JPH0582383B2 - - Google Patents
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Epoxy Compounds (AREA)
- Pyrane Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
〔産業上の利用分野〕
本発明は、天然型のポリプレノールを合成的に
製造するにあたり、重要な中間体であるシス型イ
ソプレノイドに関する。 更に詳しく述べれば、次の一般式
製造するにあたり、重要な中間体であるシス型イ
ソプレノイドに関する。 更に詳しく述べれば、次の一般式
近年、種々のポリプレノールが、動物、植物、
微生物から単離され、その後ポリプレノールは、
多糖類、ペプチドグルカン、糖蛋白質などの合成
の中間体として生体内で重要な働きをしているこ
とが徐々に明らかとされており、医薬品、食品な
どとして利用できる可能性が大きい。 しかしながら、これらのポリプレノール類は、
イソプレン単位で構成されているため、シス型イ
ソプレン、トランス型イソプレンが存在し、天然
型のものは、これらが特定の配列になつているた
め、これを合成的に得ることは従来困難であつ
た。一方、これを含有している動植物から抽出・
単離する方法は、資源的に限界があり、大量生産
には適さず、したがつて工業的ではない。 〔問題点を解決するための手段〕 そこで、本発明者等は、天然に存在するポリプ
レノールと同じ立体配位を有するものを合成法に
よつて得ることを長年にわたつて鋭意研究を重ね
てきたが、次の一般式で示されるシス型イソプレ
ノイド
微生物から単離され、その後ポリプレノールは、
多糖類、ペプチドグルカン、糖蛋白質などの合成
の中間体として生体内で重要な働きをしているこ
とが徐々に明らかとされており、医薬品、食品な
どとして利用できる可能性が大きい。 しかしながら、これらのポリプレノール類は、
イソプレン単位で構成されているため、シス型イ
ソプレン、トランス型イソプレンが存在し、天然
型のものは、これらが特定の配列になつているた
め、これを合成的に得ることは従来困難であつ
た。一方、これを含有している動植物から抽出・
単離する方法は、資源的に限界があり、大量生産
には適さず、したがつて工業的ではない。 〔問題点を解決するための手段〕 そこで、本発明者等は、天然に存在するポリプ
レノールと同じ立体配位を有するものを合成法に
よつて得ることを長年にわたつて鋭意研究を重ね
てきたが、次の一般式で示されるシス型イソプレ
ノイド
【化】
(式中X,R,Arは前記の意味を有する)
が種々のポリプレノールを合成する際に重要な中
間体であり、これを出発物質とすれば、種々の天
然型の立体配位を有するポリプレノールが製造で
きることを見い出し本発明を完成したものであ
る。 即ち、本発明化合物であるシス型イソプレノイ
ドは2〜3個のイソプレン単位がいずれもシス型
〔一般式()においてXが水素原子のときは2
個〕であるので、これを利用することにより、
種々の天然ポリプレノール、例えばバクテリアル
プレノール(Bacterialprenol)、ベツラプレノー
ル(Betulaprenol)、ウンデカプレノール
(Undecaprenol)、フイカプレノール
(Ficaprenol)、ドリコール(Dolichol)またはヘ
キサヒドロポリプレノール
(Hexahydropolyoprenol)類などを合成するこ
とが可能である。 これらの天然ポリプレノールは一般的には次の
一般式
間体であり、これを出発物質とすれば、種々の天
然型の立体配位を有するポリプレノールが製造で
きることを見い出し本発明を完成したものであ
る。 即ち、本発明化合物であるシス型イソプレノイ
ドは2〜3個のイソプレン単位がいずれもシス型
〔一般式()においてXが水素原子のときは2
個〕であるので、これを利用することにより、
種々の天然ポリプレノール、例えばバクテリアル
プレノール(Bacterialprenol)、ベツラプレノー
ル(Betulaprenol)、ウンデカプレノール
(Undecaprenol)、フイカプレノール
(Ficaprenol)、ドリコール(Dolichol)またはヘ
キサヒドロポリプレノール
(Hexahydropolyoprenol)類などを合成するこ
とが可能である。 これらの天然ポリプレノールは一般的には次の
一般式
【化】
(式中mはトランスイソプレン単位の数を示
し、nはシスイソプレン単位の数を示す) で表わすことが可能であるが、本発明化合物の炭
素20個のシスイソプレノイドを利用することによ
りアルコール末端(α末端)にシスイソプレン単
位を数個導入することができる。特に本発明化合
物は、炭素数20個のシスイソプレノイドであるた
め、上記の如き天然ポリプレノールを合成する
際、能率のよい炭素鎖伸長剤であり、本発明の価
値は極めて高いものである。 したがつて、本発明の目的は、天然型の種々の
ポリプレノールを製造するに有用な新規な中間体
を提供するにある。 更に本発明の目的は、天然型の種々のポリプレ
ノールを製造するに有用な新規な中間体を製造す
る方法を提供するにある。 本発明化合物()において、Xの定義にみら
れるハロゲン原子とは、例えば塩素、臭素、ヨウ
素、フツ素などを意味する。またRの定義におけ
る水酸基の保護基とは、通常使用されるものであ
ればいかなるものでもよく特に限定されないが、
例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチルなど
の低級アルキル基、ベンジル、フエネチル、ベン
ツヒドリルなどのアラルキル基、アセチル、プロ
ピオニル、ピバロイルなどのアシル基、テトラヒ
ドロピラニル基、メトキシメチル基、メトキシエ
トキシメチル基などをあげることができる。また
アリール基とは、例えば、フエニル基、パラ−ト
リル基、キシリル基、ナフチル基などをあげるこ
とができる。 本発明化合物のシスイソプレノイドの製造方法
としては例えば次のような方法をあげることがで
きる。
し、nはシスイソプレン単位の数を示す) で表わすことが可能であるが、本発明化合物の炭
素20個のシスイソプレノイドを利用することによ
りアルコール末端(α末端)にシスイソプレン単
位を数個導入することができる。特に本発明化合
物は、炭素数20個のシスイソプレノイドであるた
め、上記の如き天然ポリプレノールを合成する
際、能率のよい炭素鎖伸長剤であり、本発明の価
値は極めて高いものである。 したがつて、本発明の目的は、天然型の種々の
ポリプレノールを製造するに有用な新規な中間体
を提供するにある。 更に本発明の目的は、天然型の種々のポリプレ
ノールを製造するに有用な新規な中間体を製造す
る方法を提供するにある。 本発明化合物()において、Xの定義にみら
れるハロゲン原子とは、例えば塩素、臭素、ヨウ
素、フツ素などを意味する。またRの定義におけ
る水酸基の保護基とは、通常使用されるものであ
ればいかなるものでもよく特に限定されないが、
例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチルなど
の低級アルキル基、ベンジル、フエネチル、ベン
ツヒドリルなどのアラルキル基、アセチル、プロ
ピオニル、ピバロイルなどのアシル基、テトラヒ
ドロピラニル基、メトキシメチル基、メトキシエ
トキシメチル基などをあげることができる。また
アリール基とは、例えば、フエニル基、パラ−ト
リル基、キシリル基、ナフチル基などをあげるこ
とができる。 本発明化合物のシスイソプレノイドの製造方法
としては例えば次のような方法をあげることがで
きる。
【化】
【化】
【化】
【化】
【化】
(上記の一連の式において、THPOはテトラ
ヒドロピラニルオキシ基を意味し、Halはハロゲ
ン原子を意味し、またR,Arは前記の意味を有
する) 即ち、()で表わされるイソプレン単位がい
ずれもシス体である炭素数10のスルホンを、n−
ブチルリチウムでスルホンのα位をアニオンとし
た後、()で表わされるイソプレン単位がいず
れもシス体である炭素数10のシスイソプレノイド
を反応させ、カツプリング体である化合物()
で表わされる(Z,Z,Z)−ポリプレニルアリ
ールスルホン系化合物を得る。この反応は、例え
ばテトラヒドロフラン(THF)、ヘキサメチレン
ホスホリルアミド(HMPA)の混合溶媒中、−50
〜−80℃程度の低温でおこなうことが好ましい。 次いで得られたカツプリング体()の水酸基
の保護基を脱離せしめて目的物質の一つである炭
素数20のシスイソプレノイド(′)とする。水
酸基の保護基を脱離するには、常法にしたがつて
酸によつて脱離するが、好ましい例としては、メ
タノール溶媒中p−トルエンスルホン酸などをあ
げることができる。 次いで(′)を更に常法によりハロゲン化し、
目的物質の一つである炭素数20のシスイソプレノ
イド(″)とする。 なお、本発明において出発物質として用いる化
合物()は、例えば次の方法で合成することが
できる。
ヒドロピラニルオキシ基を意味し、Halはハロゲ
ン原子を意味し、またR,Arは前記の意味を有
する) 即ち、()で表わされるイソプレン単位がい
ずれもシス体である炭素数10のスルホンを、n−
ブチルリチウムでスルホンのα位をアニオンとし
た後、()で表わされるイソプレン単位がいず
れもシス体である炭素数10のシスイソプレノイド
を反応させ、カツプリング体である化合物()
で表わされる(Z,Z,Z)−ポリプレニルアリ
ールスルホン系化合物を得る。この反応は、例え
ばテトラヒドロフラン(THF)、ヘキサメチレン
ホスホリルアミド(HMPA)の混合溶媒中、−50
〜−80℃程度の低温でおこなうことが好ましい。 次いで得られたカツプリング体()の水酸基
の保護基を脱離せしめて目的物質の一つである炭
素数20のシスイソプレノイド(′)とする。水
酸基の保護基を脱離するには、常法にしたがつて
酸によつて脱離するが、好ましい例としては、メ
タノール溶媒中p−トルエンスルホン酸などをあ
げることができる。 次いで(′)を更に常法によりハロゲン化し、
目的物質の一つである炭素数20のシスイソプレノ
イド(″)とする。 なお、本発明において出発物質として用いる化
合物()は、例えば次の方法で合成することが
できる。
【化】
(上記の一連の式において、THPO,R,Ar
は前述の意味を有する) 即ち、イソプレン単位がいずれもシス体である
炭素数10個のイソプレノイド()の末端アルコ
ールの保護基を除去して、化合物()とする。
この際化合物()のRとしてはしばしばベンジ
ル基が用いられる。この反応は、Li/EtNH2な
ど還元力の強い系で還元的脱離をおこなうとベン
ジル基のみならず、テトラヒドロピラニル基も脱
離してネロールを得てしまう。好ましい方法とし
てはNa/liqNH3で−65℃前後の温度で反応をす
ばやくおこなう。 得られたアルコール体()は通常の方法を用
いて、クロル体などのハロゲン体とした後、アリ
ールスルホン酸ナトリウムを加えて反応せしめス
ルホン体()を得ることが可能である。ハロゲ
ン体を得る方法としては代表的な方法として次の
2つをあげることが可能である。 (A法) アルコール体と、S−コリジンの混合
物に、塩化リチウムのDMF溶液を加え、これ
にメタンスルホニルクロライドを加え0〜5℃
で反応をおこなう方法。 (B法) アルコール体のエーテル−HMPA溶
液に、−50〜−60℃でn−ブチルリチウムを加
え、これに更にp−トルエンスルホニルクロラ
イドのエーテル溶液を加え、次に塩化リチウム
を加えて反応をおこなう方法。 又、出発物質として用いる化合物()は例え
ば次の方法でシトロネロールから合成することが
できる。
は前述の意味を有する) 即ち、イソプレン単位がいずれもシス体である
炭素数10個のイソプレノイド()の末端アルコ
ールの保護基を除去して、化合物()とする。
この際化合物()のRとしてはしばしばベンジ
ル基が用いられる。この反応は、Li/EtNH2な
ど還元力の強い系で還元的脱離をおこなうとベン
ジル基のみならず、テトラヒドロピラニル基も脱
離してネロールを得てしまう。好ましい方法とし
てはNa/liqNH3で−65℃前後の温度で反応をす
ばやくおこなう。 得られたアルコール体()は通常の方法を用
いて、クロル体などのハロゲン体とした後、アリ
ールスルホン酸ナトリウムを加えて反応せしめス
ルホン体()を得ることが可能である。ハロゲ
ン体を得る方法としては代表的な方法として次の
2つをあげることが可能である。 (A法) アルコール体と、S−コリジンの混合
物に、塩化リチウムのDMF溶液を加え、これ
にメタンスルホニルクロライドを加え0〜5℃
で反応をおこなう方法。 (B法) アルコール体のエーテル−HMPA溶
液に、−50〜−60℃でn−ブチルリチウムを加
え、これに更にp−トルエンスルホニルクロラ
イドのエーテル溶液を加え、次に塩化リチウム
を加えて反応をおこなう方法。 又、出発物質として用いる化合物()は例え
ば次の方法でシトロネロールから合成することが
できる。
【化】
【化】
【化】
【化】
【化】
【化】
【化】
本発明によつて得られる炭素数20個のシスイソ
プレノイドは、天然ポリプレノールを合成する際
に、極めて能率のよい炭素鎖伸長剤であり、本発
明の価値は高い。 本発明のシスイソプレノイドを利用した天然ポ
リプレノールの合成の例として、ドリコール−7
の例を以下に具体的に示す。 (1) ドリコール−7の合成
プレノイドは、天然ポリプレノールを合成する際
に、極めて能率のよい炭素鎖伸長剤であり、本発
明の価値は高い。 本発明のシスイソプレノイドを利用した天然ポ
リプレノールの合成の例として、ドリコール−7
の例を以下に具体的に示す。 (1) ドリコール−7の合成
【化】
【化】
【化】
次に本発明を更に詳細に説明するため実施例を
以下に掲げるが、本発明がこれらのみに限定され
ることがないことはいうまでもない。 実施例1(2Z,6Z,10Z)−1−クロロ−2,6,
10,14−テトラメチル−8−(p−トリルスル
ホニル)ヘキサデカ−2,6,10−トリエンの
合成 〔1〕 8−ベンジルオキシ−2,3−エポキシ
−2,6−ジメチルオクタン(1)〜の合成 K.Mori等の方法により合成した。(シトロネロ
ールよりベンジルエーテル化とエポキシ化を経由
して合成) K.Mori,S.Masuda,M.Matsui,Agr.Biol,
Chem.,42(5)1015(1978)。
以下に掲げるが、本発明がこれらのみに限定され
ることがないことはいうまでもない。 実施例1(2Z,6Z,10Z)−1−クロロ−2,6,
10,14−テトラメチル−8−(p−トリルスル
ホニル)ヘキサデカ−2,6,10−トリエンの
合成 〔1〕 8−ベンジルオキシ−2,3−エポキシ
−2,6−ジメチルオクタン(1)〜の合成 K.Mori等の方法により合成した。(シトロネロ
ールよりベンジルエーテル化とエポキシ化を経由
して合成) K.Mori,S.Masuda,M.Matsui,Agr.Biol,
Chem.,42(5)1015(1978)。
【化】
〔2〕 6−ベンジルオキシ−4−メチルヘキサ
ナール(2)〜の合成 50mlの三ツ口フラスコに温度計をとりつけ、12
mlの水に溶かした過ヨウ素酸2.03g(8.9mmol)
を入れる。マグネテイツクスターラーにより攪拌
しながら、室温で25mlのジオキサンに溶かしたエ
ポキシ体(1)〜2.02g(7.7mmol)を20分間で滴下
する。更に室温で3時間攪拌する。水30mlで希釈
し、エーテル−ヘキサン(1:1)で抽出する
(15ml×5)。抽出液は飽和食塩水で2回洗浄し、
硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去した
後、ワコーゲルC−200、100gのカラムクロマト
グラフイーにかけ、エーテル−ヘキサンで展開す
る(エーテル:ヘキサン=1:4〜2:3)。6
−ベンジルオキシ−4−メチルヘキサナール(2)〜
を1.31g(収率77%)得た。
ナール(2)〜の合成 50mlの三ツ口フラスコに温度計をとりつけ、12
mlの水に溶かした過ヨウ素酸2.03g(8.9mmol)
を入れる。マグネテイツクスターラーにより攪拌
しながら、室温で25mlのジオキサンに溶かしたエ
ポキシ体(1)〜2.02g(7.7mmol)を20分間で滴下
する。更に室温で3時間攪拌する。水30mlで希釈
し、エーテル−ヘキサン(1:1)で抽出する
(15ml×5)。抽出液は飽和食塩水で2回洗浄し、
硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去した
後、ワコーゲルC−200、100gのカラムクロマト
グラフイーにかけ、エーテル−ヘキサンで展開す
る(エーテル:ヘキサン=1:4〜2:3)。6
−ベンジルオキシ−4−メチルヘキサナール(2)〜
を1.31g(収率77%)得た。
【化】
ir.(neat)cm-1:2720,1720,1100,740,700
n.m.r(CCl4)δ:0.89(d,3H,J=6Hz),1.17
〜2.00(m,5H),2.37(t,2H,J=6Hz),
3.42(t,2H,J=6Hz),4.41(s,2H),
7.27(s,5H),9.70(t,1H,J=1.5Hz) 〔3〕 6−ベンジルオキシ−4−メチルヘキサ
ン−1−オール(3)〜の合成 30mlの三ツ口フラスコに攪拌装置、乾燥管、温
度計、を取りつけ、窒素下で水素化ホウ素ナトリ
ウム158mg(4.16mmol)、6−ベンジルオキシ−
4−メチルヘキサナール(2)〜809mg(3.68mmol)、
無水エタノール14mlを入れ、室温で攪拌すること
2時間、TLCで反応の終結を確認した後、10%
の硫酸水溶液約5mlを注意深くゆつくりと加え系
が酸性になることを確認する。15mlの水で希釈
し、ヘキサン(10ml×5)、エーテル(10ml×3)
で抽出する。抽出液は飽和食塩水で洗浄した後、
硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去した
後、ワコーゲルC−200,50gのカラムクロマト
グラフイーにかけ酢酸エチル−ヘキサンの溶媒で
展開する(酢酸エチル:ヘキサン=1:4〜2:
3)。6−ベンジルオキシ−4−メチルヘキサン
−1−オール(3)〜を708mg(収率87%)得た。
〜2.00(m,5H),2.37(t,2H,J=6Hz),
3.42(t,2H,J=6Hz),4.41(s,2H),
7.27(s,5H),9.70(t,1H,J=1.5Hz) 〔3〕 6−ベンジルオキシ−4−メチルヘキサ
ン−1−オール(3)〜の合成 30mlの三ツ口フラスコに攪拌装置、乾燥管、温
度計、を取りつけ、窒素下で水素化ホウ素ナトリ
ウム158mg(4.16mmol)、6−ベンジルオキシ−
4−メチルヘキサナール(2)〜809mg(3.68mmol)、
無水エタノール14mlを入れ、室温で攪拌すること
2時間、TLCで反応の終結を確認した後、10%
の硫酸水溶液約5mlを注意深くゆつくりと加え系
が酸性になることを確認する。15mlの水で希釈
し、ヘキサン(10ml×5)、エーテル(10ml×3)
で抽出する。抽出液は飽和食塩水で洗浄した後、
硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去した
後、ワコーゲルC−200,50gのカラムクロマト
グラフイーにかけ酢酸エチル−ヘキサンの溶媒で
展開する(酢酸エチル:ヘキサン=1:4〜2:
3)。6−ベンジルオキシ−4−メチルヘキサン
−1−オール(3)〜を708mg(収率87%)得た。
【化】
i.r.(neat)cm-1:3400,1060,740,700
n.m.r(CCl4)δ:0.89(d,3H,J=6Hz),1.10
〜1.87(m,7H),2.08(s,1H),3.47(m,
4H),4.42(s,2H),7.23(s,5H) 〔4〕 6−ベンジルオキシ−4−メチルヘキシ
ルトシラート(4)〜の合成 50mlの三ツ口フラスコに塩化カルシウム管、温
度計、攪拌子をセツトし、6−ベンジルオキシ−
4−メチルヘキサン−1−オール(3)〜を3.00g
(13.5mmol)、乾燥ピリジン27mlを入れ、0℃ま
で攪拌しながら冷やす。粉状トシルクロライド
5.33g(27.9mmol)を10分間で少しずつ加える。
0〜−5℃で5時間攪拌し、TLCで原料のスポ
ツトが消えたことを確認した。反応液を27mlの水
で希釈した後、エーテルで抽出し(25ml×5)抽
出液は、希塩酸で洗浄した後、水、飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液、飽和食塩水の順で洗浄した。
硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去したもの
は、TLC/Rf=0.41/20%酢酸エチル(ヘキサン
中)、NMRともに単品であることが確認される
6−ベンジルオキシ−4−メチル−ヘキシルトシ
ラート(4)〜5.00g(収率定量的)であつた。
〜1.87(m,7H),2.08(s,1H),3.47(m,
4H),4.42(s,2H),7.23(s,5H) 〔4〕 6−ベンジルオキシ−4−メチルヘキシ
ルトシラート(4)〜の合成 50mlの三ツ口フラスコに塩化カルシウム管、温
度計、攪拌子をセツトし、6−ベンジルオキシ−
4−メチルヘキサン−1−オール(3)〜を3.00g
(13.5mmol)、乾燥ピリジン27mlを入れ、0℃ま
で攪拌しながら冷やす。粉状トシルクロライド
5.33g(27.9mmol)を10分間で少しずつ加える。
0〜−5℃で5時間攪拌し、TLCで原料のスポ
ツトが消えたことを確認した。反応液を27mlの水
で希釈した後、エーテルで抽出し(25ml×5)抽
出液は、希塩酸で洗浄した後、水、飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液、飽和食塩水の順で洗浄した。
硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去したもの
は、TLC/Rf=0.41/20%酢酸エチル(ヘキサン
中)、NMRともに単品であることが確認される
6−ベンジルオキシ−4−メチル−ヘキシルトシ
ラート(4)〜5.00g(収率定量的)であつた。
【化】
i.r.(neat)cm-1:1600,1360,1180,1095,740,
700,665 n.m.r.(CCl4)δ:0.87(d,3H,J=6Hz),
1.10〜1.87(m,7H),2.43(s,3H),3.38
(t,2H,J=6Hz),3.93(t,2H,J=
6Hz),4.40(s,2H),7.20(s,5H),7.22
(d,2H,J=9Hz),7.72(d,2H,J=
9Hz) 〔5〕 1−ベンジルオキシ−6−ヨード−3−
メチルヘキサン(5)〜の合成 500mlの4ツ口フラスコに温度計、塩化カルシ
ウム管、攪拌子を取りつけ、トシラート(4)〜5.00
g(13.3mmol)、ヨウ化ナトリウム16.2g
(106mmol)、アセトン250mlを入れ、室温で15時
間攪拌し、TLCで反応の終結を見た。チオ硫酸
ナトリウム1.7gを溶かした水100mlで反応液を希
釈し、ヘキサン(30ml×4)で抽出した。抽出液
は水、飽和食塩水で洗浄して硫酸マグネシウムで
乾燥した。 溶媒を留去したものは、TLC(Rf=0.62/30%
酢酸エチル(ヘキサン中))、NMRともにほぼ単
品である1−ベンジルオキシ−6−ヨード−3−
メチルヘキサン(5)〜が4.14g(収率94%)得られ
た。
700,665 n.m.r.(CCl4)δ:0.87(d,3H,J=6Hz),
1.10〜1.87(m,7H),2.43(s,3H),3.38
(t,2H,J=6Hz),3.93(t,2H,J=
6Hz),4.40(s,2H),7.20(s,5H),7.22
(d,2H,J=9Hz),7.72(d,2H,J=
9Hz) 〔5〕 1−ベンジルオキシ−6−ヨード−3−
メチルヘキサン(5)〜の合成 500mlの4ツ口フラスコに温度計、塩化カルシ
ウム管、攪拌子を取りつけ、トシラート(4)〜5.00
g(13.3mmol)、ヨウ化ナトリウム16.2g
(106mmol)、アセトン250mlを入れ、室温で15時
間攪拌し、TLCで反応の終結を見た。チオ硫酸
ナトリウム1.7gを溶かした水100mlで反応液を希
釈し、ヘキサン(30ml×4)で抽出した。抽出液
は水、飽和食塩水で洗浄して硫酸マグネシウムで
乾燥した。 溶媒を留去したものは、TLC(Rf=0.62/30%
酢酸エチル(ヘキサン中))、NMRともにほぼ単
品である1−ベンジルオキシ−6−ヨード−3−
メチルヘキサン(5)〜が4.14g(収率94%)得られ
た。
【化】
i.r.(neat)cm-1:1600,1360,1180,1095,740,
700 n.m.r(CCl4)δ:0.88(d,3H,J=6Hz),1.17
〜1.97(m,7H),3.10(t,2H,J=6Hz),
3.43(t,2H,J=6Hz),4.40(s,2H),
7.20(s,5H) 〔6〕 (6−ベンジルオキシ−4−メチルヘキ
サン−1−イル)トリフエニルホスホニウムヨ
ージド(6)〜の合成 50mlの三ツ口フラスコに塩化カルシウム管付ア
リーン冷却管、温度計、攪拌子を取り付け、ヨー
ド体(5)〜3.20g(9.64mmol)、トリフエニルホス
フイン6.32g(24mmol)、ベンゼン25mlを入れ、
アルミホイルをフラスコに巻くことで光をさえぎ
り、24時間、還流下で攪拌する。TLCで原料の
ヨード体(5)〜がなくなつたことを確認し、反応液
を室温まで冷やす。反応液を、激しく攪拌された
250mlのエーテル中へあけ、10分間攪拌を続けた
後、ロ過し、エーテルで完全に洗浄する。白い結
晶であるホスホニウム塩(6)〜が収率90%で得られ
た。
700 n.m.r(CCl4)δ:0.88(d,3H,J=6Hz),1.17
〜1.97(m,7H),3.10(t,2H,J=6Hz),
3.43(t,2H,J=6Hz),4.40(s,2H),
7.20(s,5H) 〔6〕 (6−ベンジルオキシ−4−メチルヘキ
サン−1−イル)トリフエニルホスホニウムヨ
ージド(6)〜の合成 50mlの三ツ口フラスコに塩化カルシウム管付ア
リーン冷却管、温度計、攪拌子を取り付け、ヨー
ド体(5)〜3.20g(9.64mmol)、トリフエニルホス
フイン6.32g(24mmol)、ベンゼン25mlを入れ、
アルミホイルをフラスコに巻くことで光をさえぎ
り、24時間、還流下で攪拌する。TLCで原料の
ヨード体(5)〜がなくなつたことを確認し、反応液
を室温まで冷やす。反応液を、激しく攪拌された
250mlのエーテル中へあけ、10分間攪拌を続けた
後、ロ過し、エーテルで完全に洗浄する。白い結
晶であるホスホニウム塩(6)〜が収率90%で得られ
た。
【化】
m.p. 125〜126℃
i.r.(KBr)cm-1:1440,1110,1000,760,740,
700 n.m.r(CDCl3)δ:0.87(d,3H,J=6Hz),
1.10〜2.00(m,7H),3.45(m,4H),4.42
(s,2H),7.21(s,5H),7.67〜7.80(m,
15H) 〔7〕 (Z)−8−ベンジルオキシ−2,6−
ジメチル−1−テトラヒドロピラニルオキシ−
2−オクテン(7)〜の合成 ホスホニウム塩(6)〜20.8g(34.9mmol)を無
水テトラヒドロフラン(THF)660mlに懸濁さ
せ、−70℃に冷却する。n−ブチルリチウム
(1.53Mヘキサン中)25.1ml(38.4mmol)を20分
かけて加え、同温度で4時間攪拌した。溶液は暗
赤色になる。テトラヒドロピラニルオキシアセト
ン6.64g(33.0mmol)の無水THF(33ml)溶液
を30分かけて加えた。更に1時間−72℃〜−70℃
で攪拌し、徐々に室温にもどし15時間攪拌を続け
る。メタノール22mlと水22mlを加え減圧下で濃縮
する。残渣にメタノール54mlと水76mlを加え、エ
ーテル−ヘキサン(1:1)で抽出、洗浄(飽和
食塩水)、乾燥(K2CO3−MgSO4)後、減圧濃縮
した。得られた残渣を更にヘキサンで希釈する
と、白い結晶が析出してくるのでこれをろ過し、
ヘキサンで十分洗浄する。母液を再び濃縮し、粗
生成物14.1gを得た。これをシリカゲル(370g)
カラムクロマトグラフイーに付し、10%〜15%
IPE/ヘキサン中で展開し、目的物(7)〜を10.9g
(収率90%)で得た。HPLCにより立体異性体比
はZ/E=95:5であつた。
700 n.m.r(CDCl3)δ:0.87(d,3H,J=6Hz),
1.10〜2.00(m,7H),3.45(m,4H),4.42
(s,2H),7.21(s,5H),7.67〜7.80(m,
15H) 〔7〕 (Z)−8−ベンジルオキシ−2,6−
ジメチル−1−テトラヒドロピラニルオキシ−
2−オクテン(7)〜の合成 ホスホニウム塩(6)〜20.8g(34.9mmol)を無
水テトラヒドロフラン(THF)660mlに懸濁さ
せ、−70℃に冷却する。n−ブチルリチウム
(1.53Mヘキサン中)25.1ml(38.4mmol)を20分
かけて加え、同温度で4時間攪拌した。溶液は暗
赤色になる。テトラヒドロピラニルオキシアセト
ン6.64g(33.0mmol)の無水THF(33ml)溶液
を30分かけて加えた。更に1時間−72℃〜−70℃
で攪拌し、徐々に室温にもどし15時間攪拌を続け
る。メタノール22mlと水22mlを加え減圧下で濃縮
する。残渣にメタノール54mlと水76mlを加え、エ
ーテル−ヘキサン(1:1)で抽出、洗浄(飽和
食塩水)、乾燥(K2CO3−MgSO4)後、減圧濃縮
した。得られた残渣を更にヘキサンで希釈する
と、白い結晶が析出してくるのでこれをろ過し、
ヘキサンで十分洗浄する。母液を再び濃縮し、粗
生成物14.1gを得た。これをシリカゲル(370g)
カラムクロマトグラフイーに付し、10%〜15%
IPE/ヘキサン中で展開し、目的物(7)〜を10.9g
(収率90%)で得た。HPLCにより立体異性体比
はZ/E=95:5であつた。
【化】
i.r.(neat)cm-1:1670,1100,1020,820,740,
700 n.m.r(CCl4)δ:0.88(d,3H,J=6Hz),1.00
〜1.82(m,5H),1.66(bs,6H),1.73(s,
3H),2.07(m,2H),3.20〜3.9(m,2H),
3.42(t,2H,J=6Hz),3.97(s,2H),
4.40(s,2H),4.50(bs,1H),5.23(t,
1H,J=7Hz),7.22(s,5H) 〔8〕 (Z)−8−ベンジルオキシ−2,6−
ジメチル−2−オクテン−1−オール(8)〜の合
成 THPエーテル(7)〜2.00g(5.78mmol)とp−
トルエンスルホン酸−水和物0.114g
(0.58mmol)の混合物をメタノール119mlに溶解
し、室温にて24時間攪拌した。飽和重曹水を加
え、反応液を中和し減圧で濃縮する。水で希釈
し、エーテル抽出、洗浄(飽和食塩水)、乾燥
(MgSO4)後、濃縮し粗生成物を1.58g得た。こ
れをシリカゲル(47g)カラムクロマトグラフイ
ーに付し、15%酢酸エチル(ヘキサン中)によつ
て展開し、目的とするアルコール体(8)〜を1.47g
(収率97%)で得た。
700 n.m.r(CCl4)δ:0.88(d,3H,J=6Hz),1.00
〜1.82(m,5H),1.66(bs,6H),1.73(s,
3H),2.07(m,2H),3.20〜3.9(m,2H),
3.42(t,2H,J=6Hz),3.97(s,2H),
4.40(s,2H),4.50(bs,1H),5.23(t,
1H,J=7Hz),7.22(s,5H) 〔8〕 (Z)−8−ベンジルオキシ−2,6−
ジメチル−2−オクテン−1−オール(8)〜の合
成 THPエーテル(7)〜2.00g(5.78mmol)とp−
トルエンスルホン酸−水和物0.114g
(0.58mmol)の混合物をメタノール119mlに溶解
し、室温にて24時間攪拌した。飽和重曹水を加
え、反応液を中和し減圧で濃縮する。水で希釈
し、エーテル抽出、洗浄(飽和食塩水)、乾燥
(MgSO4)後、濃縮し粗生成物を1.58g得た。こ
れをシリカゲル(47g)カラムクロマトグラフイ
ーに付し、15%酢酸エチル(ヘキサン中)によつ
て展開し、目的とするアルコール体(8)〜を1.47g
(収率97%)で得た。
【化】
ir(neat)cm-1:3350,1650,1100,1050,740,
700 nmr(CCl4)δ:0.83(d,3H,J=6Hz),1.0〜
2.3(m,7H),1.71(s,3H),3.27(s,
1H),3.38(t,2H,J=6Hz),3.92(s,
2H),4.03(s,2H),5.08(t,1H,J=7
Hz),7.11(s,5H)
700 nmr(CCl4)δ:0.83(d,3H,J=6Hz),1.0〜
2.3(m,7H),1.71(s,3H),3.27(s,
1H),3.38(t,2H,J=6Hz),3.92(s,
2H),4.03(s,2H),5.08(t,1H,J=7
Hz),7.11(s,5H)
〔9〕 (Z)−8−ベンジルオキシ−1−クロ
ロ−2,6−ジメチル−2−オクテン(9)〜の合
成 アルコール体(8)〜528mg(2.02mmol)とs−コ
リジン489mg(4.04mmol)の混合物中に窒素気流
下、塩化リチウム171mg(4.04mmol)のN,N−
ジメチルホルムアミド(DMF)(5ml)の飽和溶
液を加える。氷浴により2℃に冷却しメタンスル
ホニルクロリド0.32ml(ca 3.8mmol)を加え、
1℃〜3℃で2.5時間攪拌する。これを氷水10ml
に注ぎ、エーテル抽出、洗浄(飽和Cu(NO3)2、
飽和NaHCO3、飽和食塩水)、乾燥(MgSO4)
後、濃縮し粗生成物647mgを得た。これをシリカ
ゲル(19.4g)カラムクロマトグラフイーに付
し、7%〜10%IPE(ヘキサン中)で展開し、目
的とするクロル体(9)〜492mg(収率92%)を得た。
ロ−2,6−ジメチル−2−オクテン(9)〜の合
成 アルコール体(8)〜528mg(2.02mmol)とs−コ
リジン489mg(4.04mmol)の混合物中に窒素気流
下、塩化リチウム171mg(4.04mmol)のN,N−
ジメチルホルムアミド(DMF)(5ml)の飽和溶
液を加える。氷浴により2℃に冷却しメタンスル
ホニルクロリド0.32ml(ca 3.8mmol)を加え、
1℃〜3℃で2.5時間攪拌する。これを氷水10ml
に注ぎ、エーテル抽出、洗浄(飽和Cu(NO3)2、
飽和NaHCO3、飽和食塩水)、乾燥(MgSO4)
後、濃縮し粗生成物647mgを得た。これをシリカ
ゲル(19.4g)カラムクロマトグラフイーに付
し、7%〜10%IPE(ヘキサン中)で展開し、目
的とするクロル体(9)〜492mg(収率92%)を得た。
【化】
ir(neat)cm-1:1260,1100,740,700
H′nmr(CCl4)δ:0.88(d,3H,J=6Hz),
1.00〜1.82(m,5H),1.82(s,3H),2.10
(q,2H,J=7Hz),3.44(t,2H,J=
6Hz),3.98(s,2H),4.42(s,2H),5.33
(t,1H,J=8Hz),7.29(s,5H) 〔10〕 (2Z,6Z,10Z)−16−ベンジルオキシ
−2,6,10,14−テトラメチル−1−テトラ
ヒドロピラニルオキシ−8−p−トリルスルホ
ニル−2,6,10−ヘキサデカトリエン(11)〜の
合成 窒素置換したフラスコ内で(2Z,6Z)−2,6
−ジメチル−1−テトラヒドロピラニルオキシ−
8−(p−トリルスルホニル)−2,6−オクタジ
エン(10)411mg(1.05mmol)を無水THF6.0mlとヘ
キサメチルホスホルアミド1.5mlの混合溶媒に溶
解し、−68℃に冷却する。n−ブチルリチウム
(1.57Mヘキサン中)0.75ml(1.15mmol)を加え、
−68℃で2.5時間攪拌した後、クロル体(9)〜0.269
g(0.957mmol)の無水THF(2.3ml)溶液を−
68℃で5分間で加え、同温度で更に1時間攪拌し
た。ゆつくりと昇温し、0℃でメタノール3mlを
加え反応を停止し、水7mlに注いで、エーテル−
ヘキサン(1:1)抽出、洗浄(飽和食塩水)、
乾燥(K2CO3)後濃縮し、粗生成物809mgを得
た。これをシリカゲル(40g)カラムクロマトグ
ラフイーに付し7%酢酸エチル(ヘキサン中)で
展開しカツプリング体(11)〜を532mg(収率87%)
得た。
1.00〜1.82(m,5H),1.82(s,3H),2.10
(q,2H,J=7Hz),3.44(t,2H,J=
6Hz),3.98(s,2H),4.42(s,2H),5.33
(t,1H,J=8Hz),7.29(s,5H) 〔10〕 (2Z,6Z,10Z)−16−ベンジルオキシ
−2,6,10,14−テトラメチル−1−テトラ
ヒドロピラニルオキシ−8−p−トリルスルホ
ニル−2,6,10−ヘキサデカトリエン(11)〜の
合成 窒素置換したフラスコ内で(2Z,6Z)−2,6
−ジメチル−1−テトラヒドロピラニルオキシ−
8−(p−トリルスルホニル)−2,6−オクタジ
エン(10)411mg(1.05mmol)を無水THF6.0mlとヘ
キサメチルホスホルアミド1.5mlの混合溶媒に溶
解し、−68℃に冷却する。n−ブチルリチウム
(1.57Mヘキサン中)0.75ml(1.15mmol)を加え、
−68℃で2.5時間攪拌した後、クロル体(9)〜0.269
g(0.957mmol)の無水THF(2.3ml)溶液を−
68℃で5分間で加え、同温度で更に1時間攪拌し
た。ゆつくりと昇温し、0℃でメタノール3mlを
加え反応を停止し、水7mlに注いで、エーテル−
ヘキサン(1:1)抽出、洗浄(飽和食塩水)、
乾燥(K2CO3)後濃縮し、粗生成物809mgを得
た。これをシリカゲル(40g)カラムクロマトグ
ラフイーに付し7%酢酸エチル(ヘキサン中)で
展開しカツプリング体(11)〜を532mg(収率87%)
得た。
【化】
ir(neat)cm-1:1665,1310,1155,750,710,
670 nmr(CCl4)δ:0.85(d,3H,J=6Hz),1.63
(bs,29H),2.22〜2.90(m,2H),2.37(s,
3H),3.39(t,2H,J=6Hz),3.0〜4.1
(m,2H),3.88(s,2H),4.39(s,2H),
4.47(s,1H),4.80〜5.43(2t+s,3H),
7.18(s,5H),7.18,7.62(ABq,4H,J=
8Hz) 〔11〕 (2Z,6Z,10Z)−16−ベンジルオキシ
−2,6,10,14−テトラメチル−8−(p−
トリルスルホニル)ヘキサデカン−2,6,10
−トリエン−1−オール(12)〜の合成 カツプリング体(11)〜0.528g(0.815mmol)を
メタノール15mlに溶解し、p−トルエンスルホン
酸47mg(0.245mmol)を加え室温で46時間攪拌し
た。飽和重曹水を加え中和し、減圧下で濃縮す
る。水20mlで希釈しエーテル抽出、洗浄(飽和食
塩水)、乾燥(MgSO4)後、濃縮し粗生成物448
mgを得た。これをシリカゲル(50g)カラムクロ
マトグラフイーに付し、10%酢酸エチル(ヘキサ
ン中)で展開し目的とするアルコール体(12)〜415
mg(収率92%)で得た。
670 nmr(CCl4)δ:0.85(d,3H,J=6Hz),1.63
(bs,29H),2.22〜2.90(m,2H),2.37(s,
3H),3.39(t,2H,J=6Hz),3.0〜4.1
(m,2H),3.88(s,2H),4.39(s,2H),
4.47(s,1H),4.80〜5.43(2t+s,3H),
7.18(s,5H),7.18,7.62(ABq,4H,J=
8Hz) 〔11〕 (2Z,6Z,10Z)−16−ベンジルオキシ
−2,6,10,14−テトラメチル−8−(p−
トリルスルホニル)ヘキサデカン−2,6,10
−トリエン−1−オール(12)〜の合成 カツプリング体(11)〜0.528g(0.815mmol)を
メタノール15mlに溶解し、p−トルエンスルホン
酸47mg(0.245mmol)を加え室温で46時間攪拌し
た。飽和重曹水を加え中和し、減圧下で濃縮す
る。水20mlで希釈しエーテル抽出、洗浄(飽和食
塩水)、乾燥(MgSO4)後、濃縮し粗生成物448
mgを得た。これをシリカゲル(50g)カラムクロ
マトグラフイーに付し、10%酢酸エチル(ヘキサ
ン中)で展開し目的とするアルコール体(12)〜415
mg(収率92%)で得た。
【化】
ir(neat)cm-1:3470,1665,1300,1145,1100,
810,760,740 nmr(CCl4)δ:0.80(d,3H,J=6Hz),0.97
〜2.17(m,1H),1.60(s,3H),1.72(s,
9H),2.20〜3.00(m,2H),2.33(s,3H),
2.69(s,1H),3.43(t,2H,J=5Hz),
3.17〜3.83(m,1H),3.91(s,2H),4.41
(s,3H),4.66〜5.50(s+2t,3H),7.20
(s,5H),7.18,7.63(ABq,4H,J=8
Hz) 〔12〕 (2Z,6Z,10Z)−1−クロロ−2,6,
10,14−テトラメチル−8−(p−トリルスル
ホニルヘキサデカ−2,6,10−トリエン
(13) アルコール体(12)〜415mg(0.752mmol)とs−
コリジン197mg(1.63mmol)の混合物中に窒素気
流下塩化リチウム64mg(1.50mmol)のDMF(ca1
ml)飽和溶液を加える。氷浴により0℃に冷却
し、メタンスルホニルクロリド0.20ml
(2.4mmol)を加え、1℃〜3℃で2.5時間攪拌す
る。これを氷水10mlに注ぎ、エーテル抽出洗浄
(飽和Cu(NO3)2,H2O,飽和食塩水)、乾燥
(MgSO4)後、減圧濃縮して粗生成物469mgを得
た。これをシリカゲル(8g)カラムクロマトグ
ラフイーに付し、目的とするクロル体(13)を
381mg(収率89%)で得た。
810,760,740 nmr(CCl4)δ:0.80(d,3H,J=6Hz),0.97
〜2.17(m,1H),1.60(s,3H),1.72(s,
9H),2.20〜3.00(m,2H),2.33(s,3H),
2.69(s,1H),3.43(t,2H,J=5Hz),
3.17〜3.83(m,1H),3.91(s,2H),4.41
(s,3H),4.66〜5.50(s+2t,3H),7.20
(s,5H),7.18,7.63(ABq,4H,J=8
Hz) 〔12〕 (2Z,6Z,10Z)−1−クロロ−2,6,
10,14−テトラメチル−8−(p−トリルスル
ホニルヘキサデカ−2,6,10−トリエン
(13) アルコール体(12)〜415mg(0.752mmol)とs−
コリジン197mg(1.63mmol)の混合物中に窒素気
流下塩化リチウム64mg(1.50mmol)のDMF(ca1
ml)飽和溶液を加える。氷浴により0℃に冷却
し、メタンスルホニルクロリド0.20ml
(2.4mmol)を加え、1℃〜3℃で2.5時間攪拌す
る。これを氷水10mlに注ぎ、エーテル抽出洗浄
(飽和Cu(NO3)2,H2O,飽和食塩水)、乾燥
(MgSO4)後、減圧濃縮して粗生成物469mgを得
た。これをシリカゲル(8g)カラムクロマトグ
ラフイーに付し、目的とするクロル体(13)を
381mg(収率89%)で得た。
【化】
ir(neat)cm-1:1660,1300,1150,790,760,
700 nmr(CCl4)δ:0.82(d,3H,J=5Hz),1.1〜
2.1(m,1H),1.55(s,3H),1.62(s,
3H),1.73(s,3H),2.30(m,5H),3.33
(t+m,3H,J=6Hz),3.82(s,2H),
4.28(s,2H),4.53〜5.37(2t+s,3H),
7.10(s,5H),7.42,7.08(ABq,4H,J=
8Hz) 次に本発明によつて得られたシス型イソプレノ
イドを出発物質として、天然型ポリプレノールを
製造する例をドリコール−7について示す。 参考例 1(ドリコール−7の合成) 〔1〕 (6Z,10Z,14Z,18E,22E)−3,7,
11,15,19,23,27−ヘプタメチル−9,17−
ビス(p−トリルスルホニル)オクタコサ−
6,10,14,18,22,26−ヘキサエニルベンジ
ルエーテル(15)の合成 (E,E)−フアルネシルスルホン(14)309mg
(0.932mmol)を無水THF4mlとHMPA1mlの混
合溶媒に溶解し−68℃に冷却する。n−ブチルリ
チウム(1.2Mヘキサン中)0.85ml(1.02mmol)
を10分間で加え、40分間−68℃で攪拌した。クロ
ル体(13)354mg(0.621mmol)の無水THF1ml
溶液を加え、同温度で更に1.5時間攪拌した。−50
℃まで昇温しメタノール2mlを加え室温にもどし
氷水を10ml加えた。エーテル−ヘキサン(1:
1)で抽出、洗浄(飽和食塩水)、乾燥
(MgSO4)後減圧濃縮して粗生成物772mgを得た。
これをシリカゲル(50g)カラムクロマトグラフ
イーに付し、10%〜40%酢酸エチル(ヘキサン
中)で展開し、原料スルホン体(14)を158mg回
収し、目的とするジスルホン体(15)296mg(収
率77%)を得た。
700 nmr(CCl4)δ:0.82(d,3H,J=5Hz),1.1〜
2.1(m,1H),1.55(s,3H),1.62(s,
3H),1.73(s,3H),2.30(m,5H),3.33
(t+m,3H,J=6Hz),3.82(s,2H),
4.28(s,2H),4.53〜5.37(2t+s,3H),
7.10(s,5H),7.42,7.08(ABq,4H,J=
8Hz) 次に本発明によつて得られたシス型イソプレノ
イドを出発物質として、天然型ポリプレノールを
製造する例をドリコール−7について示す。 参考例 1(ドリコール−7の合成) 〔1〕 (6Z,10Z,14Z,18E,22E)−3,7,
11,15,19,23,27−ヘプタメチル−9,17−
ビス(p−トリルスルホニル)オクタコサ−
6,10,14,18,22,26−ヘキサエニルベンジ
ルエーテル(15)の合成 (E,E)−フアルネシルスルホン(14)309mg
(0.932mmol)を無水THF4mlとHMPA1mlの混
合溶媒に溶解し−68℃に冷却する。n−ブチルリ
チウム(1.2Mヘキサン中)0.85ml(1.02mmol)
を10分間で加え、40分間−68℃で攪拌した。クロ
ル体(13)354mg(0.621mmol)の無水THF1ml
溶液を加え、同温度で更に1.5時間攪拌した。−50
℃まで昇温しメタノール2mlを加え室温にもどし
氷水を10ml加えた。エーテル−ヘキサン(1:
1)で抽出、洗浄(飽和食塩水)、乾燥
(MgSO4)後減圧濃縮して粗生成物772mgを得た。
これをシリカゲル(50g)カラムクロマトグラフ
イーに付し、10%〜40%酢酸エチル(ヘキサン
中)で展開し、原料スルホン体(14)を158mg回
収し、目的とするジスルホン体(15)296mg(収
率77%)を得た。
【化】
ir(neat)cm-1:1665,1300,1140,1090,810,
740,700,655 nmr(CDCl3)δ(90MHz):0.82(d,3H,J=6
Hz),1.10(s,3H),1.54(s,12H),1.62
(s,6H),1.00〜1.82(m,5H),1.86〜1.95
(m,14H),2.36〜2.80(m,4H),2.36(s,
6H),3.45(t,2H,J=6Hz),3.79(t,
2H,J=10Hz),4.45(s,2H),5.05(ps,
6H),7.27(s,5H),7.17,7.66(ABq,
8H,J=8Hz) 〔2〕 (6Z,10Z,14Z,18E,22E)−3,7,
11,15,19,24,27−ヘプタメチル−オクタコ
サ−6,10,14,18,22,26−ヘキサエン−1
−オール(16)(ドリコール−7)の合成 窒素置換し、−65℃に冷却したフラスコ内に無
水エチルアミン15mlをとり薄くスライスした金属
リチウム120mg(12.5mg−atm)を加え、−65℃で
1.5時間攪拌しリチウムを完全に溶解させる。こ
の濃青色の溶液にジスルホン体(15)215mg
(0.249mmol)の無水エーテル6ml溶液を加え、
更に−68℃で1.5時間攪拌する。イソプレンを濃
青色が黄色になるまで加え、更にメタノールを2
mlほど加え無色の溶液にする。徐々に室温までも
どし水18mlを加えメタノールを加えたときに析出
した結晶をとかし、エチルアミンを減圧留去す
る。エーテル抽出、洗浄(飽和食塩水)、乾燥
(MgSO4)後、濃縮して粗生成物116mgを得た。
これをシリカゲル(6g)カラムクロマトグラフ
イーに付し、5%酢酸エチル(ヘキサン中)で展
開し、目的とするアルコール体(16)75mg(収率
60%)を得た。
740,700,655 nmr(CDCl3)δ(90MHz):0.82(d,3H,J=6
Hz),1.10(s,3H),1.54(s,12H),1.62
(s,6H),1.00〜1.82(m,5H),1.86〜1.95
(m,14H),2.36〜2.80(m,4H),2.36(s,
6H),3.45(t,2H,J=6Hz),3.79(t,
2H,J=10Hz),4.45(s,2H),5.05(ps,
6H),7.27(s,5H),7.17,7.66(ABq,
8H,J=8Hz) 〔2〕 (6Z,10Z,14Z,18E,22E)−3,7,
11,15,19,24,27−ヘプタメチル−オクタコ
サ−6,10,14,18,22,26−ヘキサエン−1
−オール(16)(ドリコール−7)の合成 窒素置換し、−65℃に冷却したフラスコ内に無
水エチルアミン15mlをとり薄くスライスした金属
リチウム120mg(12.5mg−atm)を加え、−65℃で
1.5時間攪拌しリチウムを完全に溶解させる。こ
の濃青色の溶液にジスルホン体(15)215mg
(0.249mmol)の無水エーテル6ml溶液を加え、
更に−68℃で1.5時間攪拌する。イソプレンを濃
青色が黄色になるまで加え、更にメタノールを2
mlほど加え無色の溶液にする。徐々に室温までも
どし水18mlを加えメタノールを加えたときに析出
した結晶をとかし、エチルアミンを減圧留去す
る。エーテル抽出、洗浄(飽和食塩水)、乾燥
(MgSO4)後、濃縮して粗生成物116mgを得た。
これをシリカゲル(6g)カラムクロマトグラフ
イーに付し、5%酢酸エチル(ヘキサン中)で展
開し、目的とするアルコール体(16)75mg(収率
60%)を得た。
【化】
ir(neat)cm-1:3300,1660,830
H′nmr(CDCl3)δ(90MHz):0.90(d,3H,J=
5Hz),1.10〜1.75(m,5H),1.60(s,
9H),1.68(s,9H),2.03(bs,23H),3.66
(t,2H,J=7Hz),5.12(bs,6H) C13nmr(CDCl3)δ:16.04,17.66,19.50,
23.51,25.35,25.68,26.44,26.65,29.25,
31.96,32.29,37.49,39.76,39.98,61.11,
124.2,125.0,125.5,131.2,134.9,135.1,
135.3 尚、上記実施例及び参考例の合成経路をまとめ
て以下に示す。 実施例の合成経路図
5Hz),1.10〜1.75(m,5H),1.60(s,
9H),1.68(s,9H),2.03(bs,23H),3.66
(t,2H,J=7Hz),5.12(bs,6H) C13nmr(CDCl3)δ:16.04,17.66,19.50,
23.51,25.35,25.68,26.44,26.65,29.25,
31.96,32.29,37.49,39.76,39.98,61.11,
124.2,125.0,125.5,131.2,134.9,135.1,
135.3 尚、上記実施例及び参考例の合成経路をまとめ
て以下に示す。 実施例の合成経路図
【化】
【化】
【化】
【化】
【化】
【化】
【化】
【化】
【化】
【化】
【化】
【化】
【化】
【化】
参考例の合成経路
【化】
【化】
【化】
(注) Arはp−トリル基
【式】を
示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 次の一般式 【化】 (式中Xはハロゲン原子、水酸基または水素原
子を意味し、Rは水素原子、または低級アルキル
基、アラルキル基、アシル基、テトラヒドロピラ
ニル基、メトキシメチル基およびメトキシエトキ
シメチル基から選ばれる水酸基の保護基を意味す
る。またArは、フエニル基、トリル基、キシリ
ル基およびナフチル基から選ばれるアリール基を
意味する。) で表わされるシス型イソプレノイド。 2 一般式 【化】 (式中THPOはテトラヒドロピラニルオキシ
基を意味し、Rは低級アルキル基、アラルキル
基、アシル基、テトラヒドロピラニル基、メトキ
シメチル基およびメトキシエトキシメチル基から
選ばれる水酸基の保護基を意味し、Arは、フエ
ニル基、トリル基、キシリル基およびナフチル基
から選ばれるアリール基を意味する。) で表わされる(Z,Z,Z)−ポリプレニルアリ
ールスルホン酸系化合物の、テトラヒドロピラニ
ル基を脱離せしめ、一般式 【化】 (式中ArおよびRは前記の意味を有する) で表わされる(Z,Z,Z)シス型イソプレノイ
ドを得、更に必要により該化合物をハロゲン化せ
しめ、一般式 【化】 (式中Ar,Rは前記の意味を有し、Halはハ
ロゲン原子を意味する) で表わされる(Z,Z,Z)シス型イソプレノイ
ドを製造する方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60198751A JPS6259257A (ja) | 1985-09-09 | 1985-09-09 | シス型イソプレノイド |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60198751A JPS6259257A (ja) | 1985-09-09 | 1985-09-09 | シス型イソプレノイド |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6259257A JPS6259257A (ja) | 1987-03-14 |
JPH0582383B2 true JPH0582383B2 (ja) | 1993-11-18 |
Family
ID=16396355
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60198751A Granted JPS6259257A (ja) | 1985-09-09 | 1985-09-09 | シス型イソプレノイド |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6259257A (ja) |
-
1985
- 1985-09-09 JP JP60198751A patent/JPS6259257A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6259257A (ja) | 1987-03-14 |
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