JPH04221443A - 光記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、光により情報の記録、
再生、あるいは消去を行う光記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、光記録媒体は図９に示すように、
同心円あるいは渦巻状にトラッキングサーボ用の案内溝
が形成された透明基板１００と、この基板１００の全面
に設けられた記録層１０２と、この記録層１０２の全面
に設けられた保護層１０４とでその主要部が構成されて
いる。基板１００にはアクリル樹脂、ポリカーボネート
樹脂やガラスが、保護層１０４にはＳｉＯ２、ＡｌＮ等
の酸化物や窒化物が用いられる。また、記録層１０２と
してはＴｅ等の穴あけ材料、ＧｅＴｅＳｂ等の相変化材
料、ＴｂＦｅＣｏ等の光磁気材料が用いられる。

【０００３】記録層１０２に図示されない対物レンズ等
により集光されたレーザ光１０６を基板１００を通して
記録層１０２に照射し、その照射部１０８において、記
録層１０２の変形、相変化、あるいは磁化反転等を生じ
させ、非照射部とは反射率あるいはカー回転角の異なる
記録ビット１０８を形成することにより記録が行われる
。情報の再生は記録ビット１０８における反射率やカー
回転角の変化を検出することにより行われる。

【０００４】また、図１０に示すような、透明基板１０
９の上に同心円あるいは渦巻状に記録層１１０を形成し
、その上に保護層１０４を設けた光記録媒体も提案され
ている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図９に
示した光記録媒体において、記録層１０２は一般に熱伝
導性が高いため、熱伝導によりレーザ照射部の周囲の温
度も上昇し、記録ビット１０８が広がる。これにより、
あるトラックを再生する際、隣のトラックに記録されて
いるが、再生を行っているトラックの方へも広がってい
るビットの領域にもレーザ光が照射されるため、本来再
生されないはずの信号が混入しクロストークが生じたり
、ノイズが増加するという問題があった。特に、高密度
化のためトラックピッチを狭くすると、クロストークの
増加が著しかった。

【０００６】また、ビットの広がりを防止するため、図
１０のように記録層１１０の幅を制限するには記録層１
１０の一部を同心円状あるいは渦巻状に除去する必要が
ある。このため、記録層１１０に出力の大きなレーザ光
を照射し、記録層１１０を同心円状あるいは渦巻状に焼
き切ることが行われるが、レーザ照射により除去された
記録層１１０の材料の一部が残滓として残ったり、除去
された部分の境界の形状が乱れたりすることからノイズ
が増加する。さらに、除去された部分の境界付近の記録
層１１０が熱等により劣化し記録再生特性が低下すると
いう問題があった。

【０００７】本発明は、上述した問題点を解決するため
になされたものであり、その目的とするところは、基板
上に案内膜を設け、この案内膜の真上の記録層の熱伝導
率を低下させ、ビットの広がりを抑えることにより、ク
ロストークが小さく、高密度化が可能な光記録媒体を提
供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に、本発明の光記録媒体では、基板と、その上に渦巻状
、同心円状あるいは直線状等に形成された案内膜と、基
板および案内膜を覆うように形成された透明薄膜と、そ
の上に形成された記録層とを備え、案内膜の真上の部分
の記録層の熱伝導率を低くしている。熱伝導率を低くす
るため、案内膜の真上の部分の記録層を除去したり、案
内膜の真上の部分の記録層の上に吸熱材を設けている。

【０００９】

【作用】上記の構成を有する本発明の光記録媒体では、
案内膜の真上の部分の記録層の熱伝導率が低くなってい
る。一般に記録層の熱伝導率は高いが、その回りに形成
されている透明薄膜等は熱伝導率が低いため、記録層を
除去された部分の熱伝導率も小さくなる。また、記録層
の上に吸熱材を設けることにより、記録層を伝わってき
た熱が吸熱材に吸収され、それ以上伝わらなくなるため
、結果的に熱伝導率が低下する。ここで、あるトラック
にレーザを照射したとき、熱伝導率の低い部分は、温度
が上昇しないためビットの広がりは案内膜の真上の部分
で抑えられる。このため、トラックピッチを小さくして
高密度化した場合もビットが隣のトラックまで広がるこ
とはなく、クロストークは増加しない。

【００１０】

【実施例】以下、本発明を具体化した一実施例を図面を
参照して説明する。

【００１１】本発明の光記録媒体１０は図１に示すよう
に、透明基板１２の上に渦巻状あるいは同心円状に形成
された案内膜１４と、案内膜１４によって生じる凹凸を
略平坦にする平坦化層１６と、平坦化層１６の上に順次
積層された記録層１８、保護層２０、反射層２２とから
成る。案内膜１４の真上の部分２４は記録層１８が除去
されている。透明基板１２にはアクリルやポリカーボネ
ート等の樹脂、あるいはガラス等が用いられる。案内膜
１４にはＴａ、Ｃｒ、Ａｌ等の金属が、記録層１８には
、光磁気記録媒体の場合、例えば希土類遷移金属アモル
ファス合金であるＴｂＦｅＣｏ、ＴｂＦｅ、ＧｄＴｂＦ
ｅ、あるいはＰｔとＣｏ等の極薄膜を多層積層した超格
子薄膜が用いられる。また、平坦化層１６および保護層
２０にはＳｉＯ２、ＡｌＮ等の透明酸化物、窒化物等が
、反射層２２にはＡｌ等の金属が用いられる。保護層２
０は記録層１８を酸化等から保護する働きを、また、反
射層２２は記録層１８が薄い場合に反射率を高める働き
をする。

【００１２】本発明の光記録媒体の製造方法は図２を用
いて説明する。まず、同図（ａ）のように基板１２上に
スパッタ法、真空蒸着法等のよく知られた薄膜形成手段
により案内膜となるＴａ等の案内膜用薄膜３０を形成し
、その上に回転塗布法等を用いてフォトレジスト３２を
塗布する。次に、同図（ｂ）のように、同心円状あるい
は渦巻状等の所定のパターンが形成されたフォトマスク
３４を密着させ紫外線を照射し露光を行う。露光後、現
像することにより同図（ｃ）のようにフォトレジスト３
２のうち、紫外線が照射された部分３６が残る。

【００１３】ここで、プラズマエッチングあるいは、酸
、アルカリを用いた化学エッチング等のよく知られてい
るエッチング手段により案内膜用薄膜３０のうち、フォ
トレジスト３６のついていない部分を除去し、さらにフ
ォトレジスト３６を除去すると、同図（ｄ）のように案
内膜１４が形成される。その上に例えば、回転塗布法に
より液状のＳｉ等の金属アルコキシドを供給して塗布し
、これを加熱して固化させることにより、ＳｉＯ２等の
平坦化層１６が同図（ｅ）のように形成される。これに
より、案内膜１４の隙間が埋められ、平坦化層１６にお
ける基板１２と反対の面は案内膜１４の凹凸に拘らず略
平坦となる。

【００１４】平坦化層１６の上には、スパッタ法等のよ
く知られた薄膜形成手段により記録層１８となる記録層
用薄膜３８を作製し、さらに、その上に回転塗布法等に
よりフォトレジスト３２を塗布する。フォトレジスト３
２に同図（ｂ）に示したフォトマスク３４とは光の透過
するパターンが略反転したフォトマスク４０を同図（ｆ
）のように密着させ紫外線を照射し、露光を行う。 露光後、現像することにより同図（ｇ）のようにフォト
レジスト３２のうち、紫外線が照射された部分４２が残
る。ここで、プラズマエッチングあるいは、酸、アルカ
リを用いた化学エッチング等のよく知られているエッチ
ング手段により記録層用薄膜３８のうち、フォトレジス
ト４２のついていない部分を除去し、さらにフォトレジ
スト４２を除去すると、同図（ｈ）のように記録層１８
が形成される。最後に、スパッタ法、真空蒸着法等のよ
く知られた薄膜形成手段により保護層２０、反射層２２
を積層することにより本発明の光記録媒体１０を製造す
ることができる。

【００１５】情報の記録は、記録層１８に一定出力のレ
ーザ光を照射すると同時に磁界を印加し記録層１８の磁
化を一定方向に揃えた後、印加磁界の方向を反転し、情
報により変調されたレーザ光を記録層１８に照射して記
録層１８の磁化を反転させることでビットを形成する。 このとき、案内膜１４の真上は記録層１８が除去されて
おり、平坦化層１６あるいは保護層２４の熱伝導率は低
いため、図３に示したようにあるトラックの記録層１８
ａにレーザ光４６を照射して加熱したとき、隣のトラッ
クの記録層１８ｂには熱が伝わらず、ビットの広がりは
抑制される。このように、ビットの広がりを抑制するこ
とによりクロストークの増加を防ぐことができる。さら
に、図３のように、トラックピッチＰと案内膜１４の幅
ｗの和Ｐ＋ｗが記録層１８に照射されるレーザ光４６の
スポット径ｄとほぼ等しくすることによりトラックピッ
チＰをレーザ光４６のスポット径ｄよりも小さくでき高
密度化が可能となる。

【００１６】以上、本発明の一実施例を図１から図３に
基づいて詳細に説明したが、本発明は他の様態で実施す
ることができる。例えば、記録層１８の材料は光磁気記
録材料に限定されず、Ｔｅ等の穴あけ材料、ＧｅＴｅＳ
ｂ等の相変化材料を用いてもよい。基板１２、案内膜１
４、平坦化層１６、保護層２０、反射層２２の材料につ
いても特に限定しない。また、保護層２０、反射層２２
は必ずしも必要ではなく、その一方あるいは両方を設け
なくてもよい。

【００１７】また、案内膜１４の真上の記録層１８を除
去する幅についても特に限定しない。ただし、除去した
部分の幅は、案内膜１４の幅よりも狭いことが望ましい
。

【００１８】また、記録層１８は必ずしも平坦である必
要はなく、図４に示すように凹凸があってもよい。すな
わち、案内膜１４の形成された透明基板１２の上に、Ｓ
ｉＯ２等の透明誘電体から成る緩衝層５０を設け、その
上に記録層１８を設けてもよい。このとき、案内膜１４
の真上の部分２４の記録層１８は除去されている。

【００１９】図４で示した光記録媒体の製造方法は図５
で説明する。

【００２０】まず、同図（ａ）のように基板１２上にス
パッタ法、真空蒸着法等のよく知られた薄膜形成手段に
より案内膜１４となるＴａ等の案内膜用薄膜３０を形成
し、その上に回転塗布法等を用いてフォトレジスト３２
を塗布する。次に、同図（ｂ）のように基板を回転させ
ると同時に一方向へ移動させながらＡｒレーザ等のレー
ザ光５２を照射し露光を行う。このとき、一方向へ連続
的に移動させれば渦巻状に、不連続に移動させれば同心
円状に露光が行われる。露光後、現像することによりレ
ーザ光５２が照射された部分が残るため、プラズマエッ
チングあるいは、酸、アルカリを用いた化学エッチング
等のよく知られているエッチング手段により案内膜用薄
膜３０のうち、フォトレジスト３２のついていない部分
を除去し、さらにフォトレジスト３２を除去すると、同
図（ｃ）のように案内膜１４が形成される。その上に同
図（ｄ）のように、スパッタ法等のよく知られた薄膜形
成手段により緩衝層５０および記録層１８となる記録層
用薄膜３８を作製する。

【００２１】このとき、記録層用薄膜３８の表面は案内
膜１４の凹凸を反映しており、同図（ｅ）のように、こ
の凹凸を利用してトラッキングサーボをかけながらレー
ザ光５４を常に案内膜１４の真上の記録層用薄膜３８に
照射することができる。ここで、レーザ光５４の強度を
十分大きくすることにより、案内膜１４の真上の部分の
記録層用薄膜３８を焼き切ることができ、記録層１８が
形成される。最後に、同図（ｆ）のように、スパッタ法
、真空蒸着法等のよく知られた薄膜形成手段により保護
層２０、反射層２２を積層することにより本発明の光記
録媒体を製造することができる。

【００２２】なお、記録層用薄膜３８をレーザ光５４で
焼き切るとき、除去された記録材料の一部が残滓として
残ったり、除去された部分の境界の形状が乱れたりする
が、案内膜１４の真上であるため、情報の記録再生を行
う際、基板１２側からレーザ光を照射する限り、残滓や
形状の乱れ等が案内膜に遮蔽されるためノイズの増加や
記録再生特性の低下は生じない。

【００２３】また、記録層の熱伝導率を低くするため、
案内膜の真上の部分の記録層を除去する必要はなく、図
６に示すように、案内膜１４の真上の記録層６０の部分
に吸熱材６２を設けてもよい。吸熱材６２としてはＡｌ
、Ｃｕ等の金属やダイヤモンド薄膜等が用いられる。す
なわち、記録層６０を伝わってきた熱が吸熱剤６２に吸
収されるため、隣のトラックまでは熱が伝わらずビット
の広がりが抑えられる。

【００２４】このような光記録媒体の製造方法は、図７
を用いて説明する。

【００２５】記録層６０を形成するところまでは図２（
ｅ）までと同様であるため説明は省略する。図７（ａ）
のように、記録層６０を作製した後、その上に吸熱材６
２となる吸熱用薄膜６４をスパッタ法等のよく知られて
いる薄膜形成手段により作製する。さらにその上に回転
塗布法等によりフォトレジスト３２を塗布し、図２（ｂ
）で用いたフォトマスクとほぼ同様のパターンを有する
フォトマスク６６を密着させ、紫外線を照射することに
より露光を行う。

【００２６】露光後、現像することにより図７（ｂ）の
ようにフォトレジストのうち、紫外線が照射された部分
７０が残る。ここで、プラズマエッチングあるいは、酸
、アルカリを用いた化学エッチング等のよく知られてい
るエッチング手段により吸熱用薄膜６４のうち、フォト
レジスト７０のついていない部分を除去し、さらにフォ
トレジスト７０を除去すると、同図（ｃ）のように吸熱
材６２が形成される。最後に、同図（ｄ）のように、ス
パッタ法、真空蒸着法等のよく知られた薄膜形成手段に
より保護層２０、反射層２２を積層することにより本発
明の光記録媒体を製造することができる。ここで、吸熱
剤６２の幅や膜厚および形状については特に限定されな
いが、吸熱剤６２の幅は案内膜１４よりも狭い方が望ま
しい。

【００２７】また、図８のように、吸熱材６２を用いる
代わりに記録層７０の案内膜１４の真上の部分７２の膜
厚を厚くしても同様の効果が得られる。この光記録媒体
は図７に説明した方法とほぼ同様にして製造することが
できる。

【００２８】また、熱伝導率の低い部分は、連続した同
心円状あるいは渦巻状である必要はなく、例えば、ビッ
トを記録しないセクタマークの領域は設けなくてもよい
。また、光カードのような場合は直線とすればよい。

【００２９】

【発明の効果】以上詳述したことから明らかなように、
本発明によれば、基板上に案内膜を設け、この案内膜の
真上の記録層の熱伝導率を低下させることにより、ビッ
トの広がりを抑えることができるため、光記録媒体にお
いてクロストークが小さく、高密度化が可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例である光記録媒体の断面図で
ある。

【図２】（ａ）〜（ｈ）は本発明の光記録媒体の製造方
法を示す説明図である。

【図３】高密度化の一例を示す説明図である。

【図４】図４から図８までは本発明の他の実施例を示す
もので、図４は、光記録媒体の断面図である。

【図５】図４で示した光記録媒体の製造方法を示す説明
図である。

【図６】光記録媒体の断面図である。

【図７】図６で示した光記録媒体の製造方法を示す説明
図である。

【図８】図８は光記録媒体の断面図である。

【図９】従来の光記録媒体を示す断面図である。

【図１０】従来の光記録媒体を示す断面図である。

【符号の説明】

１２　　基板 １４　　案内膜 １８　　記録層 ２４　　記録層の除去された部分（熱伝導率の低い部分
）６２　　吸熱材

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　基板と、その上に渦巻状、同心円状あ
   るいは直線状等に形成された案内膜と、前記基板および
   前記案内膜を覆うように形成された透明薄膜と、その上
   に形成された記録層とを備え、前記記録層における前記
   案内膜の真上の部分の熱伝導率が低いことを特徴とする
   光記録媒体。
2. 【請求項２】　　請求項１記載の光記録媒体において、
   前記記録層の熱伝導率が低い部分が記録層を除去するこ
   とにより形成されていることを特徴とする光記録媒体。
3. 【請求項３】　　請求項１記載の光記録媒体において、
   前記案内膜の真上の部分の前記記録層の上に吸熱材を設
   けたことを特徴とする光記録媒体。