JPH0487388A - エキシマレーザ - Google Patents

エキシマレーザ

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JPH0487388A
JPH0487388A JP20277690A JP20277690A JPH0487388A JP H0487388 A JPH0487388 A JP H0487388A JP 20277690 A JP20277690 A JP 20277690A JP 20277690 A JP20277690 A JP 20277690A JP H0487388 A JPH0487388 A JP H0487388A
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JP
Japan
Prior art keywords
gas
laser
concentration ratio
laser oscillation
oscillation tube
Prior art date
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Pending
Application number
JP20277690A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshio Fukui
福井 祥夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shimadzu Corp
Original Assignee
Shimadzu Corp
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Publication date
Application filed by Shimadzu Corp filed Critical Shimadzu Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、XeC1等の、エキシマガスをレーザ媒体と
して用いたレーザに関する。
〈従来の技術〉 エキシマレーザは、近年、紫外波長域における高出力レ
ーザとして半導体産業、光化学分野において大きな注目
を集めている。
このようなエキシマレーザにおいては、F2゜HC!!
等の反応性の高いハロゲンガスと、Kr。
Ar、Xe等の希ガスと、He、Ne等のバッファガス
との混合ガスをレーザ媒体として使用しているか、この
うちハロゲンガスは、混合ガス中に含まれる不純物やレ
ーザ発振管の壁体等と反応して減少してしまい、このこ
とがレーザ出力低下の主要因となっている。そこで、従
来では、レーザ出力をモニタし、出力が減少した時点で
、レーザ発振器への印加電圧を上昇し、さらに印加電圧
の設定値が上限に達した時点で、ハロゲンガスをレーザ
発振器内に少量追加することでレーザ出力を一定に保つ
ようにしていた。
〈発明が解決しようとする課題〉 ところで、上述の従来のレーザ出力安定法においては、
ハロゲンガスの追加は、レーザ発振管内の混合ガス中に
おける濃度を分析せずに、レーザ出力をモニタしつつそ
の回復具合に応じて少量つつ追加してゆくので、この追
加を繰り返すうちに、混合ガス中の各ガスの濃度比か、
レーザ使用開始当初の濃度比からずれてしまい、これに
よりレーザ出力が回復しなことがある。そしてレーザ出
力を一定に保てなくなった場合には、レーザ発振管内の
全てのガスを交換する必要かある。
く課題を解決するための手段〉 本発明は上記の従来の問題点を解決すへくなされたもの
で、その構成を実施例に対応する第1図を参照しつつ説
明すると、本発明は、希ガスおよびハロゲンガスを含む
複数種のガスを、所定の濃度比でレーザ発振管1内に充
填した状態で、その発振管1内で放電を生じさせること
によってガスを励起してレーザ光を出力する装置におい
て、レーザ発振管1の内部に、それぞれバルブ6a〜9
aを介して連通ずる各ガスのそれぞれのガス源6〜9と
、レーザ発振管1内のガスの濃度比を分析する手段(ガ
ス濃度比分析装置10)と、その分析データと、レーザ
発振初期における混合ガスの濃度比データとを比較し、
各ガスのうち濃度の低いガスがあれば、そのガスを濃度
低下分に相応する量だけレーザ発振管1内部に補給すべ
くバルブ6a、7a、8aあるいは9aを開閉制御する
手段(制御装置12)を備えていることによって特徴づ
けられる。
く作用〉 レーザ発振管1内の混合ガスの濃度比をモニタし、濃度
の低いガスがあれば、そのガスをレーザ発振管1内部に
補給することで、レーザ発振管1内の混合ガスの濃度比
を、レーザ発振初期の状態に戻すことができ、これによ
りレーザ出力を一定に保つことか可能となる。
〈実施例〉 本発明の実施例を、以下、図面に基づいて説明する。
第1図は本発明実施例の構成図である。
レーザ発振管1内には、ハロゲンガス、希ガスならびに
バッファガスとしてHeおよびNeガスか所定の濃度比
のもとに封入されている。
レーザ発振管1内には一対の放電電極(図示せず)が配
設されている。この放電電極間に高圧電源2から電圧か
印加され、これにより生じたグロー放電によって内部の
ガスが励起されてレーザ光しか出力される。
レーザ発振管1の前方には、ビームスプリッタ3が配設
されており、出力レーザ光りの一部はレーザ出力モニタ
4へと導かれる。このレーザ出力モニタ4の出力信号は
制御装置12に人力される。
また、レーザ発振管1内の放電電極に印加される電圧は
電圧モニタ5に検出され、その検出信号は制御装置12
に入力される。
一方、レーザ発振管1には、その内部にバルブ10aを
介して連通ずるガス濃度比分析装置10が接続されてお
り、その分析データは制御装置12に入力される。この
ガス濃度比分析装置10の排気側にはガス除去装置11
が接続されており、この除去装置11はバルブllaを
介してレーザ発振管1内部に連通している。
また、レーザ発振管1には、その内部にそれぞれバルブ
5a、7a、8a、9aを介して連通ずるハロゲンガス
、希ガス、HeガスならびにNeガス供給装置6. 7
. 8. 9か接続されている。
そして、制御装置12は、先の三つの入力信号と、あら
かじめ入力されたガス濃度比データに基づいて、後述す
る高圧電源2の駆動制御ならびにバルブ6a〜llaの
開閉制御等を行うよう構成されている。
次に、制御装置12の動作を説明するとともに本発明実
施例の作用を述べる。
まず、レーザ発振を行う前に、レーザ発振管1内に封入
した混合ガスの濃度比のデータを制御装置に入力してお
く。次いで高圧電源2を駆動してレーザ光りを出力する
。このレーザ出力値は出力モニタ4を通じて監視されお
り、出力値に減少か生じた時点で、高圧電源2を駆動制
御してレーザ発振管1への印加電圧を上昇させる。これ
により、レーザ出力はもとのレベルに戻りレーザ出力は
−定に保たれる。
以上の操作を繰り返してゆくうちに、レーザ発振管1へ
の印加電圧か、電源能力等によって決定される上限値ま
で達して、印加電圧によるレーザ出力の制御が不可能と
なったとき、これ以後にレーザ出力値に減少が生じたと
きには、今度はバルブ10aの開閉制御を行って、レー
ザ発振管1内の混合ガスを規定量だけガス濃度比分析装
置10に導入する。なお、このときのサンプリング量は
濃度比分析に必要な最小限の量でよい。
次に、ガス濃度比分析装置10によって分析された濃度
比データと、先に入力された基準データとを比較して、
濃度の低いガスかあればその不足分に相当する量のガス
を補給すべくバルブ6a〜9aの開閉制御を行う。すな
わち、例えばハロゲンガスが不足している場合には、バ
ルブ6aを所定時間だけ開き、ハロゲンガスをレーザ発
振管1内に導入して、レーザ発振管1内における混合ガ
スの濃度比をレーザ発振初期の状態に戻す。この後、バ
ルブ6a〜9aの全ての開閉制御を行って、ガス濃度比
分析装置10にサンプリングした分に相当する量のガス
をレーザ発振管1内に補給して発振管1の内圧を初期の
状態に戻す。このとき、補給する各ガスの量は、その濃
度比か基準となる濃度比データに一致するよう各バルブ
6a〜9aの開閉制御を行い、レーザ発振管1内におけ
る混合ガスの濃度比が変化しないようにする。そしてこ
のような動作か、レーザ出力か減少した時点ごとに順次
繰り返して行われ、これによりレーザ出力を長時間にわ
たって一定に保つことができる。
なお、ガス濃度比分析装置10にサンプリングされた混
合ガスは、濃度分析後にガス除去装置11によって大気
へと放出される。また、レーザ発振管1内の混合ガスの
全てを交換する場合には、バルブllaを開いて、発振
管1内部の古い混合ガスを大気へと放出した後、レーザ
発振管1内に新たな混合ガスを封入することによって行
う。
ここで、ガス濃度比分析装置としては、不純物除去装置
を備えたものかあり、このような分析装置を使用する場
合には、例えば第2図に示すように、分析装置10の排
気側をバルブ10bを介してレーザ発振管1に接続し、
分析後のガスをレーザ発振管1内部に戻すよう構成して
もよい。この場合、希ガス等の高価なガスの無駄な消費
を抑えることかできる。
以上の本発明実施例の構成に加えて、レーザ発振管1内
の混合ガス中における不純物を除去するための付設して
おけば、レーザ出力をより長時間にわたって一定に保つ
ことかできる。
〈発明の効果〉 以上説明したように、本発明によれば、レーザ発振管内
の混合ガスの濃度比を分析して、その分析データに基づ
いて不足するガスを、レーザ発振管内に補給するよう構
成したから、レーザ発振管内における混合ガスの濃度比
を所定の値に保つことかでき、これにより、レーザ出力
を従来に比して正確に、かつ長時間にわたって一定に保
つことができる。しかも、レーザ発振管内の混合ガスを
交換する頻度か少なくなり、希ガス等の高価なガスの無
駄な消費を抑えることができる結果、ランニングコスト
の低減化をはかることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明実施例の構成図で、第2図はその実施例
の変形例を説明する図である。 1・・・レーザ発振管 2・・・高圧電源 3・・・ビームスプリッタ 4・・・レーザ出力モニタ 5・・・電圧モニタ 6・・・ハロゲンガス供給装置 7・・・希ガス供給装置 8・・・Heガス供給装置 9・・・Neガス供給装置 10・・・ガス濃度比分析装置 11・・・ガス除去装置 12・・・制御装置 6a〜lla・・・バルブ 特許出願人    株式会社島津製作所代 理 人  
  弁理士 西1)新

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 希ガスおよびハロゲンガスを含む複数種のガスを、所定
    の濃度比でレーザ発振管内に充填した状態で、その発振
    管内で放電を生じさせることによってガスを励起してレ
    ーザ光を出力する装置において、それぞれバルブを介し
    て上記レーザ発振管内部に連通する上記各ガスのそれぞ
    れのガス源と、上記レーザ発振管内のガスの濃度比を分
    析する手段と、その分析データとレーザ発振初期におけ
    る上記混合ガスの濃度比データとを比較し、上記各ガス
    のうち濃度の低いガスがあれば、そのガスを上記濃度低
    下分に相応する量だけ上記レーザ発振管内部に補給すべ
    く上記バルブを開閉制御する手段を備えていることを特
    徴とするエキシマレーザ。
JP20277690A 1990-07-30 1990-07-30 エキシマレーザ Pending JPH0487388A (ja)

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JP20277690A JPH0487388A (ja) 1990-07-30 1990-07-30 エキシマレーザ

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JP20277690A Pending JPH0487388A (ja) 1990-07-30 1990-07-30 エキシマレーザ

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19618119A1 (de) * 1995-05-12 1996-11-14 Lambda Physik Gmbh Verfahren zum Regeln der Energie von Strahlungspulsen eines Excimerlasers
WO2001059891A3 (en) * 2000-02-11 2002-03-07 Lambda Physik Ag Energy stabilized gas discharge laser
US6389052B2 (en) 1999-03-17 2002-05-14 Lambda Physik Ag Laser gas replenishment method
US6490307B1 (en) 1999-03-17 2002-12-03 Lambda Physik Ag Method and procedure to automatically stabilize excimer laser output parameters
US6714577B1 (en) 1999-03-17 2004-03-30 Lambda Physik Ag Energy stabilized gas discharge laser

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19618119A1 (de) * 1995-05-12 1996-11-14 Lambda Physik Gmbh Verfahren zum Regeln der Energie von Strahlungspulsen eines Excimerlasers
DE19618119C2 (de) * 1995-05-12 2003-02-13 Lambda Physik Ag Verfahren zum Regeln der Energie von Strahlungspulsen eines Excimerlasers
US6389052B2 (en) 1999-03-17 2002-05-14 Lambda Physik Ag Laser gas replenishment method
US6490307B1 (en) 1999-03-17 2002-12-03 Lambda Physik Ag Method and procedure to automatically stabilize excimer laser output parameters
US6490308B2 (en) 1999-03-17 2002-12-03 Lambda Physik Ag Laser gas replenishment method
US6493370B2 (en) 1999-03-17 2002-12-10 Lambda Physik Ag Laser gas replenishment method
US6504861B2 (en) 1999-03-17 2003-01-07 Lambda Physik Ag Laser gas replenishment method
US6714577B1 (en) 1999-03-17 2004-03-30 Lambda Physik Ag Energy stabilized gas discharge laser
WO2001059891A3 (en) * 2000-02-11 2002-03-07 Lambda Physik Ag Energy stabilized gas discharge laser

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