JPS60158127A - ベツラプレノ−ルの製造方法 - Google Patents
ベツラプレノ−ルの製造方法Info
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- JPS60158127A JPS60158127A JP59014962A JP1496284A JPS60158127A JP S60158127 A JPS60158127 A JP S60158127A JP 59014962 A JP59014962 A JP 59014962A JP 1496284 A JP1496284 A JP 1496284A JP S60158127 A JPS60158127 A JP S60158127A
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- Japan
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- formula
- compound
- protecting group
- cis
- betulaprenol
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は立体的に特定の構造を有するポリプｖ／−ル（
Ｄ一つである（Ｚ、Ｚ、Ｚ、Ｚ、Ｚ、Ｈ，Ｈ）−オクタ
プレノール（ベツラプレノール−８）または（Ｚ、Ｚ、
Ｚ、Ｚ、Ｚ、Ｚ、Ｉ！Ｉ、Ｆｉ）−ノナプレノール（ベ
ッラプレノール−９）の製造方法に関する。
Ｄ一つである（Ｚ、Ｚ、Ｚ、Ｚ、Ｚ、Ｈ，Ｈ）−オクタ
プレノール（ベツラプレノール−８）または（Ｚ、Ｚ、
Ｚ、Ｚ、Ｚ、Ｚ、Ｉ！Ｉ、Ｆｉ）−ノナプレノール（ベ
ッラプレノール−９）の製造方法に関する。
近年、種々のポリプレノールが動物、植物。
微生物から単離され、その後これらポリプレノールは多
糖類、ペプチドグリカン、糖蛋白質などの合成の中間体
として生体内で重要な働きをしていることが徐々に明ら
かとされてきており、医薬品１食品などとして利用でき
る可能性が大きい。
糖類、ペプチドグリカン、糖蛋白質などの合成の中間体
として生体内で重要な働きをしていることが徐々に明ら
かとされてきており、医薬品１食品などとして利用でき
る可能性が大きい。
しかしながら、これらポリプレノール類はイソプレン単
位で構成されているため、シス型イソプレン単位、トラ
ンス型イソプレン単位が存在し、天然型のものは、これ
らが特定の配列となっているため、これを合成的に得る
ことは従来困難とされておシ、これを得ようとすれば動
植物から抽出・単離する方法しかなかった。しかるに天
然から抽出・単離する方法は、資源的に限界があり、大
量生産には適さず、工業的な方法ではない。
位で構成されているため、シス型イソプレン単位、トラ
ンス型イソプレン単位が存在し、天然型のものは、これ
らが特定の配列となっているため、これを合成的に得る
ことは従来困難とされておシ、これを得ようとすれば動
植物から抽出・単離する方法しかなかった。しかるに天
然から抽出・単離する方法は、資源的に限界があり、大
量生産には適さず、工業的な方法ではない。
本発明のベツラプレノール−８またはベツラプレノール
−９も次のような構造式 を有しているが、トランスイソプレン単位２個と、アル
コール末端にシスイソプレン単位５個または６個を有し
ている。
−９も次のような構造式 を有しているが、トランスイソプレン単位２個と、アル
コール末端にシスイソプレン単位５個または６個を有し
ている。
このため、このようなポリプレノールを合成的に製造す
ることは従来困難とされてきた。
ることは従来困難とされてきた。
そこで、本発明者等は、天然に存在するベツラプレノー
ル−８またはペツラプレノール−９と同じ立体配位を有
する化合物を合成的に得るため、長年に亘って鋭意研究
を重ねてきたが、その結果、本発明を完成したものであ
る。
ル−８またはペツラプレノール−９と同じ立体配位を有
する化合物を合成的に得るため、長年に亘って鋭意研究
を重ねてきたが、その結果、本発明を完成したものであ
る。
即ち、本発明の合成方法を図示すれば次の通りである。
（式中Ｒは水酸基の保護基を意味し、Ａｒはアリール基
を意味し、ｎは２または３の整数を意味（式中ｍは５ま
たは６の整数を意味する）出発物質である（２）のポリ
プレニルアリールスルホン系化合物において、アルコー
ル末端に隣接している５個または６個のイソプレン単位
はいずれもシスイソプレン単位であり、更にこれに隣接
している２個のイソプレン単位はトランスイソプレン単
位であり、結局（Ｚ、Ｚ、Ｚ、Ｚ、Ｚ、ＬＥ）型若しく
は（Ｚ、Ｚ、Ｚ、Ｚ、Ｚ、Ｚ、に、Ｒ１）型のものであ
る。
を意味し、ｎは２または３の整数を意味（式中ｍは５ま
たは６の整数を意味する）出発物質である（２）のポリ
プレニルアリールスルホン系化合物において、アルコー
ル末端に隣接している５個または６個のイソプレン単位
はいずれもシスイソプレン単位であり、更にこれに隣接
している２個のイソプレン単位はトランスイソプレン単
位であり、結局（Ｚ、Ｚ、Ｚ、Ｚ、Ｚ、ＬＥ）型若しく
は（Ｚ、Ｚ、Ｚ、Ｚ、Ｚ、Ｚ、に、Ｒ１）型のものであ
る。
式（Ｊｍにおいて、アリール基とは、例えばフェニル基
２パラ−トリル基、キシリル基、ナフチル基などを挙げ
ることができるが、これらのうちパラ−トリル基、フェ
ニルが好ましい。
２パラ−トリル基、キシリル基、ナフチル基などを挙げ
ることができるが、これらのうちパラ−トリル基、フェ
ニルが好ましい。
Ｒは水酸基の保護基を意味するが、この代表例を挙げる
と、メチル、エチル、プロピル、ブチルなどの低級アル
キル基、ベンジル、フェネチル、ペンツヒドリル基など
のアラルキル基。
と、メチル、エチル、プロピル、ブチルなどの低級アル
キル基、ベンジル、フェネチル、ペンツヒドリル基など
のアラルキル基。
アセチル、プロピオニル、ブチロイル、ピバロイルなど
のアシル基、テトラヒドロピラニル基。
のアシル基、テトラヒドロピラニル基。
メトキシメチル基、メトキシエトキシメチル基などであ
る。
る。
本工程は、缶）のポリプレニルアリールスルホン系化合
物を脱スルホン化し、かつ水酸基の保護基を脱離する工
程であるが、通常リチウム−低級アルキルアミンの存在
下に行なう。低級アルキルアミンとして最も好ましいも
のはエチルアミンである。反応溶媒は、リチウム−低級
アルキルアミンの調製が、低級アルキルアミン自体を溶
媒として行なわれるので特に用いなくてもよいが、エチ
ルエーテル、テトラハイドロフランなどのエーテル系溶
媒を併用してもよい。
物を脱スルホン化し、かつ水酸基の保護基を脱離する工
程であるが、通常リチウム−低級アルキルアミンの存在
下に行なう。低級アルキルアミンとして最も好ましいも
のはエチルアミンである。反応溶媒は、リチウム−低級
アルキルアミンの調製が、低級アルキルアミン自体を溶
媒として行なわれるので特に用いなくてもよいが、エチ
ルエーテル、テトラハイドロフランなどのエーテル系溶
媒を併用してもよい。
また反応温度は、−３０℃以下、好ましくは−６０〜−
８０℃である。
８０℃である。
この工程によって、天然型のベッラプレノールが合成で
きる。即ち、式（ロ）および幌において、ｎ＝２１７）
ときはｍ＝５となり（Ｚ、Ｚ、Ｚ、Ｚ、Ｚ、Ｂ、Ｈ）−
オクタプレノール即ちベッラプレノール−８（±）が合
成でき、ｎ＝３のときはｍ＝＝６となり（Ｚ、Ｚ、Ｚ、
Ｚ、Ｚ、Ｚ、１１！、Ｅ）−ノナプレノール即ちベツラ
プレノールー９位）が合成できる。
きる。即ち、式（ロ）および幌において、ｎ＝２１７）
ときはｍ＝５となり（Ｚ、Ｚ、Ｚ、Ｚ、Ｚ、Ｂ、Ｈ）−
オクタプレノール即ちベッラプレノール−８（±）が合
成でき、ｎ＝３のときはｍ＝＝６となり（Ｚ、Ｚ、Ｚ、
Ｚ、Ｚ、Ｚ、１１！、Ｅ）−ノナプレノール即ちベツラ
プレノールー９位）が合成できる。
本発明において出発物質として用いるポリプレニルアリ
ールスルホン系化合物に）は例えば次の工程で得られる
。
ールスルホン系化合物に）は例えば次の工程で得られる
。
（式中又はハロゲンを意味し、Ｒは水酸基の保護基を意
味し、ｎは２または３の整数を意味する） （至） 即ち、（Ｚ、Ｚ、Ｚ、ＩＣＩ）型スルホン体厚）にイソ
プレン単位２個または３個の何れもがシス体である０、
。まだはＯＬ５のシス型イソプレノイド（ロ）を反応せ
しめて得ることができる。この反応は例えばテトラヒド
ロフラン（ＴＨＦ）、ヘキサメチルホスホリルアミド（
ＨＭＰＡ）混合溶媒中、ｎ−プチルリチウムの存在下に
反応させて化合物（ロ）を得ることができる。
味し、ｎは２または３の整数を意味する） （至） 即ち、（Ｚ、Ｚ、Ｚ、ＩＣＩ）型スルホン体厚）にイソ
プレン単位２個または３個の何れもがシス体である０、
。まだはＯＬ５のシス型イソプレノイド（ロ）を反応せ
しめて得ることができる。この反応は例えばテトラヒド
ロフラン（ＴＨＦ）、ヘキサメチルホスホリルアミド（
ＨＭＰＡ）混合溶媒中、ｎ−プチルリチウムの存在下に
反応させて化合物（ロ）を得ることができる。
また更にこの反応の出発物質である化合物（７）即ち（
ｚ、ｚ、ｚ、ｘ、ｍ）型スルホン体は、例えば次の方法
によって得ることが可能である。
ｚ、ｚ、ｚ、ｘ、ｍ）型スルホン体は、例えば次の方法
によって得ることが可能である。
（式中Ｈａｌはハロゲンを意味する）
ｌＡｒ−８ｏ２Ｈａ
即ち、（Ｚ、Ｚ、Ｚ、Ｅ、Ｂ）−ヘキテプレノール即ち
ベツラプレノールー６を常法によジハロゲン化せしめて
、化合物（ｖｍ）とし、これ妬アリールスルホン酸ナト
リウムを反応させて化合物付）とする。このベツラプレ
ノール−６は例えば次の方法によって得られる。
ベツラプレノールー６を常法によジハロゲン化せしめて
、化合物（ｖｍ）とし、これ妬アリールスルホン酸ナト
リウムを反応させて化合物付）とする。このベツラプレ
ノール−６は例えば次の方法によって得られる。
−（Ｘ）
（式中又はハロゲン、Ｒは水酸基の保護基を意”ｂ＞
１ 即ち、（ｍ、ｍ）−ファルネソールから製造されり（Ｌ
Ｐ）−ファルネシルアリールスルホン（ＩＸ’）に、（
Ｚ、Ｚ、Ｚ）型の０１．インプレノイドを、例えばｎ−
ブチルリチウムの存在下に反応せしめて化合物（ＸＩ）
とし、これを脱スルホンと水酸基の保護基の除去を同時
に行ないペツラブレノール−６（■）を得ることができ
る。
１ 即ち、（ｍ、ｍ）−ファルネソールから製造されり（Ｌ
Ｐ）−ファルネシルアリールスルホン（ＩＸ’）に、（
Ｚ、Ｚ、Ｚ）型の０１．インプレノイドを、例えばｎ−
ブチルリチウムの存在下に反応せしめて化合物（ＸＩ）
とし、これを脱スルホンと水酸基の保護基の除去を同時
に行ないペツラブレノール−６（■）を得ることができ
る。
一方、もう一つの出発物質である化合物（ＶＩ）即ち０
□。またはＣ１５のシス型インプレノイドは本発明の目
的物質を得るために極めて重要な化合物であるが、例え
ば次のような方法で製造することができる。
□。またはＣ１５のシス型インプレノイドは本発明の目
的物質を得るために極めて重要な化合物であるが、例え
ば次のような方法で製造することができる。
（式中ＴＨＰＯはテトラヒドロピラニルオキシ基を示す
） ＋ （式中Ｒは水酸基の保護基を意味し、ｐｈはフェニル基
を意味し、ｋは１ｔたは２の整数を意味する） （式中ｎは２まだは３の整数を意味する）■ （式中Ｘおよびｎは前記の意味を有する）即ち、テトラ
ピラニルオキシアセトン（Ｘｌ［） Ｋ、例えばベンジ
ル基などで水酸基を保護した（Ｚ） −（４−メチル−
４−ヘキセン−１−イル）トリフェニルホスホニウムア
イオダイド（ｋ＝１）または（Ｚ、Ｚ） −（４，８−
ジメチル−４，８−デカジエン−１−イル）トリフェニ
ルホスホニウムアイオダイド（ｋ＝２ ）を、例えばｎ
−ブチルリチウムの存在下で反応せしめて、イソプレン
単位２個若しくは３個が伺れもシス体である化合物（Ｘ
ＩＶ）を得、次いでテトラヒドロピラニルオキシ基を脱
離せしめて化合物（ＸＶ）とし、次いでこの化合物（Ｘ
Ｖ）の水酸基を・・ロゲン化して化合物（Ｖｌ）で表わ
される０、。−シス型インプレノイドまたはＣ１，−シ
ス型インプレノイド（Ｖｌ）を得る。
） ＋ （式中Ｒは水酸基の保護基を意味し、ｐｈはフェニル基
を意味し、ｋは１ｔたは２の整数を意味する） （式中ｎは２まだは３の整数を意味する）■ （式中Ｘおよびｎは前記の意味を有する）即ち、テトラ
ピラニルオキシアセトン（Ｘｌ［） Ｋ、例えばベンジ
ル基などで水酸基を保護した（Ｚ） −（４−メチル−
４−ヘキセン−１−イル）トリフェニルホスホニウムア
イオダイド（ｋ＝１）または（Ｚ、Ｚ） −（４，８−
ジメチル−４，８−デカジエン−１−イル）トリフェニ
ルホスホニウムアイオダイド（ｋ＝２ ）を、例えばｎ
−ブチルリチウムの存在下で反応せしめて、イソプレン
単位２個若しくは３個が伺れもシス体である化合物（Ｘ
ＩＶ）を得、次いでテトラヒドロピラニルオキシ基を脱
離せしめて化合物（ＸＶ）とし、次いでこの化合物（Ｘ
Ｖ）の水酸基を・・ロゲン化して化合物（Ｖｌ）で表わ
される０、。−シス型インプレノイドまたはＣ１，−シ
ス型インプレノイド（Ｖｌ）を得る。
この際１８合物（ｙｔｙ）および化合物（ＸＶ）はイソ
プレン単位がいずれもシス型であり、新規化合物で実施
例１ （２Ｚ、６Ｚ、１０ｚ、１４Ｚ、１８Ｚ、２２Ｚ、２６
Ｆｌ、！１０Ｂ）−ノナプレノール〔ベツラプレノール
−９〕の合成（１） （２Ｚ、６Ｚ、１０Ｚ、１４１１
１．１８Ｆり −ヘキサプレニルｐ−トリルスルホン （２Ｚ、６Ｚ、１０Ｚ、１４１！！、１８Ｂ） −ヘキ
サプレノール（ペツラプレノール−６） ８００ ｍ９
（１，８８ｍｍｏｔ）と、Ｓ−コリジン６Ｂ０１１９
（５，６ｍｍｏｔ）の混合物の中に、塩化リチウム４０
０■（９，４ｍｍｏｔ）のＤＭＦ（１５ｍ））溶液を加
え、０℃に゛冷却する。これにメタンスルホニルクロラ
イド０．４５＋ａ／ （５，６ｍｍｏｔ）を加え、更に
同温度で２時間攪拌した。反応液を氷水４０ｘｅ中に注
ぎ、抽出（エーテル：ヘキサン＝１：１）、洗浄（飽和
０ｕＮＯ５および飽和食塩水）、乾燥後濃縮し、粗クロ
ライドを得た。これをＤＭＦ ２０ＷＬｌに溶解し、ｐ
−トルエンスルフィン酸ナトリウム・２水塩２．Ｏｆ
（９，４ｍｍｏｔ）を加え、室温にて２３時間攪拌した
。水４０ｔｘｅで希釈し、エーテル：ヘキサン＝１：１
で抽出、洗浄（飽和食塩水）、乾燥（ｘａ２ｓｏ、）後
、溶媒を留去し、粗生成物１．０２４ Ｆを得た。これ
をシリカゲル（４５２）カラムクロマトグラフィーに付
し、２０チエＰＥ／ヘキサンにより展開し、下記の構造
式を有する標題化合物８２２１”Ｐ Ｃ収率７８％）を
得た。
プレン単位がいずれもシス型であり、新規化合物で実施
例１ （２Ｚ、６Ｚ、１０ｚ、１４Ｚ、１８Ｚ、２２Ｚ、２６
Ｆｌ、！１０Ｂ）−ノナプレノール〔ベツラプレノール
−９〕の合成（１） （２Ｚ、６Ｚ、１０Ｚ、１４１１
１．１８Ｆり −ヘキサプレニルｐ−トリルスルホン （２Ｚ、６Ｚ、１０Ｚ、１４１！！、１８Ｂ） −ヘキ
サプレノール（ペツラプレノール−６） ８００ ｍ９
（１，８８ｍｍｏｔ）と、Ｓ−コリジン６Ｂ０１１９
（５，６ｍｍｏｔ）の混合物の中に、塩化リチウム４０
０■（９，４ｍｍｏｔ）のＤＭＦ（１５ｍ））溶液を加
え、０℃に゛冷却する。これにメタンスルホニルクロラ
イド０．４５＋ａ／ （５，６ｍｍｏｔ）を加え、更に
同温度で２時間攪拌した。反応液を氷水４０ｘｅ中に注
ぎ、抽出（エーテル：ヘキサン＝１：１）、洗浄（飽和
０ｕＮＯ５および飽和食塩水）、乾燥後濃縮し、粗クロ
ライドを得た。これをＤＭＦ ２０ＷＬｌに溶解し、ｐ
−トルエンスルフィン酸ナトリウム・２水塩２．Ｏｆ
（９，４ｍｍｏｔ）を加え、室温にて２３時間攪拌した
。水４０ｔｘｅで希釈し、エーテル：ヘキサン＝１：１
で抽出、洗浄（飽和食塩水）、乾燥（ｘａ２ｓｏ、）後
、溶媒を留去し、粗生成物１．０２４ Ｆを得た。これ
をシリカゲル（４５２）カラムクロマトグラフィーに付
し、２０チエＰＥ／ヘキサンにより展開し、下記の構造
式を有する標題化合物８２２１”Ｐ Ｃ収率７８％）を
得た。
ｏ ｎ’、： ： １．５２６０
０工Ｒ（ｎｅａｔ）ｃｒｎ、 １６６０ 、１３１５
、１３００ 、１１５０ｏ ＮＭＲ（０ＤＯ４５）δ：
１．６０（ｓ、９１）、１．６７（ｓ、９Ｈ）、１．
７１（ｓ、３Ｈ）。
、１３００ 、１１５０ｏ ＮＭＲ（０ＤＯ４５）δ：
１．６０（ｓ、９１）、１．６７（ｓ、９Ｈ）、１．
７１（ｓ、３Ｈ）。
１．８０（ｂｓ、４Ｈ）、２．０２（ｂｓ、１６Ｈ）。
２．４２（θ、３１）、３．７７（ｄ、２Ｈ）、５．１
１（ｂｅ、６ａ）。
１（ｂｅ、６ａ）。
７．３１および７．７４ （ＡＢｑ 、 ４Ｈ）（２）
（２Ｚ、６Ｚ、１０ｚ、１４ｚ、１８Ｚ、２２Ｚ、２
６Ｂ、１１！＋） −３，７，１１゜１５．１９．２３
．２７，５１．５５−ノナメチル−１５−Ｃｐ−トリル
スルホニル） −２，６，１Ｇ、１４．１Ｂ、２２，２
６．５０゜３４−ヘキサトリアコンタノナエニルベンジ
ルエーテル （１）によって得られた（２Ｚ、６Ｚ、１０ｚ、１４Ｂ
、１８１！り一へキサプレニルｐ−）リルスルホン５ｏ
ｏｌＩＩｙ（０，８８７ｍｍｏｔ）をＴＨＦ４ｄとＨＭ
ＰＡ（ヘキサメチルホスホリルアミド）１ｄの混合溶媒
に溶解し、−７０℃でｎ−ブチルリチウム（１，５Ｍヘ
キサン溶液） ０．６５ ｄ！ （０，９７ｍｍｏｔ）
を加え、２０分間攪拌し丸。これに＜２．２．２）−１
２−クロロ−３，７，１１−）リメチル−２，６゜１０
−）”ｆカ） Ｉ）エニルベンジルエーテル２３６Ｗ
（０，６８２ｍｍｏｔ）のＴＨＦ（３＋＋ｔＪ）溶液を
１５分かけて加え、更に一７０℃〜−６０℃で、２．３
時間攪拌した。ＯＨ，ＯＨ（２ｄ）を加えた後、昇温し
、水１０ｄ中に注ぐ。抽出、洗浄（飽和食塩水）、乾燥
（Ｍｇｓｏ、）後、溶媒を留去し、粗生成物６０３岬を
得た。これをシリカゲル（４５９）カラムクロマトグラ
フィーに付し、１００％ａｍ２ａｔ２ で展開し、下記
の構造式を有する標題化合物５６０ ”Ｐ （収率６ｏ
％）を得た。
（２Ｚ、６Ｚ、１０ｚ、１４ｚ、１８Ｚ、２２Ｚ、２
６Ｂ、１１！＋） −３，７，１１゜１５．１９．２３
．２７，５１．５５−ノナメチル−１５−Ｃｐ−トリル
スルホニル） −２，６，１Ｇ、１４．１Ｂ、２２，２
６．５０゜３４−ヘキサトリアコンタノナエニルベンジ
ルエーテル （１）によって得られた（２Ｚ、６Ｚ、１０ｚ、１４Ｂ
、１８１！り一へキサプレニルｐ−）リルスルホン５ｏ
ｏｌＩＩｙ（０，８８７ｍｍｏｔ）をＴＨＦ４ｄとＨＭ
ＰＡ（ヘキサメチルホスホリルアミド）１ｄの混合溶媒
に溶解し、−７０℃でｎ−ブチルリチウム（１，５Ｍヘ
キサン溶液） ０．６５ ｄ！ （０，９７ｍｍｏｔ）
を加え、２０分間攪拌し丸。これに＜２．２．２）−１
２−クロロ−３，７，１１−）リメチル−２，６゜１０
−）”ｆカ） Ｉ）エニルベンジルエーテル２３６Ｗ
（０，６８２ｍｍｏｔ）のＴＨＦ（３＋＋ｔＪ）溶液を
１５分かけて加え、更に一７０℃〜−６０℃で、２．３
時間攪拌した。ＯＨ，ＯＨ（２ｄ）を加えた後、昇温し
、水１０ｄ中に注ぐ。抽出、洗浄（飽和食塩水）、乾燥
（Ｍｇｓｏ、）後、溶媒を留去し、粗生成物６０３岬を
得た。これをシリカゲル（４５９）カラムクロマトグラ
フィーに付し、１００％ａｍ２ａｔ２ で展開し、下記
の構造式を有する標題化合物５６０ ”Ｐ （収率６ｏ
％）を得た。
ｏ ＩＲｌｎｅａｔｌｃＪｎ： １６６０ 、１５２０
、１５００ 、１１５０．７４０ 。
、１５００ 、１１５０．７４０ 。
００
ｏ ＮＭＲＴＯＤＯ／、、ｌδ： １．６０（ｓ、１２
Ｈ１，１，６４ｆｓ、１５Ｈ１，１，７４（ｓ、３Ｈ１
，２，０１＋’ｂｅ、２８Ｈ１，２，４２（ｓ、３Ｈ１
゜２．４５〜２．９（Ｈｍ、２Ｈ１ｊ、８５（ｓｅｘｔ
ｅｔ、ＩＨｌ。
Ｈ１，１，６４ｆｓ、１５Ｈ１，１，７４（ｓ、３Ｈ１
，２，０１＋’ｂｅ、２８Ｈ１，２，４２（ｓ、３Ｈ１
゜２．４５〜２．９（Ｈｍ、２Ｈ１ｊ、８５（ｓｅｘｔ
ｅｔ、ＩＨｌ。
４．００（ｄ、２Ｈ１，４，４９Ｔｅ、２Ｈ１，４，９
５（ｄ、ＩＨｌ。
５（ｄ、ＩＨｌ。
５．０９［ｂｅ、７Ｈ１，５，４１（ｔ、ＩＨｌ、７４
２（ｓ、５Ｈ）、７．３０及び７，７１イＡＢｑ 、
４引（３） （２Ｚ、６Ｚ、１０ｚ、１４Ｚ、１８Ｚ、
２２Ｚ、２６１．３０Ｋ）−ノナプレノール〔ベツラプ
レノールー９〕 リチウム１４０■（２０ηａｔｍ ）をエチルアミン１
０４に溶解し、濃青色の溶液とし、−７０℃に冷却する
。これに（２）の方法で得られた（２Ｚ、６Ｚ、ｊＤＺ
、１４Ｚ、１ＢＺ、２２Ｚ、２６Ｚ、５０Ｂ） −５，
７，１１゜１５．１９，２５，２７，３１．３５−ノナ
メチル−１３−（１）−トリルスルホニル） −ｚ、６
，１ｏ、１４，１ｓ、２ｚ、２６．ｓｏ。
２（ｓ、５Ｈ）、７．３０及び７，７１イＡＢｑ 、
４引（３） （２Ｚ、６Ｚ、１０ｚ、１４Ｚ、１８Ｚ、
２２Ｚ、２６１．３０Ｋ）−ノナプレノール〔ベツラプ
レノールー９〕 リチウム１４０■（２０ηａｔｍ ）をエチルアミン１
０４に溶解し、濃青色の溶液とし、−７０℃に冷却する
。これに（２）の方法で得られた（２Ｚ、６Ｚ、ｊＤＺ
、１４Ｚ、１ＢＺ、２２Ｚ、２６Ｚ、５０Ｂ） −５，
７，１１゜１５．１９，２５，２７，３１．３５−ノナ
メチル−１３−（１）−トリルスルホニル） −ｚ、６
，１ｏ、１４，１ｓ、２ｚ、２６．ｓｏ。
３４−ヘキｆ ） ＩＪアコンタノナエニルベンジルエ
ーテル３４５ ｑ （０，３９５ｍｍｏｔ）のエーテル
（１０ｍ６）溶液を２０分かけて加え、更に１時間攪拌
した。
ーテル３４５ ｑ （０，３９５ｍｍｏｔ）のエーテル
（１０ｍ６）溶液を２０分かけて加え、更に１時間攪拌
した。
イソプレンおよびメタノールを加えた後、後処理を行な
い、粗生成物２９０キを得た。これをシリカゲル（１３
Ｆ）カラムクロマトグラフィーに付し、８〜１０％酢酸
エテル／ヘキサンによシ展開し、下記の構造式を有する
目的物質２２０ｑ（収率８８％）を得た。
い、粗生成物２９０キを得た。これをシリカゲル（１３
Ｆ）カラムクロマトグラフィーに付し、８〜１０％酢酸
エテル／ヘキサンによシ展開し、下記の構造式を有する
目的物質２２０ｑ（収率８８％）を得た。
ｏ ｎ’ｎ ： １．５０５５
０ 工Ｒ１ｎｅａｔｌｃＰｎ ： ３５００ ．１６６
０ ．１０Ｄｏ 、８３０ｏ ＮＭＲ（ＯＤＯ２，１δ
： １．６０（ｓ、９Ｈ１，１，６８ｔｓ、１８Ｈ１゜
１．７４（ｓ、５ＨＩ、２．０４＋ｍ、５２Ｈ１。
０ ．１０Ｄｏ 、８３０ｏ ＮＭＲ（ＯＤＯ２，１δ
： １．６０（ｓ、９Ｈ１，１，６８ｔｓ、１８Ｈ１゜
１．７４（ｓ、５ＨＩ、２．０４＋ｍ、５２Ｈ１。
４．０？１．２Ｈ１，５，１７１ｂｓ、８Ｈ１゜５．４
５（ｔ、ＩＨｌ 実施例２ Ｃ２Ｚ、６Ｚ、 １０Ｚ、１４Ｚ、１８Ｚ、２２１１，
２６１）−オクタプレノール〔ペツラプレノール−８〕
の合成（１） （２Ｚ、６Ｚ、１０Ｚ、１４７．１＋３
Ｚ、２２に、２６１） −３，７，１１゜１５．１９．
２３．２７．３１−オクタメチル−９−（ｐ−トリルス
ルホニル） −２，６，１０，１４，１８，２２，２６
゜！１０−）”）！Ｊアコンタオクタエニルベンジルエ
ーテル 実施例１の方法によって得られた（２Ｚ、６Ｚ。
５（ｔ、ＩＨｌ 実施例２ Ｃ２Ｚ、６Ｚ、 １０Ｚ、１４Ｚ、１８Ｚ、２２１１，
２６１）−オクタプレノール〔ペツラプレノール−８〕
の合成（１） （２Ｚ、６Ｚ、１０Ｚ、１４７．１＋３
Ｚ、２２に、２６１） −３，７，１１゜１５．１９．
２３．２７．３１−オクタメチル−９−（ｐ−トリルス
ルホニル） −２，６，１０，１４，１８，２２，２６
゜！１０−）”）！Ｊアコンタオクタエニルベンジルエ
ーテル 実施例１の方法によって得られた（２Ｚ、６Ｚ。
１０ｚ、 １４Ｆｉ、 １８Ｂ）−ヘキサプレニルｐ−
トリルスルホン５００〜（０，８８７ｍｍｏｔ）と、（
Ｚ、Ｚ）−８−クロロ−３，７−シメチルー２，６−オ
クタジニニルペンジルエーテル（（Ｚ、Ｚ） −８−ベ
ンジルオキシ−１−クロロ−２，６−シメチル−２，６
−オクタジエン〕１９０岬（０，６８２ｍｍｏｔ）とを
出発物質として、実施例１の（２）の方法に準じて反応
を行ない、粗生成物７２０１１９を得た。これをシリカ
ゲルクロマトグラフィー（シリカゲル４５ｆ）に付し、
塩化メチレンで展開し、原料スルホン１１０■を回収し
た。１０％酢酸エチル／ヘキサンによシ下記の構造式を
有する標題化合物５０１ ”Ｐ Ｃ収率９１％）を得た
。
トリルスルホン５００〜（０，８８７ｍｍｏｔ）と、（
Ｚ、Ｚ）−８−クロロ−３，７−シメチルー２，６−オ
クタジニニルペンジルエーテル（（Ｚ、Ｚ） −８−ベ
ンジルオキシ−１−クロロ−２，６−シメチル−２，６
−オクタジエン〕１９０岬（０，６８２ｍｍｏｔ）とを
出発物質として、実施例１の（２）の方法に準じて反応
を行ない、粗生成物７２０１１９を得た。これをシリカ
ゲルクロマトグラフィー（シリカゲル４５ｆ）に付し、
塩化メチレンで展開し、原料スルホン１１０■を回収し
た。１０％酢酸エチル／ヘキサンによシ下記の構造式を
有する標題化合物５０１ ”Ｐ Ｃ収率９１％）を得た
。
０工Ｒ（ｎｅａｔ１６ｎ−’ ： １６６０ 、１５１
０ 、１３００ 、１１４５ 。
０ 、１３００ 、１１４５ 。
７４０ 、７００
ＯＮＭＲ（○ＤＯｔ、 ｌδ： １．６０ｆａ、１２Ｈ
１，１，６６（ｂｅ、１６Ｈ１゜１．７２ｆｓ、３Ｈ１
，２，０１（ｂｅ、２０１１゜２．４０１ｓ、３ＨＩ、
２．４〜２．９１ｍ、２Ｈ１゜３．８２ｆｓｅｘｔｅｔ
、ＩＨｌ 、３．９７ｆｄ、２Ｈ１。
１，１，６６（ｂｅ、１６Ｈ１゜１．７２ｆｓ、３Ｈ１
，２，０１（ｂｅ、２０１１゜２．４０１ｓ、３ＨＩ、
２．４〜２．９１ｍ、２Ｈ１゜３．８２ｆｓｅｘｔｅｔ
、ＩＨｌ 、３．９７ｆｄ、２Ｈ１。
４．４８ｆｓ、２Ｈ１，４，９５＋（１，ＩＨｌ 。
５．１３（ｂｓ、６Ｈ１，５，４０＋ｔ、ＩＨｌ。
７．３０（ｓ、５Ｈ１，７，２６及び７．７０ Ｉ Ａ
Ｂｑ 、 ４Ｈ１（２） （２Ｚ、６Ｚ、１０Ｚ、１４
Ｚ、１８Ｚ、２２Ｆｔ、２６１１Ｃ）−オクタプレノー
ル〔ベツラプレノールー８〕 リチウム１５０ ｍ’９ （２２ｑ−ａｔｍ）をエチル
アミン１０ｓｕに溶解し、濃青色の溶液とする。
Ｂｑ 、 ４Ｈ１（２） （２Ｚ、６Ｚ、１０Ｚ、１４
Ｚ、１８Ｚ、２２Ｆｔ、２６１１Ｃ）−オクタプレノー
ル〔ベツラプレノールー８〕 リチウム１５０ ｍ’９ （２２ｑ−ａｔｍ）をエチル
アミン１０ｓｕに溶解し、濃青色の溶液とする。
−７０℃において（１）の方法で得られた（２Ｚ、６Ｚ
。
。
１０Ｚ、１４Ｚ、１８Ｚ、２２］１１．２６Ｂ）−３，
７，１１，１５，１９，２１，２７゜３１−オクタメチ
ル）−９−（ｐ−）リルスルホニル’） −２，６，１
０，，１４，１Ｂ、２２，２６．３０−ドトリアコンタ
オクタエニルペンジルエーテル４７０ｍ？ （０，５８
３ｍｍｏｔ ）のエーテル（１０＊／）溶液を３０分か
けて加え、更に１時間同温度で攪拌した。イソプレ／、
メタノールを加えた後、後処理を行ない粗生成物４００
■を得た。これをシリカゲル（１４９）カラムクロマト
グラフィーに付し、８〜１０％酢酸エチル／ヘキサンに
よシ展開し、下記の構造式を有する目的物質２９０■（
収率８８％）を得た。
７，１１，１５，１９，２１，２７゜３１−オクタメチ
ル）−９−（ｐ−）リルスルホニル’） −２，６，１
０，，１４，１Ｂ、２２，２６．３０−ドトリアコンタ
オクタエニルペンジルエーテル４７０ｍ？ （０，５８
３ｍｍｏｔ ）のエーテル（１０＊／）溶液を３０分か
けて加え、更に１時間同温度で攪拌した。イソプレ／、
メタノールを加えた後、後処理を行ない粗生成物４００
■を得た。これをシリカゲル（１４９）カラムクロマト
グラフィーに付し、８〜１０％酢酸エチル／ヘキサンに
よシ展開し、下記の構造式を有する目的物質２９０■（
収率８８％）を得た。
０工Ｒｆｎｅａｔｌｃｒｎ−３１０、１６６５、１４５
０、１５Ｂ０ 。
０、１５Ｂ０ 。
１０００．８３５
ＯＮＭＲ（○ＤＯｔ、 ｌδ： １．６０＋８．９Ｈ１
，１，６８＋８，１５Ｈ１゜１．７４（ｅ、３Ｈ１，２
，０７＋ｍ、２８Ｈ１゜４．０８（ｄ、２Ｈ１，５，１
１（ｂｓ、７Ｈ１゜５．４２（ｔ、ＩＨｌ 手続補正居（方式） ％式％ ２、発明の名称 ベツラプレノールの製造方法 ３、 補正をする者 事件との関係 特許出願人 （０２１）エーザイ株式会社 ４、代理人 昭和５９年４月２４日（発送日） ８、 添付書頬の目録 明細書
，１，６８＋８，１５Ｈ１゜１．７４（ｅ、３Ｈ１，２
，０７＋ｍ、２８Ｈ１゜４．０８（ｄ、２Ｈ１，５，１
１（ｂｓ、７Ｈ１゜５．４２（ｔ、ＩＨｌ 手続補正居（方式） ％式％ ２、発明の名称 ベツラプレノールの製造方法 ３、 補正をする者 事件との関係 特許出願人 （０２１）エーザイ株式会社 ４、代理人 昭和５９年４月２４日（発送日） ８、 添付書頬の目録 明細書
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １一般式 （式中Ａｒはアリール基を意味し、ｎは２または３の整
数を意味し、Ｒは水酸基の保護基を意味する） で表わされる（Ｚ、Ｚ、Ｚ、Ｚ、Ｚ、Ｂ、Ｂ）−ポリプ
レニルアルコール誘導体または（ｚ、ｚ、ｚ、ｚ、ｚ、
ｚ、に、１ｃ）−ポリプレニルアルコール誘導体にリチ
ウム−低級アルキルアミンで脱スルホン化操作を行ない
、かつ水酸基の保護基を除去すること（式中ｍは５また
は６の整数を意味する）で表わされる（Ｚ、Ｚ、Ｚ、Ｚ
、Ｚ、Ｈ，Ｂ）−＃フタプレノールまたは（Ｚ、Ｚ、Ｚ
、Ｚ、Ｚ、Ｚ、Ｉ！！、１！１） −／ ＋ ７ レノ
ールの製造方法。 ２一般式 （式中Ａｒはアリール基を意味する） で表わされる（Ｚ、Ｚ、Ｚ、ｌ［ｌ１ｉ） −スル＊
７体に（式中又はハロゲンを意味し、Ｒは水酸基の保護
基を意味し、ｎは２ま九は３の整数を意味する） で表わされるＣＺ、ｚ）ま九は＜２．２．２）シスイソ
プレノイドを反応せしめ、 一般式 ８０２Ａｒ （式中Ａｒ、Ｒおよびｎは前記の意味を有する）で表わ
されるポリプレニルアリールスルホン系化合物を得、次
いで該化合物にリチウム−低級アルキルアミンで脱スル
ホン化操作を行ない、かつ水酸基の保護基を除去するこ
とを特徴とする次の構造式 （式中ｍは５または６の整数を意味する）で表わされる
（Ｚ、Ｚ、Ｚ、Ｚ、Ｚ、１ｌｌｉ、Ｋ）−オクタプレノ
ールまたは（ｚ、ｚ、ｚ、ｚ、ｚ、ｚ、Ｐ、ｌ！り一ノ
ナプレノールの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59014962A JPS60158127A (ja) | 1984-01-30 | 1984-01-30 | ベツラプレノ−ルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59014962A JPS60158127A (ja) | 1984-01-30 | 1984-01-30 | ベツラプレノ−ルの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60158127A true JPS60158127A (ja) | 1985-08-19 |
Family
ID=11875603
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59014962A Pending JPS60158127A (ja) | 1984-01-30 | 1984-01-30 | ベツラプレノ−ルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60158127A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6259233A (ja) * | 1985-09-09 | 1987-03-14 | Eisai Co Ltd | ドリコ−ル類の製造方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5430102A (en) * | 1977-08-11 | 1979-03-06 | Takeda Chem Ind Ltd | Carbon-carbon bond formation |
-
1984
- 1984-01-30 JP JP59014962A patent/JPS60158127A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5430102A (en) * | 1977-08-11 | 1979-03-06 | Takeda Chem Ind Ltd | Carbon-carbon bond formation |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6259233A (ja) * | 1985-09-09 | 1987-03-14 | Eisai Co Ltd | ドリコ−ル類の製造方法 |
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