JPH05135411A

JPH05135411A - 光記録媒体

Info

Publication number: JPH05135411A
Application number: JP3299032A
Authority: JP
Inventors: Takuya Hamaguchi; ▲たく▼哉浜口; Hideo Maruyama; 英雄丸山; Kazuya Taki; 和也滝; Riki Matsuda; 理樹松田; Yumiko Ohashi; 弓子大橋
Original assignee: Brother Industries Ltd
Current assignee: Brother Industries Ltd
Priority date: 1991-11-14
Filing date: 1991-11-14
Publication date: 1993-06-01

Abstract

(57)【要約】【目的】クロストークの増大の少ない高密度記録が可
能で、しかもプリフォーマットのピットの不良が少ない
光記録媒体を提供する。【構成】透明な基板１に、所定パターンが形成された
反射材２を有し、更にこの上に光記録層４が設けられて
おり、所定パターンが形成された反射材２の一部を連続
的に除去した部分でプリフォーマット領域を、連続的に
除去した部分で記録再生領域を形成して成るものであ
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、光学的に情報を記録再
生する光記録媒体に関し、更に、詳細には高密度に情報
を収納でき、かつ高精度に情報を再生できる光記録媒体
の構成に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、この種の光記録媒体８０は、図１
２に示すように、アクリル、ポリカーボネート、ガラス
等から形成された透明基板８２にトラッキング用案内溝
８１が設けられており、その透明基板８２上にＳｉＯ2
，ＡｌＮ等の酸化物、窒化物等からなる保護層８３、
及びＴｂＦｅＣｏ，ＧｄＴｂＦｅ，ＴｂＣｏ等の光磁気
記録材料、ＧｅＳｂＴｅ等の相変化記録材料、金属、色
素等の穴明け記録材料等からなる光記録層８４、およ
び、ＳｉＯ2 ，ＡｌＮ等の酸化物、窒化物、または樹脂
等からなる保護層８５が、積層されて構成されている。

【０００３】また、このような光記録媒体８０は、図１
３のように溝幅をＷG，溝間距離をＷL ，トラックピッ
チをＰとすると、Ｐ＝ＷG ＋ＷL となるように形成されている。更に、レーザー光９１の
光記録媒体８０上でのスポット径をｄSとすると、トラ
ックピッチＰはレーザ光のスポット径ｄSとほぼ等しく
なるように作製されている。

【０００４】また、かかる光記録媒体８０において、そ
の基板８２のランド部８６の所々に図１５及び図１６に
示すようなプリフォーマットのためのピット８７が形成
されている。

【０００５】この基板８２の製造方法は、まずガラス原
盤にフォトレジストを厚さ例えば０．１μｍ以下にスピ
ンコートし、このフォトレジストに同心円、またはスパ
イラル状に一定のピッチでレーザー光を連続的に、ある
いは不連続的に当てた後、現像をしてレジストのグルー
ブ、ピットを有する原盤マスクを作成する。

【０００６】次に導電膜付与後、電鋳法により、ニッケ
ルスタンパを作成し、このスタンパを母型としてフォト
ポリマー法、射出成形法等の樹脂成形で、案内溝やピッ
トを転写して、光ディスク基板を作製する。

【０００７】そして、図１２に示す光記録媒体８０にお
いて、その基板８２を通してレーザ光が光記録層８４に
照射され光記録層８４が加熱されると磁化の反転、相変
化あるいはピット形成が生じ記録が行われる。また、再
生は、光記録層８４にレーザ光を照射し光記録層からの
反射光の偏光面の回転、あるいは反射光量の変化を検出
することにより行われる。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
光記録媒体８０では、図１４のように記録密度を高める
ためトラックピッチＰをさらに小さくし、レーザ光９１
のスポット径ｄS よりもトラックピッチＰを小さくする
と特定のトラック９２に記録された情報を再生する際、
その隣のトラック９３に記録されたビット９４の一部に
も、レーザ光のスポットが照射され、再生されるためク
ロストークが増大するという問題があった。

【０００９】また、プリフォーマットのためのピットの
形成を射出成形により行っているため、ピットの成形不
良が起きやすいという問題もあった。

【００１０】本発明は上述した問題点を解決するために
なされた物であり、その目的とするところは、基板上に
所定パターンの反射材及び光記録層を順次積層して形成
し、光記録層上に照射されるレーザ光の一部を反射材に
より遮ることにより、トラックピッチを小さくすること
ができ、クロストークの増大の少ない高密度記録が可能
で、さらにプリフォーマットのためのピットの不良が少
ない光記録媒体を提供することにある。

【００１１】

【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明は、透明な基板に、所定パターンが形成された
反射材を有し、さらにこの上に光記録層が設けられて構
成されている。また、反射材の一部を不連続的に除去し
た部分でプリフォーマット領域を、連続的に除去した部
分で記録再生領域を形成している。尚、隣接するトラッ
クの間に反射材が残らないように反射材を除去した部分
を設けてもよい。また、プリフォーマット領域の幅より
記録再生領域の幅の方を大きくしてもよい。また、基板
外周部ほど記録再生領域の幅及びトラックピッチを小さ
くしてもよい。

【００１２】

【作用】上記の構成を有する光記録媒体では、トラック
ピッチよりも大きなスポット径のレーザ光を照射して
も、記録再生領域の両側に反射材が設けられているた
め、隣の記録領域にはレーザ光が照射されない。これに
より、再生時において再生すべき記録再生領域の隣の記
録再生領域に記録されている情報は再生されないため、
クロストークは増大しない。また反射材を除去すること
によりプリフォーマットのピットを形成するため、プリ
フォーマットのためのピットの不良が少ない。またプリ
フォーマット領域の幅より記録再生領域の幅を広くする
ことにより、Ｃ／Ｎ特性が良好になる。さらに、基板内
周部より基板外周部の記録再生領域及びトラクピッチを
小さくすることにより、記録密度をいっそう大きくする
ことができる。また、隣接するトラックの間に反射材が
残らないように反射材を除去した部分の信号を検出する
ことにより、光軸ずれ、またはディスクの傾きに応じた
オフセット信号が得られ、トラッキング信号の直流オフ
セットを取り除くことができる。

【００１３】

【実施例】次に、本発明の一実施例を図面に基づいて詳
細に説明する。

【００１４】図１（ａ）は、本実施例の光記録媒体２０
の半径方向の要部断面図、同図（ｂ）は、円周方向の要
部断面図である。また、図２は、本実施例のディスクの
反射材２の、基板１に平行な方向の断面図である。

【００１５】基板１の上には反射材２が成膜されてい
て、図２に示すように同心円、またはスパイラルに沿っ
て、一部が不連続的に除去されてセクターマーク、アド
レスマーク、同期信号マーク等のプリフォーマットのピ
ット６と記録再生領域７とトラッキング用案内膜８が形
成されている。また、一部に隣接したトラックの間に反
射材２が残らないように除去した部分でミラー部９を設
けている。また、前記記録再生領域７の幅は、プリフォ
ーマットのピット６の幅より広くなっている。

【００１６】この上には干渉層３、記録媒体である光記
録層４、更に保護膜５が、層状に設けられている。

【００１７】図３は作成工程を表したものである。

【００１８】図３（ａ）に示すように、ガラス、樹脂等
の透明な基板１の上に、反射材２を形成する。反射材２
は、例えばアルミニウム、金、チタン、タンタルなどの
金属、または、窒化チタン、窒化タンタルなどの窒化
物、炭素、シリコン等の半導体、色素等の有機物が用い
られる。この反射材２の上に図３（ｂ）に示すようにレ
ジスト１０を設け、同心円、またはスパイラルに沿って
レーザー光を連続、または不連続に当て、図２に示すプ
リフォーマットのピット６や記録再生領域７やミラー部
９のパターンの潜像を形成し、現像する。さらに、酸、
アルカリ溶液を用いたエッチング、あるいはプラズマエ
ッチング等により、フォトレジスト１０の形成されてい
ない部分の反射材材料２をエッチングする。最後にフォ
トレジストを有機溶剤等で除去することにより同図
（ｃ）のように反射材２により、図２に示すようなプリ
フォーマットのピット６と、記録再生領域７と、トラッ
キング用案内膜８とミラー部９が形成される。

【００１９】干渉層３は、図３（ｄ）のようにＳｉＯ，
ＴｉＯ2，ＺｒＯ2，ＳｉＡｌＯＮ等の基板より屈折率の
高い透明誘電体膜からなり、よく知られているスパッタ
法あるいは真空蒸着法で形成される。

【００２０】光記録層４は図３（ｅ）のように例えば、
希土類と遷移金属とを主成分とするＴｂＦｅＣｏ，Ｇｄ
ＴｂＦｅ等のアモルファス合金である光磁気材料ＴｅＯ
x 等の相変化記録材料，Ｔｅ，Ｂｉ等の金属、色素等の
穴明け記録材料等からなり、スパッタリング法、真空蒸
着法、回転塗布法等により干渉層３の上に略均一な厚さ
で設けられる。

【００２１】保護層５は図３（ｅ）のように光記録層４
を化学変化から保護するためのものでＳｉＯ2，ＡｌＮ
等からなり、スパッタリング法、真空蒸着法、回転塗布
法等により形成される。

【００２２】なお、図４に示すように、図３（ｂ）で、
反射材２上のレジスト１０にミラー部９の潜像１１を形
成するためには、プリフォーマットのピット６の潜像１
２や記録再生領域７の潜像１３を形成するときより、高
パワーで露光を行えばよい。これにより、隣接するトラ
ックのミラー部の潜像１１が重なり合い、ミラー部９の
形成が可能となる。

【００２３】また、図３（ｂ）で、レジスト１０にプリ
フォーマットのピット６や記録再生領域７やミラー部９
の潜像を形成する際、図示しないマスクをかぶせて露光
してもよい。マスクは従来と同様に、ガラス基板にクロ
ムを蒸着し、更にこの上にレジストを塗布し、同心円、
またはスパイラルに沿ってレーザー光を連続、または不
連続に当て、図２に示すプリフォーマットのピット６や
記録再生領域７やミラー部９のパターンの潜像を形成
後、現像、エッチングすることで作成する。

【００２４】そして、かかる光記録媒体２０において、
その基板１を通してレーザ光が光記録層４に照射され記
録層４が加熱されると磁化の反転、相変化あるいはピッ
ト形成が生じ記録が行われる。また、再生は、光記録層
４のレーザ光を照射し光記録層からの反射光の偏光面の
回転、あるいは反射光量の変化を検出することにより行
われる。

【００２５】ここで、図５のように、記録再生領域７の
幅をＷr、プリフォーマットのピット６の幅をＢs とす
ると、Ｗr≧Ｂs すなわち、記録再生領域７の幅がプリフォーマットのピ
ット６の幅と同じかそれ以上となるように規定されてい
る。したがって記録再生領域７の幅が十分に広いため、
狭トラックピッチ化によるＣ／Ｎ特性の良い高密度記録
が可能となる。しかも、図６（ａ）のように、レーザ光
１４のうち記録再生領域７からはみ出した部分は案内膜
８により遮蔽されるため、隣の記録再生領域には達せ
ず、隣の記録再生領域１５に記録されたビットは再生さ
れない。このため、狭トラックピッチ化にもかかわら
ず、クロストークは増大しない。また、同図（ｂ）のよ
うに記録時において熱拡散により、トラッキング用案内
膜８の下側にビット１６が広がっても、レーザ光１４
は、トラッキング用案内膜８で遮られ、その下に達しな
いため、やはり隣の記録領域１５に記録されたビットは
再生されず、クロストークは増大しない。

【００２６】また、ミラー部９の信号を検出することに
より、光軸ずれ、またはディスクの傾きに応じたオフセ
ット信号が得られ、トラッキング信号の直流オフセット
を取り除くことができる。

【００２７】以上、本発明の一実施例を図面に基づいて
詳細に説明したが、本発明は種々の変更が可能であり他
の態様で実施することが出来る。

【００２８】例えば、記録再生領域７と、プリフォーマ
ットのピット６の幅は特に限定しないが、記録再生領域
７の幅としては、記録再生時のレーザビーム径程度が、
また、プリフォーマットのピット６の幅としては、記録
再生ビーム径の１／２程度が好適である。

【００２９】また、記録再生領域７の幅及びトラックピ
ッチは基板外周部の方が基板内周部よりも狭く形成され
ていてもよい。記録時のディスクの回転速度は同じであ
るため、形成される記録ピットの長さは基板外周部の方
が長くなる。このため、記録再生領域７の幅を狭くして
も、Ｃ／Ｎ等の記録再生特性を劣化させることなく、よ
り一層の高密度化を図れる。

【００３０】また、反射材２の材料については特に限定
せず、その反射率についても特に限定しない。さらに、
光吸収率の大きな材料を用いてもよい。

【００３１】また、図７のように反射材２の下にもＳｉ
Ｏ，ＳｉＡｌＯＮ，等基板よりも屈折率が高い透明誘電
体からなる干渉層３０を設けてもよい。これによるカー
効果エンハンスメントにより、Ｃ／Ｎ特性がさらに向上
する。また、干渉層は必ずしも必要ではなく、図８のよ
うに反射材２の上に直接光記録層を設けてもよい。ま
た、保護層を記録層の両側に設けてもよい。また、干渉
層、保護層、基板の材料についても特に限定しない。

【００３２】また、図９のように基板７１の上に光記録
層７２を設け、その上に、反射材７４、保護層７６を形
成してもよい。この時、記録・再生は、基板７１と反対
側から行う。

【００３３】また、図１０のように反射材２を除去しな
い部分でミラー部９を形成してもよい。

【００３４】また、図１１のようにプリフォーマットの
ピット６を、反射材２を除去しない部分で形成してもよ
い。

【００３５】

【発明の効果】以上詳述したことから明らかなように、
本発明によれば、基板上に形成された、所定パターンか
らなる反射材が除去されてなるプリフォーマット領域と
記録再生領域を有するため、クロストークの増大の少な
い高密度記録が可能となり、さらにプリフォーマットの
ピットの不良が少ない光記録媒体が得られる。また、隣
接するトラックの間に反射材が残らないように反射材を
除去した部分の信号を検出することにより、光軸ずれ、
またはディスクの傾きに応じたオフセット信号が得ら
れ、トラッキング信号の直流オフセットを取り除くこと
ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１（ａ）、（ｂ）は本発明の光記録媒体の一
実施例の要部断面図である。

【図２】本発明の光記録媒体の一実施例の要部断面図で
ある。

【図３】図１及び図２の光記録媒体の製造工程を示す断
面図である。

【図４】図１及び図２の光記録媒体の製造工程を示す断
面図である。

【図５】本発明の光記録媒体の一実施例の詳細を示す断
面図である。

【図６】図６（ａ）、（ｂ）は本発明の光記録媒体の一
実施例の詳細を示す図である。

【図７】本発明の光記録媒体の別の実施例を示す断面図
である。

【図８】本発明の光記録媒体の別の実施例を示す断面図
である。

【図９】本発明の光記録媒体の別の実施例を示す断面図
である。

【図１０】本発明の光記録媒体の別の実施例を示す断面
図である。

【図１１】本発明の光記録媒体の別の実施例を示す断面
図である。

【図１２】従来の光記録媒体を示す断面図である。

【図１３】従来の光記録媒体の詳細を示す図である。

【図１４】従来の光記録媒体の詳細を示す図である。

【図１５】従来の光記録媒体の基板の断面図である。

【図１６】従来の光記録媒体の基板の詳細を示す図であ
る。

【符号の説明】

１基板２反射材４光記録層６プリフォーマットのピット７記録再生領域９ミラー部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者松田理樹名古屋市瑞穂区苗代町15番１号ブラザー工業株式会社内 (72)発明者大橋弓子名古屋市瑞穂区苗代町15番１号ブラザー工業株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透明な基板と、反射材と、記録再生可能
な光記録層を有する光記録媒体であって、前記反射材に所定パターンが形成されていることを特徴
とする光記録媒体。
【請求項２】反射材の一部を不連続的に除去して形成
されたプリフォーマット領域と、反射材の一部を連続的
に除去して形成された記録再生領域を有することを特徴
とする請求項１に記載の光記録媒体。
【請求項３】隣接したトラックの間に反射材が残らな
いように反射材を除去した部分を形成したことを特徴と
する請求項１又は２に記載の光記録媒体。
【請求項４】プリフォーマット領域の幅より、記録再
生領域の幅を広くしたことを特徴とする請求項１乃至請
求項３のいずれかに記載の光記録媒体。
【請求項５】基板の外周部ほど、記録再生領域の幅及
びトラックピッチを狭くしたことを特徴とする請求項１
乃至請求項４のいずれかに記載の光記録媒体。