JPH0639439B2 - ドリコ−ル類の製造方法 - Google Patents
ドリコ−ル類の製造方法Info
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- JPH0639439B2 JPH0639439B2 JP60198752A JP19875285A JPH0639439B2 JP H0639439 B2 JPH0639439 B2 JP H0639439B2 JP 60198752 A JP60198752 A JP 60198752A JP 19875285 A JP19875285 A JP 19875285A JP H0639439 B2 JPH0639439 B2 JP H0639439B2
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- compound
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ドリコール類の製造方法に関する。更に詳し
くは、立体的に特定の構造を有する天然型のドリコール
を、合成する方法に関する。
くは、立体的に特定の構造を有する天然型のドリコール
を、合成する方法に関する。
ドリコールは、酵母、哺乳類などに存在するポリプレノ
ールで、構造的には下記の構造式(1)を有し、 （式中ｎは９〜１９の整数を示す） その特徴とするところは、トランスイソプレン単位２個
とこれにシスイソプレン単位が連なり、更にアルコール
末端（α末端）イソプレン単位が飽和となつている。
ールで、構造的には下記の構造式(1)を有し、 （式中ｎは９〜１９の整数を示す） その特徴とするところは、トランスイソプレン単位２個
とこれにシスイソプレン単位が連なり、更にアルコール
末端（α末端）イソプレン単位が飽和となつている。
このドリコールは種々の天然ポリプレノールの中でも特
に注目されているもので、その詳細は必ずしも明らかで
ないが生体内の糖蛋白質の生合成において、糖のキヤリ
アとして働き、その能力は飽和末端を持たないポリプレ
ノールと比較して４〜５倍に達するといわれている。
に注目されているもので、その詳細は必ずしも明らかで
ないが生体内の糖蛋白質の生合成において、糖のキヤリ
アとして働き、その能力は飽和末端を持たないポリプレ
ノールと比較して４〜５倍に達するといわれている。
しかしながら、このドリコール類は、上述の如くシス型
イソプレン単位、トランス型イソプレン単位、飽和して
いるイソプレン単位が特定の配列となつているため、こ
れを合成的に得ることは従来困難であり、これを得よう
とすれば動植物から抽出、単離する方法しかなかつた。
しかるに天然から抽出、単離する方法は、資源的に限界
があり、最大生産には適さず工業的ではない。
イソプレン単位、トランス型イソプレン単位、飽和して
いるイソプレン単位が特定の配列となつているため、こ
れを合成的に得ることは従来困難であり、これを得よう
とすれば動植物から抽出、単離する方法しかなかつた。
しかるに天然から抽出、単離する方法は、資源的に限界
があり、最大生産には適さず工業的ではない。
このような状況において、本発明者等はヒトから得られ
るドリコールの主成分であるドリコール−１９〔式(I)
においてｎ＝１５〕を合成法により製造する方法につい
て長年にわたり鋭意検討してきた結果、ようやく本発明
を完成したものである。
るドリコールの主成分であるドリコール−１９〔式(I)
においてｎ＝１５〕を合成法により製造する方法につい
て長年にわたり鋭意検討してきた結果、ようやく本発明
を完成したものである。
すなわち、本発明を図示すれば次のとおりである。
出発物質である(II)のポリプレニルアルコール誘導体に
おいて、アルコール末端に隣接している１５個のイソプ
レン単位はいずれもシスイソプレン単位であり、更にこ
れに隣接している２個のイソプレン単位はトランスイソ
プレン単位である。
おいて、アルコール末端に隣接している１５個のイソプ
レン単位はいずれもシスイソプレン単位であり、更にこ
れに隣接している２個のイソプレン単位はトランスイソ
プレン単位である。
式(II)おいて、アリール基とは、例えばフエニル基、パ
ラ−トリル基、キシリル基、ナフチル基などをあげるこ
とができるが、パラ−トリル基、フエニル基が好まし
い。
ラ−トリル基、キシリル基、ナフチル基などをあげるこ
とができるが、パラ−トリル基、フエニル基が好まし
い。
Ｒは水酸基の保護基を意味するが、この代表例をあげる
と、メチル、エチル、プロピル、ブチルなどの低級アル
キル基、ベンジル、フエネチル、ベンツヒドリルなどの
アラルキル基、アセチル、プロピオニル、ブチロイル、
ピバロイルなどのアシル基、テトラヒドロピラニル基、
メトキシメチル基、メトキシエトキシメチル基などであ
る。
と、メチル、エチル、プロピル、ブチルなどの低級アル
キル基、ベンジル、フエネチル、ベンツヒドリルなどの
アラルキル基、アセチル、プロピオニル、ブチロイル、
ピバロイルなどのアシル基、テトラヒドロピラニル基、
メトキシメチル基、メトキシエトキシメチル基などであ
る。
本工程は、(II)のポリブレニルアルコール誘導体を接ス
ルホン化し、かつ水酸基の保護基を脱離する工程である
が、通常リチウム−低級アルキルアミンの存在下におこ
なう。低級アルキルアミンとして最も好ましいものはエ
チルアミンである。反応溶媒は、リチウム−低級アルキ
ルアミンの調製が、低級アルキルアミン自体を溶媒とし
ておこなわれるので特に用いなくてもよいが、エチルエ
ーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒を併
用してもよい。また反応温度は−３０℃以下、好ましく
は−６０〜−８０℃である。
ルホン化し、かつ水酸基の保護基を脱離する工程である
が、通常リチウム−低級アルキルアミンの存在下におこ
なう。低級アルキルアミンとして最も好ましいものはエ
チルアミンである。反応溶媒は、リチウム−低級アルキ
ルアミンの調製が、低級アルキルアミン自体を溶媒とし
ておこなわれるので特に用いなくてもよいが、エチルエ
ーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒を併
用してもよい。また反応温度は−３０℃以下、好ましく
は−６０〜−８０℃である。
本発明において出発物質として用いるポリプレニルアル
コール誘導体(II)は、次の工程で得られる。
コール誘導体(II)は、次の工程で得られる。
すなわち、イソプレン単位がトランス体２個及びシス体
１２個であるポリプレニルスルホン系化合物(III)に、
イソプレン単位３個がいずれもシス体であるポリプレノ
ール誘導体(IV)を反応せしめて得ることができる。この
反応は、テトラヒドロフランとヘキサメチルホスホリア
ミド（ＨＭＰＡ）との混合溶媒中、ｎ−ブチルリチウム
の存在下に反応させて得ることができる。
１２個であるポリプレニルスルホン系化合物(III)に、
イソプレン単位３個がいずれもシス体であるポリプレノ
ール誘導体(IV)を反応せしめて得ることができる。この
反応は、テトラヒドロフランとヘキサメチルホスホリア
ミド（ＨＭＰＡ）との混合溶媒中、ｎ−ブチルリチウム
の存在下に反応させて得ることができる。
また更に、この反応の出発物質であるポリプレニルスル
ホン系化合物(III)は以下に示す経路でウンデカプレノ
ールから製造することが可能である。
ホン系化合物(III)は以下に示す経路でウンデカプレノ
ールから製造することが可能である。
即ち、ウンデカプレノール(V)のアルコール部分をスル
ホンに変換し、これと２０炭素合成ブロツク(VI)をカツ
プリングさせ、リチウムで還元脱離を行ないアルコール
体(III′)を得、これを再びスルホンに変換してポリプ
レニルスルホン系化合物(III)を得た。
ホンに変換し、これと２０炭素合成ブロツク(VI)をカツ
プリングさせ、リチウムで還元脱離を行ないアルコール
体(III′)を得、これを再びスルホンに変換してポリプ
レニルスルホン系化合物(III)を得た。
一方、もう一つの出発物質であるポリプレノール誘導体
(IV)は本発明のドリコール−１９を製造する際に極めて
重要な化合物であるが、例えば次のような方法で製造す
ることが可能である。
(IV)は本発明のドリコール−１９を製造する際に極めて
重要な化合物であるが、例えば次のような方法で製造す
ることが可能である。
（上記の一連の式において、THPOはテトラドロピラニル
オキシ基を意味し、Ｘはハロゲン原子を意味し、また
Ｒ，Arは前記の意味を有する） すなわち、(VII)で表わされるイソプレン単位がいずれ
もシス体である炭素数１０のスルホンを、ｎ−ブチルリ
チウムでスルホンのα位をアニオンとした後、(VIII)で
表わされるイソプレン単位がシス体である炭素数１０の
シスイソプレノイドを反応させ、カツプリング体である
化合物(IX)で表わされる（Ｚ，Ｚ，Ｚ）−ポリプレニル
アリールスルホン系化合物を得る。この反応は、例えば
テトラヒドロフラン、ヘキサメチレンホスホリルアミド
（ＨＭＰＡ）の混合溶媒中、−５０〜−８０℃程度の低
温でおこなうことが好ましい。
オキシ基を意味し、Ｘはハロゲン原子を意味し、また
Ｒ，Arは前記の意味を有する） すなわち、(VII)で表わされるイソプレン単位がいずれ
もシス体である炭素数１０のスルホンを、ｎ−ブチルリ
チウムでスルホンのα位をアニオンとした後、(VIII)で
表わされるイソプレン単位がシス体である炭素数１０の
シスイソプレノイドを反応させ、カツプリング体である
化合物(IX)で表わされる（Ｚ，Ｚ，Ｚ）−ポリプレニル
アリールスルホン系化合物を得る。この反応は、例えば
テトラヒドロフラン、ヘキサメチレンホスホリルアミド
（ＨＭＰＡ）の混合溶媒中、−５０〜−８０℃程度の低
温でおこなうことが好ましい。
次いで得られたカツプリング体(IX)の水酸基の保護基を
脱離せしめて炭素数２０のシスイソプレノイド(IV′)と
する。水酸基の保護基を脱離するには、常法にしたがつ
て酸によつて脱離するが、好ましい例としては、メタノ
ール溶媒中ｐ−トルエンスルホン酸などをあげることが
できる。
脱離せしめて炭素数２０のシスイソプレノイド(IV′)と
する。水酸基の保護基を脱離するには、常法にしたがつ
て酸によつて脱離するが、好ましい例としては、メタノ
ール溶媒中ｐ−トルエンスルホン酸などをあげることが
できる。
次いで(IV′)を更に常法によりハロゲン化し、炭素数２
０のポリプレノール誘導体(IV)を得る。
０のポリプレノール誘導体(IV)を得る。
なお、ここで出発物質として用いる化合物(VII)は、例
えば次の方法で合成することができる。
えば次の方法で合成することができる。
上記の一連の式において、THPO,R,Arは前述の意味を有
する） すなわち、イソプレン単位がいずれもシス体である炭素
数１０個のイソプレノイド(X)の末端アルコールの保護
基を除去して、化合物(X′)とする。この際化合物(X)の
Ｒとしてはしばしばベンジル基が用いられる。この反応
は、Li/EtNH2など還元力の強い系で還元的脱離をおこな
うとベンジル基のみならず、テトラヒドロピラニル基も
脱離してネロールを得てしまう。好ましい方法としては
Na/liqNH3で−６５℃前後の温度で反応をすばやくおこ
なう。
する） すなわち、イソプレン単位がいずれもシス体である炭素
数１０個のイソプレノイド(X)の末端アルコールの保護
基を除去して、化合物(X′)とする。この際化合物(X)の
Ｒとしてはしばしばベンジル基が用いられる。この反応
は、Li/EtNH2など還元力の強い系で還元的脱離をおこな
うとベンジル基のみならず、テトラヒドロピラニル基も
脱離してネロールを得てしまう。好ましい方法としては
Na/liqNH3で−６５℃前後の温度で反応をすばやくおこ
なう。
得られたアルコール体(X′)は通常の方法を用いて、ク
ロル体などのハロゲン体とした後、アリールスルホン酸
ナトリウムを加えて反応せしめスルホン体(VII)を得る
ことが可能である。ハロゲン体を得る方法としては代表
的な方法として次の２つをあげることが可能である。
ロル体などのハロゲン体とした後、アリールスルホン酸
ナトリウムを加えて反応せしめスルホン体(VII)を得る
ことが可能である。ハロゲン体を得る方法としては代表
的な方法として次の２つをあげることが可能である。
（Ａ法）アルコール体と、Ｓ−コリジンの混合物に、塩
化リチウムのＤＭＦ溶媒を加え、これにメタンスルホニ
ルクロライドを加え０〜５℃で反応をおこなう方法。
化リチウムのＤＭＦ溶媒を加え、これにメタンスルホニ
ルクロライドを加え０〜５℃で反応をおこなう方法。
（Ｂ法）アルコール体のエーテル−ＨＭＰＡ溶液に、−
５０〜−６０℃でｎ−ブチルリチウムを加え、これに更
にｐ−トルエンスルホニルクロライドのエーテル溶液を
加え、次に塩化リチウムを加えて反応をおこなう方法。
又、もう一方の出発物質である化合物(VIII)は例えば次
の方法で合成することができる。
５０〜−６０℃でｎ−ブチルリチウムを加え、これに更
にｐ−トルエンスルホニルクロライドのエーテル溶液を
加え、次に塩化リチウムを加えて反応をおこなう方法。
又、もう一方の出発物質である化合物(VIII)は例えば次
の方法で合成することができる。
すなわち、テトラヒドロピラニルオキシアセトン(XI)
に、水酸基が保護された（４−メチル−６−アルコキシ
−ヘキサン）トリフエニルホスホニウムアイオダイド(X
II)をｎ−ブチルリチウムの存在下で反応せしめて、イ
ソプレン単位がシス体である化合物(XIII)を得、次い
で、テトラヒドロピラニルオキシ基を脱離せしめて化合
物(VIII′)とし、この水酸基をハロゲン化して化合物(V
III)とする。
に、水酸基が保護された（４−メチル−６−アルコキシ
−ヘキサン）トリフエニルホスホニウムアイオダイド(X
II)をｎ−ブチルリチウムの存在下で反応せしめて、イ
ソプレン単位がシス体である化合物(XIII)を得、次い
で、テトラヒドロピラニルオキシ基を脱離せしめて化合
物(VIII′)とし、この水酸基をハロゲン化して化合物(V
III)とする。
又、ホスホニウム塩(XII)は以下に示すように(S)−シト
ロネロール(XIV)を保護した後、末端エポキシドの過ヨ
ウ素酸での開裂を経由して得た。
ロネロール(XIV)を保護した後、末端エポキシドの過ヨ
ウ素酸での開裂を経由して得た。
〔実施例〕 次に本発明の実施例を示すが、本発明がこれらのみに限
定されることがないことはいうまでもない。
定されることがないことはいうまでもない。
実施例１ドリコール−１９の合成 〔１〕(2Z,6Z,10Z,14Z,18Z,22Z,26Z,30Z,34E,38E)−3,
7,11,15,19,23,27,31,35,39,43−ウンデカメチル−１−
（ｐ−トリルスルホニル）テトラテトラコンタ−2,6,1
0,14,18,22,26,30,34,38,42−ウンデカエン(2)（ウンデ
カプレニルｐ−トリルスルホン）の合成 窒素気流下にて、ウンデカプレノール(1)９９mg(0.129m
mol)、ｓ−コリジン0.05ｍ(0.4mmol)、塩化リチウム
１８mg(0.42mmol)をN,N−ジメチルホルムアミド(DMF)に
溶解し、０℃にて、メタンスルホニルクロリド0.02ｍ
を加え、０〜２℃で２時間攪拌した。反応液を氷水にあ
けてエーテル抽出し、抽出液を硝酸銅(II)水溶液、炭酸
水素ナトリウム水溶液、食塩水で順次洗滌し、乾燥後、
濃縮して、祖クロル体９５mgを得た。これをＤＭＦ３ｍ
に溶解し、ｐ−トルエンスルフイン酸ナトリウム５５
mg(0.257mmol)を加え、３５℃で１６時間攪拌した。反
応液を水にあけ、エーテル抽出し、抽出液を水洗、乾燥
後、濃縮し、シリカゲルカラムにより精製して目的物
(2)４１mgを得た（収率５３％）。
7,11,15,19,23,27,31,35,39,43−ウンデカメチル−１−
（ｐ−トリルスルホニル）テトラテトラコンタ−2,6,1
0,14,18,22,26,30,34,38,42−ウンデカエン(2)（ウンデ
カプレニルｐ−トリルスルホン）の合成 窒素気流下にて、ウンデカプレノール(1)９９mg(0.129m
mol)、ｓ−コリジン0.05ｍ(0.4mmol)、塩化リチウム
１８mg(0.42mmol)をN,N−ジメチルホルムアミド(DMF)に
溶解し、０℃にて、メタンスルホニルクロリド0.02ｍ
を加え、０〜２℃で２時間攪拌した。反応液を氷水にあ
けてエーテル抽出し、抽出液を硝酸銅(II)水溶液、炭酸
水素ナトリウム水溶液、食塩水で順次洗滌し、乾燥後、
濃縮して、祖クロル体９５mgを得た。これをＤＭＦ３ｍ
に溶解し、ｐ−トルエンスルフイン酸ナトリウム５５
mg(0.257mmol)を加え、３５℃で１６時間攪拌した。反
応液を水にあけ、エーテル抽出し、抽出液を水洗、乾燥
後、濃縮し、シリカゲルカラムにより精製して目的物
(2)４１mgを得た（収率５３％）。
IR(neat),cm-1：1660,1320,1155,840,740 NMR（ＣＣ４）δ：1.60(s,9H)，1,68(s,27H)，1.81
(s,4H)，1.98〜2.06(m,36H)，2.40(s,3H)，3.60(d,2H,J
＝7Hz)，5.06(m,11H)，7.17，7.58(ABq,4H,J＝8Hz) 〔２〕(2Z,6Z,10Z,14Z,18Z,22Z,26Z,30Z,34Z,38Z,42Z,4
6Z,50E,54E)−１−ベンジルオキシ−3,7,11,15,19,23,2
7,31,35,39,43,47,51,55,59−ペンタデカメチル−9,17
−ビス（ｐ−トリルスルホニル）ヘキサコンタ−2,6,1
0,14,18,22,26,30,34,38,42,46,50,54,58−ペンタデカ
エン(4)の合成 ウンデカプレニルｐ−トリルスルホン(2)８３mg(0.092m
mol)をテトラヒドロフラン(THF)−ヘキサメチルリン酸
トリアミド(HMPA)（４：１）２ｍに溶解し、−６５℃
にて、ｎ−ブチルリチウム（1.47Ｍヘキサン溶液）0.1
ｍ(0.147mmol)を加え、同温度で１時間攪拌した。ク
ロル体(3)５２mg(0.092mmol)を加え、更に１時間攪拌し
た後、−６０℃でメタノールを少量加えて反応を停止
し、反応液を０℃まで昇温し、水に注ぎ入れ、エーテル
抽出した。抽出液を水洗、乾燥後、濃縮して粗生成物を
得た。これをシリカゲルカラムにて精製し、目的物(4)1
00mgを得た（収率７６％）。
(s,4H)，1.98〜2.06(m,36H)，2.40(s,3H)，3.60(d,2H,J
＝7Hz)，5.06(m,11H)，7.17，7.58(ABq,4H,J＝8Hz) 〔２〕(2Z,6Z,10Z,14Z,18Z,22Z,26Z,30Z,34Z,38Z,42Z,4
6Z,50E,54E)−１−ベンジルオキシ−3,7,11,15,19,23,2
7,31,35,39,43,47,51,55,59−ペンタデカメチル−9,17
−ビス（ｐ−トリルスルホニル）ヘキサコンタ−2,6,1
0,14,18,22,26,30,34,38,42,46,50,54,58−ペンタデカ
エン(4)の合成 ウンデカプレニルｐ−トリルスルホン(2)８３mg(0.092m
mol)をテトラヒドロフラン(THF)−ヘキサメチルリン酸
トリアミド(HMPA)（４：１）２ｍに溶解し、−６５℃
にて、ｎ−ブチルリチウム（1.47Ｍヘキサン溶液）0.1
ｍ(0.147mmol)を加え、同温度で１時間攪拌した。ク
ロル体(3)５２mg(0.092mmol)を加え、更に１時間攪拌し
た後、−６０℃でメタノールを少量加えて反応を停止
し、反応液を０℃まで昇温し、水に注ぎ入れ、エーテル
抽出した。抽出液を水洗、乾燥後、濃縮して粗生成物を
得た。これをシリカゲルカラムにて精製し、目的物(4)1
00mgを得た（収率７６％）。
IR(neat)cm-1；1660,1315,1305,1290,1145,820,735 NMR（ＣＤＣ３）δ；1.61(s,15H)，1.67(s,41H)，2.0
3(bs,40H)，2.3〜2.8(m,4H)，2.41(s,6H)，3.6〜4.0(m,
2H)，400(d,2H,J＝7Hz），4.44(s,2H)，4.97(d,2H,J＝1
0Hz)，5.12(bs,12H)，5,45(t,1H,J＝7Hz)，7.29(s,2
H)，7.30，7.70(ABq,8H,J＝8Hz) 〔３〕(2Z,6Z,10Z,14Z,18Z,22Z,26Z,30Z,34Z,38Z,42Z,4
6Z,50E,54E)-3,7,11,15,19,23,27,31,35,39,43,47,51,5
5,59-ペンタデカメチルヘキサコンタ−2,6,10,14,18,2
2,26,30,34,38,42,46,50,54,58-ペンタデカエン−１−
オール(5)（ペンタデカプレノール）の合成 窒素気流下で、無水エチルアミン１０ｍをフラスコに
とり、−３０℃で、小片状のリチウム６６mgを加えて完
全に溶解させた。この溶液を−７８℃に冷却し、ジスル
ホン体(4)144mg(1.10mmol)をエーテル３ｍに溶解した
溶液をゆつくり滴下し、同温度で３０分間攪拌した。次
に反応液の濃青色が消失するまでイソプレンを加え、次
にメタノール１ｍを適下し、徐々に０℃まで昇温させ
た後、水約１０ｍを加え、エチルアミンを減圧留去
し、残留液をエーテル抽出した。抽出液を洗滌（水、次
に食塩水）、乾燥（MgSO4）し、濃縮して得られた油状
物をシリカゲル（５ｇ）を用いてカラムクロマトグラフ
イーにより精製し、ペンタデカプレノール(5)８３mg
（収率８０％）を得た。
3(bs,40H)，2.3〜2.8(m,4H)，2.41(s,6H)，3.6〜4.0(m,
2H)，400(d,2H,J＝7Hz），4.44(s,2H)，4.97(d,2H,J＝1
0Hz)，5.12(bs,12H)，5,45(t,1H,J＝7Hz)，7.29(s,2
H)，7.30，7.70(ABq,8H,J＝8Hz) 〔３〕(2Z,6Z,10Z,14Z,18Z,22Z,26Z,30Z,34Z,38Z,42Z,4
6Z,50E,54E)-3,7,11,15,19,23,27,31,35,39,43,47,51,5
5,59-ペンタデカメチルヘキサコンタ−2,6,10,14,18,2
2,26,30,34,38,42,46,50,54,58-ペンタデカエン−１−
オール(5)（ペンタデカプレノール）の合成 窒素気流下で、無水エチルアミン１０ｍをフラスコに
とり、−３０℃で、小片状のリチウム６６mgを加えて完
全に溶解させた。この溶液を−７８℃に冷却し、ジスル
ホン体(4)144mg(1.10mmol)をエーテル３ｍに溶解した
溶液をゆつくり滴下し、同温度で３０分間攪拌した。次
に反応液の濃青色が消失するまでイソプレンを加え、次
にメタノール１ｍを適下し、徐々に０℃まで昇温させ
た後、水約１０ｍを加え、エチルアミンを減圧留去
し、残留液をエーテル抽出した。抽出液を洗滌（水、次
に食塩水）、乾燥（MgSO4）し、濃縮して得られた油状
物をシリカゲル（５ｇ）を用いてカラムクロマトグラフ
イーにより精製し、ペンタデカプレノール(5)８３mg
（収率８０％）を得た。
IR(neat)cm-1；3300,1665,1000,835 NMR（ＣＤＣ３）δ；1.60(s,9H)，1.68(s,36H)，1.74
(s,3H)，2.10(m,56H)，4.08(d,2H,J＝7Hz)，5.10(bs,14
H)，5.44(t,1H,J＝7Hz) 〔４〕(2Z,6Z,10Z,14Z,18Z,22Z,26Z,30Z,34Z,38Z,42Z,4
6Z,50E,54E)-3,7,11,15,19,23,27,31,35,39,43,47,51,5
5,59-ペンタデカメチル−１−（ｐ−トリルスルホニ
ル）ヘキサコンタ−2,6,10,14,18,22,26,30,34,38,42,4
6,50,54,58−ペンタデカエン(6)（ペンタデカプレニル
ｐ−トリルスルホン）の合成 ペンタデカプレノール(5)104mg(0.10mmol)を通常の方法
でクロル化し、得られた粗生成物をエーテル２ｍに溶
解した溶液を、ｐ−トルエンスルフイン酸ナトリウム0.
18ｇ(1.0mmol)を溶解したＤＭＦ（５ｍ）溶液中へ６
０℃でゆつくり滴下し、同温度で１５時間攪拌した。冷
後、反応液を水にあけてエーテル抽出し、抽出液を水
洗、乾燥後、濃縮し、シリカゲルカラムにより精製して
目的物(6)７０mg（収率６０％）を得た。
(s,3H)，2.10(m,56H)，4.08(d,2H,J＝7Hz)，5.10(bs,14
H)，5.44(t,1H,J＝7Hz) 〔４〕(2Z,6Z,10Z,14Z,18Z,22Z,26Z,30Z,34Z,38Z,42Z,4
6Z,50E,54E)-3,7,11,15,19,23,27,31,35,39,43,47,51,5
5,59-ペンタデカメチル−１−（ｐ−トリルスルホニ
ル）ヘキサコンタ−2,6,10,14,18,22,26,30,34,38,42,4
6,50,54,58−ペンタデカエン(6)（ペンタデカプレニル
ｐ−トリルスルホン）の合成 ペンタデカプレノール(5)104mg(0.10mmol)を通常の方法
でクロル化し、得られた粗生成物をエーテル２ｍに溶
解した溶液を、ｐ−トルエンスルフイン酸ナトリウム0.
18ｇ(1.0mmol)を溶解したＤＭＦ（５ｍ）溶液中へ６
０℃でゆつくり滴下し、同温度で１５時間攪拌した。冷
後、反応液を水にあけてエーテル抽出し、抽出液を水
洗、乾燥後、濃縮し、シリカゲルカラムにより精製して
目的物(6)７０mg（収率６０％）を得た。
IR(neat),cm-1；1660,1320,1155,840,740 NMR（ＣＣ４）δ；1.60(s,9H)，1.68(s,39H)，1.81
(s,4H)，1.95〜2.06(m,52H)，2.40(s,3H)，3.60(d,2H,J
＝7Hz)，5.08(m,15H),7.18，7.60(ABq,4H,J＝8Hz) 〔５〕(6E,10E,14Z,18Z,22Z,26Z,30Z,34Z,38Z,42Z,46Z,
50Z,54Z,58Z,62Z,66Z,70Z)-76-ベンジルオキシ-2,6,10,
14,18,22,26,30,34,38,42,46,50,54,58,62,66,70,74−
ノナデカメチル−60,68-ビス（ｐ−トリルスルホニル）
ヘキサヘプタコンタ-2,6,10,14,18,22,26,30,34,38,42,
46,50,54,58,62,66,70−オクタデカエン(8)の合成 ペンタデカプレニルｐ−トリルスルホン(6)100mg(0.085
mmol)をＴＨＦ−ＨＭＰＡ（４：１）３ｍに溶解し、
−７０℃にて、ｎ−ブチルリチウム(1.4Ｍヘキサン溶
液）0.1m(0.14mmol)を加え、同温度で１時間攪拌し
た。クロル体(7)４０mg(0.07mmol)のTHF0.5ｍ溶液を
滴下し、更に１時間攪拌した後、−６０℃以下メタノー
ルを少量加えて反応を停止し、０℃まで昇温後、水に注
ぎ入れ、エーテル抽出した。抽出液を水洗、乾燥後、濃
縮して得られた粗生成物をシリカゲルカラムにて精製
し、目的物(8)８４mg（収率７２％）を得た。
(s,4H)，1.95〜2.06(m,52H)，2.40(s,3H)，3.60(d,2H,J
＝7Hz)，5.08(m,15H),7.18，7.60(ABq,4H,J＝8Hz) 〔５〕(6E,10E,14Z,18Z,22Z,26Z,30Z,34Z,38Z,42Z,46Z,
50Z,54Z,58Z,62Z,66Z,70Z)-76-ベンジルオキシ-2,6,10,
14,18,22,26,30,34,38,42,46,50,54,58,62,66,70,74−
ノナデカメチル−60,68-ビス（ｐ−トリルスルホニル）
ヘキサヘプタコンタ-2,6,10,14,18,22,26,30,34,38,42,
46,50,54,58,62,66,70−オクタデカエン(8)の合成 ペンタデカプレニルｐ−トリルスルホン(6)100mg(0.085
mmol)をＴＨＦ−ＨＭＰＡ（４：１）３ｍに溶解し、
−７０℃にて、ｎ−ブチルリチウム(1.4Ｍヘキサン溶
液）0.1m(0.14mmol)を加え、同温度で１時間攪拌し
た。クロル体(7)４０mg(0.07mmol)のTHF0.5ｍ溶液を
滴下し、更に１時間攪拌した後、−６０℃以下メタノー
ルを少量加えて反応を停止し、０℃まで昇温後、水に注
ぎ入れ、エーテル抽出した。抽出液を水洗、乾燥後、濃
縮して得られた粗生成物をシリカゲルカラムにて精製
し、目的物(8)８４mg（収率７２％）を得た。
IR(neat),cm-1；1660,1315,1300,1145,1090,820,735 NMR（ＣＤＣ３）δ；0.85(d,3H,J＝6Hz)，1.1〜1.8
(m,5H)，1.60(s,12H)，1.67(s,45H)，1.72(s,4H)，2.02
(m,60H)，2.0〜2.5(m,2H)，2.40(s,6H)，3.51(t,2H,J＝
7Hz)，3.6〜4.0(m,2H)，4.50(s,2H)，5.13(m,18H)，7.3
3(s,5H)，7.31，7.71(ABq,8H,J＝8Hz) 〔６〕(6Z,10Z,14Z,18Z,22Z,26Z,30Z,34Z,38Z,42Z,46Z,
50Z,54Z,58Z,62Z,66E,70E)-3,7,11,15,19,23,27,31,35,
39,43,47,51,55,59,63,67,71-ノナデカメチルヘキサヘ
プタコンタ-6,10,14,18,22,26,30,34,38,42,46,50,54,5
8,62,66,70,74-オクタデカエン−１−オール（ドリコー
ル−１９）(9)の合成 ペンタデカプレノール(5)の合成の場合と同様に、ジス
ルホン体(8)８６mg(0.05mmol)をリチウム３０mgを用い
て脱スルホン・脱ベンジル処理を行ない、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフイーによつて精製してドリコール−
１９３９mg（収率６０％）を得た。ＩＲおよびＮＭＲス
ペクトルのシグナルの位置はドリコール同族体混合物の
スペクトルとして文献に記載されているものと一致し
た。
(m,5H)，1.60(s,12H)，1.67(s,45H)，1.72(s,4H)，2.02
(m,60H)，2.0〜2.5(m,2H)，2.40(s,6H)，3.51(t,2H,J＝
7Hz)，3.6〜4.0(m,2H)，4.50(s,2H)，5.13(m,18H)，7.3
3(s,5H)，7.31，7.71(ABq,8H,J＝8Hz) 〔６〕(6Z,10Z,14Z,18Z,22Z,26Z,30Z,34Z,38Z,42Z,46Z,
50Z,54Z,58Z,62Z,66E,70E)-3,7,11,15,19,23,27,31,35,
39,43,47,51,55,59,63,67,71-ノナデカメチルヘキサヘ
プタコンタ-6,10,14,18,22,26,30,34,38,42,46,50,54,5
8,62,66,70,74-オクタデカエン−１−オール（ドリコー
ル−１９）(9)の合成 ペンタデカプレノール(5)の合成の場合と同様に、ジス
ルホン体(8)８６mg(0.05mmol)をリチウム３０mgを用い
て脱スルホン・脱ベンジル処理を行ない、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフイーによつて精製してドリコール−
１９３９mg（収率６０％）を得た。ＩＲおよびＮＭＲス
ペクトルのシグナルの位置はドリコール同族体混合物の
スペクトルとして文献に記載されているものと一致し
た。
IR(neat),cm-1；3300,2900,1660,1440,1370,1050,830 NMR（ＣＤＣ３）δ；0.89(d,3H,J＝6Hz)，1.1〜1.5
(m,5H)，1.59(s,9H)，1.67(s,48H)，2.03(bs,70H)，2.6
6(s,1H)，3.67(t,2H,J＝6Hz)，5.11(m,18H) 上記の実施例における合成経路をまとめて、以下に示
す。
(m,5H)，1.59(s,9H)，1.67(s,48H)，2.03(bs,70H)，2.6
6(s,1H)，3.67(t,2H,J＝6Hz)，5.11(m,18H) 上記の実施例における合成経路をまとめて、以下に示
す。
ドリコール−１９合成経路
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭59−152338（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−152339（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−158127（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−158128（ＪＰ，Ａ) 特開 昭54−30120（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−138702（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】一般式 （式中Arはアリール基を意味する） で表わされるポリプレニルスルホン系化合物と、一般式 （式中Ｘはハロゲン原子を意味し、Ｒは水酸基の保護基
を意味し、Arは前記の意味を有する） で表わされるポリプレノール誘導体とを、テトラヒドロ
フランとヘキサメチルホスホリルアミドとの混合溶媒
中、ｎ−ブチルリチウムの存在下に反応させて、一般式 （式中ArおよびＲは前記の意味を有する） で表わされるポリプレニルアルコール誘導体を得、次い
で該化合物にリチウム−低級アルキルアミンで脱スルホ
ン酸操作をおこない、かつ水酸基の保護基を除去するこ
とを特徴とする次の構造式 で表わされるドリコール−１９の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60198752A JPH0639439B2 (ja) | 1985-09-09 | 1985-09-09 | ドリコ−ル類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60198752A JPH0639439B2 (ja) | 1985-09-09 | 1985-09-09 | ドリコ−ル類の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6259233A JPS6259233A (ja) | 1987-03-14 |
| JPH0639439B2 true JPH0639439B2 (ja) | 1994-05-25 |
Family
ID=16396370
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60198752A Expired - Lifetime JPH0639439B2 (ja) | 1985-09-09 | 1985-09-09 | ドリコ−ル類の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0639439B2 (ja) |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS582206B2 (ja) * | 1977-08-11 | 1983-01-14 | 武田薬品工業株式会社 | 炭素−炭素結合方法 |
| JPS58138702A (ja) * | 1982-02-11 | 1983-08-17 | Kuraray Co Ltd | ポリプレニル化合物の製造方法 |
| JPS59152338A (ja) * | 1983-02-18 | 1984-08-31 | Eisai Co Ltd | （ｚ，ｚ，ｅ，ｅ）−ペンタプレノ−ルの製造方法 |
| JPS59152339A (ja) * | 1983-02-18 | 1984-08-31 | Eisai Co Ltd | （ｚ，ｚ，ｚ，ｚ，ｅ，ｅ）−ヘプタプレノ−ルの製造方法 |
| JPS60158127A (ja) * | 1984-01-30 | 1985-08-19 | Eisai Co Ltd | ベツラプレノ−ルの製造方法 |
| JPS60158128A (ja) * | 1984-01-30 | 1985-08-19 | Eisai Co Ltd | （ζ，ζ，ζ，ｅ，ｅ）−ヘキサプレノ−ルの製造方法 |
-
1985
- 1985-09-09 JP JP60198752A patent/JPH0639439B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6259233A (ja) | 1987-03-14 |
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