JPH0429386A - エキシマレーザ装置 - Google Patents
エキシマレーザ装置Info
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- JPH0429386A JPH0429386A JP13480590A JP13480590A JPH0429386A JP H0429386 A JPH0429386 A JP H0429386A JP 13480590 A JP13480590 A JP 13480590A JP 13480590 A JP13480590 A JP 13480590A JP H0429386 A JPH0429386 A JP H0429386A
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Landscapes
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、レーザガス媒質の制御を行なえるエキシマレ
ーザ装置に関する。
ーザ装置に関する。
一般にエキシマレーザでは、放電発振時間の経過ととも
に、レーザ出力が徐々に低下することが知られている。
に、レーザ出力が徐々に低下することが知られている。
出力低下の要因には、レーザ媒質であるＨＣＱやＦ２等
のハロゲン系ガスが化学的に活性であることから、放電
電極やガス容器材料と反応し、消耗減小することによる
場合や放電によって、ハロゲン系ガスが分解および反応
によって別のガスを生成し、そのレーザ発振に寄与しな
い不純物ガスがレーザ光を吸収することでレーザ出力を
低下させる場合が挙げられる。
のハロゲン系ガスが化学的に活性であることから、放電
電極やガス容器材料と反応し、消耗減小することによる
場合や放電によって、ハロゲン系ガスが分解および反応
によって別のガスを生成し、そのレーザ発振に寄与しな
い不純物ガスがレーザ光を吸収することでレーザ出力を
低下させる場合が挙げられる。
これらのガス劣化にともなう出力低下に対する対策とし
て、従来は、ハロゲンガス濃度を測定し。
て、従来は、ハロゲンガス濃度を測定し。
その測定値信号によりハロゲンガスの添加やレーザ媒質
ガスの交換によってレーザ出力の低下を防止しようとし
ていた。−例として特開昭６１＝２５１０９４号公報に
記載のものが挙げられる。
ガスの交換によってレーザ出力の低下を防止しようとし
ていた。−例として特開昭６１＝２５１０９４号公報に
記載のものが挙げられる。
上記従来技術は、放電によって生成する不純物ガス量に
ついての配慮がされておらず、ハロゲンガスの濃度測定
値によるレーザガス媒質の制御では、高効率での安定な
レーザ出力を得られない問題があった。
ついての配慮がされておらず、ハロゲンガスの濃度測定
値によるレーザガス媒質の制御では、高効率での安定な
レーザ出力を得られない問題があった。
本発明の目的は、エキシマレーザの出力を高効率、高出
力で安定に発振することのできるエキシマレーザ装置を
提供することにある。
力で安定に発振することのできるエキシマレーザ装置を
提供することにある。
上記目的を達成するために、不純物ガス量を測定し、そ
の量に応じてハロゲンガスの注入や、不純物ガスの除去
を行なう様にしたものである。
の量に応じてハロゲンガスの注入や、不純物ガスの除去
を行なう様にしたものである。
すなわち、本発明は、レーザ媒質に希ガスおよびハロゲ
ン系ガスが使用されるエキシマレーザ装置において、レ
ーザ媒質中の不純物ガス量を測定する不純物量測定手段
と、その値により不純物ガスの除去量を制御する信号を
出力する制御装置と、該信号に基づいて不純物ガスを除
去する不純物除去手段と、を備えたことを特徴としたエ
キシマレーザ装置である。ここで、レーザ媒質ガスの熱
伝導度を測定することにより不純物ガス量を測定するも
のがよい。また、レーザ媒質ガスのイオン電導度を測定
することにより不純物ガス量を測定するものがよい。ま
た、不純物除去手段に不純物ガスと反応する非イオン化
溶液を用いたものがよい。
ン系ガスが使用されるエキシマレーザ装置において、レ
ーザ媒質中の不純物ガス量を測定する不純物量測定手段
と、その値により不純物ガスの除去量を制御する信号を
出力する制御装置と、該信号に基づいて不純物ガスを除
去する不純物除去手段と、を備えたことを特徴としたエ
キシマレーザ装置である。ここで、レーザ媒質ガスの熱
伝導度を測定することにより不純物ガス量を測定するも
のがよい。また、レーザ媒質ガスのイオン電導度を測定
することにより不純物ガス量を測定するものがよい。ま
た、不純物除去手段に不純物ガスと反応する非イオン化
溶液を用いたものがよい。
本発明のエキシマレーザ装置においては、レーザ発振中
のレーザガス中にある不純物ガス量をレーザガスの熱伝
導度を測定または、イオン電導度を測定することにより
正確に測定できるので不純物ガスの除去量を知ることが
できる。また、不純物除去方法として非イオン化溶液を
使用することにより、不純物ガスの除去率を高めること
ができる。
のレーザガス中にある不純物ガス量をレーザガスの熱伝
導度を測定または、イオン電導度を測定することにより
正確に測定できるので不純物ガスの除去量を知ることが
できる。また、不純物除去方法として非イオン化溶液を
使用することにより、不純物ガスの除去率を高めること
ができる。
以下、本発明の一実施例を第１図乃至第３図より説明す
る。第１図において、１はエキシマレーザ装置本体、２
はエキシマレーザ装置１より発振するレーザ光、３はレ
ーザ媒質ガス中の不純物量を測定する不純物量測定装置
、４は不純物量測定装置３からの信号を処理し、制御信
号を出す制御装置、５はレーザ媒質ガス中の不純物ガス
を除去する不純物除去装置、６は不純物ガスと反応する
溶液、７はレーザガス循環ポンプ、８，９，１０゜１１
．１２は流量調整制御弁、１３はバッファ希釈ハロゲン
ガスボンベ、１４はバッファ希釈希ガスボンベ、１５は
制御装置４から各流量調整制御弁に接続される制御ライ
ンである。
る。第１図において、１はエキシマレーザ装置本体、２
はエキシマレーザ装置１より発振するレーザ光、３はレ
ーザ媒質ガス中の不純物量を測定する不純物量測定装置
、４は不純物量測定装置３からの信号を処理し、制御信
号を出す制御装置、５はレーザ媒質ガス中の不純物ガス
を除去する不純物除去装置、６は不純物ガスと反応する
溶液、７はレーザガス循環ポンプ、８，９，１０゜１１
．１２は流量調整制御弁、１３はバッファ希釈ハロゲン
ガスボンベ、１４はバッファ希釈希ガスボンベ、１５は
制御装置４から各流量調整制御弁に接続される制御ライ
ンである。
レーザ装Ｍ１より循環ポンプ７によって吸引されたレー
ザ媒質ガスは、不純物量測定装置３において不純物量を
測定し、測定値を制御装置４に送る。不純物量測定装置
を通過したガスは、不純物量が設定値以下の場合には、
流量調整制御弁８゜９は閉じ、１０が開かれており、循
環ポンプ７によりレーザ装置１にもどされる。不純物量
が設定値以上の場合には、流量調整制御弁８，９が開き
、１ｏが閉じ、レーザ媒質ガスは、不純物除去装置５に
よって不純物ガスだけを取りのぞき、レーザ装置１にも
どされる。それと同時に、流量調整制御弁１１が開き、
減少したハロゲンガス量と同じハロゲン量をバッファ希
釈ハロゲンガスボンベ１３より、レーザ装置１に供給す
る。それと対応して弁１２が開き、バッファ希釈希ガス
ボンベ１４より希ガスがレーザ装置１内に補充される。
ザ媒質ガスは、不純物量測定装置３において不純物量を
測定し、測定値を制御装置４に送る。不純物量測定装置
を通過したガスは、不純物量が設定値以下の場合には、
流量調整制御弁８゜９は閉じ、１０が開かれており、循
環ポンプ７によりレーザ装置１にもどされる。不純物量
が設定値以上の場合には、流量調整制御弁８，９が開き
、１ｏが閉じ、レーザ媒質ガスは、不純物除去装置５に
よって不純物ガスだけを取りのぞき、レーザ装置１にも
どされる。それと同時に、流量調整制御弁１１が開き、
減少したハロゲンガス量と同じハロゲン量をバッファ希
釈ハロゲンガスボンベ１３より、レーザ装置１に供給す
る。それと対応して弁１２が開き、バッファ希釈希ガス
ボンベ１４より希ガスがレーザ装置１内に補充される。
第２図は、レーザ発振時間に対する、レーザ出力特性と
、レーザ装置１内における不純物ガス発生量を示したも
ので、発振時間の経過とともに。
、レーザ装置１内における不純物ガス発生量を示したも
ので、発振時間の経過とともに。
レーザ出力は低下していき５反対に不純物ガス量は増加
している。つまり不純物ガスの発生量とレーザ出力の低
下は対応していることがわかる。エキシマレーザの一例
である。ＸｅＣＱエキシマレーザでは、ＨＣΩをハロゲ
ンガスとして用い、希ガスにはＸｅガスを用いる。この
場合に発生する主な不純物ガスはＣＣＱ４（四塩化炭素
）であることが知られており、これがレーザ出力を低下
させる主な原因であり、これを除去することによりレー
ザ出力を回復させることが可能になる。
している。つまり不純物ガスの発生量とレーザ出力の低
下は対応していることがわかる。エキシマレーザの一例
である。ＸｅＣＱエキシマレーザでは、ＨＣΩをハロゲ
ンガスとして用い、希ガスにはＸｅガスを用いる。この
場合に発生する主な不純物ガスはＣＣＱ４（四塩化炭素
）であることが知られており、これがレーザ出力を低下
させる主な原因であり、これを除去することによりレー
ザ出力を回復させることが可能になる。
第３図には、不純物の除去制御をした場合のレーザ出力
と不純物量の時間特性を示した。発振時間の経過ととも
に不純物量は増加し、レーザ出力は低下してくる。不純
物量が設定値に達したａ点において、制御装置４よりガ
ス流量調整制御弁８゜９．１１が開き、１０が閉じるこ
とで、不純物除去袋Ｗ５においてＣＣＱ４等の不純物を
除去すると同時に、バッファ希釈ハロゲンガスボンベ１
３より除去した不純物量に相当するハロゲンガス（ＨＣ
Ｑ）を注入する。そのことによりレーザ出力は回復する
。このことをｂ点、０点においても、同様の制御をする
ことによりレーザ出力をある一定範囲内に安定化するこ
とができる。
と不純物量の時間特性を示した。発振時間の経過ととも
に不純物量は増加し、レーザ出力は低下してくる。不純
物量が設定値に達したａ点において、制御装置４よりガ
ス流量調整制御弁８゜９．１１が開き、１０が閉じるこ
とで、不純物除去袋Ｗ５においてＣＣＱ４等の不純物を
除去すると同時に、バッファ希釈ハロゲンガスボンベ１
３より除去した不純物量に相当するハロゲンガス（ＨＣ
Ｑ）を注入する。そのことによりレーザ出力は回復する
。このことをｂ点、０点においても、同様の制御をする
ことによりレーザ出力をある一定範囲内に安定化するこ
とができる。
不純物除去装置５の内部には、非イオン化溶媒が入って
おり、希ガスであるＸｅ、Ｎｅ、ＨｅおよびＨＣＱとは
反応せずそのまま通過させるが。
おり、希ガスであるＸｅ、Ｎｅ、ＨｅおよびＨＣＱとは
反応せずそのまま通過させるが。
ＣＣＱ４等の不純物は、溶媒に溶解して除去されてしま
う、このことにより、不純物だけを除去し、その他のレ
ーザ発振に寄与するガス（ＨＣＱ。
う、このことにより、不純物だけを除去し、その他のレ
ーザ発振に寄与するガス（ＨＣＱ。
Ｘｅ、Ｎｅ、Ｈｅ）は除去されることがない。
以上の実施例では、レーザガス中の不純物を短時間でほ
とんど除去できるため、／）ロゲンガスの注入を不純物
を除去しながら同時にできることになり、レーザ出力の
低下を瞬時に回復させることができる。
とんど除去できるため、／）ロゲンガスの注入を不純物
を除去しながら同時にできることになり、レーザ出力の
低下を瞬時に回復させることができる。
本発明によれば、不純物量を正確に測定する手段を備え
、その測定結果をもとに、レーザ装置内のガス状態を制
御する手段を備えているので、安定なレーザ出力を得ら
れる効果がある。また、不純物除去装置に非イオン化溶
媒を用いることにより、不純物だけを高効率で取りのぞ
くことができるため、ハロゲンガス注入制御が容易にで
きる効果がある。
、その測定結果をもとに、レーザ装置内のガス状態を制
御する手段を備えているので、安定なレーザ出力を得ら
れる効果がある。また、不純物除去装置に非イオン化溶
媒を用いることにより、不純物だけを高効率で取りのぞ
くことができるため、ハロゲンガス注入制御が容易にで
きる効果がある。
第１図は本発明の一実施例の構成図、第２図はレーザ発
振時間に対するレーザ出力と不純物量を示した図、第３
図はガス制御をした場合のレーザ発振時間に対するレー
ザ出力と不純物量の関係を示した図である。 １・・・レーザ装置（発振器）、３・・・不純物量測定
装置、４・・制御装置、５・・・不純物除去装置、７・
・・ガス循環ポンプ、１３・・・バッファ希釈ハロゲン
ガスボンベ、１５・・・制御ライン。
振時間に対するレーザ出力と不純物量を示した図、第３
図はガス制御をした場合のレーザ発振時間に対するレー
ザ出力と不純物量の関係を示した図である。 １・・・レーザ装置（発振器）、３・・・不純物量測定
装置、４・・制御装置、５・・・不純物除去装置、７・
・・ガス循環ポンプ、１３・・・バッファ希釈ハロゲン
ガスボンベ、１５・・・制御ライン。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、レーザ媒質に希ガスおよびハロゲン系ガスが使用さ
れるエキシマレーザ装置において、レーザ媒質中の不鈍
物ガス量を測定する不純物量測定手段と、その値により
不純物ガスの除去量を制御する信号を出力する制御装置
と、該信号に基づいて不純物ガスを除去する不純物除去
手段と、を備えたことを特徴とするエキシマレーザ装置
。 ２、請求項１において、レーザ媒質ガスの熱伝導度を測
定することにより不純物ガス量を測定するエキシマレー
ザ装置。 ３、請求項１において、レーザ媒質ガスのイオン電導度
を測定することにより不純物ガス量を測定するエキシマ
レーザ装置。 ４、請求項１〜３のいずれかにおいて、不純物除去手段
に不純物ガスと反応する非イオン化溶液を用いたエキシ
マレーザ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13480590A JPH0429386A (ja) | 1990-05-24 | 1990-05-24 | エキシマレーザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13480590A JPH0429386A (ja) | 1990-05-24 | 1990-05-24 | エキシマレーザ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0429386A true JPH0429386A (ja) | 1992-01-31 |
Family
ID=15136940
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13480590A Pending JPH0429386A (ja) | 1990-05-24 | 1990-05-24 | エキシマレーザ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0429386A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05291650A (ja) * | 1992-04-14 | 1993-11-05 | Hitachi Ltd | ガス劣化検出装置およびガス劣化検出機能を有するエキシマレーザ装置 |
| EP0926785A1 (de) * | 1997-12-27 | 1999-06-30 | Trumpf GmbH & Co | Verfahren zur Steuerung einer Vorrichtung zum Lasergasaustausch an einem Gasentladungsraum einer Gaslaseranordnung sowie Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens |
| US6028880A (en) * | 1998-01-30 | 2000-02-22 | Cymer, Inc. | Automatic fluorine control system |
| US6240117B1 (en) | 1998-01-30 | 2001-05-29 | Cymer, Inc. | Fluorine control system with fluorine monitor |
| JP2010123665A (ja) * | 2008-11-18 | 2010-06-03 | Shibuya Kogyo Co Ltd | ガスレーザ発振器とそれを備えたレーザ加工機 |
| JP6224859B1 (ja) * | 2016-11-04 | 2017-11-01 | 日本エア・リキード株式会社 | 不純物除去装置およびその不純物除去装置を備えるリサイクルガス回収精製システム |
| KR20200100214A (ko) * | 2018-02-15 | 2020-08-25 | 사이머 엘엘씨 | 가스 관리 시스템 |
| US11949203B2 (en) | 2018-02-15 | 2024-04-02 | Cymer, Llc | Gas management system |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61251094A (ja) * | 1985-04-29 | 1986-11-08 | Mitsubishi Electric Corp | エキシマレ−ザ装置 |
| JPS639183A (ja) * | 1986-06-30 | 1988-01-14 | Komatsu Ltd | エキシマレ−ザのガス循環回路 |
| JPH01115182A (ja) * | 1987-10-28 | 1989-05-08 | Fuji Electric Co Ltd | エキシマレーザ用媒体ガス制御装置 |
-
1990
- 1990-05-24 JP JP13480590A patent/JPH0429386A/ja active Pending
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| JP2018079461A (ja) * | 2016-11-04 | 2018-05-24 | 日本エア・リキード株式会社 | 不純物除去装置およびその不純物除去装置を備えるリサイクルガス回収精製システム |
| TWI680009B (zh) * | 2016-11-04 | 2019-12-21 | 法商液態空氣喬治斯克勞帝方法研究開發股份有限公司 | 雜質去除裝置及具備該雜質去除裝置之循環氣體回收純化系統 |
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| US11949202B2 (en) | 2018-02-15 | 2024-04-02 | Cymer, Llc | Gas management system |
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