【0051】m=1の場合、Aは未置換のまたは炭素原
子数6ないし20のアルキル基;炭素原子数3ないし1
8のアルケニル基、−S−もしくは−O−の基の1個以
上により中断されている炭素原子数6ないし36のアル
キル基、シクロヘキシル基、炭素原子数1ないし4のア
ルキル基で置換されているシクロヘキシル基、フェニル
基、炭素原子数1ないし12のアルキル基で置換されて
いるフェニル基、または総計7ないし9個の炭素原子を
もつフェニルアルキル基であり、m=2の場合、Aは直
接結合;炭素原子数1ないし12のアルキレン基;炭素
原子数2ないし12のアルケニレン基;フェニレン基;
−S−もしくは−O−により中断されている炭素原子数
2ないし36のアルキレン基を表し;およびm=3の場
合、Aは炭素原子数1ないし8のアルカントリイル基;
ベンゼントリイル基;炭素原子数7ないし10の炭素原
子を持つアルカンベンゼントリイル基;または式:
【化38】 基である式Iの化合物もまた重要である。
【0052】式Iの化合物は熱的、酸化的および化学線
的崩壊に対する有機材料の安定化に適当である。有機材
料の安定化のうち酸化防止剤としてのそれらの顕著な作
用に特に言及がなされる。
【0053】それらの材料の例は以下のものである: 1.モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例
えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブト−1
−エン、ポリメチルペント−1−エン、ポリイソプレン
またはポリブタジエン、ならびにシクロオレフィン例え
ばシクロペンテンまたはノルボルネンのポリマー、(所
望により架橋結合できる)ポリエチレン、例えば高密度
ポリエチレン(HDPE)、低密度ポリエチレン(LD
PE)および線状低密度ポリエチレン(LLDPE)、
枝分れ低密度ポリエチレン(BLDPE)。
【0054】ポリオレフィン、すなわち先の段落中で例
示として言及したようなモノオレフィンのポリマー、特
にポリエチレンおよびポリプロピレンは種々の方法、特
に以下の方法により製造できる: a)フリーラジカル重合(通常、高圧および高温におい
ての) b)触媒を使用して、該触媒は通常IVb、Vb、VIbま
たはVIII属の金属の1個以上を含む。これらの金属は通
常、π−配位またはσ−配位のどちらか一方が可能な、
例えば酸化物、ハロゲン化物、アルコラート、エステ
ル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニルおよび/
またはアリールのような配位子の1つ以上を持つ。これ
ら金属錯体は遊離であるか例えば活性化塩化マグネシウ
ム、塩化チタン(II)、酸化アルミニウムまたは酸化珪
素のような支持体に固定化していてよい。これらの触媒
は重合媒体中に可溶または不溶であってよい。触媒はそ
れ自体重合において活性化でき、または、例えば金属ア
ルキル、金属水素化物、金属アルキルハライド、金属ア
ルキル酸化物または金属アルキルオキサンで、該金属は
Ia、IIa および/またはIIIa属の元素であるような別の
活性剤が使用できる。活性剤は例えば、他のエステル、
エーテル、アミンもしくはシリルエーテル基により改良
され得る。これら触媒系は通常フィリップス(Phillip
s)、スタンダードオイルインディアナ(Standard Oil In
diana)、チグラー(−ナッタ)〔Ziegler-(Natta) 〕、
TNZ〔デュポン社(Dupont)〕、メタロセンまたはシン
グルサイト触媒(SSC)と称されるものである。
【0055】2. 1.に記載したポリマーの混合物、
例えばポリプロピレンとポリイソブチレンとの混合物、
ポリプロピレンとポリエチレンとの混合物(例えばPP
/HDPE、PP/LDPE)およびポリエチレンの異
なるタイプの混合物(例えば、LDPE/HDPE)。
【0056】3.モノオレフィンとジオレフィン相互ま
たは他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレ
ン/プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチレン
(LLDPE)およびその低密度ポリエチレン(LDP
E)との混合物、プロピレン/ブト−1−エン、プロピ
レン/イソブチレン、エチレン/ブト−1−エン、エチ
レン/ヘキセン、エチレン/メチルペンテン、エチレン
/ヘプテン、エチレン/オクテン、プロピレン/ブタジ
エン、イソブチレン/イソプレン、エチレン/アルキル
アクリレート、エチレン/アルキルメタクリレート、エ
チレン/ビニルアセテートコポリマーおよびそれらコポ
リマーと一酸化炭素のコポリマーまたはエチレン/アク
リル酸コポリマーおよびそれらの塩類(アイオノマー)
およびエチレンとプロピレンとジエン例えばヘキサジエ
ン、ジシクロペンタジエンまたはエチリデン−ノルボル
ネンのようなものとのターポリマー;ならびに前記コポ
リマー相互の混合物および1.に記載したポリマーとの
混合物、例えばポリプロピレン/エチレン−プロピレン
−コポリマー、LDPE/エチレン−ビニルアセテート
(EVA)コポリマー、LDPE/エチレンアクリル酸
(EAA)コポリマー、LLDPE/EVA、LLDP
E/EAAおよびランダムまたは交互ポリアルキレン/
一酸化炭素−コポリマー;ならびに他のポリマーとこれ
らの混合物、例えばポリアミド。
【0057】4. それらの水素化変性物(例えば粘着付
与剤)およびポリアルキレンとデンプンの混合物を含む
炭化水素樹脂(例えば炭素原子数5ないし9)。
【0058】5.ポリスチレン、ポリ−(p−メチルス
チレン)、ポリ−(α−メチルスチレン)。
【0059】6.スチレンまたは、α−メチルスチレン
とジエンもしくはアクリル誘導体とのコポリマー、例え
ばスチレン/ブタジエン、スチレン/アクリロニトリ
ル、スチレン/アルキルメタクリレート、スチレン/ブ
タジエン/アルキルアクリレートおよびスチレン/ブタ
ジエン/アルキルメタクリレート、スチレン/無水マレ
イン酸ならびにスチレン/アクリロニトリル/メチルア
クリレート;スチレンコポリマーと他のポリマー、例え
ばポリアクリレート、ジエンポリマーまたはエチレン/
プロピレン/ジエンターポリマーとの高衝撃強度の混合
物;およびスチレンのブロックコポリマー、例えばスチ
レン/ブタジエン/スチレン、スチレン/イソプレン/
スチレン、スチレン/エチレン/ブチレン/スチレン、
又はスチレン/エチレン/プロピレン/スチレン。
【0060】7.スチレンまたはα−メチルスチレンの
グラフトコポリマー、例えばポリブタジエンにスチレ
ン、ポリブタジエン−スチレンまたはポリブタジエン−
アクリロニトリルにスチレンのようなもの;ポリブタジ
エンにスチレンおよびアクリロニトリル(またはメタア
クリロニトリル);ポリブタジエンにスチレン、アクリ
ロニトリルおよびメチルメタクリレート;ポリブタジエ
ンにスチレンおよび無水マレイン酸;ポリブタジエンに
スチレン、アクリロニトリルおよび無水マレイン酸また
はマレインイミド;ポリブタジエンにスチレンおよびマ
レインイミド;ポリブタジエンにスチレンおよびアルキ
ルアクリレートまたはメタクリレート、エチレン/プロ
ピレン/ジエンターポリマーにスチレンおよびアクリロ
ニトリル、ポリアクリレートまたはポリメタクリレート
にスチレンおよびアクリロニトリル、アクリレート/ブ
タジエンコポリマーにスチレンおよびアクリロニトリ
ル、ならびにこれらと6.に列挙したコポリマーとの混
合物、例えばABS、MBS、ASAおよびAESポリ
マーとして知られているコポリマー混合物。
【0061】8.ハロゲン含有ポリマー、例えばポリク
ロロプレン、塩素化ゴム、塩素化もしくはクロロスルホ
ン化ポリエチレン、エチレンおよび塩素化エチレンのコ
ポリマー、エピクロロヒドリンホモ−およびコポリマ
ー、特にハロゲン含有ビニル化合物からのポリマー、例
えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化
ビニル、およびポリフッ化ビニリデンならびにこれらの
コポリマー、例えば塩化ビニル/塩化ビニリデン、塩化
ビニル/酢酸ビニルまたは塩化ビニリデン/酢酸ビニル
コポリマー。
【0062】9.α,β−不飽和酸、およびその誘導体
から誘導されたポリマー、例えばポリアクリレートおよ
びポリメタクリレート、ブチルアクリレートとの耐衝撃
性改良ポリメチルメタクリレート、ポリアクリルアミド
およびポリアクリロニトリル。
【0063】10.上記9に挙げたモノマーの相互または
他の不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニ
トリル/ブタジエン、アクリロニトリル/アルキルアク
リレートコポリマー、アクリロニトリル/アルコキシア
ルキルアクリレートまたはアクリロニトリル/ハロゲン
化ビニルコポリマー、又はアクリロニトリル−アルキル
メタクリレート−ブタジエンターポリマー。
【0064】11.不飽和アルコールおよびアミンまたは
それらのアシル誘導体またはそれらのアセタールから誘
導されたポリマー、例えばポリビニルアルコール、ポリ
酢酸ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベン
ゾエート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラー
ル、ポリアリルフタレートまたはポリアリルメラミン;
ならびにそれらと上記1.に記載したオレフィンとのコ
ポリマー。
【0065】12.環状エーテルのホモポリマーおよびコ
ポリマー、例えばポリアルキレングリコール、ポリエチ
レンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたはそれらと
ビスグリシジルエーテルとのコポリマー。
【0066】13. ポリアセタール、例えばポリオキシメ
チレンおよびエチレンオキシドをコモノマーとして含む
ポリオキシメチレン;熱可塑性ポリウレタン、アクリレ
ートまたはMBSで変性させたポリアセタール。
【0067】14.ポリフェニレンオキシドおよびスルフ
ィド、ならびにポリフェニレンオキシドとポリスチレン
またはポリアミドとの混合物。
【0068】15. 一方の成分としてヒドロキシ末端基を
含むポリエーテル、ポリエステルまたはポリブタジエン
と他方の成分として脂肪族または芳香族ポリイソシアネ
ートとから誘導されたポリウレタンならびにその前駆物
質(ポリイソシアネート、ポリオールまたはプレポリマ
ー)。
【0069】16. ジアミンおよびジカルボン酸および/
またはアミノカルボン酸または相当するラクタムから誘
導されたポリアミドおよびコポリアミド。例えばポリア
ミド4、ポリアミド6、ポリアミド6/6、6/10、
6/9、6/12、4/6および12/12、ポリアミ
ド11、ポリアミド12、m−キシレン、ジアミン、お
よびアジピン酸の縮合によって得られる芳香族ポリアミ
ド;ヘキサメチレンジアミンおよびイソフタル酸および
/またはテレフタル酸および所望により変性剤としての
エラストマーから製造されるポリアミド、例えはポリ−
2,4,4(トリメチルヘキサメチレン)テレフタルア
ミドまたはポリ−m−フェニレンイソフタルアミド。さ
らに、前記ポリアミドとポリオレフィン、オレフィンコ
ポリマー、アイオノマーまたは化学的に結合またはグラ
フトしたエラストマーとのコポリマー;またはこれらと
ポリエーテル、例えばポリエチレングリコール、ポリプ
ロピレングリコールまたはポリテトラメチレングリコー
ルとのコポリマー。EPDMまたはABSで変性させた
ポリアミドまたはコポリアミド。加工の間に縮合させた
ポリアミド(RIM−ポリアミド系)。
【0070】17. ポリ尿素、ポリイミドおよびポリアミ
ド−イミド。
【0071】18. ジカルボン酸およびジオールから、お
よび/ またはヒドロキシカルボン酸または相当するラク
トンから誘導されたポリエステル、例えばポリエチレン
テレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−
1, 4−ジメチロール−シクロヘキサンテレフタレー
ト、およびポリヒドロキシベンゾエートならびにヒドロ
キシ末端基を含有するポリエーテルから誘導されたブロ
ック−コポリエーテル−エステル;およびまたポリカー
ボネートまたはMBSにより改良されたポリエステル。
【0072】19. ポリカーボネートおよびポリエステル
−カーボネート。
【0073】20. ポリスルホン、ポリエーテルスルホン
およびポリエーテルケトン。
【0074】21.一方でアルデヒドから、および他方で
フェノール、尿素またはメラミンから誘導された架橋ポ
リマー、例えばフェノール/ホルムアルデヒド樹脂、尿
素/ホルムアルデヒド樹脂およびメラミン/ホルムアル
デヒド樹脂。
【0075】22.乾性もしくは非乾性アルキッド樹脂。
【0076】23.飽和および不飽和ジカルボン酸と多価
アルコールおよび架橋剤としてビニル化合物とのコポリ
エステルから誘導された不飽和ポリエステル樹脂および
燃焼性の低いそれらのハロゲン含有変成物。
【0077】24.置換アクリル酸エステル、例えばエポ
キシアクリレート、ウレタンアクリレートまたはポリエ
ステル−アクリレートから誘導された架橋性アクリル樹
脂。
【0078】25.メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソシ
アネートまたはエポキシ樹脂を架橋剤として添加したア
ルキッド樹脂、ポリエステル樹脂およびアクリレート樹
脂。
【0079】26.ポリエポキシド、例えばビスグリシジ
ルエーテルから、または環状脂肪族ジエポキシドから誘
導された架橋エポキシ樹脂。
【0080】27.天然ポリマー、例えば、セルロース、
ゴム、ゼラチンおよびそれらを化学変成した同族誘導
体、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロースお
よび酪酸セルロース、およびセルロースエーテル、例え
ばメチルセルロース;ロジンおよびそれらの誘導体。
【0081】28.前述のポリマーの混合物(ポリブレン
ド)、例えばPP/EPDM、ポリアミド/EPDMま
たはABS、PVC/EVA、PVC/ABS、PVC
/MBS、PC/ABS、PBTP/ABS、PC/A
SA、PC/PBT、PVC/CPE、PVC/アクリ
レート、POM/熱可塑性PUR、PC/熱可塑性PU
R、POM/アクリレート、POM/MBS、PPE/
HIPS、PPE/PA6.6およびコポリマー、PA
/HDPE、PA/PP、PA/PPO。
【0082】29.純粋なモノマー化合物またはそれらの
混合物からなる天然および合成有機材料、例えば鉱油、
動物または植物脂肪、オイルおよびワックスまたは合成
エステル(例えばフタレート、アジペート、ホスフェー
トまたはトリメリテート)に基づいたオイル、脂肪およ
びワックス、ならびにポリマー用可塑剤として、または
紡糸製剤油として用いられているいかなる重量比での合
成エステルと鉱油との混合物、ならびにそれら材料の水
性エマルジョン。
【0083】30.天然または合成ゴムの水性エマルジョ
ン、例えば天然ラテックス、またはカルボキシル化スチ
レン−ブタジエンコポリマーのラテックス。
【0084】本発明の別の主題は、従って、熱的、酸化
的および/または化学線的崩壊を受けやすい有機材料お
よび式Iの化合物の少なくとも1個を含有する組成物、
ならびに有機材料を熱的、酸化的または化学線的崩壊に
対して安定化するために式Iの化合物を使用する方法で
ある。
【0085】本発明は従って、有機材料を熱的、酸化的
および/または化学線的崩壊に対して安定化する方法で
あって、式Iの化合物の少なくとも1個を該材料に添加
する方法を包含する。
【0086】合成有機ポリマーにおける酸化防止剤とし
ての式Iの化合物を使用する方法は特別に重要である。
【0087】好ましい有機材料はポリマーであり、例え
ば合成有機ポリマーまたはそのようなポリマーの混合
物、特に熱可塑性ポリマーである。特別に好ましい有機
材料はポリオレフィンおよびスチレンコポリマーであ
り、例えば上記1ないし3、ならびに5および6に示さ
れたものであり、特に、ポリエチレンおよびポリプロピ
レンさらにABSおよびスチレンブタジエンコポリマー
もである。有機材料が合成有機ポリマーまたはそのポリ
マーの混合物、特にポリオレフィンまたはスチレンコポ
リマーである組成物はそのため好ましい本発明の主題で
ある。
【0088】通常、式Iの化合物は安定化される材料の
総重量に関して0.01ないし10%、好ましくは0.
01ないし5%、特には0.01ないし2%の量で安定
される材料に添加される。0.01ないし0.5%、特
に0.05ないし0.3%の量での本発明による化合物
の使用が特に好ましい。
【0089】式Iの化合物に加えて、本発明による組成
物はさらに例えば以下に示すような慣用の化合物を含む
ことができる。
【0090】1.酸化防止剤 1.1 アルキル化モノフェノール 、例えば2,6−ジ
−第三ブチル−4−メチルフェノール、2−第三ブチル
−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジ−第三ブチ
ル−4−エチルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル−
4−n−ブチルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル−
4−イソブチルフェノール、2,6−ジ−シクロペンチ
ル−4−メチルフェノ−ル、2−(α−メチルシクロヘ
キシル)−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジオ
クタデシル−4−メチルフェノ−ル、2,4,6−トリ
シクロヘキシルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル−
4−メトキシメチルフェノール、2,6−ジノニル−4
−メチルフェノール、2,4−ジメチル−6−(1′−
メチル−ウンデカ−1′−イル)−フェノール、2,4
−ジメチル−6−(1′−メチル−ヘプタデカ−1′−
イル)−フェノール、2,4−ジメチル−6−(1′−
メチル−トリデカ−1′−イル)−フェノールおよびそ
れらの混合物。
【0091】1.2.アルキルチオメチルフェノール、
例えば2,4−ジ−オクチルチオメチル−6−第三ブチ
ルフェノール、2,4−ジ−オクチルチオメチル−6−
メチルフェノール、2,4−ジ−オクチルチオメチル−
6−エチルフェノール、2,6−ジ−ドデシルチオメチ
ル−4−ノニルフェノール。
【0092】1.3 ハイドロキノンとアルキル化ハイ
ドロキノン、例えば2,6−ジ−第三ブチル−4−メト
キシフェノール、2,5−ジ−第三ブチル−ハイドロキ
ノン、2,5−ジ−第三−アミル−ハイドロキノン、
2,6−ジフェニル−4−オクタデシルオキシフェノー
ル、2,6−ジ−第三ブチル−ハイドロキノン、2,5
−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシアニソール、3,5
−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシアニソール、3,5
−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルステアレー
ト、ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフ
ェニル)アジペート。
【0093】1.4 ヒドロキシル化チオジフェニルエ
ーテル、例えば2,2′−チオビス(6−第三ブチル−
4−メチルフェノール)、2,2′−チオビス(4−オ
クチルフェノール)、4,4′−チオビス(6−第三ブ
チル−3−メチルフェノール)、4,4′−チオビス
(6−第三ブチル−2−メチルフェノール)、4,4′
−チオ−ビス(3,6−ジ−第二−アミルフェノー
ル)、4,4′−ビス(2,6−ジメチル−4−ヒドロ
キシフェニル)−ジスルフィド。
【0094】1.5 アルキリデンビスフェノール、例
えば2,2′−メチレン−ビス(6−第三ブチル−4−
メチルフェノール)、2,2′−メチレン−ビス(6−
第三ブチル−4−エチルフェノール)、2,2′−メチ
レン−ビス[4−メチル−6−(α−メチルシクロヘキ
シル)フェノール]、2,2′−メチレン−ビス(4−
メチル−6−シクロヘキシルフェノール)、2,2′−
メチレン−ビス(6−ノニル−4−メチルフェノー
ル)、2,2′−メチレン−ビス(4,6−ジ−第三ブ
チルフェノール)、2,2′−エチリデン−ビス(4,
6−ジ−第三ブチルフェノール)、2,2′−エチリデ
ン−ビス(6−第三ブチル−4−イソブチルフェノー
ル)、2,2′−メチレン−ビス [6−(α−メチルベ
ンジル)−4−ノニルフェノール] 、2,2′−メチレ
ン−ビス [6−(α,α−ジメチルベンジル)−4−ノ
ニルフェノール] 、4,4′−メチレン−ビス(2,6
−ジ−第三ブチルフェノール)、4,4′−メチレン−
ビス(6−第三ブチル−2−メチルフェノール)、1,
1−ビス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチ
ルフェニル)ブタン、2,6−ビス(3−第三ブチル−
5−メチル−2−ヒドロキシベンジル)−4−メチルフ
ェノール、1,1,3−トリス(5−第三ブチル−4−
ヒドロキシ−2−メチルフェニル)ブタン、1,1−ビ
ス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェ
ニル)−3−n−ドデシルメルカプトブタン、エチレン
グリコールビス[3,3−ビス(3′−第三ブチル−
4′−ヒドロキシフェニル)ブチレート] 、ビス(3−
第三ブチル−4ーヒドロキシ−5−メチルフェニル)ジ
シクロペンタジエン、ビス[2−(3′−第三ブチル−
2′−ヒドロキシ−5′−メチルベンジル)−6−第三
ブチル−4−メチルフェニル]テレフタレート、1,1
−ビス(3,5−ジメチル−2−ヒドロキシフェニル)
ブタン、2,2−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−
ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(5−第
三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)−4
−n−ドデシルメルカプトブタン、1,1,5,5−テ
トラ−(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチル
フェニル)ペンタン。
【0095】1.6. O−、N−およびS−ベンジル
化合物、例えば3,5,3′,5′−テトラ−第三ブチ
ル−4,4′−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オク
タデシル−4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルベンジル
−メルカプトアセテート、トリス−(3,5−ジ−第三
ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−アミン、ビス(4
−第三ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベン
ジル)−ジチオテレフタレート、ビス(3,5−ジ−第
三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−スルフィド、イ
ソオクチル−3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシ
ベンジル−メルカプトアセテート。
【0096】1.7.ヒドロキシベンジル化マロネー
ト、例えばジオクタデシル−2,2−ビス(3,5−ジ
−第三ブチル−2−ヒドロキシベンジル)−マロネー
ト、ジ−オクタデシル−2−(3−第三ブチル−4−ヒ
ドロキシ−5−メチルベンジル)−マロネート、ジ−ド
デシルメルカプトエチル−2,2−ビス(3,5−ジ−
第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−マロネート、
ジ−[4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−
フェニル]−2,2−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−
4−ヒドロキシベンジル)−マロネート。
【0097】1.8. ヒドロキシベンジル芳香族化合
物、例えば、1,3,5−トリス(3,5−ジ−第三ブ
チル−4−ヒドロキシベンジル)−2,4,6−トリメ
チルベンゼン、1,4−ビス(3,5−ジ−第三ブチル
−4−ヒドロキシベンジル)−2,3,5,6−テトラ
メチルベンゼン、2,4,6−トリス(3,5−ジ−第
三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−フェノール。
【0098】1.9. トリアジン化合物、例えば、
2,4−ビス−オクチルメルカプト−6−(3,5−ジ
−第三ブチル−4−ヒドロキシアニリノ)−1,3,5
−トリアジン、2−オクチルメルカプト−4,6−ビス
(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシアニリノ)
−1,3,5−トリアジン、2−オクチルメルカプト−
4,6−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキ
シフェノキシ)−1,3,5−トリアジン、2,4,6
−トリス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフ
ェノキシ)−1,2,3−トリアジン、1,3,5−ト
リス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジ
ル)−イソシアヌレート、1,3,5−トリス(4−第
三ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジ
ル)−イソシアヌレート、2,4,6−トリス(3,5
−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルエチル)−
1,3,5−トリアジン、1,3,5−トリス(3,5
−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニ
ル)−ヘキサヒドロ−1,3,5−トリアジン、1,
3,5−トリス(3,5−ジシクロヘキシル−4−ヒド
ロキシベンジル)−イソシアヌレート。
【0099】1.10. べンジルホスホネート、例え
ばジメチル−2,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシ
ベンジルホスホネート、ジエチル−3,5−ジ−第三ブ
チル−4−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタ
デシル−3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベン
ジルホスホネート、ジオクタデシル−5−第三ブチル−
4−ヒドロキシ−3−メチルベンジルホスホネート、
3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルホス
ホン酸モノエチルエステルのCa塩。
【0100】1.11. アシルアミノフェノール、例
えばラウリン酸4−ヒドロキシアニリド、ステアリン酸
4−ヒドロキシアニリド、カルバミン酸N−(3,5−
ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)オクチルエ
ステル。
【0101】1.12. β−(3,5−ジ−第三ブチ
ル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸の下記の一
価または多価アルコールとのエステル、例えば、メタノ
ール、エタノール、オクタデカノール、1,6−ヘキサ
ンジオール、1,9−ノナンジオール、エチレングリコ
ール、1,2−プロパンジオール、ネオペンチルグリコ
ール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、
トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、N,
N′−ビス(ヒドロキシエチル)シュウ酸ジアミド、3
−チアウンデカノール、3−チアペンタデカノール、ト
リメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、
4−ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,6,7−ト
リオキサビシクロ[2.2.2]オクタン。
【0102】1.13. β−(5−第三ブチル−4−
ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロピオン酸の下記
の一価または多価アルコールとのエステル、例えば、メ
タノール、エタノール、オクタデカノール、1,6−ヘ
キサンジオール、1,9−ノナンジオール、エチレング
リコール、1,2−プロパンジオール、ネオペンチルグ
リコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリ
コール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトー
ル、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、
N,N′−ビス(ヒドロキシエチル)シュウ酸ジアミ
ド、3−チアウンデカノール、3−チアペンタデカノー
ル、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロ
パン、4−ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,6,
7−トリオキサビシクロ[2.2.2]オクタン。
【0103】1.14. β−(3,5−ジ−シクロヘ
キシル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸の下記
の一価または多価アルコールとのエステル、例えばメタ
ノール、エタノール、オクタデカノール、1,6−ヘキ
サンジオール、1,9−ノナンジオール、エチレングリ
コール、1,2−プロパンジオール、ネオペンチルグリ
コール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコ
ール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトー
ル、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、
N,N′−ビス(ヒドロキシエチル)シュウ酸ジアミ
ド、3−チアウンデカノール、3−チアペンタデカノー
ル、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロ
パン、4−ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,6,
7−トリオキサビシクロ[2.2.2]オクタン。
【0104】1.15. 3,5−ジ−第三ブチル−4
−ヒドロキシフェニル酢酸の下記の一価または多価アル
コールとのエステル、例えば、メタノール、エタノー
ル、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオール、
1,9−ノナンジオール、エチレングリコール、1,2
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス(ヒド
ロキシエチル)イソシアヌレート、N,N′−ビス(ヒ
ドロキシエチル)シュウ酸ジアミド、3−チアウンデカ
ノール、3−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサ
ンジオール、トリメチロールプロパン、4−ヒドロキシ
メチル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシク
ロ[2.2.2]オクタン。
【0105】1.16. β−(3,5−ジ−第三ブチ
ル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸のアミド
例えばN,N′−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−
ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヘキサメチレンジア
ミン、N,N′−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−
ヒドロキシフェニルプロピオニル)トリメチレンジアミ
ン、N,N′−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒ
ドロキシフェニルプロピオニル)ヒドラジン。
【0106】2. 紫外線吸収剤および光安定剤 2.1. 2−( 2′−ヒドロキシフェニル) ベンゾト
リアゾール 、例えば、2−(2’−ヒドロキシ−5’−
メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’,
5’−ジ−第三ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)ベ
ンゾトリアゾール、2−(5’−第三ブチル−2’−ヒ
ドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール2−(2’−ヒ
ドロキシ−5’−(1,1,3,3−テトラメチルブチ
ル) フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’,5’
−ジ−第三ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)−5−
クロロベンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチル−
2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)−5−クロ
ロベンゾトリアゾール、2−(3’−第二ブチル−5’
−第三ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリ
アゾール、2−(2’−ヒドロキシ−4’−オクトキシ
フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’,5’−ジ
−第三アミル−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリ
アゾール、2−(3’,5’−ビス(α,α−ジメチル
ベンジル)−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリア
ゾール、2−(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−
5’−(2’−オクチルオキシカルボニルエチル)フェ
ニル)−5−クロロベンゾトリアゾールと2−(3’−
第三ブチル−5’−[2−(2−エチルヘキシルオキ
シ)カルボニルエチル]−2’−ヒドロキシフェニル)
−5−クロロベンゾトリアゾールの混合物、2−(3’
−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−メトキ
シカルボニルエチル)フェニル)−5−クロロベンゾト
リアゾール、2−(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキ
シ−5’−(2−メトキシカルボニルエチル)フェニ
ル)ベンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチル−
2’−ヒドロキシ−5’−(2−オクトキシカルボニル
エチル)フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’−
第三ブチル−5’−[2−(2−エチルヘキシルオキ
シ)カルボニルエチル]−2’−ヒドロキシフェニル)
ベンゾトリアゾール、2−(3−ドデシル−2’−ヒド
ロキシ−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、
ならびに2−(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−
5’−(2−イソオクチルオキシカルボニルエチル)フ
ェニルベンゾトリアゾール、2,2’−メチレン−ビス
[4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−
ベンゾトリアゾール−2−イルフェノール];2−
[3’−第三ブチル−5’−(2−メトキシカルボニル
エチル)−2’−ヒドロキシフェニル]ベンゾトリアゾ
ールとポリエチレングリコール300とのエステル交換
生成物;[R−CH2 CH2 −COO(CH2 3 −]
2 −(式中,R=3’−第三ブチル−4’−ヒドロキシ
−5’−2H−べンゾトリアゾール−2−イル−フェニ
ルである。)。
【0107】2.2. 2−ヒドロキシ−ベンゾフェノ
、例えば4−ヒドロキシ−、4−メトキシ−、4−オ
クトキシ−、4−デシルオキシ−、4−ドデシルオキシ
−、4−ベンジルオキシ−、4,2′,4′−トリヒド
ロキシ−または2′−ヒドロキシ−4,4′−ジメトキ
シ誘導体。
【0108】2.3. 置換されたおよび非置換安息香
酸のエステル、例えば4−第三ブチルフェニル=サリチ
レート、フェニル=サリチレート、オクチルフェニル=
サリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス(4
−第三ブチルベンゾイル)レゾルシノール、ベンゾイル
レゾルシノール、2,4−ジ−第三ブチルフェニル=
3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエー
ト、ヘキサデシル=3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒド
ロキシベンゾエート、オクタデシル=3,5−ジ−第三
ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、2−メチル−
4,6−ジ第三ブチルフェニル=3,5−ジ−第三ブチ
ル−4−ヒドロキシベンゾエート。
【0109】2.4. アクリレート、例えばエチルα
−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリレート、イソオ
クチルα−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリレー
ト、メチルα−カルボメトキシ−シンナメート、メチル
α−シアノ−β−メチル−p−メトキシ−シンナメー
ト、ブチルα−シアノ−β−メチル−p−メトキシ−シ
ンナメート、メチルα−カルボメトキシ−p−メトキシ
シンナメート、およびN−(β−カルボメトキシ−β−
シアノビニル) −2−メチルインドリン。
【0110】2.5. ニッケル化合物,例えば2,
2′−チオビス−[4−(1,1,3,3−テトラメチ
ルブチル) −フェノール]のニッケル錯体,例えば1:
1または1:2錯体であって,所望によりn−ブチルア
ミン、トリエタノールアミンもしくはN−シクロヘキシ
ル−ジ−エタノールアミンのような他の配位子を伴うも
の、ニッケルジブチルジチオカルバメート、4−ヒドロ
キシ−3,5−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸モノ
アルキルエステル例えばメチルもしくはエチルエステル
のニッケル塩、ケトキシム例えば、2−ヒドロキシ−4
−メチル−フェニルウンデシルケトキシムのニッケル錯
体、1−フェニル−4−ラウロイル−5−ヒドロキシピ
ラゾールのニッケル錯体であって,所望により他の配位
子を伴うもの。
【0111】2.6. 立体障害性アミン、例えばビス
(2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)セバケー
ト、ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)
サクシネート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチ
ルピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6
−ペンタメチルピペリジル)n−ブチル−3,5−ジ−
第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルマロネート、1−
(2−ヒドロキシエチル)−2,2,6,6−テトラメ
チル−4−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合生
成物、N,N′−ビス(2,2,6,6−テトラメチル
−4−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミンと4−第三
オクチルアミノ−2,6−ジクロロ−1,3,5−s−
トリアジンとの縮合生成物、トリス(2,2,6,6−
テトラメチル−4−ピペリジル)ニトリロトリアセテー
ト、テトラキス(2,2,6,6−テトラメチル−4−
ピペリジル)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキ
シレート、1,1′−(1,2−エタンジイル)−ビス
(3,3,5,5−テトラメチルピペラジノン),4−
ベンゾイル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
ン、4−ステアリルオキシ−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメ
チルピペリジル)−2−n−ブチル−2−(2−ヒドロ
キシ−3,5−ジ−第三ブチル−ベンジル)マロネー
ト、3−n−オクチル−7,7,9,9−テトラメチル
−1,3,8−トリアザスピロ[4.5]デカン−2,
4−ジオン、ビス(1−オクチルオキシ−2,2,6,
6−テトラメチルピペリジル)セバケート、ビス(1−
オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリ
ジル)サクシネート、N,N’−ビス(2,2,6,6
−テトラメチル−4−ピペリジル)−ヘキサメチレンジ
アミンと4−モルホリノ−2,6−ジクロロ−1,3,
5−トリアジンとの縮合生成物、2−クロロ−4,6−
ジ(4−n−ブチルアミノ−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジル)−1,3,5−トリアジンと1,2−
ビス(3−アミノプロピルアミノ)エタンの縮合生成
物、2−クロロ−4,6−ジ(4−n−ブチルアミノ−
1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)−1,
3,5−トリアジンと1,2−ビス(3−アミノプロピ
ルアミノ)エタンとの縮合生成物、8−アセチル−3−
ドデシル−7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8
−トリアザスピロ[4.5]デカン−2,4−ジオン、
3−ドデシル−1−(2,2,6,6−テトラメチル−
4−ピペリジル)ピロリジン−2,5−ジオン、3−ド
デシル−1−(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4
−ピペリジル)−ピロリジン−2,5−ジオン。
【0112】2.7. シュウ酸ジアミド、例えば4,
4′−ジ−オクチルオキシオキサニリド、2,2′−ジ
−オクチルオキシ−5,5′−ジ−第三ブチルオキサニ
リド、2,2′−ジ−ドデシルオキシ−5,5′−ジ−
第三ブチルオキサニリド、2−エトキシ−2′−エチル
オキサニリド、N,N′−ビス(3−ジメチルアミノプ
ロピル)オキサミド、2−エトキシ−5−第三ブチル−
2′−エチルオキサニリドおよび該化合物と2−エトキ
シ−2′−エチル−5,4′−ジ−第三ブチル−オキサ
ニリドとの混合物,o−およびp−メトキシ−二置換オ
キサニリドの混合物およびo−およびp−エトキシ−二
置換オキサニリドの混合物。
【0113】2.8. 2−(2−ヒドロキシフェニ
ル)−1,3,5−トリアジン、例えば2,4,6−ト
リス(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)
−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4
−オクチルオキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−
ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−
(2,4−ジヒドロキシフェニル)−4,6−ビス
(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジ
ン、2,4−ビス(2−ヒドロキシ−4−プロピルオキ
シフェニル)−6−(2,4−ジメチルフェニル)−
1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−
オクチルオキシフェニル) −4,6−ビス(4−メチル
フェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒド
ロキシ−4−ドデシルオキシフェニル) −4,6−ビス
(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジ
ン。2−[2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3
−ブチルオキシ−プロピルオキシ)フェニル]−4,6
−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−ト
リアジン、2−[2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキ
シ−3−オクチルオキシ−プロピルオキシ)フェニル]
−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,
3,5−トリアジン。
【0114】3. 金属不活性化剤,例えばN,N′−
ジフェニルシュウ酸ジアミド、N−サリチラル−N′−
サリチロイルヒドラジン、N,N′−ビス(サリチロイ
ル)ヒドラジン、N,N′−ビス(3,5−ジ−第三ブ
チル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヒドラジ
ン、3−サリチロイルアミノ−1,2,4−トリアゾー
ル、ビス(ベンジリデン)シュウ酸ジヒドラジド、オキ
サニリド、イソフタル酸ジヒドラジド、セバシン酸−ビ
ス−フェニルヒドラジド、N,N’−ジアセタール−ア
ジピン酸ジヒドラジド、N,N’−ビス−サリチロイル
−シュウ酸ジヒドラジド、N,N’−ビス−サリチロイ
ル−チオプロピオン酸ジヒドラジド。
【0115】4. ホスフィットおよびホスホナイト
例えばトリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキル
ホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリ
ス(ノニルフェニル)ホスフィット、トリラウリルホス
フィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリ
ルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス(2,
4−ジ−第三ブチルフェニル)ホスフィット、ジイソデ
シルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス(2,
4−ジ−第三ブチルフェニル)−ペンタエリトリトール
ジホスフィット、ビス(2,6−ジ−第三ブチル−4−
メチルフェニル)−ペンタエリトリトールジホスフィッ
ト、ビス−イソデシルオキシ−ペンタエリトリトールジ
ホスフィット、ビス(2,4−ジ−第三ブチル−6−メ
チルフェニル)−ペンタエリトリトールジホスフィット
ビス(2,4,6−トリ−第三ブチル−ブチルフェニ
ル)−ペンタエリトリトールジホスフィット、トリステ
アリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス
(2,4−ジ−第三ブチルフェニル)4,4′−ビフェ
ニレンジホスホナイト、6−イソオクチルオキシ−2,
4,8,10−テトラ−第三ブチル−12H−ジベンズ
[d,g]−1,3,2−ジオキサホスホシン、ならび
に6−フルオロ−2,4,8,10−テトラ−第三ブチ
ル−12−メチル−ジベンズ[d,g]−1,3,2−
ジオキサホスホシン、ビス(2,4−ジ第三ブチル−6
−メチルフェニル)メチルホスフィットおよびビス
(2,4−ジ第三ブチル−6−メチルフェニル)エチル
ホスフィット。
【0116】5. 過酸化物スカベンジャー、例えばβ
−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル、ス
テアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、メル
カプトベンズイミダゾール、または2−メルカプトベン
ズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸
亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリト
ールテトラキス(β−ドデシルメルカプト)プロピオネ
ート。
【0117】6. ポリアミド安定剤、例えばヨウ化物
および/またはリン化合物と組合せた銅塩、および二価
マンガンの塩。
【0118】7. 塩基性補助安定剤、例えばメラミ
ン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリア
リルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、ア
ミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカ
リ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばステアリン
酸Ca塩、ステアリン酸Zn塩、ベヘン酸Mg塩、ステ
アリン酸Mg塩、リシノール酸Na塩およびパルミチン
酸K塩、カテコールアンチモン塩およびカテコール錫
塩。
【0119】8. 核剤、例えば4−第三ブチル安息香
酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸。
【0120】9. 充填剤および強化剤、例えば炭酸カ
ルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、アスベスト、タル
ク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物および
水酸化物、カーボンブラック、グラファイト。
【0121】10. その他の添加剤、例えば可塑剤、潤滑
剤、乳化剤、顔料、光沢剤、増白剤、難燃剤、静電防止
剤および液体発泡剤。
【0122】11.ベンゾフラノンおよびインドリノン
えば、米国特許US−A−4325863号または米国
特許US−A−4338244号に記述されているよう
なもの。
【0123】慣用の添加剤は、例えば、安定化される材
料の総重量に関して、0.01ないし10%の濃度で添
加される。
【0124】式の化合物および、所望ならば他の添加剤
の有機材料への混合は公知の方法により行われる。材料
への混合は、例えば、式Iの化合物および、所望ならば
他の添加剤を、当分野に慣用の方法を使用して混合また
は添加により行うことができる。材料がポリマー、特に
有機合成ポリマーの場合は、混合は成形の前または最中
に、あるいは溶解したまたは分散した化合物をポリマー
に加え、続いて適当なら時に溶媒を蒸発させることによ
り行うことができる。エラストマーの場合、これらはラ
テックスとしても安定化され得る。さらに式Iの化合物
のポリマー中への混合のための可能性は、該化合物を相
当するモノマーの重合の前、重合の最中あるいは次に重
合を行う直前、あるいは架橋に先んじて添加することか
らなる。式Iの化合物はそれ自体で添加でき、しかしカ
プセル化形態(例えば、ロウ、油またはポリマー中に)
でも添加できる。重合の前または後の添加の場合、式I
の化合物はまたポリマーの鎖長の調節剤としても作用す
る(連鎖停止剤)。
【0125】式Iの化合物はまた、例えば2.5ないし
25%重量%の濃度で該化合物を含むマスターバッチの
形態で安定化される材料に添加できる。
【0126】このように安定化された材料は、非常に様
々な形態で使用でき、例えば、フィルム、ファイバー、
テープ、成形組成物または形材の形態で、あるいは塗料
組成物、接着剤、パテのバインダーとして使用できる。
【0127】
【実施例】以下に示す実施例は本発明さらに説明する。
他に示さない限り、これら実施例中の部およびパーセン
トデータは重量に基づく。接頭につくnは直鎖アルキル
基を、接頭につくiは異性体の混合物を示す。「融点」
は表において「m.p.」と省略する。
【0128】実施例 1a:4−(3−第三ブチル−5
−メチル−4−ヒドロキシフェニル)ブタノールの製造 水酸化カリウム50g、2−第三ブチル−6−メチルフ
ェノール316gおよび1,4−ブタンジオール866
gを最初にオートクレーヴに入れる。窒素ガスを導入
後、オートクレーヴを密閉し、混合物を6時間、攪拌し
ながら235℃(4bar)で加熱する;さらに反応の
結果としての圧力の上昇を気体の吹き込みにより防ぐ。
反応が完了したとき反応混合物を80℃に冷却しそして
オートクレーヴからあける。過剰のブタンジオールを蒸
留により除去する。蒸留残渣を水1リットルおよびトル
エンに500mlに注ぐ。有機相を次に水で中性になる
まで洗浄し、トルエンを減圧にすることにより除去す
る。残っている残渣(310g)は式:
【化39】 で表される標記生成物68ないし70%を含む。より先
の精製は分留により減圧下で行われる;純粋な生成物は
115℃および35Pa(=0.35mbar)で沸騰
する。屈折率n20 D 1.5322をもつ。
【0129】実施例 1b:6−(3−第三ブチル−5
−メチル−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサノールの製
造 実施例1aを1,4−ブタンジオールに代わりに当量の
1,6−ヘキサンジオールを使用する以外繰り返す。得
られた次式:
【化40】 で表される生成物は35Pa(=0.35mbar)に
おいて135℃の沸点をもちそして45℃で溶融する。
【0130】実施例 1c:トルエン10ml中の塩化
ステアロイル25.5g(84.4mmol)溶液を、
10℃、窒素下で、トルエン90ml中の4−(3−第
三ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)ブタ
ノール(実施例1aからの生成物)18.9g(80m
mol)およびピリジン9.5g(120mmol)溶
液に滴下で加える。白い懸濁物を次に20ないし25℃
に温まるよう放置しでおきそしてろ過しさらにろ液をお
およそ1モルのHCl水溶液に入れ、酢酸エチルで抽出
する。乾燥後、有機相を濃縮し、得られた粗生成物をク
ロマトグラフィー(SiO2 ;ヘキサン:酢酸エチル=
19:1)により精製する。式:
【化41】 (化合物No.1)で表される生成物37.2g(93
%)が、無色の液体の形態で得られる。特性表示(I
R)および分析値は表1に示す。
【0131】実施例 2−16:化合物No.2ないし
16を調整するために、相当するω−(3−第三ブチル
−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)アルカノール
またはω−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシ
フェニル)アルカノールを実施例1aに記述した方法で
最初に合成する。このようにして得られた開始化合物
(式IVの化合物)を、次に相当する酸クロライドを使用
して、実施例1cに記述された方法に従って反応させ、
該最終生産物(式Iの化合物)を得る。純品におけるデ
ータおよび化合物の特性表示を表1および2に要約す
る。表中で、融点を示していない場合は、その化合物は
室温で液体である。
【0132】表1:化合物No.1−8に対する分析デ
ータおよびIRデータ 化合物のタイプ:
【化42】
【表1】
【0133】表2:化合物No.9−16に対する融
点、分析データおよびIRデータ 化合物のタイプ:
【化43】
【表2】
【0134】実施例 17:350mlスルホン化フラ
スコ中、アジピン酸ジクロライド13.6g(0.07
4mol)を10℃、窒素下で、トルエン200ml中
の実施例1aからの生成物33g(0.14mol)お
よびピリジン16.6g(0.21mol)の無色の溶
液に滴下して加える。次に、攪拌を継続しながら混合物
を室温になるまで放置しておく。2時間後、反応混合物
を塩酸水溶液中に注ぎ、酢酸エチルで抽出する。有機相
の乾燥および濃縮後、得られた粗生成物をクロマトグラ
フィー(SiO2 ;ヘキサン:酢酸エチル=19:1)
により精製する。融点50−52℃を持つ式:
【化44】 で表される生成物(化合物No.17)36g(88
%)が得られる。特性表示(IR)および分析値を表3
に挙げる。
【0135】実施例 18−22および24−34:
o.18ないし22および24ないし34の化合物を調
整するために、相当するω−(3−第三ブチル−5−メ
チル−4−ヒドロキシフェニル)アルカノールまたはω
−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)アルカノールを実施例1aに記述した方法で最初に
合成する。このようにして得られた開始化合物(式IVの
化合物)を、次に相当するジカルボン酸ジクロライドを
使用して、実施例1cに記述された方法に従って反応さ
せ、該最終生産物(式Iの化合物)を得る。得られた混
合物の純品におけるデータおよび化合物の特性表示を表
3、4および5に要約する。
【0136】実施例 23:750mlスルホン化フラ
スコ中で、イソフタル酸4.98g(30mmol)、
ジクロロヘキシルカーボジイミド14.4g(70mm
ol=2.3当量)およびジクロロメタン150mlを
20−25℃で窒素下で混合する。ジクロロメタン80
ml中の6−(3−第三ブチル−5−メチル−4−ヒド
ロキシフェニル)ヘキサノール(実施例1bからの生成
物)15.9g(60mmol=2当量)溶液およびジ
クロロメタン5ml中のジメチルアミノピリジン0.7
3g(6mmol)溶液を得られた白色懸濁物に加え
る。混合物を4時間還流する。次に20−25℃まで冷
却し、ろ過し、ろ液を蒸発させる。得られた粗生成物
(粘稠性油)をクロマトグラフィー(SiO2 ;ヘキサ
ン/酢酸エチル=19/1)により精製する。化合物N
o.23の11.3g(57%)が無色油の形態で得ら
れる。純品におけるデータおよび化合物の特性表示を表
3に挙げる。
【0137】表3:化合物No.17−23に対する融
点、分析データおよびIRデータ 化合物タイプ:
【化45】
【表3】
【0138】表4:化合物No.24−30に対する融
点、分析データおよびIRデータ 化合物タイプ:
【化46】
【表4】
【0139】表5:化合物No.31−34に対する融
点、分析データおよびIRデータ 化合物タイプ:
【化47】
【表5】
【0141】実施例 35:開始材料として実施例1b
からの生成物の代わりに6−(3,5−ジ−第三ブチル
−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサノールを使用するこ
とを除き実施例23を繰り返す。式:
【化48】 で表される生成物(化合物No.35)は1723cm
-1においてIRのカルボニル吸収バンドを持つ。
【0141】実施例 36:メチルトリメリテート7.
57g(30mmol)、実施例1bからの生成物33
g(117mmol)およびジブチル錫オキシド0.4
5g(1.8mmol)を精留塔に装着した丸底フラス
コ中で混合する。混合物を180℃に加熱し、メタノー
ルを留去する。2時間後上記混合物の圧力を533hP
a(=400mmHg)に減少させそして温度をさらに
4時間、180℃に保持する。過剰の6−(3−第三ブ
チル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサノ
ールを次に蒸留(150℃、4Pa)により除去し、得
られた粗生成物をクロマトグラフィー(SiO2 ;初め
にヘキサン、次にヘキサン/酢酸エチル=19/1)に
より精製する。次式:
【化49】 で表される生成物(化合物No.36)24.7g(8
7%)が得られる;IRのカルボニル吸収バンドは17
22cm-1
【0142】実施例 37:4−(3−第三ブチル−5
−メチル−4−ヒドロキシフェニル)ブタノール16.
5g(70mmol)、メチル10−ウンデセエート1
8.05g(91mmol)およびジブチル錫オキシド
80mg(1.4mmol)を精留塔に装着した丸底フ
ラスコに入れる。混合物を180℃に加熱し、メタノー
ルを留去する。2時間後、上記混合物の圧力を400m
mHgに減少させ、そして温度をさらに2時間、180
℃に保持する。過剰のメチル10−ウンデセエートを蒸
留により除去し、そして得られた粗生成物(褐色油)を
クロマトグラフィー(SiO2 :ヘキサン/酢酸エチル
9/1)で精製する。次式:
【化50】 で表される生成物23.15g(82%)が得られる。 分析データおよびIRデータ:表6参照
【0143】実施例 38−42:化合物38−42は
実施例1に記載の方法と同様に調整される。化合物38
−40の分析データおよびIRデータを表6に掲げ、化
合物40−41の相当するデータは表7に掲げる。
【0144】表6:化合物37−40に対する分析デー
タおよびIRデータ; 化合物タイプ:
【化51】
【表6】
【0145】表7:化合物41および42に対する分析
データおよびIRデータ; 化合物タイプ:
【化52】
【表7】
【0146】実施例 43−45:化合物43は実施例
1に記載の方法で調整され、化合物44は実施例37に
記載の方法で調整される。化合物45は実施例23に記
載の方法で調整される。化合物43−45の分析データ
およびIRデータを表6に掲げ、化合物40−41の相
当するデータは表8に掲げる。
【0147】表8:化合物43−45に対する分析デー
タおよびIRデータ; 化合物タイプ:
【化53】
【表8】
【0148】実施例 46: a)ジカルボン酸のメタノールとの混合物のエステル化 濃硫酸22ml/0.41molを10℃で、メタノー
ル450ml中のジカルボン酸混合物(BASF社製;
コハク酸25−35%、グルタル酸37−47%および
アジピン酸25−30%)52g(0.4mol)溶液
に滴下で添加する。得られた溶液を還流温度で3時間保
持する。20−25℃に冷却後、混合物を炭酸カリウム
55gで中和し、水に注ぎそして酢酸エチルで抽出す
る。溶媒の蒸発により青黄油の形態の所望のエステル混
合物を得る。 式:H3 C−OCO−(CH2 x −COO−CH3
表される化合物混合物のガスクロマトグラフィー分析
値: x=2 23mol% x=3 44mol% x=4 33mol%
【0149】b)化合物46の製造 4−(3−第三ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフ
ェニル)ブタノール30.7g(130mmol)、
(a)に記載したジエステル混合物8.01g(50m
mol)およびジブチル錫オキシド490mg(2mm
ol)を精留塔に装着した丸底フラスコに入れる。混合
物を180℃に熱し、メタノールを留去する。混合物を
180℃にさらに15時間保持する。20−25℃まで
冷却した後、精製混合物をクロマトグラフィー(SiO
2 ;ヘキサン/酢酸エチル 40:1→19:1→9:
1)により精製する。化合物No.46の17.1g
(60%)を黄色の油の形態で得る。 分析データおよびIRデータ:表9を参照
【0150】実施例 47−51:化合物47−48の
製造は実施例46に記載した方法に従って、相当するフ
ェノール性アルコールを使用して行われる。化合物4
9、50および51の製造のため、実施例46中に記載
された方法により、相当するメチルエステルを登録商標
ポリ−THF−ジプロピオン酸(Poly-THF-Dipropionic
acid)350〔製造会社:バイエル社, レーヴェルクー
ゼン(Bayer A.G.,Leverkusen)〕から合成する。このよ
うに得られた高分子量ジカルボン酸メチルエステルは次
に実施例46に記載した方法に従って、相当するフェノ
ール性アルコールを使用して反応させ最終生産物を得
る。化合物46−51の分析データおよびIRデータは
表9に示される。
【0151】表9:化合物46−51に対する分析デー
タおよびIRデータ; 化合物タイプ(ジエステル混合物およびオリゴマー):
【化54】
【表9】
【0152】実施例 52: a)ニトリロトリ酢酸メチルの製造 濃硫酸74.8ml(137.7g;1.4mol)を
メタノール200ml中のニトリロトリ酢酸100g
(0.52mol)に、約10℃において、滴下で添加
する。混合物を還流温度で22時間保持する。室温まで
冷却後、混合物を炭酸カリウム150gを注意して加
え、水に注ぎそして酢酸エチルで抽出する。減圧下にお
ける溶媒の蒸発および残渣の乾燥により無色の油の形態
でニトロトリ酢酸メチル57g(47%)が得られる。 IR(KBr結晶上のフィルム):カルボニル吸収バン
ド1751cm-1 分析値: 計算値 C 46.35% H 6.48% N 6.0% 実測値 C 46.47% H 6.53% N 6.14%
【0153】b)化合物52の製造 ニトリロトリ酢酸メチル1.76g(7.5mmo
l)、4−(3−第三ブチル−5−メチル−4−ヒドロ
キシフェニル)ブタノール7g(29.4mmol)お
よびジブチル錫オキシド25mg(0.45mmol)
を精留塔に装着した丸底フラスコに入れる。混合物を1
80℃に熱し、メタノールを留去する。3時間後、圧力
を400mmHgに減少させそして混合物を混合物を1
80℃にさらに2時間保持する。次に過剰の4−(3−
第三ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)ブ
タノールを蒸留(150℃/0.4Pa)により除去し
そして得られた粗生成物ををクロマトグラフィー(Si
2 ;ヘキサン/酢酸エチル 9:1→3:1)で精製
する。次式:
【化55】 で表される生成物5.6g(88%)が得られる。 分析データおよびIRデータ:表10を参照
【0154】実施例 53−55:化合物53−55は
実施例52に記載の方法により調整される。分析データ
およびIRデータを表10に要約する
【0155】表10: 化合物タイプ:
【化56】
【表10】
【0156】実施例 56−60:化合物56−60は
実施例36に記載の方法により調整される。分析データ
およびIRデータを表11に要約する
【0157】表11: 化合物タイプ:
【化57】
【表11】
【0158】実施例 61:4−(3,5−ジクロロヘ
キシル−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサノール 2,6−ジクロロヘキシルフェノール258g(1mo
l)および1,6−ヘキサンジオール591g(5mo
l)をスルホン化フラスコで溶融しそして水酸化カリウ
ム(0.64mol)36gとともに238℃で10時
間加熱する。混合物は次に80℃で2モルのHCl水溶
液を使用して僅かに酸性にする。相が分離し、無機相を
トルエンで洗浄しそして有機相をあつめてロータリーエ
バポレータで濃縮する。過剰の1,6−ヘキサンジオー
ルおよび反応してない2,6−ジシクロヘキシルフェノ
ールを蒸留により除去する。特定の沸点(80−110
℃)のベンジンからの残渣の結晶化により式:
【化58】 の生成物163g(45%)が得られる。 融点:96℃ 分析値:計算値 C 80.39% H 10.68% 実測値 C 78.62% H 10.62%
【0159】実施例 62:実施例1cに記載した方法
に従って、4−(3,5−ジククロロヘキシル−4−ヒ
ドロキシフェノール)ヘキサノール32.3g(90m
mol)をアジピン酸ジクロライド9.2g(50mm
ol)を使用して反応させて、次式:
【化59】 で表される生成物18.7g(47%)を得る。化合物
は粘稠性油の形態で得られる。 IR(KBr結晶上のフィルム):1736cm-1,1
717cm-1(C=O) 分析値: 計算値 C 77.76% H 10.29% 実測値 C 77.62% H 10.05%
【0160】使用実施例 実施例 63:ポリプロピレンの安定化 ステアリン酸カルシルム0.1%を含むポリプロピレン
粉末100部とジステアリルチオプロピオネート(DS
TDP)0.3%および表12に示した本発明の安定剤
0.1%とを混合し、混合物はブラベンダープラストグ
ラフ中で200℃で10分間混練する。ここで得られた
組成物を260℃の表面温度の成形機中でプレスして1
mmの厚さのプレートを得て、そこから幅1cmおよび
長さ10cmのストリップを打抜く。比較の目的で、別
の試料を安定剤なしで調整する。それぞれのプレートか
らの幾つかのこのようなストリップを空気循環炉中で1
35℃または149℃に加熱し、そして規則的な間隔で
観察する。これらのストリップの酸化的崩壊は初期の円
形黄変色により認められる。崩壊が起こるまでの日数に
よる時間が試料の安定剤に対する基準である。
【0161】表12:安定剤:DSTDP0.3%+本
発明による化合物0.1%の配合物を含む試料および安
定剤を含まない試料の崩壊が起こる前の時間(日数) 崩壊が起こる前の炉での老化日数 安定剤 於135℃ 於149℃ ─────────────────────────────────── 無 1 <1 DSTDP +化合物No. 8 126 50 DSTDP +化合物No. 13 115 40 DSTDP +化合物No. 17 156 65 DSTDP +化合物No. 20 162 60 DSTDP +化合物No. 21 175 38 DSTDP +化合物No. 22 247 57 DSTDP +化合物No. 23 245 85 DSTDP +化合物No. 24 140 43 DSTDP +化合物No. 25 121 24 DSTDP +化合物No. 26 151 33 DSTDP +化合物No. 28 147 47 DSTDP +化合物No. 29 145 49 DSTDP +化合物No. 30 194 50 DSTDP +化合物No. 35 148 50 DSTDP +化合物No. 36 190 71 DSTDP +化合物No. 52 158 55 DSTDP +化合物No. 53 158 48 DSTDP +化合物No. 54 161 55 DSTDP +化合物No. 55 150 43 DSTDP +化合物No. 56 170 52 DSTDP +化合物No. 57 193 70 DSTDP +化合物No. 58 173 52 DSTDP +化合物No. 59 163 63 DSTDP +化合物No. 60 159 48 ───────────────────────────────────
【0162】実施例63:アクリロニトリル−ブタジエ
ン−スチレンターポリマー(ABS)の安定化 表13に示した安定剤をヘキサンおよびイソプロパノー
ルの混合物40ml中に溶解する。溶液を激しく攪拌し
ながら水600ml中のABS100gの分散液に加
え、その後その溶液は約1分内にABSにより完全に吸
着される。安定剤を含むポリマー粉末を次にろ別してそ
して減圧下40℃で40時間乾燥する。比較の目的のた
め、続いて加工段階を安定剤の無い試料を使用しても行
う。顔料として二酸化チタン2%、および潤滑剤として
エチレン−ビス−ステアリン酸1%を乾燥粉末に添加す
る。混合物を次に4分以内に180℃において2本ロー
ル機で配合する。0.8mm厚のプレートを175℃で
ロールドシートからプレスし、45×17mm2 試験片
をこのプレートから打抜く。添加された安定剤の効力を
測定するため、180℃の空気循環炉中での加熱老化す
ることにより試験を行う。基準は45分の試験時間後の
着色の発達度である。色の強さはASTM D1925
−70(黄色度指数)により決定する。試験結果を表1
3に要約する。より高い数値がより強い黄変を示す。試
験は黄変が本発明による化合物により有効に抑制される
ことを示している。
【0163】表13:安定剤を含まない試料、ジラウリ
ルチオジプロピオネート(DLTDP)0.5%を含む
試料およびDLTDP0.5%+本発明により示された
化合物0.25%をも含む試料の45分オーブン老化後
の黄色度指数 安定剤 180℃ 45分後の黄色度指数 ─────────────────────────────────── 無 78 DLTDP 75 DLTDP +化合物No. 1 26 DLTDP +化合物No. 7 25 DLTDP +化合物No. 8 26 DLTDP +化合物No. 12 34 DLTDP +化合物No. 13 39 DLTDP +化合物No. 15 33 DLTDP +化合物No. 16 34 DLTDP +化合物No. 17 26 DLTDP +化合物No. 19 31 DLTDP +化合物No. 20 26 DLTDP +化合物No. 21 33 DLTDP +化合物No. 22 21 DLTDP +化合物No. 23 29 DLTDP +化合物No. 24 32 DLTDP +化合物No. 25 41 DLTDP +化合物No. 26 28 DLTDP +化合物No. 28 30 DLTDP +化合物No. 29 32 DLTDP +化合物No. 31 29 DLTDP +化合物No. 32 27 DLTDP +化合物No. 33 32 DLTDP +化合物No. 34 30 DLTDP +化合物No. 39 36 DLTDP +化合物No. 40 36 DLTDP +化合物No. 42 32 ───────────────────────────────────
【0164】実施例 64X−SBRラテックス(カ
ルボキシル化SBRラテックス)の安定化 表14に示した本発明による化合物0.25重量部をそ
れぞれの場合、少量のメタノールに溶解しさらにX−S
BRラテックス(スチレン−ブタジエンコポリマー)1
00重量部中で攪拌する。ラテックスの正確な規定量を
ペトリ皿に入れ、そして80℃で炉中で乾燥する。約
0.2mmの層厚を持つ透明なフィルムが得られる。比
較の目的で、安定剤を含まない試料を調整する。添加さ
れた安定剤の効力を測定するため、135℃の空気循環
炉中での加熱老化することにより試験を行う。表14に
示した間隔後の試料の変色はASTMD1925−70
(黄色度指数)により決定する。試験結果を表14に要
約する。より高い数値がより強い黄変を示す。試験は黄
変が本発明による化合物により有効に抑制されることを
示している。
【0165】 表14:135℃における以下に示した老化時間後の黄色度指数 老化時間(時間)後の黄色度指数 安定剤 4時間 12時間 24時間 40時間 ─────────────────────────────────── 無 92 * * * 化合物No.31 0.25% 46 52 64 75 化合物No.32 0.25% 40 46 58 69 ─────────────────────────────────── *測定できず(試料黒変)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C08F 20/30 MML 7242−4J C09K 15/06

Claims (21)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 式(I): 【化1】 (式中、nは4ないし8の範囲の整数を表し、mは1な
    いし4の範囲の整数を表し;m=1の場合、Aは未置換
    のまたは炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基によ
    り置換された炭素原子数1ないし25のアルキル基;ま
    たは炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基もしくは
    −S−、−O−および/または−NR2 −の基の1個以
    上で中断されている炭素原子数2ないし25のアルキル
    基を表し;あるいは;m=1の場合、Aは未置換のまた
    は炭素原子数1ないし12のアルキル基もしくは炭素原
    子数2ないし12のアルケニル基により置換された炭素
    原子数5ないし8のシクロアルキル基;未置換のまたは
    炭素原子数1ないし12のアルキル基もしくは炭素原子
    数2ないし12のアルケニル基により置換された炭素原
    子数6ないし8のシクロアルケニル基;未置換のまたは
    炭素原子数1ないし12のアルキル基もしくは炭素原子
    数2ないし12のアルケニル基により置換されたフェニ
    ル基;未置換のまたは炭素原子数1ないし12のアルキ
    ル基もしくは炭素原子数2ないし12のアルケニル基に
    より置換されたナフチル基;未置換のまたは炭素原子数
    1ないし12のアルキル基もしくは炭素原子数2ないし
    12のアルケニル基により置換されたビフェニル基;ま
    たは炭素原子数2ないし25のアルケニル基;炭素原子
    数6ないし10のビシクロアルケニル基;炭素原子数7
    ないし12のフェニルアルキル基;炭素原子数8ないし
    12のフェニルアルケニル基;炭素原子数11ないし1
    6のナフチルアルキル基;炭素原子数12ないし16の
    ナフチルアルケニル基;炭素原子数13ないし18のビ
    フェニルアルキル基;炭素原子数14ないし18のフェ
    ニルアルケニル基;または式II: 【化2】 で表される基を表し;m=2の場合、Aは直接結合;炭
    素原子数1ないし12のアルキレン基;炭素原子数2な
    いし12のアルケニレン基;未置換のまたは炭素原子数
    1ないし12のアルキル基もしくは炭素原子数2ないし
    12のアルケニル基により置換された炭素原子数5ない
    し8のシクロアルキレン基;未置換のまたは炭素原子数
    1ないし12のアルキル基もしくは炭素原子数2ないし
    12のアルケニル基により置換された炭素原子数6ない
    し8のシクロアルケニレン基;炭素原子数6ないし10
    のビシクロアルケニレン基;フェニレン基;ナフチレン
    基;水素原子もしくは置換基−R2 により窒素原子上で
    飽和されている、フラン環、チオフェン環またはピロー
    ル環からなる群からの二価の複素環基を表し;あるいは
    m=2の場合、Aは炭素原子数5ないし8のシクロアル
    キレン基またはフェニレン基または−S−、−O−もし
    くは−NR2 −の基の少なくとも1個により中断されて
    いる炭素原子数2ないし36のアルキレン基を表し;m
    =3の場合、Aは炭素原子数1ないし8のアルカントリ
    イル基;炭素原子数2ないし8のアルケントリイル基;
    ベンゼントリイル基;ナフタレントリイル基;式: 【化3】 で表される3価の基;または−S−、−O−もしくは−
    NR2 −の基の少なくとも1個により中断されている炭
    素原子数2ないし18のアルカントリイル基を表し;あ
    るいは;m=4である場合、Aは4個の自由原子価をも
    つベンゼン基、ナフチル基、テトラヒドロフリル基また
    はシクロヘキシル基を表し;R1 およびR1'は、互いに
    独立して炭素原子数1ないし24のアルキル基または炭
    素原子数5ないし8のシクロアルキル基を表し;R2
    Hまたは炭素原子数1ないし4のアルキル基を表し;R
    3 およびR4 は、互いに独立して、炭素原子数1ないし
    4のアルキル基を表し;ならびにR5 、R6 およびR7
    は、互いに独立して、炭素原子数1ないし3のアルキレ
    ン基を表す。)で表される化合物。
  2. 【請求項2】 R1'が第二もしくは第三炭素原子数3な
    いし24のアルキル基または炭素原子数5ないし8のシ
    クロアルキル基の意味を表し;およびR1 は炭素原子数
    1ないし10のアルキル基または炭素原子数5ないし8
    のシクロアルキル基の意味を表す請求項1に記載の式I
    で表される化合物。
  3. 【請求項3】 R1'は第三ブチル基の意味を表しおよび
    1 がメチル基の意味を表す請求項1に記載の式Iで表
    される化合物。
  4. 【請求項4】 式Ia: 【化4】 (式中、nは4ないし8の範囲の整数を表し、mは1な
    いし3の範囲の整数を表し;m=1の場合、Aは未置換
    のまたは炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基によ
    り置換された炭素原子数1ないし25のアルキル基;ま
    たは炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基もしくは
    −S−、−O−および/または−NR2 −の基の1個以
    上で中断されている炭素原子数2ないし25のアルキル
    基を表し;あるいは;m=1の場合、Aは未置換のまた
    は炭素原子数1ないし12のアルキル基もしくは炭素原
    子数2ないし12のアルケニル基により置換された炭素
    原子数5ないし8のシクロアルキル基;未置換のまたは
    炭素原子数1ないし12のアルキル基もしくは炭素原子
    数2ないし12のアルケニル基により置換された炭素原
    子数6ないし8のシクロアルケニル基;未置換のまたは
    炭素原子数1ないし12のアルキル基もしくは炭素原子
    数2ないし12のアルケニル基により置換されたフェニ
    ル基;未置換のまたは炭素原子数1ないし12のアルキ
    ル基もしくは炭素原子数2ないし12のアルケニル基に
    より置換されたナフチル基;未置換のまたは炭素原子数
    1ないし12のアルキル基もしくは炭素原子数2ないし
    12のアルケニル基により置換されたビフェニル基を表
    し;あるいはAは炭素原子数2ないし25のアルケニル
    基;炭素原子数6ないし10のビシクロアルケニル基;
    炭素原子数7ないし12のフェニルアルキル基;炭素原
    子数8ないし12のフェニルアルケニル基;炭素原子数
    11ないし16のナフチルアルキル基;炭素原子数12
    ないし16のナフチルアルケニル基;炭素原子数13な
    いし18のビフェニルアルキル基;炭素原子数14ない
    し18のビフェニルアルケニル基;または式II: 【化5】 で表される基を表し;m=2の場合、Aは直接結合;炭
    素原子数1ないし12のアルキレン基;炭素原子数2な
    いし12のアルケニレン基;未置換のまたは炭素原子数
    1ないし12のアルキル基もしくは炭素原子数2ないし
    12のアルケニル基により置換された炭素原子数5ない
    し8のシクロアルキレン基を表し;またはAは未置換の
    または炭素原子数1ないし12のアルキル基もしくは炭
    素原子数2ないし12のアルケニル基により置換された
    炭素原子数6ないし8のシクロアルケニレン基;または
    Aは炭素原子数6ないし10のビシクロアルケニレン
    基;フェニレン基;ナフチレン基;あるいは炭素原子数
    5ないし8のシクロアルキレン基またはフェニレン基ま
    たは−S−、−O−もしくは−NR2 −の基の少なくと
    も1個により中断されている炭素原子数2ないし18の
    アルキレン基を表し;m=3の場合、Aは炭素原子数1
    ないし8のアルカントリイル基;炭素原子数2ないし8
    のアルケントリイル基;ベンゼントリイル基;ナフタレ
    ントリイル基;式: 【化6】 で表される3価の基;または−S−、−O−もしくは−
    NR2 −の基の少なくとも1個により中断されている炭
    素原子数2ないし18のアルカントリイル基を表し;R
    1 はメチル基または第三ブチル基を表し;R2 はHまた
    は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表し、R3 およ
    びR4 は、互いに独立して炭素原子数1ないし4のアル
    キル基を表し、ならびにR5 、R6 およびR7 は、互い
    に独立して、炭素原子数1ないし3のアルキレン基を表
    す。)で表される化合物。
  5. 【請求項5】 m=1の場合、Aは未置換のまたは炭素
    原子数5ないし8のシクロアルキル基により置換された
    炭素原子数1ないし25のアルキル基;または炭素原子
    数5ないし8のシクロアルキル基もしくは−S−、−O
    −および/または−NR2 −の基の1個以上で中断され
    ている炭素原子数2ないし25のアルキル基を表し;あ
    るいは;m=1の場合、Aは未置換のまたは炭素原子数
    1ないし12のアルキル基により置換された炭素原子数
    5ないし8のシクロアルキル基;未置換のまたは炭素原
    子数1ないし12のアルキル基により置換された炭素原
    子数6ないし8のシクロアルケニル基;未置換のまたは
    炭素原子数1ないし12のアルキル基により置換された
    フェニル基;または炭素原子数2ないし25のアルケニ
    ル基;炭素原子数7ないし12のフェニルアルキル基;
    または式II: 【化7】 で表される基を表し;m=2の場合、Aは直接結合;炭
    素原子数1ないし12のアルキレン基;炭素原子数2な
    いし12のアルケニレン基;未置換のまたは炭素原子数
    1ないし12のアルキル基により置換された炭素原子数
    5ないし8のシクロアルキレン基;未置換のまたは炭素
    原子数1ないし12のアルキル基により置換された炭素
    原子数6ないし8のシクロアルケニレン基;フェニレン
    基;水素原子もしくは置換基−R2 により窒素原子上で
    飽和されている、フラン環、チオフェン環またはピロー
    ル環からなる群からの二価の複素環基を表し;あるいは
    m=2の場合、Aは炭素原子数5ないし8のシクロアル
    キレン基またはフェニレン基または−S−、−O−もし
    くは−NR2 −の基の少なくとも1個により中断されて
    いる炭素原子数2ないし18のアルキレン基を表し;m
    =3の場合、Aは炭素原子数1ないし8のアルカントリ
    イル基;炭素原子数2ないし8のアルケントリイル基;
    ベンゼントリイル基;式: 【化8】 で表される3価の基;または−S−、−O−もしくは−
    NR2 −の基の少なくとも1個により中断されている炭
    素原子数2ないし18のアルカントリイル基を表し;お
    よびm=4である場合、Aは4個の自由原子価をもつベ
    ンゼン基またはシクロヘキシル基を表す請求項1に記載
    の式Iで表される化合物。
  6. 【請求項6】 R1'が第三ブチル基またはシクロヘキシ
    ル基を表しおよびR1 がメチル基、第三ブチル基または
    シクロヘキシル基を表し;nは4ないし6の範囲の数値
    を表し;およびm=1の場合、Aは炭素原子数6ないし
    18のアルキル基または炭素原子数2ないし12のアル
    ケニル基を表し;m=2の場合、Aは直接結合;炭素原
    子数1ないし12のアルキレン基;フェニレン基;基 【化9】 ;または1ないし5個の酸素原子もしくは硫黄原子によ
    り中断された炭素原子数2ないし36のアルキレン基を
    表し;m=3の場合、Aはベンゼントリイル基または
    式: 【化10】 で表される三価の基を表し;ならびにm=4の場合、A
    は4個の自由原子価を持つベンゼン基を表す請求項1に
    記載の式Iで表される化合物。
  7. 【請求項7】 nが5ないし8の範囲の整数である請求
    項1に記載の式Iで表される化合物。
  8. 【請求項8】 nが6ないし8の範囲の整数である請求
    項1に記載の式Iで表される化合物。
  9. 【請求項9】 mが1または2である請求項1に記載の
    式Iで表される化合物。
  10. 【請求項10】 式: 【化11】 〔式中、Aは−(CH2 ) j −;−(CH2 ) k −S−
    (CH2 ) k −; 【化12】 または−(CH2 ) 2 −O−[(CH2 ) 2 −O−]j
    −(CH2 2 ;(基中、jは0または1ないし4の範
    囲の整数を表し;およびkは1ないし3の範囲の整数を
    表す。)を表す。〕で表される請求項9に記載の式Iの
    化合物。
  11. 【請求項11】 (a)ないし(l): a)6−(3−第三ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチ
    ルフェニル)ヘキシルステアレート; b)6−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフ
    ェニル)ヘキシルステアレート; c)ビス[6−(3−第三ブチル−4−ヒドロキシ−5
    −メチルフェニル)ヘキシル]サクシネート; d)ビス[6−(3−第三ブチル−4−ヒドロキシ−5
    −メチルフェニル)ヘキシル]アジペート; e)ビス[6−(3−第三ブチル−4−ヒドロキシ−5
    −メチルフェニル)ヘキシル]スベレート; f)ビス[6−(3−第三ブチル−4−ヒドロキシ−5
    −メチルフェニル)ヘキシル]イソフタレート; g)ビス[6−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロ
    キシフェニル)ヘキシル]イソフタレート; h)トリス[6−(3−第三ブチル−4−ヒドロキシ−
    5−メチルフェニル)ヘキシル]トリメリテート; j)トリス[6−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒド
    ロキシフェニル)ヘキシル]トリメリテート; k)トリス[6−(3−第三ブチル−4−ヒドロキシ−
    5−メチルフェニル)ヘキシル]トリメセート;および l)トリス[6−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒド
    ロキシフェニル)ヘキシル]トリメセート;である請求
    項1に記載の化合物の1つ。
  12. 【請求項12】 式III : 【化13】 〔式中、G1 およびG1'は、互いに独立して、炭素原子
    数1ないし24のアルキル基または炭素原子数5ないし
    8のシクロアルキル基(G1 に対しては第三ブチルの意
    味を除く。)を表し、およびnは4ないし8の整数を表
    す。〕で表される化合物。
  13. 【請求項13】 G1'は第三ブチルまたはシクロヘキシ
    ル基を表し、およびG1 はメチル基またはシクロヘキシ
    ル基を表す請求項12に記載の化合物。
  14. 【請求項14】 熱的、酸化的および/または化学線的
    崩壊を受けやすい有機材料および請求項1に記載の式I
    で表される化合物の少なくとも1つを含有する組成物。
  15. 【請求項15】 有機材料が合成有機ポリマーまたはそ
    のようなポリマーの混合物である請求項14に記載の組
    成物。
  16. 【請求項16】 合成有機ポリマーがポリオレフィンま
    たはスチレンコポリマーである請求項15に記載の組成
    物。
  17. 【請求項17】 有機材料を熱的、酸化的および/また
    は化学線的崩壊に対して安定化するために請求項1に記
    載の式Iで表される化合物を使用する方法。
  18. 【請求項18】 合成有機ポリマーにおける酸化防止剤
    としての式Iで表される化合物の請求項17に記載の使
    用方法。
  19. 【請求項19】 有機材料を熱的、酸化的および/また
    は化学線的崩壊に対して安定化する方法であって、請求
    項1に記載の式Iの化合物の少なくとも1個を該材料に
    添加することからなる方法。
  20. 【請求項20】 熱的、酸化的および/または化学線的
    崩壊を受けやすい有機材料および式IV 【化14】 (式中、nは4ないし8の範囲の整数を表し、ならびに
    1 およびR1'は、互いに独立して炭素原子数1ないし
    24のアルキル基または炭素原子数5ないし8のシクロ
    アルキル基を表す。)で表される化合物の少なくとも1
    つを含有する組成物。
  21. 【請求項21】 有機材料を熱的、酸化的および/また
    は化学線的崩壊に対して安定化するために、請求項20
    に記載の式IVの化合物を使用する方法。
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