JPS59152339A - （ｚ，ｚ，ｚ，ｚ，ｅ，ｅ）−ヘプタプレノ−ルの製造方法 - Google Patents
（ｚ，ｚ，ｚ，ｚ，ｅ，ｅ）−ヘプタプレノ−ルの製造方法Info
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- JPS59152339A JPS59152339A JP58024546A JP2454683A JPS59152339A JP S59152339 A JPS59152339 A JP S59152339A JP 58024546 A JP58024546 A JP 58024546A JP 2454683 A JP2454683 A JP 2454683A JP S59152339 A JPS59152339 A JP S59152339A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、立体的に特定の構造を有するポリプＬ／ ７
− ルｃ）−ツテア７１ （Ｚ、 Ｚ、 Ｚ、 Ｚ、
Ｅ、 Ｅ） −ヘプタプレノール、すなわちヘプタプレ
ノール−７（Ｂｅｔｕｌａｐｒｅｎｏｌ ）の製造方法
に関する。
− ルｃ）−ツテア７１ （Ｚ、 Ｚ、 Ｚ、 Ｚ、
Ｅ、 Ｅ） −ヘプタプレノール、すなわちヘプタプレ
ノール−７（Ｂｅｔｕｌａｐｒｅｎｏｌ ）の製造方法
に関する。
近年２種々のポリプレノールが、動物、植物。
微生物から単離され、その後ポリプレノールは。
多糖類、ペプチドグリカン、糖蛋白質などの合成の中間
体として生体内で重要な働きをしていることが徐々に明
らかとされており、医薬品２食品などとして利用できる
可能性が大きい。
体として生体内で重要な働きをしていることが徐々に明
らかとされており、医薬品２食品などとして利用できる
可能性が大きい。
しかしながら、これらのポリプレノール類は。
イソプレン単位で構成されているため、シス型イソプレ
ン単位、トランス型イソプレン単位が存在し、天然型の
ものは、これらが特定の配列となっているため、これを
合成的に得ることは従来困難であり、これを得ようとす
れば動植物から抽出・単離する方法しかなかった。しか
るに、天然から抽出・単離する方法は、資源的に限界が
あり、大量生産には適さず工業的ではない。
ン単位、トランス型イソプレン単位が存在し、天然型の
ものは、これらが特定の配列となっているため、これを
合成的に得ることは従来困難であり、これを得ようとす
れば動植物から抽出・単離する方法しかなかった。しか
るに、天然から抽出・単離する方法は、資源的に限界が
あり、大量生産には適さず工業的ではない。
本発明のヘプタプレノール−７も１次のような構造式
を有しているが、トランスイソプレン単位２個と。
アルコール末端にシスイソプレン単位４個を有している
。
。
このため、このようなポリプレノールを合成的に製造す
ることは従来困難とされていた。
ることは従来困難とされていた。
そこで２本発明者等は、天然に存在するヘプタプレノー
ル−７と同じ立体配位を有する化合物を合成的に得るた
め、長年にわたって鋭意研究を重ねた結果２本発明を完
成したものである。
ル−７と同じ立体配位を有する化合物を合成的に得るた
め、長年にわたって鋭意研究を重ねた結果２本発明を完
成したものである。
すなわち本発明を図示すれば次のとおりである。
出発物質である（ＩＩ）のポリプレニルアリルスルホン
酸系化合物において、アルコール末端に隣接している４
個のイソプレン単位はいずれもシスイソプレン単位であ
り、更にこれに隣接している２個のイソプレン単位はト
ランスイソプレン単位であル（Ｚ、 Ｚ、 Ｚ、 Ｚ、
Ｅ、 Ｅ）型のもノテある。
酸系化合物において、アルコール末端に隣接している４
個のイソプレン単位はいずれもシスイソプレン単位であ
り、更にこれに隣接している２個のイソプレン単位はト
ランスイソプレン単位であル（Ｚ、 Ｚ、 Ｚ、 Ｚ、
Ｅ、 Ｅ）型のもノテある。
式（川において、アリール基とは２例えば、フェニル基
、パラ−トリル基、キシリル基、ナフチル基などをあげ
ることができる。
、パラ−トリル基、キシリル基、ナフチル基などをあげ
ることができる。
Ｒは水酸基の保護基を意味するが、この代表例をあげる
と、メチル、エチル、プロピル、ブチルなどの低級アル
キル基、ベンジル、フェネチルなどのアラルキル基、ア
セチル、プロピオニル、ブチロイル、ピバロイルなどの
アシル基、テトラヒドロピラニル基などである。
と、メチル、エチル、プロピル、ブチルなどの低級アル
キル基、ベンジル、フェネチルなどのアラルキル基、ア
セチル、プロピオニル、ブチロイル、ピバロイルなどの
アシル基、テトラヒドロピラニル基などである。
本工程は、（川のポリプレニルアリルスルホン酸系化合
物を脱スルホン酸化し、かつ水酸基の保護基を脱離する
工程であるが、この際は通常リチウム−低級アルキルア
ミンの存在下におこなう。低級アルキルアミンとして最
も好ましいものはエチルアミンである。またこの際のア
リール基としてはパラ−トリル基、フェニル基が最も好
結果を与える。反応溶媒は、リチウム−低級アルキルア
ミンの調製が、低級アルキルアミン自体を溶媒としてお
こなわれるので特に用いなくてもよいが、エチルエーテ
ル、テトラハイドロフランなどのエーテル系溶媒を併用
してもよい。また反応温度は一３０°Ｃ以下、好ましく
は−６０〜−８０°Ｃである。
物を脱スルホン酸化し、かつ水酸基の保護基を脱離する
工程であるが、この際は通常リチウム−低級アルキルア
ミンの存在下におこなう。低級アルキルアミンとして最
も好ましいものはエチルアミンである。またこの際のア
リール基としてはパラ−トリル基、フェニル基が最も好
結果を与える。反応溶媒は、リチウム−低級アルキルア
ミンの調製が、低級アルキルアミン自体を溶媒としてお
こなわれるので特に用いなくてもよいが、エチルエーテ
ル、テトラハイドロフランなどのエーテル系溶媒を併用
してもよい。また反応温度は一３０°Ｃ以下、好ましく
は−６０〜−８０°Ｃである。
出発物質であるポリプレニルアリルスルホン酸系化合物
（■）は１例えば次の工程で得られる。
（■）は１例えば次の工程で得られる。
（式中Ｘはハロゲンを意味し、Ｒは水酸基の保護基を意
味する） ↓ （ＩＩ） すなわち、アリールスルホニル基に結合している２個の
イソプレン単位がシス体であるスルホン体（２）に、イ
ソプレン単位がいずれもシス体である化合物σ■を反応
せしめて得ることができる。この反応は１例えばテトラ
ヒドロフラン、ヘキサメチルホスホリルアミド（ＨＭＰ
Ａ）混合溶媒中、ブチルリチウムの存在下に反応させて
得ることができる。
味する） ↓ （ＩＩ） すなわち、アリールスルホニル基に結合している２個の
イソプレン単位がシス体であるスルホン体（２）に、イ
ソプレン単位がいずれもシス体である化合物σ■を反応
せしめて得ることができる。この反応は１例えばテトラ
ヒドロフラン、ヘキサメチルホスホリルアミド（ＨＭＰ
Ａ）混合溶媒中、ブチルリチウムの存在下に反応させて
得ることができる。
またこの出発物質である化合物側は例えば次の工程で得
られる。
られる。
（式中Ｈａｌはハロゲンを意味する）
側
すなわち、水酸基と結合しているイソプレン単位がシス
体である（Ｚ、 Ｚ、 Ｅ、 Ｅ）−ペンタプレノール
■を、ハロゲン化せしめて化合物■とし、これにアリー
ルスルホン酸ナトリウムを反応させて化合物（２）を得
る。
体である（Ｚ、 Ｚ、 Ｅ、 Ｅ）−ペンタプレノール
■を、ハロゲン化せしめて化合物■とし、これにアリー
ルスルホン酸ナトリウムを反応させて化合物（２）を得
る。
更に、この際の出発物質である（Ｚ、 Ｚ、 Ｅ、 Ｅ
） −ヘキザプレノール■は、上述の一連の工程と同様
な方法で製造する。これを図示すれば以下のとおりであ
る。
） −ヘキザプレノール■は、上述の一連の工程と同様
な方法で製造する。これを図示すれば以下のとおりであ
る。
（式中Ａｒは了り−ル基を意味する）
＋
（式中Ｘはハロゲンを意味し、Ｒは水酸基の保護基を意
味する） ↓ すなわち、（Ｂ、Ｅ）−ファルネシルアリルスルホン（
ＶＩｍに、イソプレン単位が２個ともシス体である化合
物鰭を反応せしめて、スルホン体（ｖｌｌを得、これを
脱スルホン化して（Ｚ、 Ｚ、 Ｅ、 Ｅ）−ペンタプ
レノールを得る。
味する） ↓ すなわち、（Ｂ、Ｅ）−ファルネシルアリルスルホン（
ＶＩｍに、イソプレン単位が２個ともシス体である化合
物鰭を反応せしめて、スルホン体（ｖｌｌを得、これを
脱スルホン化して（Ｚ、 Ｚ、 Ｅ、 Ｅ）−ペンタプ
レノールを得る。
なお、（Ｅ、Ｅ）−ファルネシルアリールスルホン■は
、（Ｅ、Ｅ）−ファルネソールから容易に製造すること
ができる。
、（Ｅ、Ｅ）−ファルネソールから容易に製造すること
ができる。
本発明（７） （Ｚ、 Ｚ、 Ｚ、 Ｚ、 Ｅ、 Ｅ）
−ヘフタフＬ／／ −ルを製造する際に、極めて重要な
化合物である化合物σ■は２例えば次のような方法で製
造することが可能である。
−ヘフタフＬ／／ −ルを製造する際に、極めて重要な
化合物である化合物σ■は２例えば次のような方法で製
造することが可能である。
（式中ＴＨＰＯは、テトラヒドロピラニルオキシ基を示
す） 十 （式中Ｒは水酸基の保護基を示し、 Ｐｈはフェニル基
を示す） すなわち、テトラヒドロピラニルオキシアセＩ・７（Ｌ
Ｘ）に、水酸基が保護された（Ｚ）−（４−メチル−４
−ヘキセン−１イル）トリフェニルホスホニウムアイオ
ダイド■をｎ−ブチルリチウムの存在下で反応せしめて
、イソプレン単位２個がいずれもシス体である化合物噸
を得２次いで、テトラヒドロピラニルオキシ基を脱離せ
しめて化合物□□□とし。
す） 十 （式中Ｒは水酸基の保護基を示し、 Ｐｈはフェニル基
を示す） すなわち、テトラヒドロピラニルオキシアセＩ・７（Ｌ
Ｘ）に、水酸基が保護された（Ｚ）−（４−メチル−４
−ヘキセン−１イル）トリフェニルホスホニウムアイオ
ダイド■をｎ−ブチルリチウムの存在下で反応せしめて
、イソプレン単位２個がいずれもシス体である化合物噸
を得２次いで、テトラヒドロピラニルオキシ基を脱離せ
しめて化合物□□□とし。
この水酸基をハロゲン化して化合物α面とする。
この際、化合物（２）および（９）は、イソプレン単位
がいずれもシスであり、新規化合物である。
がいずれもシスであり、新規化合物である。
次に実施例を示すが９本発明がこれらのみに限定される
ことがないことはいうまでもない。
ことがないことはいうまでもない。
実施例
（Ｅ、 Ｅ）−ファルネシルｐ−トリルスルホン１．３
４４９ ｇ （３，７３ｍｍｏｌ）を無水テトラヒトｏ
７ラン（ＴＨＦ） ８ ｍｌと、ヘキサメチレンホスホ
リルアミド（ＨＭＰＡ） ２ ｍｌの混合溶媒に溶かし
、−５０°Ｃに冷却する。ｎ−ブチルリチウム（ヘキサ
ン中に１．５Ｍ）２．６ ｍＬ （３，９２ｍ ｍｏｌ
）を１０分で加え、更に−５０〜−４０°Ｃで１０分
間撹拌した。−７０°Ｃに冷却し、これに（ｚ、Ｚ）−
８−ペンシルオキシ−１−クロロ−２，６−シメチルー
２，６−オクタジエン８００■（２，８７ｍｍｏｌ）の
テトラヒドロフラン（５ｍＬ）溶液を１５分かけて加え
、−７０〜−６０°Ｃで１時間撹拌した。反応終了後エ
ーテル−へキサン１：１で抽出し、洗浄し２次いでＭｇ
５Ｏ，で乾燥し、減圧下で濃縮して。
４４９ ｇ （３，７３ｍｍｏｌ）を無水テトラヒトｏ
７ラン（ＴＨＦ） ８ ｍｌと、ヘキサメチレンホスホ
リルアミド（ＨＭＰＡ） ２ ｍｌの混合溶媒に溶かし
、−５０°Ｃに冷却する。ｎ−ブチルリチウム（ヘキサ
ン中に１．５Ｍ）２．６ ｍＬ （３，９２ｍ ｍｏｌ
）を１０分で加え、更に−５０〜−４０°Ｃで１０分
間撹拌した。−７０°Ｃに冷却し、これに（ｚ、Ｚ）−
８−ペンシルオキシ−１−クロロ−２，６−シメチルー
２，６−オクタジエン８００■（２，８７ｍｍｏｌ）の
テトラヒドロフラン（５ｍＬ）溶液を１５分かけて加え
、−７０〜−６０°Ｃで１時間撹拌した。反応終了後エ
ーテル−へキサン１：１で抽出し、洗浄し２次いでＭｇ
５Ｏ，で乾燥し、減圧下で濃縮して。
粗生成物２．１０９を得た。これをシリカゲルクロマト
グラフィーにより精製して、カップリング体である標題
化合物１．４８９ｇ（収率８６％）を得た。
グラフィーにより精製して、カップリング体である標題
化合物１．４８９ｇ（収率８６％）を得た。
ｎ２５： １．５３７０
ＩＲ（ｎｅａｔ） ｃｍ−’ ： １，６６０．１，３
００．１，１４０．７４０．７０ＯＮＭＲ（ＣＣ１，ｌ
）δ： １．２０（ｓ、 ３Ｈ）、 １．６０．１．６
７、１．７３（ｅａｃｈｓ、 １５Ｈ）、 １．９０−
２．１５（ｂｒ。
００．１，１４０．７４０．７０ＯＮＭＲ（ＣＣ１，ｌ
）δ： １．２０（ｓ、 ３Ｈ）、 １．６０．１．６
７、１．７３（ｅａｃｈｓ、 １５Ｈ）、 １．９０−
２．１５（ｂｒ。
１２Ｈ）、 ２．４３（ｓ、 ３Ｈ）、 ２．２−２．
９（ｍ、 ２Ｈ）、 ３．７３（ｓｅｃｔｅｒ、 ＬＨ
）。
９（ｍ、 ２Ｈ）、 ３．７３（ｓｅｃｔｅｒ、 ＬＨ
）。
３．９５（ｄ、 ２Ｈ）、 ４．４６（ｓ、 ２Ｈ）。
４．８−５．２（ｍ、 ４Ｈ）、 ’５．３７（ｔ、
ＩＨ）。
ＩＨ）。
７．２３（ｄ、 ２Ｈ）、 ７．２８（ｓ、 ５Ｈ）
。
。
７．７０（ｄ、 ２Ｈ）
λ
一７０°Ｃに冷却したフラスコに、シリンダーから無水
エチルアミン８ＴｒＬＬをとり、リチウム１８０１ｒＬ
ｇ（２６ｍｇ−ａｔｍ）を小片にして加える。ゆっ（り
とＯ′Ｃまで昇温すると、リチウムは完全に溶解し。
エチルアミン８ＴｒＬＬをとり、リチウム１８０１ｒＬ
ｇ（２６ｍｇ−ａｔｍ）を小片にして加える。ゆっ（り
とＯ′Ｃまで昇温すると、リチウムは完全に溶解し。
濃青色の溶液になる。
再ヒ−７０°Ｃに冷却ｔ、、 （１）テ得う；Ｍ＝ （
ｚ、 ｚ、 Ｅ。
ｚ、 ｚ、 Ｅ。
Ｅ）−１−ベンジルオキシ−３，７，１１，１５，１９
−ペンタメチル−９−１） −トリルスルホニル−２，
６，１０゜１４．１８−ｘイコサペンタエン６０２ ｍ
ｇ （１，ＯＯｍｍｏｌ）の無水エーテル（５ｍＬ）溶
液を１０分で加える。その後−７０〜−６５°Ｃで３０
分撹拌した後、濃青色が消えるまでイソプレンを加える
。できるだけ低温に保ちながら１反応物が白色になるま
でメタノールを加える。室温にもどし２反応系の固体が
すべて溶けるまで水を加え、減圧下で注意深く濃縮する
。
−ペンタメチル−９−１） −トリルスルホニル−２，
６，１０゜１４．１８−ｘイコサペンタエン６０２ ｍ
ｇ （１，ＯＯｍｍｏｌ）の無水エーテル（５ｍＬ）溶
液を１０分で加える。その後−７０〜−６５°Ｃで３０
分撹拌した後、濃青色が消えるまでイソプレンを加える
。できるだけ低温に保ちながら１反応物が白色になるま
でメタノールを加える。室温にもどし２反応系の固体が
すべて溶けるまで水を加え、減圧下で注意深く濃縮する
。
濃縮液をエーテルで抽出し、洗浄（水および塩化ナトリ
ウム）、乾燥（Ｍｇ Ｓ０４ ）後、溶媒を留去し。
ウム）、乾燥（Ｍｇ Ｓ０４ ）後、溶媒を留去し。
標題化合物の粗生成物３８５ ｒｐ、ｙを得た。これを
シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、標題化
合物（Ｚ、 Ｚ、 Ｅ、 Ｅ）−ヘア タフレ／−ル３
０１雇ｇ（収率８４％）を得た。
シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、標題化
合物（Ｚ、 Ｚ、 Ｅ、 Ｅ）−ヘア タフレ／−ル３
０１雇ｇ（収率８４％）を得た。
ＩＲ（ｎｅａｔ） ｃｍ−’ ： ３，３２０．１，６
６０．１，００ＯＮＭＲ（ＣＣＩ４）δ： １．６１（
ｓ、 ９Ｈ）、 １．６９（ｓ、 ６Ｈ）、 １．７３
（ｓ、 ３Ｈ）、 １．９−２．２（ｍ、 １６Ｈ）。
６０．１，００ＯＮＭＲ（ＣＣＩ４）δ： １．６１（
ｓ、 ９Ｈ）、 １．６９（ｓ、 ６Ｈ）、 １．７３
（ｓ、 ３Ｈ）、 １．９−２．２（ｍ、 １６Ｈ）。
３．９８（ｄ、 ２Ｈ）、 ４．９−５．２（ｂｒ、
４Ｈ）。
４Ｈ）。
５．３５（ｔ、 ＩＨ）
（２）で得られた（Ｚ、 Ｚ、 Ｅ、 Ｅ）−ペンタプ
レノール２７０ ｒｎｇ （０，７５４ｍｍｏｌ）と指
示薬としてのトリフェニルメタン１ｒｎｇを無水エーテ
ル２ｒｎＬとへキサメチレンホスボリルアミド（ＨＭＰ
Ａ） ０．７ ｒｎＬの混合溶媒に溶かし、−４０°Ｃ
に冷却する。ｎ−ブチルリチウム（１，４Ｍへキサン溶
液）を溶液が赤色になるまで加える。次いでトシルクロ
ライド（ＴｓＣｌ） １７３ ｍｇ（０，９０５ｍｍｏ
ｌ）のエーテル（２ｍＤ溶液を加え、−３０〜−２０°
Ｃで３０分間撹拌する。次に塩化リチウム６４ｍｇ （
１，５ｍｍｏｌ）を加え、徐々に室温まで昇温し、１７
時間撹拌する。反応終了後、常法により抽出（エーテル
：ヘキサン←１：１）、洗浄乾燥した後、溶媒を留去し
、得られた粗生成物を、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ
） ３ ｍＬに溶解し、ｐ−トラエンスルフィン酸ナト
リウム・２水塩３２０ ｍｇ （１，５ｍｍｏｌ）と室
温で１８時間反応させる。反応終了後、常法により後処
理をおこない、シリカゲルクロマトグラフィーで精製し
、目的のスルホニル体である標題化合物（Ｚ、 Ｚ、
Ｅ、 Ｅ）−ペンタプレニル−１）−）リルスルホン１
９１ｍｙ（収率５１％）ヲ得り。
レノール２７０ ｒｎｇ （０，７５４ｍｍｏｌ）と指
示薬としてのトリフェニルメタン１ｒｎｇを無水エーテ
ル２ｒｎＬとへキサメチレンホスボリルアミド（ＨＭＰ
Ａ） ０．７ ｒｎＬの混合溶媒に溶かし、−４０°Ｃ
に冷却する。ｎ−ブチルリチウム（１，４Ｍへキサン溶
液）を溶液が赤色になるまで加える。次いでトシルクロ
ライド（ＴｓＣｌ） １７３ ｍｇ（０，９０５ｍｍｏ
ｌ）のエーテル（２ｍＤ溶液を加え、−３０〜−２０°
Ｃで３０分間撹拌する。次に塩化リチウム６４ｍｇ （
１，５ｍｍｏｌ）を加え、徐々に室温まで昇温し、１７
時間撹拌する。反応終了後、常法により抽出（エーテル
：ヘキサン←１：１）、洗浄乾燥した後、溶媒を留去し
、得られた粗生成物を、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ
） ３ ｍＬに溶解し、ｐ−トラエンスルフィン酸ナト
リウム・２水塩３２０ ｍｇ （１，５ｍｍｏｌ）と室
温で１８時間反応させる。反応終了後、常法により後処
理をおこない、シリカゲルクロマトグラフィーで精製し
、目的のスルホニル体である標題化合物（Ｚ、 Ｚ、
Ｅ、 Ｅ）−ペンタプレニル−１）−）リルスルホン１
９１ｍｙ（収率５１％）ヲ得り。
ＩＲ（ｎｅａｔ） Ｃｍ−’ ： １，６６０．１，３
１０．１，１４５ＮＭＲ（ＣＣＩ４）δ： １．６２（
ｓ、 ９Ｈ）、 １．７０（ｓ、 ６Ｈ）。
１０．１，１４５ＮＭＲ（ＣＣＩ４）δ： １．６２（
ｓ、 ９Ｈ）、 １．７０（ｓ、 ６Ｈ）。
１．７４（ｓ、 ３Ｈ）、 １．８−２．２（ｍ、 １
６Ｈ）’。
６Ｈ）’。
２．４５（ｓ、 ３Ｈ）、 ３．６７（ｄ、 ２Ｈ）４
．９−５．１ （ｂｒ、 ４Ｈ）、 ５．１５（ｔ、
ＩＨ）。
．９−５．１ （ｂｒ、 ４Ｈ）、 ５．１５（ｔ、
ＩＨ）。
７．２８（ｄ、 ２Ｈ）、 ７．６７（ｄ、’ ２Ｈ）
（４） （Ｚ、 Ｚ、 Ｚ、 Ｚ、 Ｅ、 Ｅ）−１
−ヘンシル、ｔ４シー３゜（３）の方法で得られたスル
ホニル体３１０ ＴＩｖｊ（０，６２５ｍｍｏｌ）を無
水ＴＨＦ ４ ｍＬ （！： ＨＭＰＡ １ ｍｌの混
合溶媒に溶かし、−５０℃に冷却する。これにｎ−ブチ
ルリチウム（１，５Ｍヘキサン溶液） ０．４４ ｍｌ
（０，６６ｍｍｏｌ）を１０分で加え、更に−５０〜
−４０°Ｃで１０分間撹拌した。−７０°Ｃに冷却し、
（ｚ、ｚ）−Ｂ−ベンジルオキシ−１−クロロ−２，６
−シメチルー２，６−オクタジエン１５８Ｂｇ（０，５
６８ｍｍｏｌ） （７） ＴＨＦ溶液を１５分かけて加
え、−７０°Ｃ〜−６０°Ｃで１時間撹拌した。反応終
了後エーテル−ヘキサン１：１で抽出し、洗浄し１次い
でＭｇ５Ｏ，で乾燥し、減圧下で濃縮して粗生成物を得
、これをシリカゲルクロマトグラフィーにより精製して
、カップリング体である標題化合物３２７１ｎｇ（収率
７８％）を得た。
（４） （Ｚ、 Ｚ、 Ｚ、 Ｚ、 Ｅ、 Ｅ）−１
−ヘンシル、ｔ４シー３゜（３）の方法で得られたスル
ホニル体３１０ ＴＩｖｊ（０，６２５ｍｍｏｌ）を無
水ＴＨＦ ４ ｍＬ （！： ＨＭＰＡ １ ｍｌの混
合溶媒に溶かし、−５０℃に冷却する。これにｎ−ブチ
ルリチウム（１，５Ｍヘキサン溶液） ０．４４ ｍｌ
（０，６６ｍｍｏｌ）を１０分で加え、更に−５０〜
−４０°Ｃで１０分間撹拌した。−７０°Ｃに冷却し、
（ｚ、ｚ）−Ｂ−ベンジルオキシ−１−クロロ−２，６
−シメチルー２，６−オクタジエン１５８Ｂｇ（０，５
６８ｍｍｏｌ） （７） ＴＨＦ溶液を１５分かけて加
え、−７０°Ｃ〜−６０°Ｃで１時間撹拌した。反応終
了後エーテル−ヘキサン１：１で抽出し、洗浄し１次い
でＭｇ５Ｏ，で乾燥し、減圧下で濃縮して粗生成物を得
、これをシリカゲルクロマトグラフィーにより精製して
、カップリング体である標題化合物３２７１ｎｇ（収率
７８％）を得た。
ＩＲ（ｎｅａｔ） Ｌ：Ｉｎ−’ ： １，６６０．１
，３００．１’、１４０．７４０．７０ＯＮＭＲ（ＣＣ
ｌ４）δ： １．６０．１．６７、１．７４（ｅａｃｈ
ｇ、 ２４Ｈ）。
，３００．１’、１４０．７４０．７０ＯＮＭＲ（ＣＣ
ｌ４）δ： １．６０．１．６７、１．７４（ｅａｃｈ
ｇ、 ２４Ｈ）。
１．８−２．２（ｍ、 ２０Ｈ）、 ２．４２（ｓ、
３Ｈ）。
３Ｈ）。
２．２−２．９（ｍ、 ２Ｈ）、 ３．７２（ｓｅｘｔ
ｅｔ。
ｅｔ。
ＬＨ）、 ３．９５（ｄ、 ２Ｈ）、 ４．４６（ｓ、
２Ｈ）。
２Ｈ）。
４．８−５．２（ｂｒ、 ６Ｈ）、 ５．３７（ｔ、
ＬＨ）。
ＬＨ）。
７．２５（ｄ、 ２Ｈ）、 ７．２９（ｓ、 ５Ｈ）
。
。
７．７０ （ｄ、 ２Ｈ）
一７０°Ｃに冷却したフラスコにシリンダーから無水エ
チルアミン８ｍＬをとり、リチウム１８０ ｍｙ （２
６ｍｇ−ａｔｍ）を小片にして加える。ゆっくりと０°
Ｃまで昇温すると、リチウムは完全に溶解し、濃青色の
溶液になる。
チルアミン８ｍＬをとり、リチウム１８０ ｍｙ （２
６ｍｇ−ａｔｍ）を小片にして加える。ゆっくりと０°
Ｃまで昇温すると、リチウムは完全に溶解し、濃青色の
溶液になる。
再ヒ−７０°Ｃに冷却１．、 （４）テ得うレタ（Ｚ、
Ｚ、 Ｚ。
Ｚ、 Ｚ。
Ｚ、 Ｅ、 Ｅ）−１−ヘンシル第４ シー３．７．１
１．１５．１９゜２３、２７−へブタメチル−９−ｐ−
トリルスルホニル−２，６，１０，１４，１８，２２，
２６−オクタコサへブタエン２９２■（０，３９６ｍｍ
ｏｌ）の無水エーテル（５ＷＬｌ ）溶液を１０分で加
える。その後−７０〜−６５℃で３０分撹拌した後、濃
青色が消えるまでイソプレンを加える。できるだけ低温
に保ちながら反応物が白色になるまでメタノールを加え
る。室温にもどし２反応系の固体がすべて溶けるまで水
を加え、減圧下で注意深く濃縮する。濃縮液をエーテル
で抽出し。
１．１５．１９゜２３、２７−へブタメチル−９−ｐ−
トリルスルホニル−２，６，１０，１４，１８，２２，
２６−オクタコサへブタエン２９２■（０，３９６ｍｍ
ｏｌ）の無水エーテル（５ＷＬｌ ）溶液を１０分で加
える。その後−７０〜−６５℃で３０分撹拌した後、濃
青色が消えるまでイソプレンを加える。できるだけ低温
に保ちながら反応物が白色になるまでメタノールを加え
る。室温にもどし２反応系の固体がすべて溶けるまで水
を加え、減圧下で注意深く濃縮する。濃縮液をエーテル
で抽出し。
洗浄（水および塩化ナトリウム）、乾燥（ＭｇＳＯ４）
後、溶媒を留去し、標題化合物の粗生成物を得。
後、溶媒を留去し、標題化合物の粗生成物を得。
これをシリカゲルクロマトグラフィーで精製し。
標題化合物（Ｚ、 Ｚ、 Ｚ、 Ｚ、 Ｅ、 Ｅ）−ヘ
プタプレノール１５８１ｎｇ（収率８１％）を得た。
プタプレノール１５８１ｎｇ（収率８１％）を得た。
ＩＲ（ｎｅａｔ） ｃｍ−’ ： ３，３１０．１，６
６０．１，００ＯＮＭＲ（ＣＣ１４）δ： Ｌ、６１（
ｓ、 ９Ｈ）、 １．６９（ｓ、 １２Ｈ）。
６０．１，００ＯＮＭＲ（ＣＣ１４）δ： Ｌ、６１（
ｓ、 ９Ｈ）、 １．６９（ｓ、 １２Ｈ）。
１．７３（ｓ、 ３Ｈ）、 １．９−２．２（ｍ、 ２
４Ｈ）。
４Ｈ）。
３．９８（ｄ、 ２Ｈ）、 ４．９−５．２（ｂｒ、
６Ｈ）。
６Ｈ）。
５．３６（ｔ、 ＩＨ）
参考例
（１） （Ｚ、Ｚ）−８−ベンジルオキシ−２，６−
ジメチル−ｌ−テトラヒドロピラニルオキシ−２，６−
オ（Ｚ）−（６−ベンジルオキシ−４−メチル−４−ヘ
キセン−１〜イル）トリフェニルホスホニウムアイオダ
イド６．５１２ ｇ （１１，００ｍｍｏｌ）を無水テ
トラヒドロフラン１４０１１ＬＬに懸濁させ、−７０℃
に冷却する。
ジメチル−ｌ−テトラヒドロピラニルオキシ−２，６−
オ（Ｚ）−（６−ベンジルオキシ−４−メチル−４−ヘ
キセン−１〜イル）トリフェニルホスホニウムアイオダ
イド６．５１２ ｇ （１１，００ｍｍｏｌ）を無水テ
トラヒドロフラン１４０１１ＬＬに懸濁させ、−７０℃
に冷却する。
これにｎ−ブチルリチウム（１，５Ｍへキサン溶液）８
．８ ｍｌ （１３，２ｍｍｏｌ）を１５分かけて加え
、その後−６０〜−５０°Ｃで２時間撹拌した。次いで
再び一７０°Ｃに冷却し、テトラヒドロピラニルオキシ
アセトン２．０８６ ｇ （１３，２ｍｍｏｌ）の無水
テトラヒドロフラン（１５ｍＬ）溶液を３０分かけて加
えた。−７０〜−６０℃で更に３０分撹拌した後、ゆっ
くりと昇温し、室温に戻す。室温において１６時間撹拌
した後、メタノール（１０１ｒＬＬ）と水（５＋ＩＬＬ
）を加え反応を停止する。
．８ ｍｌ （１３，２ｍｍｏｌ）を１５分かけて加え
、その後−６０〜−５０°Ｃで２時間撹拌した。次いで
再び一７０°Ｃに冷却し、テトラヒドロピラニルオキシ
アセトン２．０８６ ｇ （１３，２ｍｍｏｌ）の無水
テトラヒドロフラン（１５ｍＬ）溶液を３０分かけて加
えた。−７０〜−６０℃で更に３０分撹拌した後、ゆっ
くりと昇温し、室温に戻す。室温において１６時間撹拌
した後、メタノール（１０１ｒＬＬ）と水（５＋ＩＬＬ
）を加え反応を停止する。
次いで減圧下で注意深く濃縮し、メタノール（３０ｒａ
ｇ）と水（３０ＷＬＬ）を加え、エーテル−ヘキサン１
：１の混合溶媒で抽出し、飽和食塩水で洗浄した後。
ｇ）と水（３０ＷＬＬ）を加え、エーテル−ヘキサン１
：１の混合溶媒で抽出し、飽和食塩水で洗浄した後。
無水硫酸マグネシウムと炭酸カリウムによって乾燥する
。口過後減圧濃縮して得られる残渣をｎ −ヘキサンで
希釈するとトリフェニルホスフィンオキシトの白い結晶
がでてくるから、これを口過り。
。口過後減圧濃縮して得られる残渣をｎ −ヘキサンで
希釈するとトリフェニルホスフィンオキシトの白い結晶
がでてくるから、これを口過り。
ｎ−ヘキサンで十分に洗浄する。次いで母液を再び濃縮
し、目的物質の粗生成物４．２７ ｇを得た。これをシ
リカゲル（ワコーゲルＣ−２００，２００ｇ ）カラム
クロマトグラフィーに付し、１５〜２０％イソプロピル
エーテル／ヘキサンあるいは１０％エーテル／ヘキサン
により展開し、標題化合物２．５９１９ （収率６８％
）を得た。
し、目的物質の粗生成物４．２７ ｇを得た。これをシ
リカゲル（ワコーゲルＣ−２００，２００ｇ ）カラム
クロマトグラフィーに付し、１５〜２０％イソプロピル
エーテル／ヘキサンあるいは１０％エーテル／ヘキサン
により展開し、標題化合物２．５９１９ （収率６８％
）を得た。
ｎ、７ ： １．５１３０
ＩＲ（ｎｅａｔ） ｃＩｎ−’ ： １，６７０．１，
２００．１，０２０．７４０．７０ＯＮＭＲ（ＣＣＬ、
）δ： １．６１ （ｂｓ、 ６Ｈ）、 １．７３．１
．７５ （ｅａｃｈｓ。
２００．１，０２０．７４０．７０ＯＮＭＲ（ＣＣＬ、
）δ： １．６１ （ｂｓ、 ６Ｈ）、 １．７３．１
．７５ （ｅａｃｈｓ。
６Ｈ）、 ２．０６（ｍ、 ４Ｈ）。
３．６６（ｍ、 ２Ｈ）、 ３．９１（ｄ、 ２Ｈ）。
３．９５（ｓ、 ２Ｈ）、 ４．３９（ｓ、 ２Ｈ）。
４．４９（ｂｓ、 ＬＨ）、 ５．２０（ｂｒ、 ＬＨ
）。
）。
５．３０（ｔ、 ＬＨ）、 ７．１５（ｓ、 ５Ｈ）（
１）の方法によって製造した（Ｚ、Ｚ）−Ｓ−ベンジル
オキシ−２，６−シメチルー１−テトラヒドロピラニル
オキシ−２，６−オクタジエン１．１７０９ （３，４
０ｍｍｏｌ ）とＩ）−）ルエンスルホン酸−水和物６
５ｍｇ（０，３４ｍｍｏｌ）の混合物をメタノール６０
ｍｌに溶かし。
１）の方法によって製造した（Ｚ、Ｚ）−Ｓ−ベンジル
オキシ−２，６−シメチルー１−テトラヒドロピラニル
オキシ−２，６−オクタジエン１．１７０９ （３，４
０ｍｍｏｌ ）とＩ）−）ルエンスルホン酸−水和物６
５ｍｇ（０，３４ｍｍｏｌ）の混合物をメタノール６０
ｍｌに溶かし。
室温で２７時間撹拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液を加え、中性から微アルカリ性にした後。
液を加え、中性から微アルカリ性にした後。
減圧下で濃縮する。水で希釈し、エーテル抽出。
洗浄（飽和塩化ナトリウム）、乾燥（ＭｇＳＯ，）後。
溶媒を留去し、標題化合物の粗生成物８３９ｍｇ（収率
９５％）を得た。シリカゲルクロマトグラフィーによっ
て精製し、標題化合物７９５Ｔｎ９（収率９０％）を得
た。
９５％）を得た。シリカゲルクロマトグラフィーによっ
て精製し、標題化合物７９５Ｔｎ９（収率９０％）を得
た。
ｎ二５： １．５２３８
ＩＲ（ｎｅａｔ） ＣＩｌ＋−’ ： ３，４００．１
，６７０．１，０７０．１，００５．７４０．７０ＯＮ
ＭＲ（ＣＣＩ、）δ： １．７３（ｓ、 ６Ｈ）、 ２
．０４（ｍ、 ４Ｈ）。
，６７０．１，０７０．１，００５．７４０．７０ＯＮ
ＭＲ（ＣＣＩ、）δ： １．７３（ｓ、 ６Ｈ）、 ２
．０４（ｍ、 ４Ｈ）。
２．５９（ｓ、 ＩＨ）、 ３．８９（ｄ、 ２Ｈ）。
３．９１（ｓ、 ２Ｈ）、 ４．３６（ｓ、 ２Ｈ）。
５．１４（ｔ、 ＩＨ）、 ５．３３（ｔ、 ＩＨ）７
．１８（ｓ、 ５Ｈ） 本実験によって得られたアルコール体は、 ６Ｚ体：
６Ｅ体＝９５：５であることをＧＬＣ分析により確認し
た。また２体が主生成物であることは、アルコール体を
酸化して得られるα、β−不飽和アルデヒドのＮＭＲに
よって確認した。
．１８（ｓ、 ５Ｈ） 本実験によって得られたアルコール体は、 ６Ｚ体：
６Ｅ体＝９５：５であることをＧＬＣ分析により確認し
た。また２体が主生成物であることは、アルコール体を
酸化して得られるα、β−不飽和アルデヒドのＮＭＲに
よって確認した。
（２）の方法によって得られたアルコール体５００ｍｇ
（１，９２ｍｍｏｌ）と、指示薬としてのトリフェニル
メタン２Ｔｎｇヲ無水エーテル４ＴＬＬとヘキサメチル
ホスホリルアミド（ＨＭＰＡ） １．４ ｍｌの混合溶
媒に溶解し。
（１，９２ｍｍｏｌ）と、指示薬としてのトリフェニル
メタン２Ｔｎｇヲ無水エーテル４ＴＬＬとヘキサメチル
ホスホリルアミド（ＨＭＰＡ） １．４ ｍｌの混合溶
媒に溶解し。
−６０℃に冷却する。これにｎ−ブチルリチウム（１，
５Ｍ へキサン溶液） １．３ ｍｌ （１，９５ｍｍ
ｏｌ）を１０分間で加えると、指示薬により赤色の溶液
となる。次いで昇温し、−３０℃でトシルクロライド４
４０ ｍｇ（２，３０ｍ ｍｏｌ ）のエーテル（４ｍ
Ｄ溶液を加え、−２０〜−工０°Ｃで５０分間撹拌した
。これに塩化リチウム１２３ ＴｒＬｇ （２，９ｍｍ
ｏｌ）を−１０℃で加え、その後ゆっくりと昇温し、室
温で１５時間撹拌した。次いでエーテル１０１ＦＬＬと
水７ｍＬを加え９反応を停止し２分液。
５Ｍ へキサン溶液） １．３ ｍｌ （１，９５ｍｍ
ｏｌ）を１０分間で加えると、指示薬により赤色の溶液
となる。次いで昇温し、−３０℃でトシルクロライド４
４０ ｍｇ（２，３０ｍ ｍｏｌ ）のエーテル（４ｍ
Ｄ溶液を加え、−２０〜−工０°Ｃで５０分間撹拌した
。これに塩化リチウム１２３ ＴｒＬｇ （２，９ｍｍ
ｏｌ）を−１０℃で加え、その後ゆっくりと昇温し、室
温で１５時間撹拌した。次いでエーテル１０１ＦＬＬと
水７ｍＬを加え９反応を停止し２分液。
抽出（エーテル：ヘキサン＝１：１）、洗浄（飽和食塩
水）、乾燥（Ｍｇ５ｏ、）後、溶媒を留去し、残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーに付し。
水）、乾燥（Ｍｇ５ｏ、）後、溶媒を留去し、残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーに付し。
５％ＩＤＥ／ヘキサンで展開し、目的物質である（ｚ。
ｚ）−８−ベンジルオキシ−１−クロロ−２，６−シメ
チルー２，６−オクタジエンを得た。（収率７６％） ＩＲ（ｎｅａｔ） Ｃｌ１１−’ ： １，６７０．１
，０７０．７４０．７０ＯＮＭＲ（ＣＣＩ４）δ： １
．７９（ｂｓ、 ６Ｈ）、 ２．１０（ｍ、 ４Ｈ）。
チルー２，６−オクタジエンを得た。（収率７６％） ＩＲ（ｎｅａｔ） Ｃｌ１１−’ ： １，６７０．１
，０７０．７４０．７０ＯＮＭＲ（ＣＣＩ４）δ： １
．７９（ｂｓ、 ６Ｈ）、 ２．１０（ｍ、 ４Ｈ）。
３．９２（ｄ、 ２Ｈ）、 ３．９５（ｓ、 ２Ｈ）。
４．４４（ｓ、 ２Ｈ）、 ５．３２（ｔ、 ＩＨ）。
５．４５（ｔ、 ＬＨ）、 ７．２６（ｓ、 ５Ｈ）な
お、この生成物が、出発物質であるアルコール体の立体
配置を保持していることはＨＰＬＣにより確認した。
お、この生成物が、出発物質であるアルコール体の立体
配置を保持していることはＨＰＬＣにより確認した。
特許出願人
工−ザイ株式会社
Claims (6)
- （１）一般式 （式中Ｒは水酸基の保護基を示し、 Ａｒはアリール基
を示す） で表わされる（Ｚ、 Ｚ、 Ｅ、 Ｅ）−ポリプレニル
アルコール誘導体にリチウム−低級アルキルアミンで脱
スルホン酸操作をおこない、かつ水酸基の保護基を除去
することを特徴とする次の構造式で表わされル（Ｚ、
Ｚ、 Ｚ、 Ｚ、 Ｅ、 Ｅ）−ヘプタプレノールの製
造方法。 - （２）一般式 （式中Ａｒはアリール基を意味する） で表わされる（Ｚ、 Ｚ、 Ｅ、 Ｅ）−ポリプレニル
スルホン系化合物に、一般式 （式中Ｘはハロゲンを意味し、Ｒは水酸基の保護基を意
味する） で表わされる（２．２）−プレノール誘導体を反応せし
めて、一般式 （式中上およびＲは前記の意味を有する）で表わされる
（Ｚ、 Ｚ、 Ｚ、 Ｚ、 Ｅ、 Ｅ）−ポリプレニル
アルコール誘導体を得２次いで該化合物にリチウム−低
級アルキルアミンで脱スルホン酸操作をおこない、かつ
水酸基の保護基を除去することを特徴とする次の構造式 で表ｈ サＦＬ ル（Ｚ、 Ｚ、 Ｚ、 Ｚ、 Ｅ、
Ｅ） −ヘプタプレノールの製造方法。 - （３）一般式 （式中Ｈａｌはハロゲンを意味する） で表わされる（Ｚ、 Ｚ、 Ｅ、 Ｅ）−ペンタプレノ
ール誘導体に、一般式 Ａｒ５Ｏ，、Ｎａ （式中Ａｒはアリール基を意味する
）で表わされるアリールスルホン酸ナトリウムを反応せ
しめて、一般式 （式中舒は前記の意味を有する） で表わ、される（Ｚ、 Ｚ、 Ｅ、 Ｅ）−ポリプレニ
ルスルホン系化合物を得９次いで陣化合物に、一般式（
式中Ｘはハロゲンを意味し、Ｒは水酸基の保護基を意味
する） で表わされる（２．２）−プレノール誘導体を反応せし
めて、一般式 （式中層およびＲは前記の意味を有する）で表わサレル
（Ｚ、 Ｚ、 Ｚ、 Ｚ、 Ｅ、 Ｅ）−ポリプレノー
ルアルコール誘導体を得２次いで該化合物にリチウム−
低級アルキルアミンで脱スルホン酸操作をおこない、か
つ水酸基の保護基を除去することを特徴とする次の構造
式 ％式％ - （４）次の構造式 で表わされる（Ｚ、 Ｚ、 Ｅ、 Ｅ）−ペンタプレノ
ールをハロゲン化せしめて、一般式 （式中Ｈａｌはハロゲンを意味する）で表わされる（Ｚ
、 Ｚ、 Ｅ、 Ｅ）−ペンタプレノール誘導体を得２
次いで該化合物に一般式 Ａｒ５Ｏ２Ｎａ （式中Ａｒはアリール基を意味する）
で表わされるアリールスルホン酸ナトリウムを反応せし
めて、一般式 （式中Ａｒは前記の意味を有する） で表わされる（Ｚ、 Ｚ、 Ｅ、 Ｅ）−ポリプレニル
スルホン系化合物を得２次いで該化合物に、一般式（式
中Ｘはハロゲンを意味し、Ｒは水酸基の保護基を意味す
る） で表わされる（２．２）−プレノール誘導体を反応せし
めて、一般式 （式中ＡｒおよびＲは前記の意味を有する）で表ワサｉ
ル（Ｚ、 Ｚ、 Ｚ、 Ｚ、 Ｅ、 Ｅ）−ボリプレノ
ールアルコール誘導体を得２次いで該化合物にリチウム
−低級アルキルアミンで脱スルホン酸操作をおこない、
かつ水酸基の保護基を除去することを特徴とする次の構
造式 で表わされル（Ｚ、 Ｚ、 Ｚ、 Ｚ、 Ｅ、 Ｅ）−
ヘ−＃−１’し／ −ルの製造方法。 - （５）一般式 （式中Ａｒはアリール基を意味し、Ｒは水酸基の保護基
を意味する） で表わされる（Ｚ、 Ｚ、 Ｅ、 Ｅ）−ポリプレニル
スルホン系化合物に、リチウム−低級アルキルアミンの
存在化で脱スルホン酸操作をおこない、かつ水酸基の保
護を除去して、一般式 で表わされる（Ｚ、 Ｚ、 Ｅ、 Ｅ）−ペンタプレノ
ールを得２次いで該化合物をノ＼ロゲン化せしめて、一
般式 （式中Ｈａｌはハロゲンを意味する） で表わされる（Ｚ、 Ｚ、 Ｅ、 Ｅ）−ペンタプレノ
ール誘導体を得９次いで該化合物に；一般式 Ａｒ５Ｏ，、Ｎａ （式中Ａｒはアリール基を意味する
）で表わされるアリールスルホン酸ナトリウムを反応せ
しめて、一般式 （式中Ａｒは前記の意味を有する） で表わされる（Ｚ、 Ｚ、 Ｅ、 Ｅ）−ポリプレニル
スルホン（式中Ｘはハロゲンを意味し，Ｒは水酸基の保
護基を意味する） で表わされる（２．２）−プレノール誘導体を反応せし
めて，一般式 （式中ＡｒおよびＲは前記の意味を有する）で表わされ
る（Ｚ， Ｚ， Ｚ， Ｚ， Ｅ， Ｅ）−ポリプレノ
ールアルコール誘導体を得，次いで該化合物にリチウム
−低級アルギルアミンで脱スルホン酸操作をおこない，
かつ水酸基の保護基を除去することを特徴とする次の構
造式 で表わすｔＬ ６ （Ｚ， Ｚ， Ｚ， Ｚ， Ｅ，
Ｅ）−ヘプタプレノールの製造方法。 - （６）一般式 （式中Ａｒはアリール基を意味する） で表わされる（Ｅ， Ｅ）−ファルネシルアリルスルホ
ンに一般式 （式中Ｘはハロゲンを意味し，Ｒは水酸基の保護基を意
味する） で表わされる（２． ２）−プレノール誘導体を反応せ
しめて，一般式 （ＡｒおよびＲは，前記の意味を有する）で表わされる
（Ｚ、 Ｚ、 Ｅ、 Ｅ）−ポリプレニルスルポン系化
合物を得９次いで該化合物に、リチウム−低級アルキル
アミンの存在化で、脱スルホン酸操作をおこない、かつ
水酸基の保護基を除去して。 一般式 で表わされる（Ｚ、 Ｚ、 Ｅ、 Ｅ）−ペンタプレノ
ールを得２次いで該化合物をハロゲン化せしめて、一般
式 （式中Ｈａｌはハロゲンを意味する） で表わされる（Ｚ、 Ｚ、 Ｅ、 Ｅ）−ペンタプレノ
ール誘導体を得２次いで該化合物に、一般式 Ａｒ Ｓｏ□Ｎａ（式中Ａｒはアリール基を意味する）
で表わされる°ｒクリールルホン酸ナトリウムを反応せ
しめて、一般式 （式中Ａｒは前記の意味を有する） で表わされる（Ｚ、 Ｚ、 Ｅ、 Ｅ）−ポリプレニル
スルホン系化合物を得１次いで該化合物に、一般式（式
中Ｘはハロゲンを意味し、Ｒは水酸基の保護基を意味す
る） で表わされる（２．２）−プレノール誘導体を反応せし
めて、一般式 （式中ＭおよびＲは前記の意味を有する）で表ワサｉル
（Ｚ、 Ｚ、 Ｚ、 Ｚ、 Ｅ、 Ｅ）−ポＩ）”ｊ’
し／ −ルアルコール誘導体を得１次いで該化合物にリ
チウム−低級アルキルアミンで脱スルホン酸操作をおこ
ない、かつ水酸基の保護基を除去することを特徴とする
次の構造式 で表ワサれ；６ （Ｚ、 Ｚ、 Ｚ、 Ｚ、 Ｅ、 Ｅ
）−ヘプタプレノールの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58024546A JPS59152339A (ja) | 1983-02-18 | 1983-02-18 | （ｚ，ｚ，ｚ，ｚ，ｅ，ｅ）−ヘプタプレノ−ルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58024546A JPS59152339A (ja) | 1983-02-18 | 1983-02-18 | （ｚ，ｚ，ｚ，ｚ，ｅ，ｅ）−ヘプタプレノ−ルの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59152339A true JPS59152339A (ja) | 1984-08-31 |
Family
ID=12141147
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58024546A Pending JPS59152339A (ja) | 1983-02-18 | 1983-02-18 | （ｚ，ｚ，ｚ，ｚ，ｅ，ｅ）−ヘプタプレノ−ルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59152339A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6259233A (ja) * | 1985-09-09 | 1987-03-14 | Eisai Co Ltd | ドリコ−ル類の製造方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5384908A (en) * | 1976-12-29 | 1978-07-26 | Takeda Chem Ind Ltd | Preparation of prenyl derivatives |
| JPS5430102A (en) * | 1977-08-11 | 1979-03-06 | Takeda Chem Ind Ltd | Carbon-carbon bond formation |
| JPS5430107A (en) * | 1977-08-08 | 1979-03-06 | Takeda Chem Ind Ltd | Preparation of polyprenyl alcohols |
-
1983
- 1983-02-18 JP JP58024546A patent/JPS59152339A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5384908A (en) * | 1976-12-29 | 1978-07-26 | Takeda Chem Ind Ltd | Preparation of prenyl derivatives |
| JPS5430107A (en) * | 1977-08-08 | 1979-03-06 | Takeda Chem Ind Ltd | Preparation of polyprenyl alcohols |
| JPS5430102A (en) * | 1977-08-11 | 1979-03-06 | Takeda Chem Ind Ltd | Carbon-carbon bond formation |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6259233A (ja) * | 1985-09-09 | 1987-03-14 | Eisai Co Ltd | ドリコ−ル類の製造方法 |
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