JPH0316286A - エキシマレーザ光源 - Google Patents
エキシマレーザ光源Info
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- JPH0316286A JPH0316286A JP15073889A JP15073889A JPH0316286A JP H0316286 A JPH0316286 A JP H0316286A JP 15073889 A JP15073889 A JP 15073889A JP 15073889 A JP15073889 A JP 15073889A JP H0316286 A JPH0316286 A JP H0316286A
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- pressure regulator
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/036—Means for obtaining or maintaining the desired gas pressure within the tube, e.g. by gettering, replenishing; Means for circulating the gas, e.g. for equalising the pressure within the tube
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- Physics & Mathematics (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
以下の順序に従って本発明を説明する。
A.産業上の利用分野
B.発明の概要
C、背景技術[第2図、第3図〕
D.発明が解決しようとする問題点
E.問題点を解決するための手段
F.作用
G.実施例[第1図]
H.発明の効果
(A.産業上の利用分野)
本発明はエキシマレーザ光源、特にレーザ発振中におい
てレーザ媒質の補充をすることのできるエキシマレーザ
光源に関する。
てレーザ媒質の補充をすることのできるエキシマレーザ
光源に関する。
(B.発明の概要)
本発明は、上記のエキシマレーザ光源において、
レーザ筺体内の圧力変動によるレーザ出力の変動を防止
するため、 レーザ筺体ヘレーザ媒質を導くガス導入管にて圧力を制
圓する第1の圧力レギュレータと、レーザ筺体からレー
ザ媒質を排出するガス排出管にて圧力を制御する第2の
圧カレギュ1ノ−夕を制御してレーザ筺体内の圧力を一
定に保ちながらレーザ媒質を供給できるようにしたもの
である。
するため、 レーザ筺体ヘレーザ媒質を導くガス導入管にて圧力を制
圓する第1の圧力レギュレータと、レーザ筺体からレー
ザ媒質を排出するガス排出管にて圧力を制御する第2の
圧カレギュ1ノ−夕を制御してレーザ筺体内の圧力を一
定に保ちながらレーザ媒質を供給できるようにしたもの
である。
(C.背景技術〉 [第2図、第3図1エキシマレーザ
光源はパルス発振を重ねるにつれてレーザ出力が例えば
第2図に示すように低下してしまうことが知られている
。この原因はレーザ発振が起こるレーザ筺体内のガス中
のハロゲン例えばフッ素あるいはHCJ2がレーザ筺体
構成材料や励起源用放電により生じるスバッタ金属と反
応して減少してしまうことにある。
光源はパルス発振を重ねるにつれてレーザ出力が例えば
第2図に示すように低下してしまうことが知られている
。この原因はレーザ発振が起こるレーザ筺体内のガス中
のハロゲン例えばフッ素あるいはHCJ2がレーザ筺体
構成材料や励起源用放電により生じるスバッタ金属と反
応して減少してしまうことにある。
そのため、一般にはレーザ出力が所定(例えばlO〜2
0%)以上低下したらエキシマレーザ光源の停止時にレ
ーザ筺体を交換するとか、あるいはエキシマレーザ光源
の停止時にレーザ筺体中の混合ガスを新しい混合ガスと
置換するようにしてエキシマレーザ光源を使用している
。そして、レーザ筺体中の混合ガスを新しい混合ガスと
置換するようにしたエキシマレーザ光源には、置換後に
新しい混合ガスを純化するガス純化装置を備えたものが
ある。第3図はガス純化装置を備えたエキシマレーザ光
源の構成図である。
0%)以上低下したらエキシマレーザ光源の停止時にレ
ーザ筺体を交換するとか、あるいはエキシマレーザ光源
の停止時にレーザ筺体中の混合ガスを新しい混合ガスと
置換するようにしてエキシマレーザ光源を使用している
。そして、レーザ筺体中の混合ガスを新しい混合ガスと
置換するようにしたエキシマレーザ光源には、置換後に
新しい混合ガスを純化するガス純化装置を備えたものが
ある。第3図はガス純化装置を備えたエキシマレーザ光
源の構成図である。
同図において、aはレーザ発振が行われるレーザ筺体、
bは希釈ガスであるアルゴンArの供給を調節するバル
ブ、Cはレーザ媒質であるフッ素Fiの供給を調節する
バルブ、dは希釈ガスであるヘリウムHeの供給を調節
するバルブ、eはガス供給時及び排出時に開くバルプ、
fはレーザ筺体a内の混合ガスを純化するガス純化装置
、iはレーザ筺体a内の減圧時における圧力を測定する
圧力計、hは該圧力計iへのガスの流通を制御するバル
ブ、gは揚圧時における圧力を測定する圧力計、jは圧
力変換器で、過誤のバルブ操作等によりレーザ筺体a内
が圧力異常になるのをインターロックして防止する役割
等を担う.kは排気をするとき開くバルブ、βはオイル
ミストトラップ、mは排気用ポンプ、nはオイルミスト
トラップである。
bは希釈ガスであるアルゴンArの供給を調節するバル
ブ、Cはレーザ媒質であるフッ素Fiの供給を調節する
バルブ、dは希釈ガスであるヘリウムHeの供給を調節
するバルブ、eはガス供給時及び排出時に開くバルプ、
fはレーザ筺体a内の混合ガスを純化するガス純化装置
、iはレーザ筺体a内の減圧時における圧力を測定する
圧力計、hは該圧力計iへのガスの流通を制御するバル
ブ、gは揚圧時における圧力を測定する圧力計、jは圧
力変換器で、過誤のバルブ操作等によりレーザ筺体a内
が圧力異常になるのをインターロックして防止する役割
等を担う.kは排気をするとき開くバルブ、βはオイル
ミストトラップ、mは排気用ポンプ、nはオイルミスト
トラップである。
このような従来のエキシマレーザ光源はレーザ筺体aを
密閉した状態で使用される。従って、エキシマレーザ光
源の使用中におけるレーザ筺体a内のレーザ媒質の減少
は避けられず、使用中におけるレーザ出力の低下を防止
できなかった。
密閉した状態で使用される。従って、エキシマレーザ光
源の使用中におけるレーザ筺体a内のレーザ媒質の減少
は避けられず、使用中におけるレーザ出力の低下を防止
できなかった。
そこで、特開昭61−251094公報に紹介されたエ
キシマレーザ光源のようにその使用中にレーザ媒質を補
充する試みが為された.ザ出力が変動するという問題が
あった。
キシマレーザ光源のようにその使用中にレーザ媒質を補
充する試みが為された.ザ出力が変動するという問題が
あった。
本発明はこのような問題点を解決すべく為されたもので
あり、レーザ発振中にレーザ媒質を補充するエキシマレ
ーザ光源においてレーザ筺体内の圧力変動によるレーザ
出力の変動を防止することを目的とする。
あり、レーザ発振中にレーザ媒質を補充するエキシマレ
ーザ光源においてレーザ筺体内の圧力変動によるレーザ
出力の変動を防止することを目的とする。
(E.問題点を解決するための手段)
本発明エキシマレーザ光源は上記問題点を解決するため
、レーザ筺体ヘレーザ媒質を導くガス導入管の圧力を制
御する第1の圧力レギュレータと、レーザ筺体からレー
ザ媒質を排出するガス排出管の第2の圧力レギュレータ
を制御してレーザ筺体内の圧力を一定に保ちなからレー
ザ媒質を供給できるようにしたことを特徴とする。
、レーザ筺体ヘレーザ媒質を導くガス導入管の圧力を制
御する第1の圧力レギュレータと、レーザ筺体からレー
ザ媒質を排出するガス排出管の第2の圧力レギュレータ
を制御してレーザ筺体内の圧力を一定に保ちなからレー
ザ媒質を供給できるようにしたことを特徴とする。
(D.発明が解決しようとする問題点)ところが、エキ
シマレーザ光源の使用中にレーザ媒質の補充すると外乱
等によってレーザ筺体a内の圧力が変動し、その圧力変
動によってレー(F.作用) 本発明エキシマレーザ光源によれば、レーザ筺体のレー
ザ媒賀ガス導入側に圧力レギュレータを設けると共にガ
ス排出側にも圧力レギュレータを設けたのでレーザ媒質
を供給しながらその2つの圧力レギュレータの働きによ
りレーザ筺体内の圧力を一定に保つことができる。従っ
て、レーザ筺体内の圧力を一定に保ちなからレーザ媒賀
の補充ができる. 依って、レーザ出力の変動を伴うなくエキシマレーザ光
源を長く使用することができる。
シマレーザ光源の使用中にレーザ媒質の補充すると外乱
等によってレーザ筺体a内の圧力が変動し、その圧力変
動によってレー(F.作用) 本発明エキシマレーザ光源によれば、レーザ筺体のレー
ザ媒賀ガス導入側に圧力レギュレータを設けると共にガ
ス排出側にも圧力レギュレータを設けたのでレーザ媒質
を供給しながらその2つの圧力レギュレータの働きによ
りレーザ筺体内の圧力を一定に保つことができる。従っ
て、レーザ筺体内の圧力を一定に保ちなからレーザ媒賀
の補充ができる. 依って、レーザ出力の変動を伴うなくエキシマレーザ光
源を長く使用することができる。
(G.実施例)[第1図]
以下、本発明エキシマレーザ光源を図示実施例に従って
詳細に説明する。
詳細に説明する。
第1図は本発明エキシマレーザ光源の一つの実施例を示
す構成図である。
す構成図である。
同図において、1はレーザ筺体、2は該レーザ筺体lに
供給する混合ガス(レーザ媒質、例えばフッ素Fと希釈
ガス、例えばアルゴンArとを混合したガス)を蓄えた
ガスボンベ、3は該ガスボンベ2からガスをレーザ筺体
1側へ導くガス導入管、4は一次圧を測定する一次圧計
、5は一次圧を減圧して二次圧にする圧力レギュレータ
、6は該圧力レギュレータ5によって作られた二次圧を
測定する二次圧計、7は圧力レギュレータであり、ガス
ボンベ2に高い圧力で蓄えられた混合ガスは圧力レギュ
レータ5、圧力レギュレータ7によって順次圧力を低め
られてレーザ筺体l側へ供給される。
供給する混合ガス(レーザ媒質、例えばフッ素Fと希釈
ガス、例えばアルゴンArとを混合したガス)を蓄えた
ガスボンベ、3は該ガスボンベ2からガスをレーザ筺体
1側へ導くガス導入管、4は一次圧を測定する一次圧計
、5は一次圧を減圧して二次圧にする圧力レギュレータ
、6は該圧力レギュレータ5によって作られた二次圧を
測定する二次圧計、7は圧力レギュレータであり、ガス
ボンベ2に高い圧力で蓄えられた混合ガスは圧力レギュ
レータ5、圧力レギュレータ7によって順次圧力を低め
られてレーザ筺体l側へ供給される。
8はフィルター及び逆止弁、9は流量コントローラ(M
FL)、toは圧力レギエレータ(特許請求の範囲でい
う第1の圧力レギュレータに相当する)で,該圧力レギ
ュレータ10によってレーザ筺体1に導入される混合ガ
スの圧力がコントロールされる.11はそのレーザ筺体
1の圧力を測定する圧力計で、その測定値は電気信号の
形で出力されて第1の圧力レギュレータlO及び後述す
る第2の圧力レギュレータ14を制{卸する。
FL)、toは圧力レギエレータ(特許請求の範囲でい
う第1の圧力レギュレータに相当する)で,該圧力レギ
ュレータ10によってレーザ筺体1に導入される混合ガ
スの圧力がコントロールされる.11はそのレーザ筺体
1の圧力を測定する圧力計で、その測定値は電気信号の
形で出力されて第1の圧力レギュレータlO及び後述す
る第2の圧力レギュレータ14を制{卸する。
12はレーザ筺体lからガスを排出するガス排出管、1
3は該ガス排出管l2に設けられた逆止弁、l4はガス
排出管12内のガス圧をコントロールする圧力レギュレ
ータ(特許請求の範囲でいう第2の圧力レギュレータに
相当する)で、上記圧力計11からの電気信号により制
御される.l5は除害装置で、混合ガスは該除害装置1
5を経て排気ダクトから排気される。
3は該ガス排出管l2に設けられた逆止弁、l4はガス
排出管12内のガス圧をコントロールする圧力レギュレ
ータ(特許請求の範囲でいう第2の圧力レギュレータに
相当する)で、上記圧力計11からの電気信号により制
御される.l5は除害装置で、混合ガスは該除害装置1
5を経て排気ダクトから排気される。
本エキシマレーザ光源においては、レーザ筺体l内のガ
ス圧が例えば5kg/am”(一般に1〜lOKg/c
m″の範囲)という一定の値になるように第1の圧力レ
ギュレータたる圧力レギュレータ10と第2の圧力レギ
ュレータたる圧力レギュレータ14とによってレーザ筺
体l内のガス圧をコントロールして加圧状態を保ちなか
らレーザ媒質の減少分を略補充できる程度の量、例えば
数CC〜数10J2/秒の混合ガスを供給し、その状態
でレーザ発振を行うことができる。
ス圧が例えば5kg/am”(一般に1〜lOKg/c
m″の範囲)という一定の値になるように第1の圧力レ
ギュレータたる圧力レギュレータ10と第2の圧力レギ
ュレータたる圧力レギュレータ14とによってレーザ筺
体l内のガス圧をコントロールして加圧状態を保ちなか
らレーザ媒質の減少分を略補充できる程度の量、例えば
数CC〜数10J2/秒の混合ガスを供給し、その状態
でレーザ発振を行うことができる。
従って、レーザ発振中において常に新鮮な混合ガスがレ
ーザ筺体1に供給され、レーザ媒質の減少が生ぜず、延
いてはレーザ媒質の減少に起因したレーザ出力の低下を
防止することができる。
ーザ筺体1に供給され、レーザ媒質の減少が生ぜず、延
いてはレーザ媒質の減少に起因したレーザ出力の低下を
防止することができる。
そして、レーザ筺体1のガス導入側とガス排出側の両端
に圧力レギュレータ10、l4を設け、レーザ筺体1の
ガス圧を検出する圧力計10の検出結果を設定値と比較
してレーザ筺体1のガス圧が設定値通りになるように両
圧力レギュレータ10、14を制御するので、レーザ筺
体1内の圧力は常に一定の値(設定値)に保持される。
に圧力レギュレータ10、l4を設け、レーザ筺体1の
ガス圧を検出する圧力計10の検出結果を設定値と比較
してレーザ筺体1のガス圧が設定値通りになるように両
圧力レギュレータ10、14を制御するので、レーザ筺
体1内の圧力は常に一定の値(設定値)に保持される。
従って、一次圧、二次圧の変動等外乱があってもレーザ
筺体1内の圧力はそれに影響されず安定し、圧力変動を
伴うことなくレーザ媒質の補充を行うことができる。依
って、圧力変動によるレーザ出力の変動も防止すること
ができる。
筺体1内の圧力はそれに影響されず安定し、圧力変動を
伴うことなくレーザ媒質の補充を行うことができる。依
って、圧力変動によるレーザ出力の変動も防止すること
ができる。
しかして、レーザ出力の安定化を高めつつレーザ筺体1
の高寿命化を図ることができる。
の高寿命化を図ることができる。
尚、本実施例においては流量計9がレーザ筺体1に対し
て上手側に設けられていたが、下手側に設けるようにし
ても良い。
て上手側に設けられていたが、下手側に設けるようにし
ても良い。
また、圧力レギュレータ10、l4を制御する圧力計1
1はレーザ筺体1外部に設けられていたが、レーザ筺体
1に対する加圧領域内であればレーザ筺体1の内部、外
部のどこに設けても良い。勿論、レーザ筺体1の下手側
であっても良い。
1はレーザ筺体1外部に設けられていたが、レーザ筺体
1に対する加圧領域内であればレーザ筺体1の内部、外
部のどこに設けても良い。勿論、レーザ筺体1の下手側
であっても良い。
また、圧力レギュレータ10.14は同じ圧力計11に
より制御されていたが、必ずしもそのようにすることは
必要ではなく加圧領域内に配置した2つの圧力計によっ
てその2つの圧力レギュレータ10,14を別個に制御
するようにしても良い。
より制御されていたが、必ずしもそのようにすることは
必要ではなく加圧領域内に配置した2つの圧力計によっ
てその2つの圧力レギュレータ10,14を別個に制御
するようにしても良い。
(H.発明の効果)
以上に述べたように、本発明エキシマレーザ光源は、レ
ーザ媒質を収納するガスボンベと、該ガスボンベからレ
ーザ媒質を導くガス導入管と、該ガス導入管内のガス圧
を制御する第lの圧力レギュレータと、上記ガス導入管
を通じてレーザ媒質の供給を受けるレーザ筺体と、該レ
ーザ筺体からガスを排出するガス排出管と、上記ガス排
出管内のガス圧を制御する第2の圧力レギュレータとを
少なくとも有し、レーザ筺体内を一定の圧力に保ちなか
らレーザ発振中におけるレーザ媒質の供給を行うように
してなることを特徴とするものである。
ーザ媒質を収納するガスボンベと、該ガスボンベからレ
ーザ媒質を導くガス導入管と、該ガス導入管内のガス圧
を制御する第lの圧力レギュレータと、上記ガス導入管
を通じてレーザ媒質の供給を受けるレーザ筺体と、該レ
ーザ筺体からガスを排出するガス排出管と、上記ガス排
出管内のガス圧を制御する第2の圧力レギュレータとを
少なくとも有し、レーザ筺体内を一定の圧力に保ちなか
らレーザ発振中におけるレーザ媒質の供給を行うように
してなることを特徴とするものである。
従って、本発明エキシマレーザ光源によれば、レーザ筺
体のレーザ媒質ガス導入側に圧力レギュレータを設ける
と共にガス排出側にも圧力レギュレータを設けたのでレ
ーザ媒質を供給しながらその2つの圧力レギュレータの
働きによりレーザ筺体内の圧力を一定に保つことができ
る。従って、レーザ筺体内の圧力を一定に保ちながらレ
ーザ媒質の補充ができる。
体のレーザ媒質ガス導入側に圧力レギュレータを設ける
と共にガス排出側にも圧力レギュレータを設けたのでレ
ーザ媒質を供給しながらその2つの圧力レギュレータの
働きによりレーザ筺体内の圧力を一定に保つことができ
る。従って、レーザ筺体内の圧力を一定に保ちながらレ
ーザ媒質の補充ができる。
依って、レーザ出力の変動を伴うなくエキシマレーザ光
源を長く使用することができる。
源を長く使用することができる。
第1図は本発明エキシマレーザ光源の一つの実施例を示
す構戒図、第2図はレーザ出力の時間経過に伴う低下を
示す図、第3図は従来例の一を示す構或図である。 符号の説明 1・・・レーザ筺体、2・・・ガスボンベ、3・・・ガ
ス導入管、 10−・・第1の圧力レギュレータ、 12・・・ガス排出管、 14・・・第2の圧力レギュレータ. 1 −+吟闇 レーサ゛出力のイ6下を示す図 第2図 従来伊]の溝歳図 菊3図 ◆ スクラバー −462−
す構戒図、第2図はレーザ出力の時間経過に伴う低下を
示す図、第3図は従来例の一を示す構或図である。 符号の説明 1・・・レーザ筺体、2・・・ガスボンベ、3・・・ガ
ス導入管、 10−・・第1の圧力レギュレータ、 12・・・ガス排出管、 14・・・第2の圧力レギュレータ. 1 −+吟闇 レーサ゛出力のイ6下を示す図 第2図 従来伊]の溝歳図 菊3図 ◆ スクラバー −462−
Claims (1)
- (1)少なくともレーザ媒質を収納するガスボンベと、 上記ガスボンベからレーザ媒質を少なくとも含むガスを
導くガス導入管と、 上記ガス導入管内のガス圧を制御する第1の圧力レギュ
レータと、 上記ガス導入管を通じてレーザ媒質を少なくとも含むガ
スの供給を受けるレーザ筺体と、上記レーザ筺体からガ
スを排出するガス排出管と、 上記ガス排出管内のガス圧を制御する第2の圧力レギュ
レータと、 を少なくとも有し、 レーザ筺体内を一定の圧力に保ちながらレーザ発振中に
おけるレーザ媒質の供給を行い得るようにしてなる ことを特徴とするエキシマレーザ光源
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15073889A JP3187817B2 (ja) | 1989-06-14 | 1989-06-14 | エキシマレーザ光源 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15073889A JP3187817B2 (ja) | 1989-06-14 | 1989-06-14 | エキシマレーザ光源 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0316286A true JPH0316286A (ja) | 1991-01-24 |
JP3187817B2 JP3187817B2 (ja) | 2001-07-16 |
Family
ID=15503336
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15073889A Expired - Lifetime JP3187817B2 (ja) | 1989-06-14 | 1989-06-14 | エキシマレーザ光源 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3187817B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05102555A (ja) * | 1991-10-09 | 1993-04-23 | Komatsu Ltd | エキシマレーザ装置のガス補給方法及びエキシマレーザ装置 |
-
1989
- 1989-06-14 JP JP15073889A patent/JP3187817B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05102555A (ja) * | 1991-10-09 | 1993-04-23 | Komatsu Ltd | エキシマレーザ装置のガス補給方法及びエキシマレーザ装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3187817B2 (ja) | 2001-07-16 |
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