JPH0637285B2 - 表面特性が改善された窒化硅素粉末及びその製造法 - Google Patents
表面特性が改善された窒化硅素粉末及びその製造法Info
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- JPH0637285B2 JPH0637285B2 JP1220486A JP22048689A JPH0637285B2 JP H0637285 B2 JPH0637285 B2 JP H0637285B2 JP 1220486 A JP1220486 A JP 1220486A JP 22048689 A JP22048689 A JP 22048689A JP H0637285 B2 JPH0637285 B2 JP H0637285B2
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- C01P2004/60—Particles characterised by their size
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Description
【発明の詳細な説明】 本発明は全酸素含量が1.8 重量％より低く、表面の酸素
含量が全酸素含量の65％より多いSi3N4粉末及びその製
造法に関する。
含量が全酸素含量の65％より多いSi3N4粉末及びその製
造法に関する。
窒化硅素粉末はすべて或程度酸素を含んでいる。その用
途に従い、この酸素含量は約0.8 〜2.5 重量％の範囲に
ある。厳密に言えば酸素は粉末の不純物であるが、窒化
硅素粉末の焼結活性を改善するためには或程度酸素が必
要であると考えられている［（ゲー・チーグラー(G. Zi
egler)、ヨット・ハインリッヒ(J. Heinrich)、ゲー・
ヴェティング(G. Woeting)、ジャーナル・オヴ・マテリ
アル・サイエンス(J. Mater. Sci.)誌22巻、3041〜3086
頁(1987)］。
途に従い、この酸素含量は約0.8 〜2.5 重量％の範囲に
ある。厳密に言えば酸素は粉末の不純物であるが、窒化
硅素粉末の焼結活性を改善するためには或程度酸素が必
要であると考えられている［（ゲー・チーグラー(G. Zi
egler)、ヨット・ハインリッヒ(J. Heinrich)、ゲー・
ヴェティング(G. Woeting)、ジャーナル・オヴ・マテリ
アル・サイエンス(J. Mater. Sci.)誌22巻、3041〜3086
頁(1987)］。
通常窒化硅素粉末に焼結助剤を加え、焼結温度において
存在する酸素と共に液相をつくる。これは材料を緻密化
する上で必須である。しかし窒化硅素中の酸素含量は高
すぎてはいけない。何故ならば、酸素含量が高いと、焼
結工程で生じる二次相のガラス転移温度が下がり、従っ
て得られた焼結製品の高温における機械的特性が低下す
るからである。一般にガス加圧燃結法においては約1.5
重量％の酸素含量が最適とされているが、高温等圧プレ
ス法では酸素含量はもっと少なくてすむと考えられてい
る。高温等圧プレス法に対して必要とされる酸素の限界
値は知られていない。
存在する酸素と共に液相をつくる。これは材料を緻密化
する上で必須である。しかし窒化硅素中の酸素含量は高
すぎてはいけない。何故ならば、酸素含量が高いと、焼
結工程で生じる二次相のガラス転移温度が下がり、従っ
て得られた焼結製品の高温における機械的特性が低下す
るからである。一般にガス加圧燃結法においては約1.5
重量％の酸素含量が最適とされているが、高温等圧プレ
ス法では酸素含量はもっと少なくてすむと考えられてい
る。高温等圧プレス法に対して必要とされる酸素の限界
値は知られていない。
ESCA（化学分析のための電子分光法）を用いて市販のSi
3N4粉末中の酸素分布を決定する方法は、ジャーナル・
オヴ・マテリアル・サイエンス誌22巻3717〜3720頁(198
7)に記載されている。この中で粒子内部の酸素含量を減
少させなければならないことが述べられている。必要な
全酸素含量1.5 重量％に対して、このことは粒子の表面
に酸素が多量に存在することを意味している。この文献
によれば、粒子の内部及び表面の間の酸素の分布は、大
部分使用した製造方法に依存している。硅素を窒化する
か、またはSiO2を還元的に窒化してつくられたSi3N4粉
末では、酸素は表面に僅かしか過剰に存在していない。
全酸素含量に対する表面酸素の割合は17〜58％である。
SiCl4とNH3との室温における気相反応によりつくられた
粉末では、表面酸素含量は60％である［トーヨー・ソー
ダ(Toyo Soda) TS７］。SiCl4とNH3との液相反応を行
い、次いでジイミドを熱分解させてつくられたSi3N4粉
末では、表面における酸素の過剰量はもっと多く、83％
に達する［ウベ(Ube) E 10］。しかしこの粉末は湿式化
学分析で決定されたフッ素含量が35ppm を越えている。
ESCAによれば粉末表面のフッ素含量は約0.3 原子％であ
る。しかしこれによってこの粉末を焼結させて得られる
部材の高温における強度が減少する。何故ならば酸素と
同様にフッ素は二次相のガラス転移温度に影響を与える
からである［エルアー・ジーハーマンソン(L.A. G. Her
mansson)、エム・ブルストレーム(M.Burstroem)、ティ
ー・ジョハンソン(T. Johansson)、エム・イ・ハッチャ
ー(M. E. Hatcher)、ジャーナル・オヴ・アメリカン・
セラミック・ソサイアティー(J. Amer. Ceram. Soc)誌7
1巻4 号(1988)C183〜184 頁］。
3N4粉末中の酸素分布を決定する方法は、ジャーナル・
オヴ・マテリアル・サイエンス誌22巻3717〜3720頁(198
7)に記載されている。この中で粒子内部の酸素含量を減
少させなければならないことが述べられている。必要な
全酸素含量1.5 重量％に対して、このことは粒子の表面
に酸素が多量に存在することを意味している。この文献
によれば、粒子の内部及び表面の間の酸素の分布は、大
部分使用した製造方法に依存している。硅素を窒化する
か、またはSiO2を還元的に窒化してつくられたSi3N4粉
末では、酸素は表面に僅かしか過剰に存在していない。
全酸素含量に対する表面酸素の割合は17〜58％である。
SiCl4とNH3との室温における気相反応によりつくられた
粉末では、表面酸素含量は60％である［トーヨー・ソー
ダ(Toyo Soda) TS７］。SiCl4とNH3との液相反応を行
い、次いでジイミドを熱分解させてつくられたSi3N4粉
末では、表面における酸素の過剰量はもっと多く、83％
に達する［ウベ(Ube) E 10］。しかしこの粉末は湿式化
学分析で決定されたフッ素含量が35ppm を越えている。
ESCAによれば粉末表面のフッ素含量は約0.3 原子％であ
る。しかしこれによってこの粉末を焼結させて得られる
部材の高温における強度が減少する。何故ならば酸素と
同様にフッ素は二次相のガラス転移温度に影響を与える
からである［エルアー・ジーハーマンソン(L.A. G. Her
mansson)、エム・ブルストレーム(M.Burstroem)、ティ
ー・ジョハンソン(T. Johansson)、エム・イ・ハッチャ
ー(M. E. Hatcher)、ジャーナル・オヴ・アメリカン・
セラミック・ソサイアティー(J. Amer. Ceram. Soc)誌7
1巻4 号(1988)C183〜184 頁］。
粉末を製造する一般的な方法の他に、粉末表面の酸素含
量を調節するいくつかの方法がある。第1 に500 ℃より
高い温度において焼鈍を行うことにより空気中で粉末を
部分的に酸化することができる［グレスコヴィッチ(Gre
skovich)、ジェー・エー・パルム(J. A. Palm)、アミリ
カン・セラミック・ソサイアティー・バルチン(Am. Cer
am. Soc. Bull.)誌59巻11号(1980)1133頁参照］。酸化
は粉末の表面から始まるから、表面の酸素含量を増加さ
せることができる。しかしこれによって酸素含量は1.8
重量％を越えて増加し、従って上述のように高温におけ
る特性が劣化する。加水分解によって表面の酸素含量を
増加させる方法も同じ欠点をもっている。表面積が小さ
い市販のSi3N4を水またはアルコール中で摩砕すると、
加水分解により酸素に富んだ表面層が得られるが、同時
に全酸素含量も1.8 重量％以上に増加する。
量を調節するいくつかの方法がある。第1 に500 ℃より
高い温度において焼鈍を行うことにより空気中で粉末を
部分的に酸化することができる［グレスコヴィッチ(Gre
skovich)、ジェー・エー・パルム(J. A. Palm)、アミリ
カン・セラミック・ソサイアティー・バルチン(Am. Cer
am. Soc. Bull.)誌59巻11号(1980)1133頁参照］。酸化
は粉末の表面から始まるから、表面の酸素含量を増加さ
せることができる。しかしこれによって酸素含量は1.8
重量％を越えて増加し、従って上述のように高温におけ
る特性が劣化する。加水分解によって表面の酸素含量を
増加させる方法も同じ欠点をもっている。表面積が小さ
い市販のSi3N4を水またはアルコール中で摩砕すると、
加水分解により酸素に富んだ表面層が得られるが、同時
に全酸素含量も1.8 重量％以上に増加する。
例えば水中で摩砕する方法によって得られる表面酸素含
量が多い粉末を原料にした場合、HFで浸出することによ
り全酸素含量を減少させることができる。最適条件を探
せば表面酸素含量が高くしかも全酸素含量が1.8 重量％
を越えない粉末を得ることも可能である。しかしこの方
法は痕跡のフッ素イオンが粉末中に残り、粉末の表面に
蓄積する欠点をもっている。この痕跡量は洗浄しても除
去できない。
量が多い粉末を原料にした場合、HFで浸出することによ
り全酸素含量を減少させることができる。最適条件を探
せば表面酸素含量が高くしかも全酸素含量が1.8 重量％
を越えない粉末を得ることも可能である。しかしこの方
法は痕跡のフッ素イオンが粉末中に残り、粉末の表面に
蓄積する欠点をもっている。この痕跡量は洗浄しても除
去できない。
本発明の目的は従来法のこれらの欠点をもたないSi3N4
粉末を提供することである。
粉末を提供することである。
本発明においては、全酸素含量を1.8 重量％以上の高い
値に上昇させず、また表面層に望ましくないフッ素イオ
ンを存在させることなく、窒化硅素を製造し得ることが
見出だされた。このSi3N4粉末は全酸素含量が1.8 重量
％より少なく、全酸素含量に対する表面酸素含量の割合
が65％より多く、またフッ素含量は35 ppmより低い。こ
のSi3N4粉末が本発明の目的とするものである。本発明
のSi3N4粉末でSi3N4粉末表面のフッ素含量が0.1 原子％
より少ないものが特に好適である。
値に上昇させず、また表面層に望ましくないフッ素イオ
ンを存在させることなく、窒化硅素を製造し得ることが
見出だされた。このSi3N4粉末は全酸素含量が1.8 重量
％より少なく、全酸素含量に対する表面酸素含量の割合
が65％より多く、またフッ素含量は35 ppmより低い。こ
のSi3N4粉末が本発明の目的とするものである。本発明
のSi3N4粉末でSi3N4粉末表面のフッ素含量が0.1 原子％
より少ないものが特に好適である。
このような本発明のSi3N4粉末は全酸素含量は極めて低
い粉末を原料として得ることができる。このような粉末
及びその製造法は特許出願P3829503号の主題である。こ
の目的に使用されるSi3N4原料粉末は酸素含量が0.4 重
量％以下でなければならない。
い粉末を原料として得ることができる。このような粉末
及びその製造法は特許出願P3829503号の主題である。こ
の目的に使用されるSi3N4原料粉末は酸素含量が0.4 重
量％以下でなければならない。
本発明はまた本発明のSi3N4粉末の製造法に関する。本
発明の一方法においては、全酸素含量が0.4 重量％以下
のSi3N4粉末を酸素含有雰囲気中において温度700 〜120
0℃で15〜90分間焼鈍する。もし全酸素含量が0.4 重量
％より高い場合には、以後の工程を調節して最終酸素含
量が1.8 重量％を越えないようにするには、かなりの技
術的な努力が必要である。特に非常に微粉末で、従って
反応性が高い粉末の場合はそうである。
発明の一方法においては、全酸素含量が0.4 重量％以下
のSi3N4粉末を酸素含有雰囲気中において温度700 〜120
0℃で15〜90分間焼鈍する。もし全酸素含量が0.4 重量
％より高い場合には、以後の工程を調節して最終酸素含
量が1.8 重量％を越えないようにするには、かなりの技
術的な努力が必要である。特に非常に微粉末で、従って
反応性が高い粉末の場合はそうである。
窒化硅素は二酸化硅素に比べて熱力学的に不安定である
から、窒化硅素の粉末、特に酸素含量の低い粉末は容易
に酸化及び加水分解され、或る時間を経過した後には不
動態層が生じるために、反応が幾分阻害されることが期
待される。しかし驚くべきことには、全酸素含量が0.4
重量％以下の粉末は、酸化及び加水分解反応で非常にゆ
っくりしか反応せず、従って表面の酸素含量を特定の水
準まで増加させることは技術的に簡単である。本発明方
法において反応時間が短過ぎたり温度が低過ぎる場合に
は、酸素は表面に十分には蓄積しない。また反応時間が
長過ぎたり温度が高過ぎると、酸素含量は1.8 重量％以
上に増加する。従って全酸素含量が1.8 重量％より低
く、全酸素含量に対する表面の酸素含量が65％より多
く、同時にフッ素含量が35 ppmより、特に粉末表面のフ
ッ素含量が0.1 原子％より低い所望のSi3N4粉末を得よ
うとするならば、原料の酸素含量に従って反応時間及び
反応温度を最適化する必要がある。
から、窒化硅素の粉末、特に酸素含量の低い粉末は容易
に酸化及び加水分解され、或る時間を経過した後には不
動態層が生じるために、反応が幾分阻害されることが期
待される。しかし驚くべきことには、全酸素含量が0.4
重量％以下の粉末は、酸化及び加水分解反応で非常にゆ
っくりしか反応せず、従って表面の酸素含量を特定の水
準まで増加させることは技術的に簡単である。本発明方
法において反応時間が短過ぎたり温度が低過ぎる場合に
は、酸素は表面に十分には蓄積しない。また反応時間が
長過ぎたり温度が高過ぎると、酸素含量は1.8 重量％以
上に増加する。従って全酸素含量が1.8 重量％より低
く、全酸素含量に対する表面の酸素含量が65％より多
く、同時にフッ素含量が35 ppmより、特に粉末表面のフ
ッ素含量が0.1 原子％より低い所望のSi3N4粉末を得よ
うとするならば、原料の酸素含量に従って反応時間及び
反応温度を最適化する必要がある。
他の好適な具体化例においては、酸素含量が0.4 重量％
以下のSi3N4粉末から、これを水及び／又はアルコール
中で15〜120 分間摩砕することにより本発明の粉末をつ
くることができる。使用可能なアルコールは水に可溶な
低級アルコール、例えばメタノール、エタノール、n-プ
ロパノール、イソプロパノール、ブタノール、並びにグ
リコール、例えばエチレングリコールまたはプロピレン
グリコールである。通常Si3N4粉末は水中で摩砕せず、
有機溶媒中で摩砕を行う。そうしないと酸素含量が高く
なり過ぎるからである［ベー・オフマン(B. Hoffman
n）、ケラミッシェ・ツァイトシュリフト(Keramische Z
eitschrift)誌40巻2 号(1988)90〜96頁］。しかし酸素
含量が非常に低い粉末を原料とすれば、摩砕時間を調節
することにより、全酸素含量が1.8 重量％以上の値に上
昇することなく、粉末表面の酸素含量を規定値に調節す
ることができる。
以下のSi3N4粉末から、これを水及び／又はアルコール
中で15〜120 分間摩砕することにより本発明の粉末をつ
くることができる。使用可能なアルコールは水に可溶な
低級アルコール、例えばメタノール、エタノール、n-プ
ロパノール、イソプロパノール、ブタノール、並びにグ
リコール、例えばエチレングリコールまたはプロピレン
グリコールである。通常Si3N4粉末は水中で摩砕せず、
有機溶媒中で摩砕を行う。そうしないと酸素含量が高く
なり過ぎるからである［ベー・オフマン(B. Hoffman
n）、ケラミッシェ・ツァイトシュリフト(Keramische Z
eitschrift)誌40巻2 号(1988)90〜96頁］。しかし酸素
含量が非常に低い粉末を原料とすれば、摩砕時間を調節
することにより、全酸素含量が1.8 重量％以上の値に上
昇することなく、粉末表面の酸素含量を規定値に調節す
ることができる。
本発明の粉末の比表面積値BET はDIN 66 131号［ブリテ
ィッシュ・スタンダード・インスティテューション(Bri
tish Standard Institution)4359、第1 部(1969)と同
等］記載の一点N2吸着法に従って決定した。
ィッシュ・スタンダード・インスティテューション(Bri
tish Standard Institution)4359、第1 部(1969)と同
等］記載の一点N2吸着法に従って決定した。
Si3N4粉末の全酸素含量は不活性ガス熔融法により決定
した。この際Si3N4試料を秤量してグラファイトのルツ
ボに入れ、ヘリウム気流中で1800℃以上に加熱する。試
料中に存在する酸素は反応してCOになり、これを赤外線
測定用のセルで定量した。
した。この際Si3N4試料を秤量してグラファイトのルツ
ボに入れ、ヘリウム気流中で1800℃以上に加熱する。試
料中に存在する酸素は反応してCOになり、これを赤外線
測定用のセルで定量した。
全フッ素含量を決定するためには、粉末試料をアルカリ
熔融物中で分解する。生じたフッ素を水蒸気蒸留器中で
蒸留し、フッ素イオンに敏感な電極を用いてフッ素含量
を定量する。
熔融物中で分解する。生じたフッ素を水蒸気蒸留器中で
蒸留し、フッ素イオンに敏感な電極を用いてフッ素含量
を定量する。
粉末表面のフッ素含量はESCAを用い、F l s ピークのピ
ーク強度を原子の感度因子で割ることにより定量的に決
定することができる［米国ニューヨーク、ウィリー・ア
ンド・サンズ(Wiley and Sons)社1983年発行、ディー・
ブリックス(D. Briggs)、エム・ピー・シーク(M. P. Se
ak)編、オーゼ及びX 線電子分光法による実用表面分析
法(Practical Surface Analysis by Auger and X-ray P
hoto-Electron Spectroscopy)参照］。
ーク強度を原子の感度因子で割ることにより定量的に決
定することができる［米国ニューヨーク、ウィリー・ア
ンド・サンズ(Wiley and Sons)社1983年発行、ディー・
ブリックス(D. Briggs)、エム・ピー・シーク(M. P. Se
ak)編、オーゼ及びX 線電子分光法による実用表面分析
法(Practical Surface Analysis by Auger and X-ray P
hoto-Electron Spectroscopy)参照］。
全酸素に対する表面酸素の割合はピューカート(Peucker
t)とグレイル(Greil)の方法［ジャーナル・オヴ・マテ
リアル・サイエンス誌22巻(1987) 3717〜3720頁］記載
のESCA法により決定する。ESCAによりO l s 及びN l s
のピーク強度(IO゜またはIN)を測定し、原子感度因子で
補正し、I0゜またはIN゜(純粋なSiO2またはSi3N4に対し
て得られる理論的な信号強度；IO゜／IN゜の計算値は1.
03)で割る。酸化物層のESCAの厚さdXPS はこの結果から
下記式により決定される。
t)とグレイル(Greil)の方法［ジャーナル・オヴ・マテ
リアル・サイエンス誌22巻(1987) 3717〜3720頁］記載
のESCA法により決定する。ESCAによりO l s 及びN l s
のピーク強度(IO゜またはIN)を測定し、原子感度因子で
補正し、I0゜またはIN゜(純粋なSiO2またはSi3N4に対し
て得られる理論的な信号強度；IO゜／IN゜の計算値は1.
03)で割る。酸化物層のESCAの厚さdXPS はこの結果から
下記式により決定される。
ここでm は出口の平均の深さである（ここで与えられた
条件下ではm ＝ 1.2nm）。平均粒径Dsは下記式により比
表面積BET （m2／g 単位）から計算される。
条件下ではm ＝ 1.2nm）。平均粒径Dsは下記式により比
表面積BET （m2／g 単位）から計算される。
仮に全部の酸素が表面に結合していると考えた場合の仮
想的な表面酸素層dsは平均粒径Ds及び全酸素含量CO（重
量％）から下記式により計算することができる。
想的な表面酸素層dsは平均粒径Ds及び全酸素含量CO（重
量％）から下記式により計算することができる。
全酸素の割合に基づいた表面酸素の割合はdXPS 対dSの
割合の比から決定することができる。
割合の比から決定することができる。
下記の実施例により本発明のSi3N4粉末及びその製造法
を例示するが、これらの実施例は本発明を限定するもの
ではない。
を例示するが、これらの実施例は本発明を限定するもの
ではない。
実施例１ 特許出願P3829503号の実施例 2記載の方法で得られた全
酸素含量が0.22重量％のSi3N4の粉末12.7g を筒状の炉
に入れ空気中で1 時間1000℃において焼鈍する。重量増
加は0.1gより少なかった。焼鈍した粉末の比表面積BET
値は4.0m2／g であった。不活性ガス熔融法により決定
された全酸素含量は0.45重量％であった。フツ素含量は
10ppm より少なかった。ESCA法では表面にフッ素は検出
されかった（検出限界は約0.1 原子％）。第1 図に焼鈍
した試料のESCAスペクトルを示す。下記第1 表の値はこ
のグラフからピューカートとグレイルの方法［ジャーナ
ル・オヴ・マテリアル・サイエンス誌22巻(1987)3717〜
3720頁］により計算することができる。
酸素含量が0.22重量％のSi3N4の粉末12.7g を筒状の炉
に入れ空気中で1 時間1000℃において焼鈍する。重量増
加は0.1gより少なかった。焼鈍した粉末の比表面積BET
値は4.0m2／g であった。不活性ガス熔融法により決定
された全酸素含量は0.45重量％であった。フツ素含量は
10ppm より少なかった。ESCA法では表面にフッ素は検出
されかった（検出限界は約0.1 原子％）。第1 図に焼鈍
した試料のESCAスペクトルを示す。下記第1 表の値はこ
のグラフからピューカートとグレイルの方法［ジャーナ
ル・オヴ・マテリアル・サイエンス誌22巻(1987)3717〜
3720頁］により計算することができる。
これらの数値に従えば、全酸素含量に対する表面酸素の
割合は71％である。
割合は71％である。
実施例２ SiCl4とNH3とを気相において反応させて、次いで脱塩素
化を行って無定形Si3N4予備生成物をつくった。この予
備生成物のBET 値は135 m2／g であった。この無定形予
備生成物3 kgを60分間以内で結晶化ボートに入れ、1500
℃で２時間放置して結晶化させた。処理雰囲気中の水分
含量は5ppmより低かった。結晶生成物の酸素含量は0.27
重量％であった。
化を行って無定形Si3N4予備生成物をつくった。この予
備生成物のBET 値は135 m2／g であった。この無定形予
備生成物3 kgを60分間以内で結晶化ボートに入れ、1500
℃で２時間放置して結晶化させた。処理雰囲気中の水分
含量は5ppmより低かった。結晶生成物の酸素含量は0.27
重量％であった。
このSi3N4粉末700gを鋼製のボールと共に900mlの水中に
入れ、70分摩砕した。鉄の摩耗物を除去し、粉末を乾燥
し摩砕された粉末の比表面積BET 値は13.3m3／g であっ
た。全酸素含量は1.2 重量％であり、全フッ素含量は10
ppmより少なかった。ESCA法では表面にフッ素は検出さ
れなかった（検出限界は約0.1 原子％）。
入れ、70分摩砕した。鉄の摩耗物を除去し、粉末を乾燥
し摩砕された粉末の比表面積BET 値は13.3m3／g であっ
た。全酸素含量は1.2 重量％であり、全フッ素含量は10
ppmより少なかった。ESCA法では表面にフッ素は検出さ
れなかった（検出限界は約0.1 原子％）。
第2 図は摩砕した試料のESCAスペクトル（＝XPS スペク
トル）を示す。
トル）を示す。
下記第2 表の値はピューカートとグレイルの方法で決定
することができる。
することができる。
これらの数値に従えば、全酸素含量に対する表面酸素の
割合は71％である。
割合は71％である。
本発明の主な特徴及び態様は次の通りである。
１．全酸素含量が1.8 重量％より少なく、全酸素含量に
対する表面酸素含量の割合が65％より多く、フッ素含量
が35 ppmより低いSi3N4粉末。
対する表面酸素含量の割合が65％より多く、フッ素含量
が35 ppmより低いSi3N4粉末。
２．Si3N4粉末の表面上のフッ素含量が0.1 原子％より
低い上記1 記載のSi3N4粉末。
低い上記1 記載のSi3N4粉末。
３．全酸素含量が0.4 重量％以下のSi3N4粉末を酸素含
有雰囲気中において温度700 〜1200℃で15〜90分間焼鈍
する上記第1 または2 項記載のSi3N4粉末を製造する方
法。
有雰囲気中において温度700 〜1200℃で15〜90分間焼鈍
する上記第1 または2 項記載のSi3N4粉末を製造する方
法。
４．全酸素含量が0.4 重量％以下のSi3N4粉末を水、ア
ルコールまたはアルコール水溶液中で15〜120 分間摩砕
する上記第1 または2 項記載のSi3N4粉末を製造する方
法。
ルコールまたはアルコール水溶液中で15〜120 分間摩砕
する上記第1 または2 項記載のSi3N4粉末を製造する方
法。
第1 図に本発明の焼鈍した試料のESCAスペクトルであ
り、第2 図は本発明の摩砕した試料のESCAスペクトルで
ある。
り、第2 図は本発明の摩砕した試料のESCAスペクトルで
ある。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平１−313308（ＪＰ，Ａ)
Claims (2)
- 【請求項１】全酸素含量が1.8 重量％より少なく、全酸
素含量に対する表面酸素含量の割合が65％より多く、フ
ッ素含量が35 ppmより低いことを特徴とするSi3N4粉
末。 - 【請求項２】全酸素含量が0.4 重量％以下のSi3N4粉末
を酸素含有雰囲気中において温度700 〜1200℃で15〜90
分間焼鈍する特許請求の範囲第1 項記載のSi3N4粉末を
製造する方法。
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|---|---|
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| JP (1) | JPH0637285B2 (ja) |
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-
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- 1989-08-18 DE DE8989115213T patent/DE58901116D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1989-08-29 JP JP1220486A patent/JPH0637285B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
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