JPS582206B2 - 炭素−炭素結合方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は工業的に有利な炭素−炭素結合方法に関する。

炭素−炭素結合（以下Ｃ−Ｃ結合と略称することもある
）反応は有機化合物の合成において重要な反応のひとつ
であり、従来から種々の反応が知られている。

たとえば、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−基などのひと
つに隣接するメチレン基に対してＣ−Ｃ結合を行う場合
、ｎ−ブチルリチウム、フエニルリチウム、リチウムジ
イソプロピルアミド、リチウムジエチルアミドなどの強
塩基性リチウム化合物を用いてメチレン炭素を活性化（
カルバニオン化）させ、これに求電子反応試薬を作用さ
せることも知られている。

しかしながらこのような反応は通常無水テトラヒドロフ
ラン、エチルエーテルなどの無水エーテル系溶媒中、助
溶媒としてヘキサメチルホスホルアミド （ＨＭＰＡ）を用い、不活性ガス雰囲気下、−７０℃付
近の低温で行なう必要があり、リチウム化合物、無水溶
媒、反応温度などの点で工業的に好ましい方法とは言え
ない。

特に最近ＨＭＰＡは発癌性の疑いもあり、その使用を避
けることが望まれている。

本発明者らはこれらの問題点に鑑み鋭意研究を重ねた結
果、ひとつの−ＳＯ２−基に隣接するメチレン基を有す
るイソプレノイド誘導体に対する新規かつ工業上極めて
有利なＣ−Ｃ結合方法を確立することに成功した。

すなわち、本発明は一般式 〔式中、Ｙは低級アルキルスルホニル基またはアリール
スルホニル基を、Ｒ１ は一般式 （式中、Ｒ３は水素原子または保護されていてもよい水
酸基を、Ｒ４は保護されていてもよい水酸または一般式 （式中、Ｒ５はメチル基、メトキシ基または２つのＲ５
が相伴って−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−基を、Ｚは水素
原子または水酸基の保護基を示す）で表わされる基もし
くはそのキノン体を、Ｙ′は水素原子または前記Ｙ基を
、ｎは０〜１０の整数を示す）で表わされる基を示す〕
で表わされるスルホニル化合物を、極性溶媒中、水素化
ナトリウムもしくはカリウム、ナトリウムもしくはカリ
ウム第３級アルコキサイドまたはナトリウムもしくはカ
リウムアミドの存在下に一般式 〔式中、Ｘはハロゲン原子を示し、Ｒ２はＲ１ と同
意義を有す〕で表わされるハロゲノ化合物と反応させ、
一般式 〔式中、Ｙ， Ｒ１およびＲ２は前記と同意義〕で表わ
される化合物に導びき、ついでこの化合物をアミンとア
ルカリ金属の存在下に還元して、一般式 〔式中、Ｒ１およびＲ２は前記と同意義〕で表わされる
化合物を製造することを特徴とする炭素−炭素結合方法
である。

上記各一般式において、Ｙで示される低級アルキルスル
ホニル基としては、炭素数１〜４程度のアルキル基（例
、メチル、エチル基）を有するスルホニル基が好ましく
、アリールスルホニル基としては、ベンゼンスルホニル
基、ｐ−トルエンスルホニル基などが好ましい。

かかるＹのなかでも通常アリールスルホニル基が好都合
に用いられる。

ｘで示されるハロゲン原子としては塩素、臭素が好まし
い。

なお上記（Ｖａ）、（ｖｂ）はイソプレノイド基部分を
便宜上トランス体で表示したが、これらはシス体であっ
ても差し支えない。

上記Ｒ３、Ｒ４の保護された水酸基における保護基およ
びＺで示される保護基としては、水酸基保護の目的を達
成する限り、通常用いられるいずれの保護基を用いても
よく、たとえばＣ１−４アルキル基（例、メチル、エチ
ル基）、Ｃ１−４アルコキシメチル基（例、メトキシメ
チル、エトキシメチル基）、アラルキル基（例、ベンジ
ル、ｐ−ニトロベンジル、ｐ−メトキシベンジル基）、
アシル基（例、アセチル、プロピオニル基などの炭素数
４以下のアルカノイル基、ベンゾイル基、ｐ−ニトロベ
ンゾイル基、フエニルアセチル基、）、テトラヒドロピ
ラニル基、テトラヒドロフラニル基などがあげられ、な
かでもメトキシメチル基、ベンジル基、アセチル基、テ
トラヒドロピラニル基、テトラヒドロフラニル基などが
好都合に用いられる。

なお原料化合物（■）または（■）におけるＲｌ また
はＲ２が（■ｂ）で表わされる基の場合、Ｒ４は保護さ
れていてもよい水酸基または２が保護基である（■）で
表わされる基が好ましい。

Ｙ′は水素原子または前記Ｙ基を示し、一般式（■ａ）
におけるｎ個のインプレノイド単位の中でそれぞれ任意
に水素原子またはＹ基をとり得る。

本発明方法に用いられる極性溶媒としては、たとえばジ
メチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、第３級ブ
チルアルコール、第３級アミルアルコール、ジメチルス
ルホキサイド、テトラヒドロフラン、１・２−ジメトキ
シエタンなどがあげられ、なかでもジメチルホルムアミ
ド、第３級ブチルアルコール、テトラヒドロフランが好
ましく用いられる。

これらの溶媒は単独または他の溶媒と混合して用いても
よい。

水素化ナトリウムもしくはカリウム、ナトリウムもしく
はカリウム第３級アルコキサイドおよびナトリウムもし
くはカリウムアミド（以下、塩基性物質と総称すること
もある）はスルホニル化合物（■）のメチレン炭素のカ
ルボニオン化に用いられる。

ナトリウムもしくはカリウム第３級アルコキサイドとし
ては炭素数４〜６程度のアルコキサイド、たとえばナト
リウム第３級ブトキサイド、カリウム第３級ブトキサイ
ド、ナトリウム第３級アミロキサイド、カリウム第３級
アミロサイドなどがあげられる。

かかる塩基性物質のなかでも水素化ナトリウムおよびナ
トリウムもしくはカリウム第３級ブトキサイドが好都合
に用いられる。

本発明方法の実施態様について述べると、まずスルホニ
ル化合物（■）とハロゲノ化合物（■）との反応は、（
■）をあらかじめ極性溶媒に溶かし、上記の塩基性物質
を加えてカルバニオンを生成させた後（■）を加えて反
応させてもよく、また（■）と（■）を極性溶媒に溶解
後塩基性物質を加えて反応させてもよい。

反応は空気の存在下でも充分進行するが、不活性ガス（
例、窒素、ヘリウム、アルゴン）雰囲気下で行うのがよ
り好ましい。

（■）と（■）との使用モル比は通常１：１で充分であ
るが原料の種類によっては一方を過剰に用いても差し支
えない。

塩基性物質の使用量は原料化合物中に含まれるＹ基（ス
ルホニル基）の数に応じて適宜定められ、通常ひとつの
Ｙ基に対して約１〜２当量程度使用するのが好ましい。

反応はカルバニオンの形成速度によって律速されるが、
通常極めて迅速に進行し、２時間以内に完了する場合が
多い。

反応温度は約−１０〜３０℃程度の温度で充分であり、
特に極低温にまで冷却する必要はない。

この縮合反応においてはイソプレノイド単位を有する化
合物の二重結合部分における異性化反応は全くみられず
、原料化合物におけるシスまたはトランス配位がそのま
ま保持される。

本反応により生成する縮合化合物（■）は常法により単
離することができる。

上記で得られる縮合化合物（■）を単離し、または単離
せず、アミンとアルカリ金属の存在下で還元して、Ｙで
表わされる低級アルキルスルホニル基またはアリールス
ルホニル基を脱離することにより目的化合物（■）に導
くことができる。

用いられるアミンとしては、たとえばエチルアミン、メ
チルアミン、ジエチルアミン、アンモニアなどがあげら
れ、アルカリ金属としては、たとえばリチウム、ナトリ
ウム、カリウムなどがあげられる。

この還元的脱硫反応において化合物（■）のＲ１または
Ｒ２中に還元されうる基が存在する場合、Ｙの脱離に伴
ってこれらの基が還元されることがある。

たとえば化合物（■）のＲ１ またはＲ２中に２つのＲ
５が相伴って形成された−ＣＨ ＝ ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ
−基が含まれている場合、Ｙの脱離と共にこの基が還元
され、−ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ２一基を有する目的
化合物が得られることがあり、また還元によって除去さ
れうる保護基（例、ベンジル基）が存在する場合、Ｙの
脱離と同時にこの保護基も除去されることがある。

かくして製造される化合物（■）は通常の分離精製手段
（例、クロマトグラフイー、蒸留）により反応混合物か
ら単離精製することができる。

本発明方法は、たとえばポリイソプレノイド炭化水素類
（例、スクアレン）、ポリプレニルアルコール類〔例、
テトラプレニルアルコール、ペンタプレニルアルコール
、ヘキサプレニルアルコール、ヘプタプレニルアルコー
ル、オクタプレニルアルコール、ノナプレニルアルコー
ル（ソラネソールを含む）、デカプレニルアルコール、
ウンデカプレニルアルコール、ドデカプレニルアルコー
ル、トリデカプレニルアルコール、ヘキサデカプレニル
アルコール、エイコサプレニルアルコール〕ユビキノン
類（例、ユビキノン−７、ユビキノン＊−８、ユビキノ
ン−９、ユビキノン−１０）、メナキノン類（例、メナ
キノン−４、メナキノン−５、メナキノン−９）、トコ
キノン類などの製造に適用することができ、工業的に多
くの利点を有している。

かかる利点としては、具体的には、たとえば（１）従来
の強塩基性リチウム化合物に比較して安価で危険性の少
ない、したがってまた取り扱い易い塩基性物質を使用す
る、（２）反応を水冷下または室温下（約−１０〜３０
℃程度）で行うことができ、−７０℃付近までの低温に
する必要がない、（３）反応収率および立体選択性が極
めて良い、（４）安価で火気および生体に対して安全な
溶媒が使用でき、厳密に脱水した溶媒を用いる必要がな
い、（５）不活性ガス雰囲気下でなくても通常の空気存
在下で十分に反応が可能である、（６）入手の容易な原
料化合物を用いることができ、原料化合物中の化学的に
不安定な機能団に影響を与えることなくＣ−Ｃ結合を形
成させることができるなどの点があげられる。

なお、本発明に用いられる原料化合物（■）および（■
）は、たとえば下記の方法またはその他の公知方法によ
り公知化合物から容易に製造することができる〔日本薬
学会第９７年会（１９７７年）講演要旨集第■分冊１６
７頁（６Ｅ４−４）参照〕。

〔式中、Ｒ１、Ｒ２およびＹは前記と同意義を、φはフ
エニル基を、Ｍはアルカリ金属を示す。

〕以下、参考例および実施例によって本発明をさらに具
体的に説明するが、これらによって本発明が何ら限定さ
れるものではない。

なお、参考例、実施例中において、Ｔｓはパラトルエン
スルホニル基を、Ｂａはベンジル基を、Ｐｒは を、ＴＨＦはテトラヒ ドロフランを、ＤＭＦはジメチルホルムアミドを、ｔ−
ＢｕＯＨは第３級ブチルアルコールを、ｔ−ＢｕＯＮａ
はナトリウム第３級ブトキサイドを、ｔ−ＢｕＯＫはカ
リウム第３級ブトキサイドを示し、δ値は重クロロホル
ム中、ＴＭＳを内部基準としたＮＭＲ（核磁気共鳴）ス
ペクトルを表わす。

実施例 ■ 実施例 ■−１ スルホニル化合物（■：Ｔｓ−（Ｐｒ）−９Ｈ、ｍ．ｐ
．５０−５１℃、１．５４ｇ、２ｍｍｏｌｅ）とブロム
体（■：ＢｚＯ−Ｐｒ−Ｂｒ、５ｌＯｍｇ、２ｍｍｏｌ
ｅ）をＴＨＦ（１６ｍｌ）とＤＭＦ（４ ｍｌ）に溶解
し、−５℃に冷却する。

アルゴン気流下にカリウムｔｅｒｔ−ブトキシド（４６
０ｍｇ、４ ｍｍｏｌｅ）を徐々に加える。

添加後、２０分間かくはんする。反応溶液に水（５０ｍ
ｌ）とイソプロピルエーテル（１００ｍｌ）を加えて抽
出する。

有機層を水洗、乾燥（Ｎａ２ＳＯ４）、減圧濃縮し、生
成物をシリカゲルカラムクロマトグラフイーに付し、イ
ソプロビルエーテル：ヘキサン（１：１）で展開すると
結合体（■： １．７３６ｇ）が得られる（表１参照）。

実施例 ■−５ スルホニル化合物（■：Ｔｓ−（Ｐｒ）−２Ｈ、１．４
６ｇ、５ｍｍｏｌｅ）とブロム体（■：Ｂ ｚＯ−（Ｐ
ｒ）−２ Ｂｒ、１．６２ｒ）をＤＭＦ（１５ｍｌ）に
溶解し、５℃に冷却する。

アルゴン雰囲気下に水素化ナトリウム（５０％油性懸濁
、０．２５ｇ、５ｍｍｏｌｅ）を加えて３０分間かくは
んする。

さらにこれに水素化ナトリウム（ ０． １ｇ、２ ｍ
ｍｏｌｅ）を加え、同条件で３０分間かくはんする。

反応液に水（４０ｍｌ）とイソプロピルエーテルを加え
抽出する。

常法に従って生成物を分離し、シリカゲルクロマトグラ
フイーを用いて精製すると目的とする結合体（■： ２．４０ｇ、９０％）が得られる（表１参照）。

実施例 ■ −９ スルホニル化合物（■：Ｔ ｓ−（Ｐｒ）−２ＯＨ、１
．５４ｇ、５ｍｍｏｌｅ）とブロム体（■：ＢｚＯ−（
Ｐｒ）−２Ｂｒ、１．６２ｒ、５ｍｍｏｌｅ）をＤＭＦ
（１５ｍｌ）に溶解し、５℃に冷却後水素化ナトリウム
（５０％油性懸濁、０．３８ｇ、７．５ｍｍｏｌｅ）を
加えアルゴン中９０分間同条件下でかくはんする。

反応物に水（４０ｍｌ）、イソプロピルエーテル（１０
０ｍｌ）を加え抽出する。

有機層を分離し、水洗、乾燥（Ｎａ２ＳＯ４）、溶媒留
去する。

残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、イソプロ
ピルエーテルついでイソプロピルエーテル−酢酸エチル
（４：１）で順次展開すると目的の結合体（■： １．８７ｇ、６８％）が得られる（表１参照）。

実施例 ■−１７ スルホニル化合物（ＩＶ：Ｔｓ −（Ｐｒ）−９Ｈ、３
６０ｍｇ、０． ４７ ｍｍｏｌｅ）とブロム体（■：
Ｑ−Ｐｒ−Ｂｒ、２５０ｍｇ、０． ５ ｍｍｏｌｅ）
をＴＨＦ（４ｍｌ）とＤＭＦ（１ｍｌ）の混合溶媒に溶
解し、アルゴン雰囲気下に−５℃に冷却する。

これにカリウム第３級ブトキシド（０． １ｇ、０．
９ ｍｍｏｌｅ）を加える。

３０分間かくはんをつづけたのち、水（２０ｍｌ）とイ
ンプロピルエーテル（５０ｍｌ）を加えて抽出する。

常法に従って生成物を分離し、シリカゲルクロマトグラ
フィーに付し、イソプロピルエーテル−ヘキサン（１：
１）で展開すると目的とする結合体（■： ４９０ｍｇ、８６％）が得られる（表１参照）。

実施例 Ｉ−３６ スルホニル化合物（■：Ｔｓ−（Ｐｒ）−４Ｈ、８５８
ｍｇ、２ ｍｍｏｌｅ）とブロム体（■：ｌ．２３ｇ、
２ｍｍｏｌｅ）をＤＭＦ（２０ｍｌ）に溶解し、アルゴ
ン雰囲気下に冷却する。

これに水素化ナトリウム（５０％油性懸濁、２００ｍｇ
、４ｍｍｏｌｅ）を加え３０分間かくはんする。

ついでさらに水素化ナトリウム（１００ｍｇ、２ ｍｍ
ｏｌｅ）を加えて３０分間かくはんする。

生成物は常法に従って分離精製すると目的とする結合体
（■：１．６５ｇ、８６％）が得られる（表１参照）。

実施例 ■−４３ スルホニル化合物（■： ５６０〜１ｍｍｏｌｅ）とブロム体（■：ＢｚＯ−（Ｐ
ｒ）２−Ｂｒ、３２３ｍｇ、１ｍｍｏｌｅ）をＤＭＦ（
１０ｍｌ）に溶解し、アルゴン雰囲気下に５℃に冷却す
る。

これに水素化ナトリウム（５０％油性懸濁、１５０ｍｇ
、３ｍｍｏｌｅ）を加え６０分間かくはんする。

生成物は常法に従って分離精製すると目的とする結合体
が得られる（表１参照）。

上記各実施例の反応に準じて、以下の表１に示す原料化
合物（■）および（■）を同表に示す反応条件で反応さ
せると対応する縮合化合物（■）がそれぞれ得られる（
表は上記各実施例も含む）。

実施例 ■ 実施例 ■−１ エチルアミン（１００ｍｌ）をアルゴン雰囲気下に０℃
に冷却し、かくはん下にリチウム（２．８０ｇ）を加え
、２０分かくはんすると深青色溶液が得られる。

ついで−３５℃に冷却し、結合体（■： ５．３５ｇ、１０．０ｍｍｏｌｅ）のＴＨＦ（２５ｍｌ
）溶液を滴下する。

滴下終了後、さらに１０分間同条件下で反応を行い、過
剰のアニオンラジカルをイソプレン（２ｍｌ）を加え消
去する。

これにメタノール（４０ｍｌ）、水（７０ｍｌ）を加え
る。

反応混合物を減圧濃縮し、残渣にイソプロピルエーテル
を加え抽出する。

有機層を洗浄、乾燥（ Ｎａ ２ ＳＯ４）、濃縮して
残留物を得る。

これをシリカゲルクロマトグラフィーに付し、ヘキサン
−イソプロピルエーテル（１：１）で展開すると目的と
する化合物（■：ＨＯ−（Ｐｒ）−４Ｈ、２．５６ｇ、
８８．３％）が得られる（表２参照）。

実施例 ■−１６ エチルアミン（２０ｍｌ）をアルゴン雰囲気下に−２０
℃に冷却し、リチウム（３ ０ ０ｍｇ）と結合体（■
： １．２０ｇ、１ｍｍｏ１ｅ）を加え３０分間かくはんす
ると青色になりはじめる。

さらに青色溶液のまま１０分間かくはんする。

これにイソプレン（０．５ｍｌ）を加え、過剰のラジカ
ルアニオンを消去する。

ついで減圧下にエチルアミンを除去し、この残渣を空気
に触れないようにしながら脱気した１５％酢酸を含む冷
ＴＨＦ溶液（３０ｍｌ）を加える。

この溶液に１０％塩化鉄水溶液（２０ｍｌ）を加え１時
間かくはんする。

反応溶液を減圧で濃縮し、ヘキサンで抽出する。

有機層を水洗、乾燥、濃縮し粗製物を得る。

これをシリカゲルクロマトグラフイーに付し、ヘキサン
−イソプロピルエーテル（２：１）で展開するとユビキ
ノン−１０（６３０ｍｇ）が得られる。

本品は牛心臓から得られるユビキノン−１０の赤外線お
よびＮＭＲスペクトルと比較することによって同定した
（表２参照）。

実施例 ■−２０ エチルアミン（２０ｍｌ）をアルゴン雰囲気下に−２０
℃に冷却し、リチウム（３００〜）と結合体〔■： ６６１ｍｇ、１ｍｍｏｌｅ）を加え青色溶液になるまで
同条件下で反応する。

反応終了後、イソプレン（０．５ｍｌ）とメタノール（
５ｍｌ）を加える。

溶媒を減圧下に除去し、残渣にヘキサン（５０ｍｌ）と
水（２０ｍｌ）を加え抽出する。

生成物を常法に従って単離するとジヒドロナフタリン誘
導体ｍｇ）が得られる。

これを２・３−ジクロロ−４・５−ジシアノ−１・４−
ベンゾキノン（２３０ｍｇ）を用いてベンゼン（２０ｍ
ｌ）中で脱水素反応を行う。

生成物を常法に従って単離するとメナキノール−４ ジ
メチルエーテル（４０３ｍｇ）が得られる。

このジメチルエーテル体（４０３ｍｇ）をジオキサン（
２０ｍｌ）とエーテル（２０ｍｌ）にとかし−１５℃に
冷却する。

これに酸化銀（ＡｇＯ、８００ｍｇ）を加え、ついで６
．４規定硝酸（０．８ｍｌ）を加え−１０℃で１０分か
くはんする。

これにヘキサン（１００ｍｌ）を加え、有機層を水洗、
乾燥（Ｎａ２ＳＯ４）、減圧濃縮する。

残渣をシリカゲルクロマトグラフイーに付し、ベンゼン
で溶出させるとメナキノン−４（２８０ｍｇ）が得られ
る（表２参照）。

上記各実施例に準じて、対応する縮合化合物（■）の脱
硫反応を行うことにより以下の表２に示す目的化合物（
■）がそれぞれ得られる（表は上記各実施例も含む）。

（５．３４ｇ、１０ｍｍｏｌｅ）をジクロルメタン（４
０ｍｌ）に溶解し、−７０℃に冷却する。

これにベンゼンスルフエニルクロライド（ｌ．５２ｇ、
１０． ５ｍｍｏｌｅ）のジクロルメタン溶液（１０ｍ
ｌ）を徐々に加える。

滴下終了後、室温にもどし、溶媒を留去する。

残渣にＤＭＦ（２５ ｍｌ）とトリエチルアミン（２．
８ｍｌ）を加え、８０℃で２時間加温かくはんする。

反応溶液を冷却後、水（５ ０ｍｌ）とイソプロピルエ
ーテル（１００ｍｌ）を加えて生成物を抽出する。

有機層を３％リン酸水および水で洗い、乾燥（Ｎａ２Ｓ
Ｏ４）、溶媒留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフ
イーに付すと、スルフイド体 （５．６９ｇ、８８．６％、δ１．２０（３Ｈ）、１．
５０（３Ｈ）、１．５９（３Ｈ）、１． ７４（３Ｈ）
、２．２０＆２．８２（２Ｈ）、２．４０（３Ｈ）、３
．４９（１Ｈ）、３．８２（１Ｈ）、 ３．９７（２Ｈ）、４．４６（２Ｈ）、４．６４（２Ｈ
）４．６４（２Ｈ）、４．８８（１Ｈ）、５．１０（１
Ｈ）、５．３４（１Ｈ）、７．１〜７．７（９Ｈ）〕が
得られる。

このアリルスルフイド体（５．５０ｇ、８．５６ｍｍｏ
ｌｅ）をジクロルメタン（５０ｍｌ）に溶解し、−３０
℃に冷却する。

これにメタクロロ過安息香酸（純度８０％、１．８５ｇ
）をかくはんしながら３０分間にわたって加える。

添加後、さらに１０分同条件でかくはんする。

反応溶液を室温にもどし、析出するメタクロロ安息香酸
を除去し、結晶をジクロルメタンで洗い、母液と合せる
。

ジクロルメタン溶液を炭酸水素ナトリウム水溶液、水で
洗い、乾燥（Ｎａ２ＳＯ４）減圧濃縮する。

残渣をメタノール（５０ｍｌ）に溶解し、これに亜リン
酸トリメチル（３．２ｇ）を加え、２４〜２６℃で３０
時間放置する。

反応溶液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラ
フイーに付し、イングロビルエーテル−酢酸エチル（９
：１）で展開される（３．９７ｇ、８４．２％）が得ら
れる。

このアルコール体（２．２ｇ）をイソプロピルエーテル
（２０ｍｌ）に溶解し、０℃に冷却する。

これに三臭化リン（１．０ｇ）を含むイソプロピルエー
テル溶液（５ｍｌ）をかくはん下に加える。

滴下終了後ｌＯ分かくはんし、反応溶液に水（１０ｇ）
ついで水を加える。

有機層を炭酸水素ナトリウム水、水で洗い、乾燥、濃縮
すると表記目的化合物〔２．１ｇ、８６％、δ１．２４
（３Ｈ）、１．５０（３Ｈ）、１．５９（３Ｈ）、１．
７１（３Ｈ）、２．１９と２．８１（２Ｈ）、２．４１
（３Ｈ）、３．８２（１Ｈ）、３．８９（２Ｈ）、３．
９７（２Ｈ）、４．４５（２Ｈ）、４．８７（１Ｈ）、
５．０〜５．５（３Ｈ）、７．２９（５Ｈ）、７．２５
と７．６７（４Ｈ）〕が得られる。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 一般式 〔式中、Ｙは低級アルキルスノシホニル基またはアリー
   ルスルホニル基を、Ｒ１ は一般式 または （式中、Ｒ３は水素原子または保護されていてもよい水
   酸基を、Ｒ４は保護されていてもよい水酸基または一般
   式 （式中、Ｒ５はメチル基、メトキシ基または２つのＲ５
   が相伴って−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−基を、２は水素
   原子または水酸基の保護基を示す）で表わされる基もし
   くはそのキノン体を、Ｙ′は水素原子または前記Ｙ基を
   、ｎは０〜１０の整数を示す）で表わされる基を示す〕
   で表わされるスルホニル化合物を、極性溶媒中、水素化
   ナトリウムもしくはカリウム、ナトリウムもしくはカリ
   ウム第３級アルコキサイドまたはナトリウムもしくはカ
   リウムアミドの存在下に一般式 〔式中、Ｘはハロゲン原子を示し、Ｒ２はＲ１ と同
   意義を有す〕で表わされるハロゲノ化合物と反応させ、
   一般式 〔式中、Ｙ，Ｒ１およびＲ２は前記と同意義〕で表わさ
   れる化合物に導びき、ついでこの化合物をアミンとアル
   カリ金属の存在下に還元して、一般式 〔式中、Ｒ１およびＲ２は前記と同意義〕で表わされる
   化合物を製造することを特徴とする炭素−炭素結合方法
   。