JPH06164026A - エキシマレーザ装置におけるレーザガス補給装置 - Google Patents

エキシマレーザ装置におけるレーザガス補給装置

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JPH06164026A
JPH06164026A JP31220292A JP31220292A JPH06164026A JP H06164026 A JPH06164026 A JP H06164026A JP 31220292 A JP31220292 A JP 31220292A JP 31220292 A JP31220292 A JP 31220292A JP H06164026 A JPH06164026 A JP H06164026A
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計 溝口
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准一 藤本
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Abstract

(57)【要約】 【目的】レーザ装置の出力レーザ光のスペクトル幅を一
定値に制御し、安定したレーザ運転を実現する。 【構成】レーザチャンバ4で放電励起されたレーザ光の
スペクトル幅Δλがスペクトル幅モニタ7で検出され、
制御器1は、この検出されたスペクトル幅Δλに基づい
てスペクトル幅が一定値となるように、F2ボンベ8か
らレーザチャンバ4内に補給されるガス補給量をサブタ
ンク15、開閉弁16、17を介して制御する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
【0002】本発明は、主として縮小投影露光装置(以
下「ステッパ」という)の光源として用いられ、放電励
起されることによってレーザを発振するエキシマレーザ
装置に関し、特に、そのレーザチャンバ内へハロゲンガ
スを補給する装置に関する。
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】放電
励起型のエキシマレーザ装置は、マーキング等の材料加
工のほか、大規模集積回路(LSI)の回路パターン制
作の光リソグラフィ用光源として用いられている。
【0003】近年における光リソグラフィの回路パター
ンの超微細化に伴い、照明光源により照らされた原画
(レチクル)パターンの透過光を縮小投光学系により半
導体基板上の光感光性物質に投影して回路パターンを形
成する方法が一般的に用いられている。
【0004】この回路パターンの投影像の分解能は、用
いられる光源の波長で主に制限されるため、光源の波長
は可視領域から紫外領域へと次第に短波長化している。
従来、この紫外領域の光源として高圧水銀ランプから発
生するg線(463nm)、i線(365nm)が使用
されてきた。
【0005】しかしながら、最小パターンの線幅がメモ
リ容量64MBで要求される0.25μm以下となる
と、i線でもすでに波長としてはそろそろ限界にきてい
る。この技術的限界を解決するものとして、深紫外(D
eep Ultra Violet)レーザ光源が有望
視されている。特に放電励起エキシマレーザは高出力、
高効率で媒質ガス(レーザガス)の組成によりKrF
(248nm)、ArF(193nm)などの波長で強
い発振を得ることができる。
【0006】一方、上記Deep−UV領域では、縮小
投影レンズ系を構成するガラス、結晶材料が非常に制約
されるため水銀ランプを用いた縮小投影レンズ系で用い
られてきた色収差補正が困難となる。そこで、レンズ系
を色収差補正するのではなく、レーザ共振器内にエタロ
ン等の波長選択素子を配設し、出力光のスペクトル幅を
レンズ材の色収差が無視できる程度まで小さくすること
で単色化を図り、その困難さを除去している。この方法
で自然発振の場合にスペクトル幅で数百pmあった線幅
が数pmにまで狭帯域化することができる。
【0007】このように放電励起エキシマレーザ装置は
露光用光源として有用である。しかしながら、実際に単
色光源として使用する場合には、放電の幅が放電電極の
消耗とともに変化し、それとともにレーザのビーム幅が
変化するという問題点があった。すなわち、エキシマレ
ーザの共振器内に波長選択素子を設置し、単色化を図る
方式として、エタロンを用いる方式、回析格子を用いる
方式またはそれらの組み合わせによる方式などが知られ
ている。特に、波長選択素子として波長回析格子(グレ
ーティング)を用いる方式は、回析格子の高い安定性
と、拡大光学系と併用すると原理的には波長選択のバン
ド幅に限界がないということなどの特性を持ち、非常に
優れた方式である。
【0008】しかしながら、回析格子を使った場合は、
スペクトル幅を小さくするため高い次数の回析を用いて
いるため、動作点での角度分散が大きくレーザの発散角
がそのままスペクトル幅に影響を及ぼす。すなわち、レ
ーザの発散角が大きいとスペクトル幅も広がってしまう
という性質を持つ。したがって、放電幅が変化し利得領
域が変化した場合、波長選択素子からみたビームダイバ
ージェンスが変化するためにスペクトル幅も大きく変化
し露光の性能を低下させるという問題点がある。
【0009】こうした変動は電極形状、運転電圧、ガス
組成、ガス圧力などのさまざまなレーザ運転条件の変化
によって発生する。そこで、これを回避するために従来
アパーチュアによる利得幅の制限によりスペクトル幅を
安定化することが試みられてきたが、実際にはアパーチ
ュア内の内部形状までは制限できないため十分に変動を
抑えることはできなかった。また、上記の電極形状の変
化によるスペクトル幅の変動に対しては、本発明者らの
発明による出願(特願平3−290618等)に開示さ
れた技術により大幅に緩和されるものの、上記ガス組成
の変化によるスペクトル幅の変動に関してまでは、十分
な考慮がなされていなかった。
【0010】ここで、ガス組成変化のメカニズムについ
て説明すると、ハロゲンガスを含むレーザガスを用いて
放電励起型エキシマレーザを運転する場合、運転の経過
にしたがって放電電極を構成する材料の蒸発、他の部分
の構成材料との化学反応によりハロゲンガスが消費され
る。この消費に伴い、レーザの出力が低下することにな
る。
【0011】そこで、従来はハロゲンガスの消耗による
レーザ出力の低下を補うために、以下のようにしてハロ
ゲンガスの補給を行っていた。
【0012】・従来例(1) すなわち、エキシマレー
ザでは、レーザを励起するために充電回路のコンデンサ
に蓄積された電気エネルギーを、レーザチャンバ内の放
電空間に投入し、レーザ媒質ガスを活性化させ出力を得
るようにしている。この場合、コンデンサの充電電圧
(すなわち、電極間の放電電圧)を増やすことによって
レーザ出力が増加する。したがって、レーザ出力を検出
し、コンデンサの充電電圧値を制御することでレーザ出
力を安定化させることができる。
【0013】しかし、長時間運転が行われていると、上
述したようにハロゲンガスの減少に伴い発振効率が低下
し、次第に充電電圧を大きくしていかないと所望の出力
が維持できなくなる。そして、充電電圧が、発振効率の
低下が電圧増加のみでは対処しきれない所定のしきい値
まで昇したときに、一定量のハロゲンガスをレーザチャ
ンバ内に供給するようにする。
【0014】かかる制御によれば、確かに長期にわたっ
て一定のレーザ出力を維持することができるようにな
る。しかし、図6に、運転ショット数とスペクトル幅Δ
λとの関係として示すように、少なくとも、スペクトル
幅Δλがそのまま低下してしまうことによる不都合を除
去することはできるものの、ガスが補給されるごとにス
ペクトル幅Δλは瞬間的に大きくなってしまい、安定し
たスペクトル幅を得ることができないという不都合があ
った。また、充電電圧がしきい値に達したときに、一義
的にガスを補給するのでガスの寿命がきわめて短いとい
う問題もある。
【0015】・従来例(2) 一方で、上記従来例
(1)に示されるように充電電圧がしきい値に達したと
きに一義的にガスを補給するのではなくて、運転中、レ
ーザ光の発振パルス数をカウントし、このカウント値が
所定のしきい値に達した場合にのみ、一定量ΔGのハロ
ゲンガスを補給する技術がある。
【0016】・従来例(3) また、同様に従来例
(1)に示されるように充電電圧がしきい値に達したと
きに一義的にガスを補給するのではなくて、運転中、レ
ーザ光の発振速度、つまり単位当たりのパルス数を演算
し、この演算値に応じた量を補給する技術がある。
【0017】上記従来例(2)、(3)の制御を行った
ときは、充電電圧がしきい値に達したときに一義的に一
定量のガスを補給するのではなく、発振回数、発振速度
を考慮した量を補給するようにしているので、従来例
(1)に較べてガスの寿命を延長することができるとと
もに、急激にスペクトル幅が増大するという問題も解消
される。
【0018】しかし、それら発振回数、発振速度のみか
らでは、適切な補給量を決定することができず、実際に
は、図6の運転ショット数とスペクトル幅の関係に示さ
れるように、補給ガス量ΔGが小さい場合であっても大
きい場合であっても、ハロゲンガスの消費速度と補給速
度との間にずれが生じてしまい、ガス組成変化により長
時間の運転中には徐々にスペクトル幅が低下または増大
してしまうという問題点があった。
【0019】本発明は、こうした実状に鑑みてなされた
ものであり、このようなガス組成の変化に起因するスペ
クトル幅の変動を抑え、スペクトル幅を一定値に安定さ
せることによりレーザ装置の運転を安定して行わせるよ
うにすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】そこで、本発明の主たる
発明である請求項1に記載された発明では、ハロゲンガ
スを含むレーザガスがレーザチャンバ内に封入され、前
記レーザチャンバ内で放電を行うことにより前記レーザ
ガスを励起し、所定のスペクトル幅のレーザ発振光を出
力するエキシマレーザ装置において、 前記レーザチャ
ンバ内に前記ハロゲンガスを補給する補給手段と、前記
レーザ発振光のスペクトル幅を検出する検出手段と、前
記検出手段によって検出されたスペクトル幅に基づい
て、レーザ発振光のスペクトル幅が前記所定のスペクト
ル幅になるように前記補給手段により補給されるハロゲ
ンガスの補給量を制御する制御手段とを具えるようにし
ている。
【0020】
【作用】本発明者らの実験によれば、ハロゲンガス(フ
ッ素)の濃度とスペクトル幅との間に、図7に示すよう
な一定の関係があることを明かになった。
【0021】これは放電により形成されるレーザ利得領
域がガス組成により変化するために、結果的にスペクト
ル幅をも変化させているために起こるものと考えられ
る。したがって、こうしたスペクトル幅とフッ素濃度と
の間の所定の関係からフッ素濃度、つまりハロゲンガス
補給量を、スペクトル幅に応じて制御することで、所望
のスペクトル幅を得られることがわかる。
【0022】なお、図8に示すようにレーザ出力もフッ
素濃度に依存しているが、出力は電源電圧により調整で
きるほか、出力への影響の小さい極大領域(本実験条件
では約0.08%〜0.5%)で運転すれば、その影響
を無視できる程度に抑えることができる。
【0023】よって、この発明は、上述したようにハロ
ゲンの消費による出力低下を補償する目的で補給してい
るハロゲンガス補給量を、スペクトル幅の検出値によっ
て変化させ最適な補給量を得、これによりスペクトル幅
の変動を抑え、一定値を得、安定したレーザ出力を得よ
うとするものである。
【0024】
【実施例】以下、図面を参照して本発明に係るレーザ装
置におけるレーザガス補給装置の実施例について説明す
る。
【0025】・第1の実施例 図1は第1の実施例に係る実施例装置の構成を示すブロ
ック図であり、図2は図1の実施例装置で行われる補給
処理の処理手順を示すフローチャートである。まず、図
1に示すレーザ装置のガス注入回路について説明する
と、このガス注入回路は、NeやHe等のバッファガスで
希釈されたF2、HCl等のハロゲンガスが充填された
ボンベ8と、Kr、Xe、Ar等の希ガスが充填されたボ
ンベ9と、NeやHe等のバッファガスが充填されたボン
ベ10と、各ボンベ8〜10からレーザチャンバ4まで
の各ガスごとのガス供給路上に配設された各ガスごとの
注入開閉弁11、12、13とから構成されている。
【0026】なお、この図1のレーザ装置は、いわゆる
フッ素系エキシマレーザ装置を想定しており、ボンベ8
には、F2ガスとNeガスとが、F2:Ne=5:95
(%)の濃度割合で充填されており、また、ボンベ9に
はKrガスが充填されており、また、ボンベ10にはNe
ガスが充填されているものとする。なお、またボンベ
9、10を同一のボンベとし、予め希ガスとバッファガ
スとを所定の組成割合で混合、充填しておくようにして
もよい。
【0027】なお、バッファガスとしてNeガスを使用
した場合を想定しているが、もちろんHeガスを使用し
てもよいし、NeガスとHeガスとを任意の混合比で混ぜ
合わせたものをバッファガスとして使用してもよい。
【0028】また、実施例装置におけるガス補給回路
は、上記ボンベ8と、このボンベ8からレーザチャンバ
4へ至るまでのガスの供給路14上に配設された各種ガ
ス補給用開閉弁とから構成されている。この実施例装置
の場合、説明を簡略にするために、ガス補給用開閉弁
は、サブタンク15と、このサブタンク15の前後に直
列に配設された下流側開閉弁16および上流側開閉弁1
7とからなっているものとしているが、実際には、その
他、図示せぬ様々な微量流量制御弁が配設されているも
のとする。
【0029】また、実施例装置のガス排出回路は、真空
ポンプ20と、レーザチャンバ4から該真空ポンプ20
へ至るまでのガスの排出路18上に配設されたレーザチ
ャンバガス排気弁19とから構成されている。
【0030】また、各種ガスを注入する時期、ハロゲン
ガスを補給する時期、このハロゲンガスの補給量等に関
するデータは、図示せぬ入力手段より入力され、制御器
1に加えられる。
【0031】発振器2はパルス発振を行うための発振器
であり、この発振器2から発振信号が放電電源3に出力
される。放電電源3は、発振器2から出力される発振信
号に応じてレーザチャンバ3内の2つの電極間で放電を
行わせるものであり、制御器1から出力される指令充電
電圧Vaに応じた電圧で充電回路において一旦充電が行
われ、たとえばサイラトロン等のスイッチ素子の動作に
より放電を行う。この放電電源3における充電電圧Vは
所定のセンサで検出され、制御器1に加えられる。
【0032】レーザチャンバ4において放電が行われ、
レーザガスが励起されるとレーザ発振が行われ、発振さ
れたレーザ光は光共振器内で共振され、フロントミラー
から有効な発振レーザ光として出力される。なお、放電
は所定のパルス幅をもって所定の間隔で行われ、レーザ
光が断続的に出力される。
【0033】こうして発振されたレーザ光は出力モニタ
6に入射され、この出力モニタ6において出力レーザ光
のエネルギーE(以下「レーザ出力E」という)が検出
される。この検出されたレーザ出力Eは制御器1に加え
られる。
【0034】スペクトル幅モニタ7は、波長検出用のエ
タロンを中心として構成された波長線幅センサであり、
発振レーザ光のスペクトル幅Δλを検出し、これを制御
器1に加える。
【0035】圧力モニタ5は、レーザチャンバ3内のガ
スの圧力(全圧)PTを検出するセンサであり、検出さ
れた圧力PTは制御器1に加えられる。また、発振器2
から発振信号が出力されるごとに、1パルス発振された
ことを示す信号Pが制御器1に加えられる。
【0036】制御器1は、これら各モニタ等2、3、
6、7の出力に基づき後述するよう指令充電電圧Vaを
演算し、これを放電電源3に出力し、放電電圧を制御す
るとともに、圧力モニタ5の出力に基づき後述するよう
ハロゲンガス補給時におけるレーザチャンバ3からのガ
ス排出の際、レーザチャンバ4内の圧力が所定の一定圧
力になるように弁14、16、19の開閉を制御する。
また、制御器1はレーザの運転前におけるガス交換の
際、つまり各種レーザガスをボンベ8、9、10からレ
ーザチャンバ4内に注入する際に、弁11、12、13
の開閉を所要に制御してレーザチャンバ4内のガス組成
が所定の割合になるようにする。
【0037】ところで、このガス注入は以下のような手
順で行われる。
【0038】すなわち、レーザの運転起動前において、
まず、レーザチャンバ4内の旧ガスが上記ガス排出回路
によって排出される。
【0039】そして、ボンベ9からKrガスが40to
rrだけレーザチャンバ4内に導入され、つぎにボンベ
8からF2ガス(上述の通り、Neガスで希釈されてい
る)がレーザチャンバ4内に80torrだけ導入さ
れ、最後にレーザチャンバ4内の全圧が2500tor
rとなるように、ボンベ10からNeガスがレーザチャ
ンバ4内に導入される。この実施例装置の場合、レーザ
チャンバ4内のガス組成は、F2:Kr:Ne=4:4
0:2456(torr)、つまりF2:Kr:Ne=
0.16:1.60:98.24(%)の濃度割合とな
るようにされる。なお、各ボンベ8、9、10からのレ
ーザチャンバ4内への各ガスの導入に際しては、制御器
1は、圧力モニタ5の出力に基づきチャンバ4内圧力が
上記所定圧2500torrとなるよう各開閉弁11、
12、13を開閉制御する。
【0040】さて、前述したようにエキシマレーザ装置
の運転を継続していくと、運転の経過に伴いハロゲンガ
スが消費され、レーザ出力が低下する。このレーザ出力
は、レーザを励起するためにコンデンサに充電した電気
エネルギーを放電空間に投入してレーザ媒質ガスを活性
化させて得るため、このコンデンサへの充電電圧Vaを
制御することによって該レーザ出力を変化させることが
できる。すなわち、ハロゲンガスが消費しても、消費に
よる出力低下の相当分だけコンデンサへの充電電圧Va
を上げることによって該レーザ出力を一定に維持するこ
とができる。
【0041】そこで、この実施例では、充電電圧Vaに
関し最適制御充電電圧範囲Vc(Vmin〜Vmax)を予め
設定しておき、この充電電圧Vaがこの範囲を越えた場
合、つまりVa>Vmaxに至ると、ガス交換を行う必要
がある旨のアラーム信号を出力するようにしている。
【0042】なお、このガス補給時期や補給量は、上述
したように入力手段から入力されたデータに基づき決定
され、ガス補給は上記ガス補給回路によって行われ、ま
た、ガス補給時はその都度、レーザチャンバ4内の全圧
を所定圧力に維持されるよう、上記ガス排出回路によっ
て該レーザチャンバ4内のガスの一部が排出するように
している。
【0043】図2は、かかる補給処理の処理手順を示し
たものであり、目標レーザ出力Ec、最適制御充電電圧
範囲Vc(Vmin〜Vmax)、指令充電電圧増減量Δv
(絶対値)、1回分の補給ガス量ΔG(初期値)、目標
スペクトル幅Δλc、パルス数しきい値Pc、最適制御ガ
ス補給量範囲ΔGc(ΔGmin〜ΔGmax)、補給ガス増
減量Δg(絶対値)が入力データに基づき予め設定され
る(ステップ101)。なお、これら設定値Ec、Vc、
Δv、ΔG、Δλc、ΔPc、ΔGcとしては、マニュア
ル制御であれば、少なくとも必要時前に設定すればよ
く、上述のように最初に設定する必要はない。また、マ
イコンによる完全制御の場合には、これら設定値は、上
述のように最初に設定、記憶しておく必要がある。
【0044】つぎに、上記出力モニタ5、放電電源3、
発振器2およびスペクトル幅モニタ7より検出値E、
V、P、Δλが入力される(ステップ102)。
【0045】ついで、検出されたレーザ出力Eと目標レ
ーザ出力Ecとが比較され(ステップ103)、この比
較の結果、E<Ecであれば、つぎに検出されるレーザ
出力Eが目標レーザ出力Ecまで上昇するように、検出
された充電電圧Vに増減量Δvが加えられ、この加えら
れたものが指令充電電圧Vaとして放電電源3に出力さ
れる(ステップ104)。また、比較結果がE=Ecで
あれば、検出された充電電圧Vがそのまま指令充電電圧
Vaとして放電電源3に出力される(ステップ10
5)。また、比較結果がE>Ecであれば、つぎに検出
されるレーザ出力Eが目標レーザ出力Ecまで低下する
ように、検出された充電電圧Vから増減量Δvが減算さ
れ、この減算されたものが指令充電電圧Vaとして放電
電源3に出力される(ステップ106)。
【0046】ここで、この指令充電電圧Vaと最適制御
充電電圧範囲Vcの最大値Vmaxとが比較される。この結
果、Va≦Vmaxであり適正範囲内であれば、手順は再
びステップ102に移行され同様な処理が行われるが、
Va>Vmaxであれば、指令電圧が許容範囲外となった
ことを警告し、ガス交換を促すアラーム信号が出力さ
れ、オペレータに警告を与えるようにする。
【0047】一方、ステップ107では、新しいガスが
レーザチャンバ4内に注入された時点から現在までの累
算パルス数Pnがパルス発振Pをカウントすることによ
り検出されており(ステップ107)、この累算値Pn
としきい値Pcとが比較される(ステップ108)。こ
の比較の結果、累算パルス数Pnがしきい値Pc以下であ
れば、そのままガス補給をしなくても何等問題はないと
判断して再び手順はステップ102に移行される。しか
し、累算パルス数Pnがしきい値Pcに達した時点で、し
きい値Pcに対応する補給量ΔGだけガス補給が行われ
る。
【0048】このガス補給は以下のようにして行われ
る。
【0049】すなわち、弁16を閉じるとともに弁17
を開いて一定量の容積を有したサブタンク15内に希釈
ハロゲンガスを充填する。そして、充填されたならば、
弁16を開くとともに弁17を閉じてサブタンク15か
らハロゲンガスを排出してレーザチャンバ4内にガスを
供給する。かかる処理を所定回数だけ繰り返し行うこと
により所定量ΔGのガス補給が行われる(ステップ10
9)。なお、この補給の際、補給に伴いレーザチャンバ
4内の全圧は上昇するが、全圧PTは圧力モニタ5で検
出され、この検出値PTに基づきレーザチャンバ4内の
圧力が所定圧になるよう、バルブ19の開閉が制御され
る(ステップ110)。
【0050】さて、ここで上記ガスの補給量ΔGは、必
ずしもステップ101で設定された初期値であるとは限
らず、上記モニタ用のエタロン等を用いて測定されたス
ペクトル幅Δλに応じて可変するものである。
【0051】すなわち、検出されたスペクトル幅Δλと
目標スペクトル幅Δλcとが比較され(ステップ11
1)、この結果、Δλ<Δλcである場合には、つぎに
検出されるスペクトル幅Δλが目標スペクトル幅Δλc
まで広がるように補給量ΔGに対し所定増減量Δg(絶
対値)が加えられ、このΔgだけ増加した補給量ΔGが
レーザチャンバ4内に供給される(ステップ112)。
また、比較結果がΔλ>Δλcである場合には、つぎに
検出されるスペクトル幅Δλが目標スペクトル幅Δλc
まで狭まるように補給量ΔGから増減量Δgが減算さ
れ、このΔgだけ減少した補給量ΔGがレーザチャンバ
4内に補給される(ステップ114)。また、比較結果
がΔλ=Δλcである場合には、現在の補給量ΔGを増
減することなくレーザチャンバ4内に補給される(ステ
ップ113)。
【0052】このようにガス補給量ΔGの増減がなされ
ると、それに応じて上述したサブタンム15を用いた充
填、排出処理の回数が変化され、この変化された回数だ
け充填、排出する処理を行うことにより増減された補給
量ΔGのガスがレーザチャンバ4内に補給されることに
なる。
【0053】ここで、補給量ΔGに関しても制御可能な
範囲が最適制御ガス補給量範囲ΔGmin〜ΔGmaxとして
設定されており、現在の補給量ΔGがこの範囲にあるか
否かの判断がなされる。この結果、補給量ΔGが上記範
囲内であれば、レーザ光を用いた所定の処理(露光処理
等)が精度上問題がないとして、手順は再びステップ1
02に移行されるが、補給量ΔGが上記範囲外となった
場合には、色収差が問題になる等レーザ光を用いた処理
の精度の低下が招来するので、その旨のアラーム信号を
外部の制御装置(ステッパ制御装置)に出力する。この
結果、レーザ光を用いた処理を停止させる等所定の措置
をとることができる。
【0054】・第2の実施例 つぎに、他の実施例について図1、図2と同様な図3、
図4を用いて説明する。なお、図3において図1と同一
機能を有するものには同一符号を付けている。この実施
例装置では、ガス補給路14上に開閉弁21とマスフロ
ーコントローラ(質量流量制御装置)22とを配設する
ようにしている。なお、このマスフローコントローラ2
2は質量流量が所望の一定値となるようにガス補給路1
4を通過するガス量を制御するものである。
【0055】図4は、図3の装置において行われる補給
処理の処理手順を示したものであり、上述した第1の実
施例と同様に、目標レーザ出力Ec、最適制御充電電圧
範囲Vc(Vmin〜Vmax)、指令充電電圧増減量Δv
(絶対値)、1回分の補給ガス量ΔG(初期値)、目標
スペクトル幅Δλc、補給ガス増減量Δg(絶対値)、
最適制御ガス補給量範囲ΔGc(ΔGmin〜ΔGmax)が
入力データに基づき予め設定される(ステップ20
1)。
【0056】つぎに、上記出力モニタ5、放電電源3、
発振器2およびスペクトル幅モニタ7より検出値E、
V、P、Δλが入力される(ステップ202)。
【0057】ついで、検出されたレーザ出力Eと目標レ
ーザ出力Ecとが比較され(ステップ203)、この比
較の結果、E<Ecであれば、つぎに検出されるレーザ
出力Eが目標レーザ出力Ecまで上昇するように、検出
された充電電圧Vに増減量Δvが加えられ、この加えら
れたものが指令充電電圧Vaとして放電電源3に出力さ
れる(ステップ204)。また、比較結果がE=Ecで
あれば、検出された充電電圧Vをそのまま指令充電電圧
Vaとして放電電源3に出力される(ステップ20
5)。また、比較結果がE>Ecであれば、つぎに検出
されるレーザ出力Eが目標レーザ出力Ecまで低下する
ように、検出された充電電圧Vから増減量Δvが減算さ
れ、この減算されたものが指令充電電圧Vaとして放電
電源3に出力される(ステップ206)。
【0058】ここで、この指令充電電圧Vaと最適制御
充電電圧範囲Vcの最大値Vmaxとが比較される。この結
果、Va≦Vmaxであり適正範囲内であれば、手順は再
びステップ202に移行され同様な処理が行われる。ま
た、Va>Vmaxとなったときには、指令電圧が許容範
囲外となり、ガス交換を促すアラーム信号が出力され、
オペレータに警告を与えるようにする。
【0059】さて、この第2の実施例では、単位時間あ
たりの発振パルス数、つまり発振パルス速度f(P)に
比例した速度で補給が行われるマスフローコントローラ
22を用い希釈ハロゲンガスの補給を行なうにしてい
る。
【0060】すなわち、パルス発振Pに基づき現在の発
振時におけるパルス発振速度f(P)が演算されており
(ステップ207)、この速度f(P)に比例する補給
量ΔGをもってハロゲンガスがレーザチャンバ4内に補
給される。
【0061】このガス補給は以下のようにして行われ
る。
【0062】すなわち、弁21を開くとともに、マスフ
ロコントローラ22によりガス補給路14における流量
が上記速度f(P)に応じた一定値となるように流量を
制御する。したがって、弁21が一定時間開状態とさ
れ、上記流量をもってガスが補給されることにより、所
定量ΔGのガスがレーザチャンバ4内に補給されること
になる。
【0063】また、マスフロコントローラ22により制
御される流量を一定値に固定しておき、上記速度f
(P)に応じた時間だけ弁21を開状態にする制御も可
能である。この場合も、弁21の開時間と、マスフロー
コントローラ22により制御される流量とに応じて所定
量ΔGのガスがレーザチャンバ4内に補給されることに
なるれる(ステップ208)。なお、この補給の際、補
給に伴いレーザチャンバ4内の全圧は上昇するが、全圧
PTは圧力モニタ5で検出され、この検出値PTに基づき
レーザチャンバ4内の圧力が所定圧になるよう、バルブ
19の開閉が制御される(ステップ209)。
【0064】さて、ここで上記ガスの補給量ΔGは、必
ずしもステップ201で設定された初期値であるとは限
らず、上記モニタ用のエタロン等を用いて測定されたス
ペクトル幅Δλに応じて可変するものである。
【0065】すなわち、検出されたスペクトル幅Δλと
目標スペクトル幅Δλcとが比較され(ステップ21
0)、この結果、Δλ<Δλcである場合には、つぎに
検出されるスペクトル幅Δλが目標スペクトル幅Δλc
まで広がるように補給量ΔGに対し所定増減量Δg(絶
対値)が加えられ、このΔgだけ増加した補給量ΔGが
レーザチャンバ4内に供給される(ステップ211)。
また、比較結果がΔλ>Δλcである場合には、つぎに
検出されるスペクトル幅Δλが目標スペクトル幅Δλc
まで狭まるように補給量ΔGから増減量Δgが減算さ
れ、このΔgだけ減少した補給量ΔGがレーザチャンバ
4内に補給される(ステップ213)。また、比較結果
がΔλ=Δλcである場合には、現在の補給量ΔGを増
減することなくレーザチャンバ4内に補給される(ステ
ップ212)。
【0066】ここで、補給量ΔGに関しても制御可能な
範囲が最適制御ガス補給量範囲ΔGmin〜ΔGmaxが設定
範囲が設定されており、現在の補給量ΔGがこの範囲に
あるか否かの判断がなされる。この結果、補給量ΔGが
上記範囲内であれば、レーザ光を用いた所定の処理(露
光処理等)の精度上問題がないとして、手順は再びステ
ップ202に移行されるが、補給量ΔGが上記範囲外と
なった場合には、色収差が問題になる等レーザ光を用い
た処理の精度の低下が招来するので、その旨のアラーム
信号を外部の制御装置(ステッパ制御装置)に出力す
る。この結果、レーザ光を用いた処理を停止させる等所
定の措置をとることができる。
【0067】図5は上記実施例による制御を行った場合
の、運転ショット数に対するスペクトル幅Δλの変化の
様子を示すグラフであり、図6の従来技術と比較しても
わかるように常に安定した一定幅のスペクトルが得られ
ることがわかる。したがって、この実施例によればレー
ザ光を用いた処理を精度よく行うことができる。
【0068】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
スペクトル幅を検出し、この検出結果に基づきスペクト
ル幅が一定値になるようにガス補給量を制御するように
しているので、ガス組成の変化に起因するスペクトル幅
の変動が抑えられ、スペクトル幅を一定値に安定させる
ことができる。この結果、レーザ装置の運転が常に安定
して行われ、レーザ光を用いた処理が常に精度よく行わ
れる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は本発明に係るレーザ装置におけるレーザ
ガス補給装置の実施例の構成を示すブロック図である。
【図2】図2は図1の実施例装置で行われるガス補給処
理の処理手順を示すフローチャートである。
【図3】図3は図1と異なる実施例装置の構成を示すブ
ロック図である。
【図4】図4は図3の実施例装置で行われるガス補給処
理の処理手順を示すフローチャートである。
【図5】図5は実施例の効果を説明するために用いた、
運転ショット数とスペクトル幅との関係を示すグラフで
ある。
【図6】図6は従来技術における、運転ショット数とス
ペクトル幅との関係を示すグラフである。
【図7】図7はフッ素ガス濃度とスペクトル幅との関係
を示すグラフである。
【図8】図8はフッ素ガス濃度とレーザ出力との関係を
示すグラフである。
【符号の説明】
1 制御器 4 レーザチャンバ 7 スペクトル幅モニタ 8 ハロゲンガス用ボンベ 14 ガス補給路 15 サブタンク 16 開閉弁 17 開閉弁 21 開閉弁 22 マスフローコントローラ

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ハロゲンガスを含むレーザガスがレ
    ーザチャンバ内に封入され、前記レーザチャンバ内で放
    電を行うことにより前記レーザガスを励起し、所定のス
    ペクトル幅のレーザ発振光を出力するエキシマレーザ装
    置において、 前記レーザチャンバ内に前記ハロゲンガスを補給する補
    給手段と、 前記レーザ発振光のスペクトル幅を検出する検出手段
    と、 前記検出手段によって検出されたスペクトル幅に基づい
    て、レーザ発振光のスペクトル幅が前記所定のスペクト
    ル幅になるように前記補給手段により補給されるハロゲ
    ンガスの補給量を制御する制御手段とを具えたエキシマ
    レーザ装置におけるレーザガス補給装置。
  2. 【請求項2】 前記補給手段は、ガス交換により新
    しいレーザガスが前記レーザチャンバ内に封入されてか
    らの発振パルス数を累算し、この累算された発振パルス
    数が所定数に達した場合に、該所定数に対応する所定量
    のハロゲンガスを補給するものであり、前記制御手段
    は、検出されたスペクトル幅が前記所定のスペクトル幅
    よりも小さい場合には前記所定量を増加させ、検出され
    たスペクトル幅が前記所定のスペクトル幅よりも大きい
    場合には前記所定量を減少させるように前記所定量を変
    化させるものである請求項1記載のエキシマレーザ装置
    におけるレーザガス補給装置。
  3. 【請求項3】 所定容量のタンクが前記レーザチャ
    ンバとハロゲンガス供給源との間のガス供給路に設けら
    れ、前記補給手段は、前記ハロゲンガス供給源より前記
    タンク内に所定容量のガスを充填した後、このタンクよ
    り前記ガス供給路を介して前記レーザチャンバ内にハロ
    ゲンガスを供給する処理を所定回数行うことにより、前
    記所定量のハロゲンガスの補給を行うものであり、前記
    制御手段は、前記所定回数を変化させることにより前記
    所定量を変化させるものである請求項2記載のエキシマ
    レーザ装置におけるレーザガス補給装置。
  4. 【請求項4】 前記制御手段は、レーザ発振光の単
    位時間当たりの発振回数を演算し、この単位時間当たり
    の発振回数に比例して前記所定量を変化させるものであ
    る請求項1記載のエキシマレーザ装置におけるレーザガ
    ス補給装置。
  5. 【請求項5】 前記レーザチャンバとハロゲンガス
    供給源との間のガス供給路に定流量制御弁および供給路
    開閉弁が設けられ、前記制御手段は、前記開閉弁を所定
    時間だけ開状態にするとともに、前記演算された発振回
    数に応じて前記定流量制御弁により制御される定流量の
    流量値を変化させることにより前記所定量を変化させる
    ものである請求項4記載のエキシマレーザ装置における
    レーザガス補給装置。
  6. 【請求項6】 前記レーザチャンバとハロゲンガス
    供給源との間のガス供給路に定流量制御弁および供給路
    開閉弁が設けられ、前記制御手段は、前記開閉弁の弁開
    時間を変化させることにより前記所定量を変化させるも
    のである請求項4記載のエキシマレーザ装置におけるレ
    ーザガス補給装置。
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