JPS639183A - エキシマレ−ザのガス循環回路 - Google Patents
エキシマレ−ザのガス循環回路Info
- Publication number
- JPS639183A JPS639183A JP15139786A JP15139786A JPS639183A JP S639183 A JPS639183 A JP S639183A JP 15139786 A JP15139786 A JP 15139786A JP 15139786 A JP15139786 A JP 15139786A JP S639183 A JPS639183 A JP S639183A
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- Japan
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- gas
- fluorine concentration
- circulating circuit
- gas circulating
- concentration sensor
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- Pending
Links
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- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims abstract description 31
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 30
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/036—Means for obtaining or maintaining the desired gas pressure within the tube, e.g. by gettering, replenishing; Means for circulating the gas, e.g. for equalising the pressure within the tube
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、エキシマレーザに循環して用いられるレーザ
媒翁ガスの循環回路に関するものである０ 従来の技術 エキシマレーザはその動作中途々に出力が低下する。そ
の原因の１つに有機金属ガスによる不純物がレーザ媒質
ガス中に発生し、レーザ光を吸収してしまうことがあげ
られる。このためエキシマレーザにあってはその動作中
にときどき、おるいは定期的にガスを浄化して出力の安
定化を図らなければならない。
媒翁ガスの循環回路に関するものである０ 従来の技術 エキシマレーザはその動作中途々に出力が低下する。そ
の原因の１つに有機金属ガスによる不純物がレーザ媒質
ガス中に発生し、レーザ光を吸収してしまうことがあげ
られる。このためエキシマレーザにあってはその動作中
にときどき、おるいは定期的にガスを浄化して出力の安
定化を図らなければならない。
従来のエキシマレーザにおける上記出力の安定化を図る
手段としては、例えばラムダ・フイツスク（Ｌａｍｂｄ
ａ ｐｈｙｚｉｋ ）社製のエキシマレーザのように出
力をモニタし、この出力の変化に応じて新しいガスをレ
ーザヘッド部に供給し、及び電圧をコントロールするよ
うにしていた。
手段としては、例えばラムダ・フイツスク（Ｌａｍｂｄ
ａ ｐｈｙｚｉｋ ）社製のエキシマレーザのように出
力をモニタし、この出力の変化に応じて新しいガスをレ
ーザヘッド部に供給し、及び電圧をコントロールするよ
うにしていた。
発明が解決しようと問題点
従来にあっては上記レーザ媒質ガスがふっ素糸のガスの
場合でらっても出力だけをモニタしてふっ素ガス（Ｆ２
）を添加しているため、出力のコントロールが困難でお
った。最大出力を得るにはＭｔ適のふっ素濃度範囲があ
り、ふっ素嬢度が高すぎても出力は低下する。
場合でらっても出力だけをモニタしてふっ素ガス（Ｆ２
）を添加しているため、出力のコントロールが困難でお
った。最大出力を得るにはＭｔ適のふっ素濃度範囲があ
り、ふっ素嬢度が高すぎても出力は低下する。
また従来のエキシマレーザにめってはふっ素濃度を測足
していないため、ガス純化装置へ流れるレーザ媒質ガス
の流量及びガス又換負を瞬時に、かつ正確に制御するこ
とが困難でめつ友。
していないため、ガス純化装置へ流れるレーザ媒質ガス
の流量及びガス又換負を瞬時に、かつ正確に制御するこ
とが困難でめつ友。
ｒｏ１題点を解決するための手段及び作用本発明は上記
のことＫかんがみなされたもので、ガス循環回路の一部
にふっ素濃度センサを設置し、ガス中のふっ素濃度が所
定の値となるように制御するようにしたものである、 実施例 本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
のことＫかんがみなされたもので、ガス循環回路の一部
にふっ素濃度センサを設置し、ガス中のふっ素濃度が所
定の値となるように制御するようにしたものである、 実施例 本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
第１図はエキシマレーザのガス循環回路を示すもので、
ガスはプロア１、熱又換器２を経てレーザヘッド３内に
送給され、レーザヘッド３から出たガスは再びプロア１
に吸引されるようになっている。そしてレーザヘッド３
の出口とプロア１との間の回路４にフィルタ５とガス純
化装置６を介装したバイパス回路７が並列忙弁装しであ
る。そして上記ガスの劣化の具合に応じてガスを変換す
るＸ換回路ｇが上記バイパス回路７の下流側に接続しで
ある。
ガスはプロア１、熱又換器２を経てレーザヘッド３内に
送給され、レーザヘッド３から出たガスは再びプロア１
に吸引されるようになっている。そしてレーザヘッド３
の出口とプロア１との間の回路４にフィルタ５とガス純
化装置６を介装したバイパス回路７が並列忙弁装しであ
る。そして上記ガスの劣化の具合に応じてガスを変換す
るＸ換回路ｇが上記バイパス回路７の下流側に接続しで
ある。
上記ガス循環回路のプロア１の吸引側にふっ素濃度セン
サ７が接続されている。このふっ素嬢度七ンサ９は第３
図に示すよう罠なっていて、ふっ素イオ／溶液！０中に
ふっ素イオン極１１と参照極１２を対向して浸漬し、上
記ふっ素イオン溶液１０にガス流入管１３が開口してあ
り、容器１４の蓋１５に出口１６が設けである。上記ガ
ス流入管１３がガス循環回路のプロア１の吸引９に接続
しである。
サ７が接続されている。このふっ素嬢度七ンサ９は第３
図に示すよう罠なっていて、ふっ素イオ／溶液！０中に
ふっ素イオン極１１と参照極１２を対向して浸漬し、上
記ふっ素イオン溶液１０にガス流入管１３が開口してあ
り、容器１４の蓋１５に出口１６が設けである。上記ガ
ス流入管１３がガス循環回路のプロア１の吸引９に接続
しである。
この構成のふっ素濃度センサ９は、ふっ素イオン溶液１
０中の両電極Ｉ＋、１２間の電圧の変化によって溶液中
のふっ素濃度が検出される。
０中の両電極Ｉ＋、１２間の電圧の変化によって溶液中
のふっ素濃度が検出される。
なおふっ素濃度センサ９は上記構成のもの以外にも、５
ｉｎ４ とＦ、の光化学反応を利用したもの、あるい
は、分光光度計を利用し九もの等がある。
ｉｎ４ とＦ、の光化学反応を利用したもの、あるい
は、分光光度計を利用し九もの等がある。
上記ふっ素濃度センサ９にてガス循環回路内のガス中の
ふっ素濃度を検出し、その値をコントローラ１７に入力
し、このコントローラ１７にてガス変換回路８に接続し
たガス又換装ａｕｇを作動することによりガス循環回路
中のふっ素ｍ度−ｂ＜フィードバックコントロールされ
る。
ふっ素濃度を検出し、その値をコントローラ１７に入力
し、このコントローラ１７にてガス変換回路８に接続し
たガス又換装ａｕｇを作動することによりガス循環回路
中のふっ素ｍ度−ｂ＜フィードバックコントロールされ
る。
また上記コントローラ１７にてガス純化装置６へのガス
流量をコントロールするようにしてもよい。
流量をコントロールするようにしてもよい。
なお上記ガス純化装置６には低温型と高温型とがおり、
このうち、高温型のものはガス中のふっ素を吸収するよ
うになっているので、第２図に示すように、ガス純化装
置６の上流−と下流側に上記ふっ素濃度センナ９．．９
．金弁装して両センサ９１＋９１の検出値による濃度差
と流ｊｔＱによって上記ガス純化装置６の性能をチェッ
クすることができる。そしてガス純化装ａｈで吸収され
るふっ素の世はＱ ×（（−’＋ −Ｃ’ｓ ）、（た
だし、Ｃ，、Ｃ，はガス純化装置６の上、下流側１のふ
っ素濃度）で表わされ、この量の分だけガス変換を行な
う。さらに下流１ｕｌｌのセ／す９．により、この下流
側が所定のふっ素濃度となるようにガス交換量をフィー
ドバックコントロールする。
このうち、高温型のものはガス中のふっ素を吸収するよ
うになっているので、第２図に示すように、ガス純化装
置６の上流−と下流側に上記ふっ素濃度センナ９．．９
．金弁装して両センサ９１＋９１の検出値による濃度差
と流ｊｔＱによって上記ガス純化装置６の性能をチェッ
クすることができる。そしてガス純化装ａｈで吸収され
るふっ素の世はＱ ×（（−’＋ −Ｃ’ｓ ）、（た
だし、Ｃ，、Ｃ，はガス純化装置６の上、下流側１のふ
っ素濃度）で表わされ、この量の分だけガス変換を行な
う。さらに下流１ｕｌｌのセ／す９．により、この下流
側が所定のふっ素濃度となるようにガス交換量をフィー
ドバックコントロールする。
なお第２図に示す実施例の場合、プロア１の吸引側のふ
っ素濃度七ンサ９はあってもなくてもよい。
っ素濃度七ンサ９はあってもなくてもよい。
発明の効果
本発明によれば、ガス循環回路内のふ′：）累濃度′Ｉ
ｔ常に最適イ直にコントロールすることができ、そのた
めレーザ出力の低下分は電圧をただ上昇していくことＫ
よって出力の安定性を保つことができ、コントロールが
容量となる。またガス消費を最小限におさえることがで
き経済的でろるＯ
ｔ常に最適イ直にコントロールすることができ、そのた
めレーザ出力の低下分は電圧をただ上昇していくことＫ
よって出力の安定性を保つことができ、コントロールが
容量となる。またガス消費を最小限におさえることがで
き経済的でろるＯ
図面は本発明の実施例を示すもので、第１図、第２図は
異なる実施例を示すガス循環回路、第３図はふっ素濃度
七ンサの一例を示す断面図でおる。 １はプロア、３はレーザヘッド、９はふっ素濃度センサ
。
異なる実施例を示すガス循環回路、第３図はふっ素濃度
七ンサの一例を示す断面図でおる。 １はプロア、３はレーザヘッド、９はふっ素濃度センサ
。
Claims (1)
- エキシマレーザのレーザヘッド３にレーザ媒質ガスを循
環するガス循環回路にふつ素濃度センサ９を設けたこと
を特徴とするエキシマレーザのガス循環回路。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15139786A JPS639183A (ja) | 1986-06-30 | 1986-06-30 | エキシマレ−ザのガス循環回路 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15139786A JPS639183A (ja) | 1986-06-30 | 1986-06-30 | エキシマレ−ザのガス循環回路 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS639183A true JPS639183A (ja) | 1988-01-14 |
Family
ID=15517693
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15139786A Pending JPS639183A (ja) | 1986-06-30 | 1986-06-30 | エキシマレ−ザのガス循環回路 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS639183A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02228086A (ja) * | 1989-02-28 | 1990-09-11 | Central Glass Co Ltd | フッ素系エキシマレーザーの出力安定化制御方法およびその装置 |
| JPH0429386A (ja) * | 1990-05-24 | 1992-01-31 | Hitachi Ltd | エキシマレーザ装置 |
| EP0926785A1 (de) * | 1997-12-27 | 1999-06-30 | Trumpf GmbH & Co | Verfahren zur Steuerung einer Vorrichtung zum Lasergasaustausch an einem Gasentladungsraum einer Gaslaseranordnung sowie Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens |
-
1986
- 1986-06-30 JP JP15139786A patent/JPS639183A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02228086A (ja) * | 1989-02-28 | 1990-09-11 | Central Glass Co Ltd | フッ素系エキシマレーザーの出力安定化制御方法およびその装置 |
| JPH0429386A (ja) * | 1990-05-24 | 1992-01-31 | Hitachi Ltd | エキシマレーザ装置 |
| EP0926785A1 (de) * | 1997-12-27 | 1999-06-30 | Trumpf GmbH & Co | Verfahren zur Steuerung einer Vorrichtung zum Lasergasaustausch an einem Gasentladungsraum einer Gaslaseranordnung sowie Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens |
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