JPH06334241A - エキシマーレーザーのガス調整方法およびその装置 - Google Patents
エキシマーレーザーのガス調整方法およびその装置Info
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- JPH06334241A JPH06334241A JP5139298A JP13929893A JPH06334241A JP H06334241 A JPH06334241 A JP H06334241A JP 5139298 A JP5139298 A JP 5139298A JP 13929893 A JP13929893 A JP 13929893A JP H06334241 A JPH06334241 A JP H06334241A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 エキシマーレーザーにおいてとくに希ガス
およびハロゲンガスの供給量の精度向上を図ることがで
きるエキシマーレーザーのガス調整方法およびその装置
を提供すること。 【構成】 たとえば希ガスおよびハロゲンなどガス濃
度構成比の低いガス用として、所定濃度かつ小さな容積
のサブチャンバー２１を別途設けることに着目したもの
で、レーザーチャンバー２より小さな容積のサブチャン
バー２１の内部で混合ガスを調整する混合ガス準備工程
と、レーザーチャンバー２を真空引きしたのちサブチャ
ンバー２１からレーザーチャンバー２に混合ガスを供給
する混合ガス供給工程と、サブチャンバー２１を通さず
にバッファガスをレーザーチャンバー２に供給するバッ
ファガス供給工程と、を有することを特徴とする。
およびハロゲンガスの供給量の精度向上を図ることがで
きるエキシマーレーザーのガス調整方法およびその装置
を提供すること。 【構成】 たとえば希ガスおよびハロゲンなどガス濃
度構成比の低いガス用として、所定濃度かつ小さな容積
のサブチャンバー２１を別途設けることに着目したもの
で、レーザーチャンバー２より小さな容積のサブチャン
バー２１の内部で混合ガスを調整する混合ガス準備工程
と、レーザーチャンバー２を真空引きしたのちサブチャ
ンバー２１からレーザーチャンバー２に混合ガスを供給
する混合ガス供給工程と、サブチャンバー２１を通さず
にバッファガスをレーザーチャンバー２に供給するバッ
ファガス供給工程と、を有することを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はエキシマーレーザーのガ
ス調整方法およびその装置にかかるもので、とくにレー
ザーチャンバーにエキシマーレーザー用ガスとしてガス
濃度構成比の低い希ガスおよびハロゲンガスなどのガス
を供給する場合のエキシマーレーザーのガス調整方法お
よびその装置に関するものである。
ス調整方法およびその装置にかかるもので、とくにレー
ザーチャンバーにエキシマーレーザー用ガスとしてガス
濃度構成比の低い希ガスおよびハロゲンガスなどのガス
を供給する場合のエキシマーレーザーのガス調整方法お
よびその装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】一般に、エキシマーレーザーのレーザー
チャンバーにガスを供給する場合に、供給する希ガスお
よびハロゲンガスはそのガス濃度構成比の低いためその
供給量が少なく、かつその供給量の変動がレーザー出力
に与える影響が大きいという問題がある。
チャンバーにガスを供給する場合に、供給する希ガスお
よびハロゲンガスはそのガス濃度構成比の低いためその
供給量が少なく、かつその供給量の変動がレーザー出力
に与える影響が大きいという問題がある。
【０００３】従来のガス調整ないし供給方法について図
２にもとづき説明する。図２は、従来のたとえばＫｒＦ
エキシマーレーザーのエキシマーレーザーガス調整装置
１の概略図であって、このエキシマーレーザーガス調整
装置１は、レーザーチャンバー２と、フッ素ガスボンベ
３と、クリプトンガスボンベ４と、ネオンガスボンベ５
と、ヘリウムガスボンベ６と、第１の切替えバルブ７
と、第２の切替えバルブ８と、第３の切替えバルブ９
と、第４の切替えバルブ１０と、圧力計１１と、排気バ
ルブ１２と、排気用ポンプ１３とを有する。
２にもとづき説明する。図２は、従来のたとえばＫｒＦ
エキシマーレーザーのエキシマーレーザーガス調整装置
１の概略図であって、このエキシマーレーザーガス調整
装置１は、レーザーチャンバー２と、フッ素ガスボンベ
３と、クリプトンガスボンベ４と、ネオンガスボンベ５
と、ヘリウムガスボンベ６と、第１の切替えバルブ７
と、第２の切替えバルブ８と、第３の切替えバルブ９
と、第４の切替えバルブ１０と、圧力計１１と、排気バ
ルブ１２と、排気用ポンプ１３とを有する。
【０００４】レーザーチャンバー２には、電極１４と、
全反射ミラー１５と、部分反射ミラー１６と、直流電源
１７とを装備してある。
全反射ミラー１５と、部分反射ミラー１６と、直流電源
１７とを装備してある。
【０００５】なお、上記フッ素ガスボンベ３、クリプト
ンガスボンベ４、ネオンガスボンベ５およびヘリウムガ
スボンベ６はそれぞれ、元弁３Ａ、４Ａ、５Ａ、６Ａを
有する。
ンガスボンベ４、ネオンガスボンベ５およびヘリウムガ
スボンベ６はそれぞれ、元弁３Ａ、４Ａ、５Ａ、６Ａを
有する。
【０００６】従来のガス調整方法では、排気用ポンプ１
３を駆動してレーザーチャンバー２を真空引きしたの
ち、Ｆ2（フッ素）などのハロゲンガスを約１％、Ｋｒ
（クリプトン）などの希ガスを３〜７％程度添加し、さ
らにＮｅ（ネオン）、あるいはＨｅ（ヘリウム）などの
希ガス（不活性ガス）をバッファガスとして注入し、レ
ーザーチャンバー２内の全圧力を３〜４気圧に調整する
ものである。
３を駆動してレーザーチャンバー２を真空引きしたの
ち、Ｆ2（フッ素）などのハロゲンガスを約１％、Ｋｒ
（クリプトン）などの希ガスを３〜７％程度添加し、さ
らにＮｅ（ネオン）、あるいはＨｅ（ヘリウム）などの
希ガス（不活性ガス）をバッファガスとして注入し、レ
ーザーチャンバー２内の全圧力を３〜４気圧に調整する
ものである。
【０００７】すなわち、各フッ素ガスボンベ３、クリプ
トンガスボンベ４、ネオンガスボンベ５およびヘリウム
ガスボンベ６それぞれを配管を通して直接レーザーチャ
ンバー２に接続し、ガス調整にあたってはハロゲンガス
（Ｆ2）および希ガス（Ｋｒ）をレーザーチャンバー２
に注入したのち、不活性ガス（Ｎｅ、Ｈｅ）をレーザー
チャンバー２内の全圧を調整する。
トンガスボンベ４、ネオンガスボンベ５およびヘリウム
ガスボンベ６それぞれを配管を通して直接レーザーチャ
ンバー２に接続し、ガス調整にあたってはハロゲンガス
（Ｆ2）および希ガス（Ｋｒ）をレーザーチャンバー２
に注入したのち、不活性ガス（Ｎｅ、Ｈｅ）をレーザー
チャンバー２内の全圧を調整する。
【０００８】なお、レーザーチャンバー２内の全圧を圧
力計１１により監視することによって、ガス注入終了か
否かを判断する。
力計１１により監視することによって、ガス注入終了か
否かを判断する。
【０００９】ここでＫｒＦエキシマーレーザーにおける
レーザーチャンバー２内のガス組成は、体積濃度とし
て、Ｆ2が０．０５〜０．３％、Ｋｒが１〜５％、残部
がＮｅもしくはＨｅあるいはこの混合ガスにより構成す
る。
レーザーチャンバー２内のガス組成は、体積濃度とし
て、Ｆ2が０．０５〜０．３％、Ｋｒが１〜５％、残部
がＮｅもしくはＨｅあるいはこの混合ガスにより構成す
る。
【００１０】しかしながら、通常、Ｆ2は、Ｎｅあるい
はＨｅにより希釈された混合ガスとしてたとえば５％濃
度の希釈ガスとしてフッ素ガスボンベ３により供給され
ている。
はＨｅにより希釈された混合ガスとしてたとえば５％濃
度の希釈ガスとしてフッ素ガスボンベ３により供給され
ている。
【００１１】したがってレーザーチャンバー２内の全圧
力を３気圧（２２８０ｍｍＨｇ）とする場合、５％濃度
のＦ2ガスを２２．８〜１３７．０ｍｍＨｇだけ注入す
ることにより、当初、Ｆ2ガスの濃度が全体の０．０５
〜０．３％となるようにする。
力を３気圧（２２８０ｍｍＨｇ）とする場合、５％濃度
のＦ2ガスを２２．８〜１３７．０ｍｍＨｇだけ注入す
ることにより、当初、Ｆ2ガスの濃度が全体の０．０５
〜０．３％となるようにする。
【００１２】つづいてＫｒの純ガスを２２．８〜１１
４．０ｍｍＨｇだけ注入することにより、Ｋｒガスの濃
度が全体の１〜５％となるようにする。
４．０ｍｍＨｇだけ注入することにより、Ｋｒガスの濃
度が全体の１〜５％となるようにする。
【００１３】さらに、ＮｅあるいはＨｅを注入すること
により全体の圧力を２２８０ｍｍＨｇにまで高め、Ｆ2
ガスおよびＫｒガスを希釈する。
により全体の圧力を２２８０ｍｍＨｇにまで高め、Ｆ2
ガスおよびＫｒガスを希釈する。
【００１４】しかしながら、この方法ではＦ2の供給ガ
ス圧が低いため、レーザーチャンバー２内が規定のガス
濃度に設定するための調整が困難であるという問題、お
よび圧力計１１の誤差などにより精度が低下するという
問題がある。
ス圧が低いため、レーザーチャンバー２内が規定のガス
濃度に設定するための調整が困難であるという問題、お
よび圧力計１１の誤差などにより精度が低下するという
問題がある。
【００１５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は以上のような
諸問題にかんがみなされたもので、エキシマーレーザー
においてとくに希ガスおよびハロゲンガスの供給量の精
度向上を図ることができるエキシマーレーザーのガス調
整方法およびその装置を提供することを課題とする。
諸問題にかんがみなされたもので、エキシマーレーザー
においてとくに希ガスおよびハロゲンガスの供給量の精
度向上を図ることができるエキシマーレーザーのガス調
整方法およびその装置を提供することを課題とする。
【００１６】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、たと
えば希ガスおよびハロゲンなどガス濃度構成比の低いガ
ス用として、所定濃度かつ小さな容積のガスチャンバー
（サブチャンバー）を別途設けることに着目したもの
で、第一の発明は、所定の容積を有するレーザーチャン
バーにガス濃度構成比の低いガスを所定の要請濃度で供
給するエキシマーレーザーのガス調整方法であって、上
記ガスのガスボンベと上記レーザーチャンバーとの間
に、該レーザーチャンバーの容積より小さな容積を有す
るサブチャンバーを設けるとともに、このサブチャンバ
ーに上記ガスの２種あるいはそれ以上を、上記レーザー
チャンバーでの上記要請濃度より高い濃度で注入可能と
して、該サブチャンバーの内部で混合ガスを調整する混
合ガス準備工程と、上記レーザーチャンバーを真空引き
したのち、上記サブチャンバーからこのレーザーチャン
バーに上記混合ガスを供給する混合ガス供給工程と、つ
いで、上記サブチャンバーを通さずに他のガスボンベか
らバッファガスを該レーザーチャンバーに供給するバッ
ファガス供給工程と、を有することを特徴とするエキシ
マーレーザーのガス調整方法である。
えば希ガスおよびハロゲンなどガス濃度構成比の低いガ
ス用として、所定濃度かつ小さな容積のガスチャンバー
（サブチャンバー）を別途設けることに着目したもの
で、第一の発明は、所定の容積を有するレーザーチャン
バーにガス濃度構成比の低いガスを所定の要請濃度で供
給するエキシマーレーザーのガス調整方法であって、上
記ガスのガスボンベと上記レーザーチャンバーとの間
に、該レーザーチャンバーの容積より小さな容積を有す
るサブチャンバーを設けるとともに、このサブチャンバ
ーに上記ガスの２種あるいはそれ以上を、上記レーザー
チャンバーでの上記要請濃度より高い濃度で注入可能と
して、該サブチャンバーの内部で混合ガスを調整する混
合ガス準備工程と、上記レーザーチャンバーを真空引き
したのち、上記サブチャンバーからこのレーザーチャン
バーに上記混合ガスを供給する混合ガス供給工程と、つ
いで、上記サブチャンバーを通さずに他のガスボンベか
らバッファガスを該レーザーチャンバーに供給するバッ
ファガス供給工程と、を有することを特徴とするエキシ
マーレーザーのガス調整方法である。
【００１７】また第二の発明は、所定の容積を有するレ
ーザーチャンバーと、このレーザーチャンバー内のガス
濃度構成比の低いガスのガスボンベと、を有し、該レー
ザーチャンバーに上記ガス濃度構成比の低いガスを所定
の要請濃度で供給するエキシマーレーザーのガス調整装
置であって、上記ガスのガスボンベと上記レーザーチャ
ンバーとの間に、該レーザーチャンバーの容積より小さ
な容積を有するサブチャンバーを設けるとともに、この
サブチャンバーに上記ガスの２種あるいはそれ以上を、
上記レーザーチャンバーでの上記要請濃度より高い濃度
で注入可能とし、このサブチャンバーの内部で調整した
混合ガスを上記レーザーチャンバーに供給可能としたこ
とを特徴とするエキシマーレーザーのガス調整装置であ
る。
ーザーチャンバーと、このレーザーチャンバー内のガス
濃度構成比の低いガスのガスボンベと、を有し、該レー
ザーチャンバーに上記ガス濃度構成比の低いガスを所定
の要請濃度で供給するエキシマーレーザーのガス調整装
置であって、上記ガスのガスボンベと上記レーザーチャ
ンバーとの間に、該レーザーチャンバーの容積より小さ
な容積を有するサブチャンバーを設けるとともに、この
サブチャンバーに上記ガスの２種あるいはそれ以上を、
上記レーザーチャンバーでの上記要請濃度より高い濃度
で注入可能とし、このサブチャンバーの内部で調整した
混合ガスを上記レーザーチャンバーに供給可能としたこ
とを特徴とするエキシマーレーザーのガス調整装置であ
る。
【００１８】
【作用】本発明によるエキシマーレーザーのガス調整方
法およびその装置においては、フッ素ガスボンベなどの
ガスボンベからレーザーチャンバーまでの配管の間に所
定濃度かつ小さな容積のサブチャンバーを設け、このサ
ブチャンバーにおいて希ガスおよびハロゲンガスなどの
ガス濃度構成比の低いガスの組成調整を行うようにし
た。
法およびその装置においては、フッ素ガスボンベなどの
ガスボンベからレーザーチャンバーまでの配管の間に所
定濃度かつ小さな容積のサブチャンバーを設け、このサ
ブチャンバーにおいて希ガスおよびハロゲンガスなどの
ガス濃度構成比の低いガスの組成調整を行うようにし
た。
【００１９】すなわち、サブチャンバー内でガス濃度構
成比の低いガスを所定圧力あるいは濃度で混合して調整
しておき、レーザーチャンバーを真空排気したのち、組
成調整した当該混合ガスをレーザーチャンバー内に導入
するとともに、一方ＮｅあるいはＨｅなどのバッファガ
スはサブチャンバーを通さずにレーザーチャンバーに直
接これを注入し、ガス組成作業を終了する。
成比の低いガスを所定圧力あるいは濃度で混合して調整
しておき、レーザーチャンバーを真空排気したのち、組
成調整した当該混合ガスをレーザーチャンバー内に導入
するとともに、一方ＮｅあるいはＨｅなどのバッファガ
スはサブチャンバーを通さずにレーザーチャンバーに直
接これを注入し、ガス組成作業を終了する。
【００２０】したがって、濃度の高い状態でハロゲンガ
スおよび希ガスなどの事前の準備が可能となり、圧力計
による計測にもその精度誤差を少なくすることができ、
濃度の薄い従来のガス組成に比較して精度良好なガス組
成調整を能率良く行うことができる。
スおよび希ガスなどの事前の準備が可能となり、圧力計
による計測にもその精度誤差を少なくすることができ、
濃度の薄い従来のガス組成に比較して精度良好なガス組
成調整を能率良く行うことができる。
【００２１】
【実施例】つぎに本発明の一実施例によるエキシマーレ
ーザーのガス調整方法およびその装置を図１にもとづき
説明する。ただし、図２と同様の部分には同一符号を付
し、その詳述はこれを省略する。
ーザーのガス調整方法およびその装置を図１にもとづき
説明する。ただし、図２と同様の部分には同一符号を付
し、その詳述はこれを省略する。
【００２２】図１はエキシマーレーザーガス調整装置２
０の概略図であって、このエキシマーレーザーガス調整
装置２０は、従来のエキシマーレーザーガス調整装置１
とは異なる構造として、サブチャンバー２１を有する。
０の概略図であって、このエキシマーレーザーガス調整
装置２０は、従来のエキシマーレーザーガス調整装置１
とは異なる構造として、サブチャンバー２１を有する。
【００２３】前記フッ素ガスボンベ３およびクリプトン
ガスボンベ４からの配管の途中に設けた前記第１の切替
えバルブ７および第２の切替えバルブ８は、これらをサ
ブチャンバー２１に接続し、サブチャンバー２１とレー
ザーチャンバー２との間には第５の切替えバルブ２２を
介在させる。
ガスボンベ４からの配管の途中に設けた前記第１の切替
えバルブ７および第２の切替えバルブ８は、これらをサ
ブチャンバー２１に接続し、サブチャンバー２１とレー
ザーチャンバー２との間には第５の切替えバルブ２２を
介在させる。
【００２４】サブチャンバー２１と排気用ポンプ１３と
の間の配管には、第６の切替えバルブ２３を設ける。
の間の配管には、第６の切替えバルブ２３を設ける。
【００２５】レーザーチャンバー２には第１の圧力計２
４を、サブチャンバー２１には第２の圧力計２５をそれ
ぞれ設ける。
４を、サブチャンバー２１には第２の圧力計２５をそれ
ぞれ設ける。
【００２６】他の構成は、図１に示した従来のエキシマ
ーレーザーガス調整装置１と事実上同一である。
ーレーザーガス調整装置１と事実上同一である。
【００２７】当該サブチャンバー２１の容積をレーザー
チャンバー２の容積の、たとえば１／１０倍とすれば、
サブチャンバー２１に注入するＦ2ガスおよびＫｒガス
は、レーザーチャンバー２での圧力の１１倍の圧力ない
し濃度で調整可能とする。
チャンバー２の容積の、たとえば１／１０倍とすれば、
サブチャンバー２１に注入するＦ2ガスおよびＫｒガス
は、レーザーチャンバー２での圧力の１１倍の圧力ない
し濃度で調整可能とする。
【００２８】すなわち、レーザーチャンバー２の容積を
Ｖ１、サブチャンバー２１の容積をＶ２、レーザーチャ
ンバー２でのガス圧力をＰ１、サブチャンバー２１での
ガス圧力をＰ２とすると、温度（室温ないし３０℃程
度）の差、ならびに配管および第５の切替えバルブ２２
の容積を無視すれば、ボイルの法則、 Ｐ２＝Ｐ１（Ｖ１＋Ｖ２）／Ｖ２ により決定することができる。
Ｖ１、サブチャンバー２１の容積をＶ２、レーザーチャ
ンバー２でのガス圧力をＰ１、サブチャンバー２１での
ガス圧力をＰ２とすると、温度（室温ないし３０℃程
度）の差、ならびに配管および第５の切替えバルブ２２
の容積を無視すれば、ボイルの法則、 Ｐ２＝Ｐ１（Ｖ１＋Ｖ２）／Ｖ２ により決定することができる。
【００２９】ここで、たとえば、Ｖ１＝１０×Ｖ２、と
すれば、Ｐ２＝１１×Ｐ１、となる。
すれば、Ｐ２＝１１×Ｐ１、となる。
【００３０】もちろん、レーザーチャンバー２内の圧力
Ｐ１の要請に応じ、容積比Ｖ１／Ｖ２を選択することに
より、任意のガス圧力Ｐ２でサブチャンバー２１内のガ
スを調整することができる。
Ｐ１の要請に応じ、容積比Ｖ１／Ｖ２を選択することに
より、任意のガス圧力Ｐ２でサブチャンバー２１内のガ
スを調整することができる。
【００３１】こうした構成のエキシマーレーザーガス調
整装置２０において、フッ素ガスボンベ３を含めてすべ
てのフッ素ガスボンベ３、クリプトンガスボンベ４、ネ
オンガスボンベ５およびヘリウムガスボンベ６の各元弁
３Ａ、４Ａ、５Ａ、６Ａを適宜開けるものとする。
整装置２０において、フッ素ガスボンベ３を含めてすべ
てのフッ素ガスボンベ３、クリプトンガスボンベ４、ネ
オンガスボンベ５およびヘリウムガスボンベ６の各元弁
３Ａ、４Ａ、５Ａ、６Ａを適宜開けるものとする。
【００３２】図２の第３の切替えバルブ９、第４の切替
えバルブ１０、第５の切替えバルブ２２および第６の切
替えバルブ２３を「閉」にして、第１の切替えバルブ７
を「開」とし、第２の圧力計２５で計測しながら上述の
所定の圧力Ｐ２となるようにＦ2ガスをサブチャンバー
２１に注入する。
えバルブ１０、第５の切替えバルブ２２および第６の切
替えバルブ２３を「閉」にして、第１の切替えバルブ７
を「開」とし、第２の圧力計２５で計測しながら上述の
所定の圧力Ｐ２となるようにＦ2ガスをサブチャンバー
２１に注入する。
【００３３】具体的には、５％濃度のＦ2ガスを、従来
の調整方法における場合の２２．８〜１３７．０ｍｍＨ
ｇの１１倍だけ注入する。
の調整方法における場合の２２．８〜１３７．０ｍｍＨ
ｇの１１倍だけ注入する。
【００３４】つぎに第１の切替えバルブ７を閉じて第２
の切替えバルブ８を「開」としてＫｒガスをサブチャン
バー２１に注入し、所定の圧力に達したら第２の切替え
バルブ８を閉じる。
の切替えバルブ８を「開」としてＫｒガスをサブチャン
バー２１に注入し、所定の圧力に達したら第２の切替え
バルブ８を閉じる。
【００３５】排気バルブ１２を「開」とし、排気用ポン
プ１３を運転してレーザーチャンバー２から排気後、所
望の真空度に達した時点で排気バルブ１２を「閉」と
し、第５の切替えバルブ２２を開放し、レーザーチャン
バー２にＦ2およびＫｒ混合ガスを注入する。
プ１３を運転してレーザーチャンバー２から排気後、所
望の真空度に達した時点で排気バルブ１２を「閉」と
し、第５の切替えバルブ２２を開放し、レーザーチャン
バー２にＦ2およびＫｒ混合ガスを注入する。
【００３６】注入終了後、第５の切替えバルブ２２を
「閉」とし、第３の切替えバルブ９ないしは第４の切替
えバルブ１０を「開」としてＮｅ、Ｈｅ、あるいはこれ
らの混合ガスをバッファガスとして注入する。
「閉」とし、第３の切替えバルブ９ないしは第４の切替
えバルブ１０を「開」としてＮｅ、Ｈｅ、あるいはこれ
らの混合ガスをバッファガスとして注入する。
【００３７】最後に、第６の切替えバルブ２５を「開」
としサブチャンバー２１の排気を実施して、一連の調整
作業を終了する。
としサブチャンバー２１の排気を実施して、一連の調整
作業を終了する。
【００３８】かくして、サブチャンバー２１の容積がレ
ーザーチャンバー２の１／１０倍の場合には、第５の切
替えバルブ２２および配管の容積を無視すれば、ガス充
填の際のガス組成の調整精度が１１倍に向上することに
なる。
ーザーチャンバー２の１／１０倍の場合には、第５の切
替えバルブ２２および配管の容積を無視すれば、ガス充
填の際のガス組成の調整精度が１１倍に向上することに
なる。
【００３９】なお、レーザーチャンバー２の真空排気時
に、サブチャンバー２１においてＦ2ガスの調整を同時
に行うことができるとともに、サブチャンバー２１のガ
ス調整を任意の時間に行うことができるので、調整時間
の短縮化を図ることができ、活性度の高いＦ2ガスであ
ってもその処理操作時間をできる限り短くすることが可
能である。
に、サブチャンバー２１においてＦ2ガスの調整を同時
に行うことができるとともに、サブチャンバー２１のガ
ス調整を任意の時間に行うことができるので、調整時間
の短縮化を図ることができ、活性度の高いＦ2ガスであ
ってもその処理操作時間をできる限り短くすることが可
能である。
【００４０】本発明は、他の希ガスハライドレーザーの
ガス組成調整用として、ＸｅＣｌ、Ｆ2、ＡｒＦなどを
用いたエキシマーレーザーにも応用可能である。
ガス組成調整用として、ＸｅＣｌ、Ｆ2、ＡｒＦなどを
用いたエキシマーレーザーにも応用可能である。
【００４１】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、所定高圧
に維持した小容積のサブチャンバーをレーザーチャンバ
ーに連通可能に設けることにより、ガス組成の調整精度
向上とともに調整作業性を向上させることができる。
に維持した小容積のサブチャンバーをレーザーチャンバ
ーに連通可能に設けることにより、ガス組成の調整精度
向上とともに調整作業性を向上させることができる。
【００４２】
【図１】本発明の一実施例によるエキシマーレーザーガ
ス調整装置２０の概略図である。
ス調整装置２０の概略図である。
【図２】従来のＫｒＦエキシマーレーザーのエキシマー
レーザーガス調整装置１の概略図である。
レーザーガス調整装置１の概略図である。
１ エキシマーレーザーガス調整装置 ２ レーザーチャンバー ３ フッ素ガスボンベ ３Ａ フッ素ガスボンベ３の元弁 ４ クリプトンガスボンベ ４Ａ クリプトンガスボンベ４の元弁 ５ ネオンガスボンベ ５Ａ ネオンガスボンベ５の元弁 ６ ヘリウムガスボンベ ６Ａ ヘリウムガスボンベ６の元弁 ７ 第１の切替えバルブ ８ 第２の切替えバルブ ９ 第３の切替えバルブ １０ 第４の切替えバルブ １１ 圧力計 １２ 排気バルブ １３ 排気用ポンプ １４ 電極 １５ 全反射ミラー １６ 部分反射ミラー １７ 直流電源 ２０ エキシマーレーザーガス調整装置 ２１ サブチャンバー ２２ 第５の切替えバルブ ２３ 第６の切替えバルブ ２４ 第１の圧力計 ２５ 第２の圧力計 Ｖ１ レーザーチャンバー２の容積 Ｖ２ サブチャンバー２１の容積 Ｐ１ レーザーチャンバー２でのガス圧力 Ｐ２ サブチャンバー２１でのガス圧力
Claims (2)
- 【請求項１】 所定の容積を有するレーザーチャンバ
ーにガス濃度構成比の低いガスを所定の要請濃度で供給
するエキシマーレーザーのガス調整方法であって、 前記ガスのガスボンベと前記レーザーチャンバーとの間
に、該レーザーチャンバーの容積より小さな容積を有す
るサブチャンバーを設けるとともに、このサブチャンバ
ーに前記ガスの２種あるいはそれ以上を、前記レーザー
チャンバーでの前記要請濃度より高い濃度で注入可能と
して、該サブチャンバーの内部で混合ガスを調整する混
合ガス準備工程と、 前記レーザーチャンバーを真空引きしたのち、前記サブ
チャンバーからこのレーザーチャンバーに前記混合ガス
を供給する混合ガス供給工程と、 ついで、前記サブチャンバーを通さずに他のガスボンベ
からバッファガスを該レーザーチャンバーに供給するバ
ッファガス供給工程と、を有することを特徴とするエキ
シマーレーザーのガス調整方法。 - 【請求項２】 所定の容積を有するレーザーチャンバ
ーと、 このレーザーチャンバー内のガス濃度構成比の低いガス
のガスボンベと、を有し、 該レーザーチャンバーに前記ガス濃度構成比の低いガス
を所定の要請濃度で供給するエキシマーレーザーのガス
調整装置であって、 前記ガスのガスボンベと前記レーザーチャンバーとの間
に、該レーザーチャンバーの容積より小さな容積を有す
るサブチャンバーを設けるとともに、 このサブチャンバーに前記ガスの２種あるいはそれ以上
を、前記レーザーチャンバーでの前記要請濃度より高い
濃度で注入可能とし、 このサブチャンバーの内部で調整した混合ガスを前記レ
ーザーチャンバーに供給可能としたことを特徴とするエ
キシマーレーザーのガス調整装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5139298A JPH06334241A (ja) | 1993-05-19 | 1993-05-19 | エキシマーレーザーのガス調整方法およびその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5139298A JPH06334241A (ja) | 1993-05-19 | 1993-05-19 | エキシマーレーザーのガス調整方法およびその装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06334241A true JPH06334241A (ja) | 1994-12-02 |
Family
ID=15242027
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5139298A Pending JPH06334241A (ja) | 1993-05-19 | 1993-05-19 | エキシマーレーザーのガス調整方法およびその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06334241A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100505081B1 (ko) * | 1999-10-08 | 2005-07-29 | 우시오덴키 가부시키가이샤 | 노광용 에이알에프 엑시머 레이저 장치 |
-
1993
- 1993-05-19 JP JP5139298A patent/JPH06334241A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100505081B1 (ko) * | 1999-10-08 | 2005-07-29 | 우시오덴키 가부시키가이샤 | 노광용 에이알에프 엑시머 레이저 장치 |
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