JPH06400B2 - 化粧板の製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は転写シートによる転写模様を有する化粧板の製
造方法に関するもので、転写模様と化粧板用基材との間
の密着感度が大きく、しかも耐溶剤性，耐薬品性等に対
して優れた性質を有する転写模様を有する化粧板を、容
易且つ確実に得る方法を提供するものである。

近年、化粧板をはじめとする各種建材の製造において、
着色剤を使用した模様層を有する建材の製造方法とし
て、電離性放射線エネルギーを電離性放射線硬化性組成
物による塗料に照射することにより高品質の着色模様層
を得る方法が利用されている。かかる方法による着色模
様層を有する各種建材の具体的方法としては、合板，石
膏板，金属板等の基材に着色剤を含有する電離性放射線
硬化性組成物を直接塗布し、電離性放射線を照射して硬
化させる方法、基材に通常の塗料による印刷を直接施
し、この印刷面に電離性放射線硬化性組成物を塗布し、
これに電離性放射線を照射して硬化させる方法、基材に
化粧シートを貼り合わせてから化粧シート表面に電離性
放射線硬化性組成物を塗布し、これに電離性放射線を照
射して硬化させる方法、基材に電離性放射線硬化性組成
物を塗布した後に化粧シートを積層し、さらに化粧シー
ト表面に電離性放射線硬化性組成物を塗布し、これに電
離性放射線を照射して２層にわたる電離性放射線硬化性
組成物を硬化一体化させる方法等がある。しかしながら
前二者の基材に直接塗料を塗布して模様層を形成する方
法は、使用される基材の表面状態や形状等に限定される
もので、汎用性のある方法ではないし、また後二者の化
粧シートを利用する方法は、本来高品質の模様層を得る
のを目的とする電離性放射線の照射を使用する方法にお
いて、得られる硬化物質に物性低下があるばかりでな
く、化粧シートと電離性放射線硬化物質との間の密着不
良，化粧シート自体の層間剥離、電離性放射線硬化性組
成物の硬化不良等の欠点がある。

また、他方、着色剤を使用した模様層を有する各種建材
の製造方法として、転写シートよる転写模様の形成方法
があり、具体的には熱可塑性合成樹脂を介して行う所謂
ホツトスタンプまたはフイルム法によるポリエステル樹
脂化粧板等の製造において広範に利用されている方法が
あるが、かかる方法による模様層の形成は、転写シート
に形成されている模様層が通常のインキで構成されてい
る場合には、得られる転写模様における耐溶剤性や耐薬
品性等に欠点があり、転写模様の表面を改めて塗装処理
する必要がある。また、転写シートに形成されている模
様層が硬化型のインキで構成されている場合には、硬化
型インキとポリエステル樹脂との間の密着性に問題があ
り、いずれも簡便にして高品質の転写模様を得るという
点では満足され得るものではない。

これに対して本発明は、基体シートの片側表面に着色剤
を含有する電子線硬化性組成物による未硬化状態の模様
層、あるいは紫外線照射により指触乾燥状態に部分硬化
している模様層が設けられている転写シートの模様層面
と、化粧板用基材に塗布された未硬化の電子線硬化性組
成物よりなる塗布層面とが接当するようにして積層させ
た積層体に、該積層体の転写シート側から電子線を照射
することにより、転写シートと化粧板用基材とを硬化一
体化させ、しかる後に、前記硬化一体化している積層体
から転写シートにおける基体シートを引き剥がすことに
よつて化粧板を得ることからなる。そして、前記構成に
よる化粧板の製造方法を利用することにより、従来の転
写シートによる転写模様を有する化粧板の製造方法や電
離性放射線硬化性組成物による塗料に電離性放射線エネ
ルギーを照射し着色模様層を有する化粧板を製造する方
法では得ることのできなかつた高品質の着色模様層を有
する化粧板を、容易且つ確実に得る方法を提供し得たも
のである。

以下、本発明の化粧板の製造方法を図示実施例の工程図
に従つて説明する。

本発明の化粧板の製造方法においては、第１図にて符号
３で表示される転写シート、すなわち、基体シート１の
片側表面に、着色剤を含有する電離性放射線硬化性組成
物による未硬化状態の模様層あるいは指触乾燥状態に部
分硬化している模様層２、２、…が設けられている転写
シート３と、電離性放射線硬化性組成物による未硬化状
態の塗布層５を有する化粧板用基材とを、第２図に示さ
れるように、転写シート３の模様層２面と化粧板用基材
４の塗布層５面とが接当するようにして、かつ、前記模
様層２、２、…面と塗布層５面とが空気から遮断される
ようにして積層させた積層体６を得る。

次いで、前記工程で得られた転写シート３と化粧板用基
材４との積層体６に、該積層体６における転写シート３
側，すなわち第２図において矢印(A)側から電離性放射
線を照射し、転写シート３中における模様層２と化粧板
用基材４中における塗布層５とを硬化させ、第３図にお
いて符号２′で表示される模様層と符号５′で表示され
る塗布層とにすると同時に、転写シート３と化粧板用基
材４とを一体化し、引き続いて、第３図にされるよう
に、前記電離性放射線の照射で硬化一体化されている積
層体６′から、転写シート３を構成している基体シート
１のみを引き剥し、第４図に符号７で表示されるような
構造の化粧板を得るものである。

以上の説明から明らかな通り、本発明の化粧板の製造方
法においては、転写シート３における模様層２面、すな
わち、電離性放射線硬化性組成物による未硬化状態のあ
るいは指触乾燥状態に部分硬化している模様層２面と、
化粧板用基材４の片側表面層として形成されている電離
性放射線硬化性組成物による未硬化状態の塗布層５面と
を、これらの両面が接当するように、かつ、前記模様層
２面と塗布層５面とが空気から遮断されるようにして重
ね合わせ、これに電離性放射線を照射して模様層２と塗
布層５とを硬化させて模様層２′と塗布層５′とすると
同時に、転写シート３と化粧板用基材４とを一体化させ
ることからなる化粧板の製造方法である。特に、模様層
２が指触乾燥状態に部分硬化している転写シート３を利
用する場合には、転写シート３自体の取り扱いが容易
で、しかも、転写シート３の模様層２に起因する汚れ等
の問題の無い化粧板が得られる。

なお、本発明において、電離性放射線硬化性組成物によ
る未硬化状態のあるいは指触乾燥状態に部分硬化してい
る模様層２面と、化粧板用基材４の片側表面層として形
成されている電離性放射線硬化性組成物による未硬化状
態の塗布層５面とを、これらの両面が接当するように、
かつ、前記模様層２面と塗布層５面とが空気から遮断さ
れるようにして重ね合わせるには、模様層２を模様層
２′に、また、塗布層５を塗布層５′に硬化させる電離
性放射線の照射に先立つて、積層体６を該積層体６の転
写シート面から柔軟性ロールにて加圧処理し、転写シー
ト３と化粧板用基材４との間に介在している空気を除去
するようにすれば良い。

本発明の化粧板の製造方法において使用される転写シー
ト３は、基体シート１の片側表面に着色剤を含有する電
離性放射線硬化性組成物による任意の模様層２，２，…
が設けられているものであり、基体シート１としては転
写シートにおける基体シートとして公知のもの、例えば
各種の加工紙、合成樹脂製フイルムやシート，アルミニ
ウム箔等の金属箔，あるいはこれらのものの複合シート
等が使用される。特に基体シート１は最終製品たる化粧
板を得る債には積層体から引き剥され、基体シート１面
の艶が得られる化粧板７の表面の艶として具現されるた
め、目的とするため化粧板７の艶に合致する艶を有する
基体シート１が使用される。

転写シート３における任意の模様層２，２，…は、着色
剤を含有する電離性放射線硬化性組成物によつて形成さ
れるもので、着色剤と分子中にエチレン性不飽和結合を
有するプレポリマーあるいはオリゴマーまたは分子中に
エチレン性不飽和結合を有するモノマーあるいはこれら
の混合物とを主成分とする組成物が使用される。

前記電離性放射線硬化性組成物に使用される分子中にエ
チレン性不飽和結合を有するプレポリマーあるいはオリ
ゴマーとしては、例えば不飽和ポリエステル類，ポリエ
ステルアクリレート，エポキシアクリレート，ウレタン
アクリレート，ポリオールアクリレート，メラミンアク
リレートなどの各種アクリレート類，ポリエステルメタ
クリレート，エポキシメタクリレート，ウレタンメタク
リレート，ポリオールメタクリレート，ポリオールメタ
クリレート，メラミンメタクリレートなどの各種メタク
リレート類などであり、分子中にエチレン性不飽和結合
を有するモノマーとしては、例えば、スチレン，α−メ
チルスチレンなどのスチレン系モノマー，アクリル酸メ
チル，アクリル酸２−エチルヘキシル，アクリル酸メト
キシエチル，アクリル酸ブトキシエチル，アクリル酸ブ
チル，アクリル酸メトキシブチル，アクリル酸フエニル
などのアクリル酸エステル類，メタクリル酸メチル，メ
タクリル酸エチル，メタクリル酸プロピルなどのメタク
リル酸エステル類，アクリルアミド，メタクリルアミド
なの不飽和カルボン酸アミド，アクリル酸２−（Ｎ，Ｎ
−ジベンジルアミノ）エチル，メタクリル酸（Ｎ，Ｎ−
ジメチルアミノ）メチル，アクリル酸２−（Ｎ，Ｎ−ジ
エチルアミノ）プロピルなどの不飽和酸の置換アミノア
ルコールエステル類，エチレングリコールジアクリレー
ト，プロピレングリコールジアクリレート，ネオペンチ
ルグリコールジアクリレート，１，６−ヘキサンジオー
ルジ−クリレート，ジエチレングリコールジアクリレー
ト，トリエチレングリコールジアクリレート，ジプロピ
レングリコールジアクリレート，エチレングリコールジ
メタクリレート，プロピレングリコールジメタクリレー
ト，ジエチレングリコールジメタクリレートなどの多官
能性化合物、および／または分子中に２個以上のチオー
ル基を有するポリチオール化合物、たとえばトリメチロ
ールプロパントリチオグリコレート，トリメチロールプ
ロパンリチオプロピオネート，ペンタエリスリトールテ
トラチオグリコレートなどである。

また、前記電離性放射線硬化性組成物中に含有せしめ
られる着色剤としては、炭酸カルシウム，クレー，チタ
ン白，カーボシブラッフ，黄鉛，カドミイエロー，クロ
ムバ−ミリオン，カドミレッド，紺青，群青，酸化鉄，
アルミナホワイト等の無機系顔料や、アゾ系顔料，アゾ
レーキ糸顔料，フタロシアニン系顔料，スチレン系顔
料，キナクリドン系顔料等の有機系顔料が使用される。

前記転写シート３における模様層２を形成するための着
色剤を含有する電離性放射線硬化性組成物は、前記分子
中にエチレン性不飽和結合を有するプレポリマーあるい
はオリゴマー及びモノマー１００重量部に対して着色剤
たる顔料１〜２０重量部程度を含有するものが好まし
く、特に着色剤たる顔料が２０重量部を超えると、得ら
れる化粧板における模様層の耐溶剤性，耐薬品性が低下
するという弊害が生ずる。

更に、本発明の化粧板の製造方法において、転写紙３の
模様層２を部分硬化させる電離性放射線の照射方法とし
て特に紫外線の照射を利用する場合には、転写紙３の模
様層２を形成する電離性放射線硬化性組成物として、前
記分子中にエチレン性不飽和結合を有するプレポリマー
あるいはオリゴマー及びモノマー１００重量部に対して
５〜１０重量部程度の光重合開始剤、例えば、ベンゾイ
ンメチルエーテル，ベンゾインプロピルエーテル，ベン
ゾインｎ−ブチルエーテル，ベンゾインブチルエーテル
などの各種ベンゾインエーテル類をはじめ、ベンゾフエ
ノン類、ハロゲン化アセトフエノン類、ビアチル類など
の紫外線照射によつてラジカルを発生する光重合開始剤
と、転写紙３における模様層２が転写紙３と化粧板用基
材４との積層体６に電離性放射線を照射する以前に完全
に硬化してしまうのを防ぐために、１０重量部以下の重
合禁止安定剤、例えば、ハイドロキノン，ハイドロキノ
ンモノメチルエーテル，ベンゾキノンなどを混入してお
くのが好ましい。

尚、前記転写紙３における模様層２は、前述の電離性放
射線硬化性組成物を、グラビヤ印刷，オフセツト印刷，
スクリーン印刷等の各種印刷方法で基体シート１に印刷
することによつて容易に形成され得るものである。

次に、本発明の化粧板の製造方法において、前記転写シ
ート３と積層される電離性放射線硬化性組成物による塗
布層５を有する化粧板用基材４は、例えば合板，パーテ
イクルボード，フアイバーボードなどの木質系基材，珪
酸カルシウム板，石膏板，石綿スレート板，パルプセメ
ント板などの窯業系基材，亜鉛鉄板，アルミニウム板，
ステンレス板などの金属系基材，硬質塩化ビニル板，ア
クリル板などのプラスチツク系具材等からなる化粧板用
基材４に、前記転写シート３における模様層２を構成す
る電離性放射線硬化性組成物について説明したのと同様
に分子中にエチレン性不飽和結合を有するプレポリマー
あるいはオリゴマーまたは分子中にエチレン性不飽和結
合を有するモノマーを主成分とする組成物、あるいはこ
の組成物に着色剤を添加した組成物からなる電離性放射
線硬化性組成物を、例えばリバースロールコート，グラ
ビアロールコート，エアナイフコート，カーテンコー
ト，ミヤバーコート等のコーテイング法にて、一面に塗
布することによつて容易に得られるものである。

本発明の化粧板の製造方法は、以上の通りの構成からな
る転写シート３と塗布層５を有する化粧板用基材４と
を、転写シート３における模様層２面と化粧板用基材４
における塗布層５面とが接するようにして積層し、得ら
れた積層体６に、該積層体６における転写シート３側
(A)からＸ線，γ線，電子線，紫外線等の電離性放射線
を照射し、積層体６中における模様層２と塗布層５とを
完全に硬化させ、それぞれ模様層２′と塗布層５′とに
するものである。

積層体６に照射する電離性放射線の照射量は、転写シー
ト３における模様層２と化粧板用基材４における塗布層
５とを完全に硬化させるだけのエネルギーが必要であ
り、例えば電子線の照射の場合には１５０〜５００Kev
程度のエネルギーを有する電子線を５〜１５Ｍrad程度
の線量で照射するのが好ましい。

以下本発明の化粧板の製造方法の具体的な構成を実施例
を以つて説明する。

実施例 １ 厚さ２５μのポリエステルフイルム〔東レ（株）製：ル
ミラー〕よりなる基体シートの片側表面に、オリゴエス
テルアクリレート〔東亜合成（株）製：アロニックスＭ
８０３０〕５０重量部、１，６−ヘキサンジオールジア
クリレート４０重量部、顔料１０重量部からなるインキ
を使用してシルクスクリーン版にて印刷し、模様層を有
する転写シートを得た。

次いで、オリゴエステルアクリレート５０重量部、１、
６−ヘキサンジオールジアクリレート５０重量部からな
る塗料が１００ｇ／m²の割合に塗布されている塗布層を
有するガラス繊維強化石膏板からなる化粧板用基材の塗
布層面と、前記転写シートの模様層面とが接当するよう
に、かつ、化粧板用基材の塗布層面と転写シートの模様
層面とが空気から遮断されるようにして積層した積層体
を得た。

しかる後に、前記積層体に対して該積層体における転写
シート側から３００Kev，３０mAのスキヤニング方式の
電子線１０Ｍradを照射し、転写シートにおける模様層
と化粧板用基材における塗布層とを硬化させると共に転
写シートと化粧板用基材とを硬化一体化させ、引き続い
て転写シートにおける基体シートたるポリエステルフイ
ルムを前記積層体から引き剥し、目的製品たる石膏化粧
板を得た。

得られた石膏化粧板における着色模様層及び石膏化粧板
の表面は、耐溶剤性及び耐製品性に優れ、かつ表面硬度
の高いものであつた。

実施例 ２ 厚さ２５μのポリエステルフイルムよりなる基体シート
の片側表面に、オリゴエステルアクリレート４５重量
部、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート４０重量
部、顔料１０重量部、ベンゾフエノン４．５重量部、ハ
イドロキノン０．５重量部からなるインキを使用してシ
ルクスクリーン版にて印刷し、次いでこの印刷面に、８
０ｗ／cmのＵＶランプ〔ウシオ電機（株）製：ユニキユ
アシステム〕１灯による紫外線照射を施し、印刷による
模様層が指触乾燥状態に硬化されている（部分硬化され
ている）転写シートを得た。

しかる後に、前記転写シートと、実施例１で使用した塗
布層を有するガラス繊維強化石膏板からなる化粧板用基
材と同一構造の化粧板用基材とを、転写シートにおける
模様層面と化粧板用基材における塗布層面とが接当すよ
うに、かつ、転写シートの模様層面と化粧板用基材の塗
布層面とが空気から遮断されるようにして積層した積層
体に、該積層体における転写シート側から、前記実施例
１における電子線の照射と同一条件の電子線を照射し、
転写シートにおける模様層と化粧板用基材における塗布
層とを完全硬化させると共に、転写シートと化粧板用基
材とを硬化一体化させた。

次いで、前記積層体から転写シートにおける基体シート
たるポリエステルフイルムを引き剥し、目的製品たる石
膏化粧板を得た。

得られた石膏化粧板における着色層模様を含む表面は、
耐溶剤性及び耐薬品性に優れ、硬度の高いものであつ
た。

実施例 ３ 上質紙の片側表面に厚さ１５μのポリプロピレン樹脂層
がラミネートされている複合シートよりなる基体シート
のポリプロピレン樹脂層面に、エポキシアクリレート
〔昭和高分子（株）製：エポキシVR−６０〕６０重量
部、アクリル酸メトキシエチル２５重量部、ベンゾフエ
ノン４．５重量部、ハイドロキノン０．５重量部、顔料
１０重量部からなるインキを使用してオフセツト版によ
る多色印刷を行ない、次いでこの印刷面に前記実施例２
における転写シート製造の際の紫外線照射処理と同一条
件の紫外線照射を施し、多色印刷による模様層が指触乾
燥状態に部分硬化されている転写シートを得た。

しかる後に、前記転写シートと、実施例１で使用した塗
布層を有するガラス繊維強化石膏板からなる化粧板用基
材と同一構造の化粧板用基材とを、転写シートにおける
模様層面と化粧板用基材における塗布層面とが接当する
ように、かつ、転写シートの模様層面と化粧板用基材の
塗布層面とが空気から遮断されるようにして積層した積
層体に、該積層体における転写シート側から、前記実施
例１における電子線の照射と同一条件の電子線を照射
し、転写シートにおける模様層と化粧板用基材における
塗布層とを完全硬化させると共に、転写シートと化粧板
用基材とを硬化一体化させた。

次いで、前記積層体から転写シートにおける基体シート
たるポリエステルフイルムを引き剥し、目的製品たる石
膏化粧板を得た。

得られた石膏化粧板における着色模様層を含む表面は、
耐溶剤性及び耐薬品性に優れ、硬度の高いものであつ
た。

本発明の化粧板の製造方法は、以上の通りの構成からな
るものであり、転写シートに形成されている電離性放射
線硬化性組成物による未だ硬化が完了していない状態の
模様層と化粧板用基材の表面に形成されている電離性放
射線硬化性組成物による未だ硬化が完了していない状態
の塗布層とが接当するようにして、かつ、模様層面と塗
布層面とが空気から遮断されるようにして、転写シート
と化粧板用基材とを重ね合わせて積層し、これに電離性
放射線を照射してそれぞれを硬化させるものであるか
ら、転写シートにおける基体シートを引き剥した後に得
られる化粧板においては、化粧板用基材と転写された着
色剤を含有する模様層と化粧板用基材の表面層をなす塗
布層とが、酸素による硬化阻害の悪影響を受けることの
無い状態で電離性放射線によつて硬化されているため、
これらの両者の間の密着性が極めて良好で、しかも、化
粧板の表面層をなす前記硬化した塗布層と模様層との表
面硬度が極めて高く、耐溶剤性及び耐薬品性等において
極めて優れた作用を奏する高品質の化粧板が得られる。
このため、床材、壁材、天井材等をはじめとする各種用
途の建材用化粧板として優れた作用を呈する化粧板が的
確に得られる。

また、本発明の化粧板の製造方法においては、転写シー
トが具備する艶の状態が、化粧板の表面層の艶として安
定して再現されるため、転写シートにおける基体シート
を選択するだけで、目的とする艶の状態を的確に呈され
化粧板が得られる。

さらに、本発明の化粧板の製造方法においては、転写シ
ートの転写層たる模様層の転写工程と、化粧板用基材の
表面層となす塗布層の硬化と、前記転写シートの転写層
たる模様層の完全硬化とを一工程で完了させるものであ
ることから、極めて効率良く化粧板を製造し得る。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第４図は本発明の化粧板の製造方法例を工程に
従つて示した模型的断面図で、第１図は転写シートの断
面図、第２図は転写シートと化粧板用基材との積層体の
断面図、第３図は電離性放射線の照射後における積層体
から基体シートを剥離する様子を示す断面図、第４図は
以上の工程によつて得られた化粧板の断面図である。 １：基体シート、２：模様層、３：転写シート、４：化
粧板用基材、５：塗布層、６：転写シートと化粧板用基
材との積層体、７：化粧板、(A)：積層体６における転
写シート側、２′：電離性放射線の照射で硬化されてい
る模様層、５′：電離性放射線の照射で硬化されている
塗布層、６′：硬化一体化されている転写シートと化粧
板用基材との積層体。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基体シートの片側表面に着色剤を含有する
   電子線硬化性組成物よりなる未硬化状態の模様層、ある
   いは紫外線照射により指触乾燥状態に部分硬化している
   模様層が設けられている転写シートの模様層面と、化粧
   板用基材に塗布された未硬化の電子線硬化性組成物より
   なる塗布層面とが接当するようにして積層させた積層体
   に、該積層体の転写シート側から電子線を照射すること
   により、転写シートと化粧板用基材とを硬化一体化さ
   せ、しかる後に、前記硬化一体化している積層体から転
   写シートにおける基体シートを引き剥がすことを特徴と
   する化粧板の製造方法。
2. 【請求項２】特許請求の範囲第１項記載の化粧板の製造
   方法において、化粧板用基材と積層される転写シート
   が、基体シートの片側表面に着色剤、光重合開始剤、重
   合禁止安定剤を含有する電子線硬化性組成物による模様
   層が設けられたもので、かつ前記模様層が紫外線の照射
   により部分硬化されている転写シートである化粧板の製
   造方法。