JPH06349110A

JPH06349110A - 光記録媒体

Info

Publication number: JPH06349110A
Application number: JP5133569A
Authority: JP
Inventors: Kazuya Taki; 和也滝
Original assignee: Brother Industries Ltd
Current assignee: Brother Industries Ltd
Priority date: 1993-06-03
Filing date: 1993-06-03
Publication date: 1994-12-22

Abstract

(57)【要約】【目的】クロストークが小さく、高密度化が可能な光
記録媒体を提供すること。【構成】本光記録媒体におけるエンハンス層１４およ
び案内層１５には、渦巻状、あるいは同心円状に所定の
幅で除去された記録領域２０が形成されており、これを
覆うように干渉層１６、記録層１７が形成されている。
記録層１７に生じる凹凸の段差はエンハンス層１４と案
内層１５の膜厚の和となる。このため、隣接する記録領
域２０、２３間の記録層１７に沿って熱が伝導する距離
が段差の分だけ増大し、記録マーク２４の広がりは抑制
される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、光により情報の記録、
再生、あるいは消去を行う光記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、金属案内層を有し、狭トラックピ
ッチ化が可能な光記録媒体に関しては、特願平３−２４
９４５６号の明細書および図面にて提案されている。こ
の光記録媒体１００は図９に示すように、透明基板１０
１と、この基板１０１の上に設けられたエンハンス層１
０２と、案内層１０３と、干渉層１０４と、記録層１０
５と保護層１０６から構成されている。そして、案内層
１０３には同心円、あるいは渦巻状に沿って所定の幅で
除去された記録領域１１０が設けられている。

【０００３】また、除去されずに所定の幅で同心円、あ
るいは渦巻状で残っている部分がガイド領域１１１とな
っている。この案内層１０３に設けられたパターンを模
して記録層１０５には凹凸が生じ、その段差は案内層１
０３の膜厚にほぼ等しくなっている。通常、案内層１０
３の膜厚は干渉層１０４の膜厚よりも小さいため、記録
層１０５に生じる凹凸の段差も小さい。

【０００４】基板１０１にはガラスやアモルファスポリ
オレフィン樹脂等が、エンハンス層１０２、干渉層１０
４、保護層１０６にはSiO₂、AlN、SiN等の酸化物や窒化
物等が用いられる。また、案内層１０３にはTa、Al等の
金属が用いられる。記録層１０５としてはTe等の穴あけ
材料、GeTeSb等の相変化材料、TbFeCo等の光磁気材料等
が用いられる。

【０００５】そして、上記構成により記録層１０５に図
示されない対物レンズ等により集光されたレーザ光を案
内層１０３が除去されている記録領域１１０を通して記
録層１０５に照射し、その照射部において、記録層１０
５の変形、相変化、あるいは磁化反転等を生じさせ、非
照射部とは反射率あるいはカー回転角の異なる記録マー
ク１１２を形成することにより記録が行われる。また、
情報の再生は記録マーク１１２における反射率やカー回
転角の変化を検出することにより行われる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
たような従来の図９に示したような光記録媒体１００に
おいて、記録層１０５は一般に熱伝導性が高いため、熱
伝導によりレーザ照射部の周囲の温度も上昇し、記録マ
ーク１１２が広がる。特に、トラックピッチを狭くし、
案内層１０３のガイド領域１１１の幅を狭くすると記録
マーク１１２の一部が隣接した記録領域１１４まで広が
る。この結果、ある記録領域１１４に沿って再生する
際、隣の記録領域１１０に記録されている記録マーク１
１２の一部にもレーザ光が照射されるため、本来再生さ
れないはずの信号が混入し、クロストークが生じたり、
ノイズが増加するという問題があった。

【０００７】本発明は、上述した問題点を解決するため
になされたものであり、その目的とするところは、クロ
ストークが小さく、高密度化が可能な光記録媒体を提供
することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明の光記録媒体は、基板と、所定のパターンが形
成された案内層と、干渉層と、記録層とを順次積層して
なり、前記案内層に形成されたパターンを模して記録層
に生じる凹凸の段差が案内層の膜厚よりも大きくなって
いる。

【０００９】

【作用】上記の構成を有する本発明の光記録媒体では、
記録層に凹凸が形成されており、その段差は案内層の膜
厚よりも大きくなっている。このため、隣接した記録領
域まで記録層に沿って熱が伝導する距離が長くなる。こ
れにより、ある記録領域を通して記録層にレーザを照射
したとき、隣接した記録領域までは熱が伝わらないため
記録マークの広がりが抑えられ、高密度化のためトラッ
クピッチを狭くしてもクロストークは増大しない。

【００１０】

【実施例】以下、本発明を具体化した一実施例を図面を
参照して説明する。

【００１１】本発明の光記録媒体１０は図１に示すよう
に、透明基板１２の上に積層されたエンハンス層１４
と、案内層１５と、干渉層１６と、記録層１７と、保護
層１８とから成っている。エンハンス層１４および案内
層１５には、渦巻状、あるいは同心円状に所定の幅で除
去された部分、すなわち記録領域２０が形成されてい
る。また、除去されずに残っているエンハンス層１４お
よび案内層１５がガイド領域２２となる。エンハンス層
の膜厚ｄ₁は３０〜５０ｎｍであり、２０ｎｍ程度であ
る案内層１５の膜厚ｄ₂よりも大きい。また、エンハン
ス層１４と案内層１５を覆うように膜厚ｄ₃の干渉層１
６が形成されている。干渉層１６の膜厚は９８ｎｍ程度
である。この結果、記録層１７には案内層１５およびエ
ンハンス層１４が除去されたパターンを模して凹凸が生
じ、その凹凸の段差はエンハンス層１４と案内層１５の
膜厚の和ｄ₁＋ｄ₂となる。

【００１２】透明基板１２には、ガラスやアモルファス
ポリオレフィン等の樹脂が用いられる。記録層１７に
は、光磁気記録媒体の場合、例えば希土類遷移金属アモ
ルファス合金であるTbFeCo、TbFe、GdTbFe、あるいはPt
とCo等の極薄膜を多層積層した超格子薄膜、あるいは磁
性ガーネット等の酸化物磁性体が用いられる。また、エ
ンハンス層１４、干渉層１６、保護層１８にはSiN、Al
N、SiAlON、SiO₂等の透明酸化物、窒化物等が用いられ
る。

【００１３】本発明の光記録媒体１０の製造方法は図２
を用いて説明する。まず始めに、同図（ａ）に示すよう
に基板１２上にスパッタ法、真空蒸着法等のよく知られ
た薄膜形成手段によりエンハンス層１４と案内層１５を
形成し、その上に回転塗布法等を用いてフォトレジスト
３２を塗布する。次に、同心円状、あるいは渦巻状等の
所定のパターンが形成されたフォトマスク３４を密着さ
せて紫外線を照射し、露光を行う。

【００１４】露光後、現像することにより同図（ｂ）に
示すように、フォトレジスト３２のうち、紫外線が照射
された部分が溶け、フォトレジスト３２でフォトマスク
３４に作製されているパターンと同一のパターンが形成
される。ここで、プラズマエッチング、あるいは酸、ア
ルカリを用いた化学エッチング等のよく知られているエ
ッチング手段により案内層１５およびエンハンス層１４
のうち、フォトレジスト３２のついていない部分を除去
し、さらにフォトレジスト３２を除去すると、同図
（ｃ）に示すように記録領域２０およびガイド領域２２
のパターンが形成される。この上に同図（ｄ）に示すよ
うにスパッタ法等のよく知られた薄膜形成手段により干
渉層１６、記録層１７、保護層１８を積層することによ
り本発明の光記録媒体１０を製造することができる。

【００１５】情報の記録は、図１において、記録層１７
に一定出力のレーザ光を案内層１５が除去されている記
録領域２３を通して照射すると同時に磁界を印加し、記
録層１７の磁化を一定方向に揃えた後、印加磁界の方向
を反転し、情報により変調されたレーザ光を記録層１７
に照射して記録層１７の磁化を反転させることでビット
を形成する。このとき、記録層１７は図１に示すように
凹凸状に形成され、その段差は案内層１５の膜厚よりも
大きいため、隣接する記録領域２０、２３間の記録層１
７に沿って熱が伝導する距離が段差の分だけ増大する。
この結果、ある記録領域２３の記録層１７にレーザ光を
照射して加熱したとき、隣の記録領域２０の記録層１７
には熱が伝わらず、記録マーク２４の広がりは抑制され
る。このように、記録マーク２４の広がりを抑制するこ
とによりクロストークの増加を防ぐことができる。

【００１６】なお、エンハンス層１４および干渉層１６
の膜厚ｄ₁、ｄ₃については特に限定しないが、よく知ら
れているプッシュプル法によりトラッキングを行う場
合、干渉層１６とエンハンス層１４の膜厚の差ｄ₃−ｄ₁
がλ／（８ｎ）からλ／（６ｎ）程度となることが望ま
しい。ただし、λはレーザ波長、ｎはエンハンス層１４
および干渉層１６の屈折率である。また、カー効果エン
ハンスメントを増大させ、再生時のＣ／Ｎを向上させる
ためには、干渉層膜厚ｄ₃はλ／（４ｎ）程度が望まし
い。

【００１７】以上、本発明の一実施例を図１および図２
に基いて詳細に説明したが、その主旨を逸脱しない範囲
で種々の変更を加えることができる。例えば、記録層１
７の材料は光磁気記録材料に限定されず、有機色素、Te
等の穴あけ材料、GeTeSb等の相変化材料を用いてもよ
い。基板１２、エンハンス層１４、案内層１５、干渉層
１６、保護層１８の材料についても特に限定しない。ま
た、図３に示すように保護層１８の上にAl等から成る反
射層３０を設けてもよい。

【００１８】また、記録層１７を凹凸状に形成する手段
についても種々の変更が可能である。例えば、図４に示
すように記録層１７の段差を大きくするために基板１２
の一部をエッチングしてもよい。

【００１９】また、図５に示すようにエンハンス層３６
をエッチングしないで、案内層１５の上にスペーサ層３
７を設けてもよい。この場合、案内層１５とスペーサ層
３７は同一パターンで形成されている。

【００２０】また、図６に示す光記録媒体３９のように
エンハンス層４０をエッチングせず、干渉層４１をエッ
チングすることにより記録層１７に凹凸を設けてもよ
い。この光記録媒体３９の製造方法については図７を用
いて説明する。まず、始めに、同図（ａ）に示すように
基板１２上にスパッタ法、真空蒸着法等のよく知られた
薄膜形成手段によりエンハンス層４０と案内層１５を形
成し、その上に回転塗布法等を用いてフォトレジスト３
２を塗布する。次に、同心円状、あるいは渦巻状等の所
定のパターンが形成されたフォトマスク３４を密着させ
て紫外線を照射し、露光を行う。

【００２１】露光後、現像することにより同図（ｂ）に
示すようにフォトレジスト３２のうち、紫外線が照射さ
れた部分が溶け、フォトレジスト３２でフォトマスク３
４に作製されているパターンと同一のパターンが形成さ
れる。ここで、プラズマエッチング、あるいは酸、アル
カリを用いた化学エッチング等のよく知られているエッ
チング手段により案内層１５のうち、フォトレジスト３
２のついていない部分を除去し、さらにフォトレジスト
３２を除去すると、同図（ｃ）に示すように記録領域２
０およびガイド領域２２のパターンが形成される。この
上に同図（ｄ）のようにスパッタ法等のよく知られた薄
膜形成手段により干渉層４１を形成する。さらに、その
上に回転塗布法等を用いてフォトレジスト３２を塗布
し、基板１２側から紫外線を照射して露光を行う。この
とき、案内層１５がマスクとなり、案内層１５が残って
いる位置に対応するフォトレジスト３２は露光されな
い。露光後、現像することにより同図（ｅ）に示すよう
にフォトレジスト３２のうち、紫外線が照射された部分
が溶け、フォトレジスト３２で案内層１５に作製されて
いるパターンと同一のパターンが形成される。

【００２２】ここで、プラズマエッチング、あるいは
酸、アルカリを用いた化学エッチング等のよく知られて
いるエッチング手段により干渉層４１のうち、フォトレ
ジスト３２のついていない部分を所定の深さだけエッチ
ングし、さらにフォトレジスト３２を除去すると、同図
（ｆ）に示すように干渉層４１に凹凸が形成される。こ
の上に同図（ｇ）に示すように記録層１７、保護層１８
を積層することにより光記録媒体３９を製造することが
できる。

【００２３】また、案内層１５に形成されるパターンに
ついても同心円状、あるいは渦巻状の帯状のパターンだ
けでなく種々の変更が可能である。例えば、図８に示す
ように、アドレス等の情報を示すピット７０のパターン
が形成されたインデックス部７２とデータを記録するた
めの記録領域２０が形成されたデータ部７４とを設け、
いわゆるプリフォーマットを設けてもよい。

【００２４】

【発明の効果】以上詳述したことから明らかなように、
本発明によれば、案内層に形成されている所定のパター
ンを模して記録層に凹凸が形成されており、その段差は
案内層の膜厚よりも大きくなっている。このため、隣接
した記録領域間において、熱が伝導する記録層に沿った
距離が長くなり、相対的に熱伝導率が低くなる。これに
より、ある記録領域を通して記録層にレーザを照射した
とき、隣接した記録領域までは熱が伝わらないため記録
マークの広がりが抑えられ、高密度化のためトラックピ
ッチを狭くしてもクロストークは増大しない。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光記録媒体の構成を具体化した一実施
例を示す要部断面図である。

【図２】本発明の光記録媒体の製造方法を示す説明図で
ある。

【図３】本発明の他の実施例を示す要部断面図である。

【図４】本発明の他の実施例を示す要部断面図である。

【図５】本発明の他の実施例を示す要部断面図である。

【図６】本発明の他の実施例を示す要部断面図である。

【図７】図６に示した光記録媒体の製造方法を示す説明
図である。

【図８】案内層に形成されたパターンを示す要部平面図
である。

【図９】従来の光記録媒体を示す断面図である。

【符号の説明】

１０光記録媒体１２基板１５案内層１６干渉層１７記録層

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板と、所定のパターンが形成された案
内層と、干渉層と、記録層とを順次積層してなり、前記
案内層に形成されたパターンを模して記録層に生じる凹
凸の段差を案内層の膜厚よりも大きくしたことを特徴と
する光記録媒体。