JPS6041276A - レ−ザ媒質ガス交換装置 - Google Patents
レ−ザ媒質ガス交換装置Info
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- JPS6041276A JPS6041276A JP14993683A JP14993683A JPS6041276A JP S6041276 A JPS6041276 A JP S6041276A JP 14993683 A JP14993683 A JP 14993683A JP 14993683 A JP14993683 A JP 14993683A JP S6041276 A JPS6041276 A JP S6041276A
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- JP
- Japan
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- laser
- laser medium
- gas
- medium gas
- vacuum
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- Pending
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/036—Means for obtaining or maintaining the desired gas pressure within the tube, e.g. by gettering, replenishing; Means for circulating the gas, e.g. for equalising the pressure within the tube
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明は、ガスレーザ発振器内に封入されたレーザ媒
質ガスを交換するための改良されたレーザ媒質ガス交換
装置に関するものである。
質ガスを交換するための改良されたレーザ媒質ガス交換
装置に関するものである。
従来この種のレーザ媒質ガス交換装置としては、第１図
に示すものがあった。第１図は従来のレーザ媒質ガス交
換装置を示す概略構成図である。図において、１は、例
えば３軸直変力式等の封じ切９方式のガスレーザ発振器
、２は真空ポンプ、３は真空ポンプ２の第１電磁弁、４
はレーザ媒質ガスボンベ、５はレーザ媒質ガスボンベ４
の第２電磁弁、６はガスレーザ発振器１内のレーザ媒質
ガスを所定の圧力に設定するためのブルドン管圧力計、
７はガスレーザ発振器１内の真空度を針側するためのピ
ラ二真空計、８及び９はそれぞれピラ二真空計７に付属
するアンプ及びメータ、１０は全体の系を制御するシー
ケンス制御装置、１１はレーザ発振器１より出力される
レーザ光である。
に示すものがあった。第１図は従来のレーザ媒質ガス交
換装置を示す概略構成図である。図において、１は、例
えば３軸直変力式等の封じ切９方式のガスレーザ発振器
、２は真空ポンプ、３は真空ポンプ２の第１電磁弁、４
はレーザ媒質ガスボンベ、５はレーザ媒質ガスボンベ４
の第２電磁弁、６はガスレーザ発振器１内のレーザ媒質
ガスを所定の圧力に設定するためのブルドン管圧力計、
７はガスレーザ発振器１内の真空度を針側するためのピ
ラ二真空計、８及び９はそれぞれピラ二真空計７に付属
するアンプ及びメータ、１０は全体の系を制御するシー
ケンス制御装置、１１はレーザ発振器１より出力される
レーザ光である。
次に、上記第１図の動作について説明する。通常、ガス
レーザ発振器１は、その内部に封入されるレーザ媒質ガ
スを約５０〜１５０ Ｔｏｒｒに設定してレーザ発振を
行い、レーザ光１１を外部に出力している。今、ガスレ
ーザ発振器１内のレーザ媒質ガスの圧力を所定の圧力の
設定値、例えば、第２図の特性図に示す１００ Ｔｏｒ
ｒになる様にブルドン管圧力計６によシ設定してレーザ
発振を行っている時、レーザ媒質ガスの圧力が下がシ、
レーザ発振効率の低下によシ、ガスレーザ発振器１内の
レーザ媒質ガスの交換を行う場合について述べる。
レーザ発振器１は、その内部に封入されるレーザ媒質ガ
スを約５０〜１５０ Ｔｏｒｒに設定してレーザ発振を
行い、レーザ光１１を外部に出力している。今、ガスレ
ーザ発振器１内のレーザ媒質ガスの圧力を所定の圧力の
設定値、例えば、第２図の特性図に示す１００ Ｔｏｒ
ｒになる様にブルドン管圧力計６によシ設定してレーザ
発振を行っている時、レーザ媒質ガスの圧力が下がシ、
レーザ発振効率の低下によシ、ガスレーザ発振器１内の
レーザ媒質ガスの交換を行う場合について述べる。
まず、ガスレーザ発振器１内のレーザ媒質ガスの交換開
始に際し、真空ポンプ２をＯＮ動作させて第１電磁弁３
を開放し、ガスレーザ発振器１内のガスを排気する。そ
して、ガスレーザ発振器１内が所定の高真空度に達した
時、これをビラニ真空計７にて計測して真空ポンプ２の
第１電磁弁３を閉成する。次いで、第２電磁弁５を開放
し、新しいレーザ媒質ガスを、レーザ媒質ガスボンベ４
から第２電磁弁５を通じてガスレーザ発振器１内に封入
する。上記した様な全体の系の制御は、シーケンス制御
装置１０によって自動的に制御され、これによシ、レー
ザ媒質ガスの交換処理が完了する。
始に際し、真空ポンプ２をＯＮ動作させて第１電磁弁３
を開放し、ガスレーザ発振器１内のガスを排気する。そ
して、ガスレーザ発振器１内が所定の高真空度に達した
時、これをビラニ真空計７にて計測して真空ポンプ２の
第１電磁弁３を閉成する。次いで、第２電磁弁５を開放
し、新しいレーザ媒質ガスを、レーザ媒質ガスボンベ４
から第２電磁弁５を通じてガスレーザ発振器１内に封入
する。上記した様な全体の系の制御は、シーケンス制御
装置１０によって自動的に制御され、これによシ、レー
ザ媒質ガスの交換処理が完了する。
従来のレーザ媒質ガス交換装置は以上の様に構成されて
いるが、ガスレーザ発振器１内のガスを真空ポンプ２に
よりυｊ：気する場合、通常、第２図の特性図に示す様
に、真空ポンプ２を約０．０１ ＴｏｒｒＯ高真空度の
設定値になるまで動作させて排気を行っておシ、この高
真空度の計測には非常に高価なピラニ真空計７を使用し
て実施する必要があシ、このため、レーザ媒質ガス交換
装置自体が極めて高価な装置となシ、また、ビラニ真空
計７はその構成が複雑で故障しやすいため、レーザ媒質
ガス交換装置としての信頼性が低下するなどの欠点があ
った。
いるが、ガスレーザ発振器１内のガスを真空ポンプ２に
よりυｊ：気する場合、通常、第２図の特性図に示す様
に、真空ポンプ２を約０．０１ ＴｏｒｒＯ高真空度の
設定値になるまで動作させて排気を行っておシ、この高
真空度の計測には非常に高価なピラニ真空計７を使用し
て実施する必要があシ、このため、レーザ媒質ガス交換
装置自体が極めて高価な装置となシ、また、ビラニ真空
計７はその構成が複雑で故障しやすいため、レーザ媒質
ガス交換装置としての信頼性が低下するなどの欠点があ
った。
この発明は、上記の様な従来のものの欠点を改善する目
的でなされたもので、ガスレーザ発振器内に所定の圧力
のレーザ媒質ガスを封入し、一定時間レーザ発振させた
後に、真空ポンプを作動させ、前記ガスレーザ発振器内
が高真空になるまで前記レーザ媒質ガスを排気し、代ｐ
に新しいレーザ媒質ガスを封入して繰ｐ返しレーザ発振
を行うガスレーザ装置において、タイマを具（Ｊｉａｌ
、、、このタイマによシ、前記真空ポンプの能力によっ
て決まる高真空度達成時間をあらかじめ設定し、かっこ
の真空ポンプを作動させる様にして成る構成を有し、高
価な真空計を用いることなく、装置自体を安価に構成で
き、高い信頼性を備えるレーザ媒質ガス交換装置を提供
するものである。
的でなされたもので、ガスレーザ発振器内に所定の圧力
のレーザ媒質ガスを封入し、一定時間レーザ発振させた
後に、真空ポンプを作動させ、前記ガスレーザ発振器内
が高真空になるまで前記レーザ媒質ガスを排気し、代ｐ
に新しいレーザ媒質ガスを封入して繰ｐ返しレーザ発振
を行うガスレーザ装置において、タイマを具（Ｊｉａｌ
、、、このタイマによシ、前記真空ポンプの能力によっ
て決まる高真空度達成時間をあらかじめ設定し、かっこ
の真空ポンプを作動させる様にして成る構成を有し、高
価な真空計を用いることなく、装置自体を安価に構成で
き、高い信頼性を備えるレーザ媒質ガス交換装置を提供
するものである。
以下、この発明の実施例を図について説明する。
第３図はこの発明の一実施例であるレーザ媒質ガス交換
装置を示す概略構成図で、第１図と同一部分は同一符号
を用いて表示してあシ、その詳細な説明は省略する。図
において、１２はタイマであシ、このタイマ１２は真空
ポンプ２の能力によって決まる高真空度達成時間にあら
かじめ設定するものである。また、第３図に示すものに
は、上記第１図に示すものに設けられたピラニ真空計７
と、これに付属するアンプ８及びメータ９は存在してお
らず、その他の構成については、上記第１図に示すもの
と同様に構成されている。
装置を示す概略構成図で、第１図と同一部分は同一符号
を用いて表示してあシ、その詳細な説明は省略する。図
において、１２はタイマであシ、このタイマ１２は真空
ポンプ２の能力によって決まる高真空度達成時間にあら
かじめ設定するものである。また、第３図に示すものに
は、上記第１図に示すものに設けられたピラニ真空計７
と、これに付属するアンプ８及びメータ９は存在してお
らず、その他の構成については、上記第１図に示すもの
と同様に構成されている。
次に、上記第３図の動作について説明する。今、ガスレ
ーザ発振器１内のレーザ媒質ガスを新しいレーザ媒質に
交換する場合、まず、真空ポンプ２をＯＮ動作させて第
１電磁弁３を開放し、ガスレーザ発振器１内のガスを排
気する。ここで、タイマ１２のセット時間を、真空ポン
プ２の能力によって決まる高真空度達成時間にあらかじ
め設定して置くと、この様な高真空度の設定値である、
例えば約０．０１ Ｔｏｒｒの高真空度の設定値におい
てタイマ１２はＯＮ動作し、真空ポンプ２の作動を停止
させると同時に第１電磁弁３を閉成する。次いで、第２
電磁弁５を開放し、新しいレーザ媒質ガスを、レーザ媒
質ガスボンベ４から第２電磁弁５を通じてガスレーザ発
振器１内に封入する。上記した様な全体の系の制御は、
シーケンス制御装置１０によって自動的に制御され、こ
れによシ、レーザ媒質ガスの交換処理が完了する。
ーザ発振器１内のレーザ媒質ガスを新しいレーザ媒質に
交換する場合、まず、真空ポンプ２をＯＮ動作させて第
１電磁弁３を開放し、ガスレーザ発振器１内のガスを排
気する。ここで、タイマ１２のセット時間を、真空ポン
プ２の能力によって決まる高真空度達成時間にあらかじ
め設定して置くと、この様な高真空度の設定値である、
例えば約０．０１ Ｔｏｒｒの高真空度の設定値におい
てタイマ１２はＯＮ動作し、真空ポンプ２の作動を停止
させると同時に第１電磁弁３を閉成する。次いで、第２
電磁弁５を開放し、新しいレーザ媒質ガスを、レーザ媒
質ガスボンベ４から第２電磁弁５を通じてガスレーザ発
振器１内に封入する。上記した様な全体の系の制御は、
シーケンス制御装置１０によって自動的に制御され、こ
れによシ、レーザ媒質ガスの交換処理が完了する。
上記した様に構成されたこの発明の一実施例でアルレー
ザ媒質ガス交換装置では、ガスレーザ発振器１における
所定の大きさの真空容器に対し、真空ポンプ２をＯＮ動
作させてから、この真空ボンプ２の能力によって決まる
高真空度に達するまでの時間が一定であることを利用し
、この時間にタイマ１２のセット時間を設定することに
よシ、ガスレーザ発振器１内を所定の高真空度の設定値
に排気させることができる。しかして、この排気処理は
、上記した従来例の第１図に示す様な高価なピラ二真空
計７を使用することなく、タイマ１２と、シーケンス制
御装置１０等により自動的に、かつ簡単に制御すること
が可能である。
ザ媒質ガス交換装置では、ガスレーザ発振器１における
所定の大きさの真空容器に対し、真空ポンプ２をＯＮ動
作させてから、この真空ボンプ２の能力によって決まる
高真空度に達するまでの時間が一定であることを利用し
、この時間にタイマ１２のセット時間を設定することに
よシ、ガスレーザ発振器１内を所定の高真空度の設定値
に排気させることができる。しかして、この排気処理は
、上記した従来例の第１図に示す様な高価なピラ二真空
計７を使用することなく、タイマ１２と、シーケンス制
御装置１０等により自動的に、かつ簡単に制御すること
が可能である。
この発明は以上説明した様に、レーザ媒質ガス交換装置
にタイマを具備し、このタイマによシ、真空ポンプの能
力によって決まる高真空度達成時間をあらかじめ設定し
、かつこの真空ポンプを作動させる様に構成したので、
従来のこの種のレーザ媒質ガス交換装置において設けら
れたピラ二真空計等の高価な真空計を何ら使用すること
なく、単に、タイマを備えた簡単な構成によりレーザ媒
質ガスの交換処理を容易に、かつ精度良〈実施すること
ができる上に、装置自体を極めて安価に構 ７− 成できる効果がある。また、ピラ二真空計等の複雑々構
成で故障しやすい真空計を用いないために、装置の信頼
性を著しく向上させることができるという優れた効果を
奏するものである。
にタイマを具備し、このタイマによシ、真空ポンプの能
力によって決まる高真空度達成時間をあらかじめ設定し
、かつこの真空ポンプを作動させる様に構成したので、
従来のこの種のレーザ媒質ガス交換装置において設けら
れたピラ二真空計等の高価な真空計を何ら使用すること
なく、単に、タイマを備えた簡単な構成によりレーザ媒
質ガスの交換処理を容易に、かつ精度良〈実施すること
ができる上に、装置自体を極めて安価に構 ７− 成できる効果がある。また、ピラ二真空計等の複雑々構
成で故障しやすい真空計を用いないために、装置の信頼
性を著しく向上させることができるという優れた効果を
奏するものである。
第１図は従来のレーザ媒質ガス交換装置を示す概略構成
図、第２図は、第１図のレーザ媒質ガス交換装置におけ
る真空ポンプの高真空度設定値とその作動時間との関係
を示す特性図、第３図はこの発明の一実施例であるレー
ザ媒質ガス交換装置を示す概略構成図である。 図において、１・・・ガスレーザ発振器、２・・・真空
ポンプ、３・・・第１電磁弁、４・・・レーザ媒質ガス
ボンベ、５・・・第２電磁弁、６・・・ブルドン管圧力
計、７・・・ピラ二真空計、８・・・アンプ、９・・・
メータ、１０・・・シーケンス制御装置、１１・・・レ
ーザ光、１２・・・タイマである。 なお、各図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。 代理人 大岩増雄 ８− ０ 箪 ２５ 第 ３１！！ 手続補正書（自発） ５９６１４ 昭和 年 月 日 １、事件の表示 特願昭５８−１４９９３６号２、発明
の名称 レーザ媒質ガス交換装置３、補正をする者 代表者片由仁へ部 （ｊ＋１！９、′Ｘ先 ０３ぐ２１シ）＝＋、ニア４４
）、”、’、−：’、’７１）５、補正の対象 明細書
の「発明の詳細な説明」の欄。 ６、補正の内容 （１） 明細書第３頁第４行目の「が下がり、」を、「
が劣化し、」と補正する。 ２− ４００
図、第２図は、第１図のレーザ媒質ガス交換装置におけ
る真空ポンプの高真空度設定値とその作動時間との関係
を示す特性図、第３図はこの発明の一実施例であるレー
ザ媒質ガス交換装置を示す概略構成図である。 図において、１・・・ガスレーザ発振器、２・・・真空
ポンプ、３・・・第１電磁弁、４・・・レーザ媒質ガス
ボンベ、５・・・第２電磁弁、６・・・ブルドン管圧力
計、７・・・ピラ二真空計、８・・・アンプ、９・・・
メータ、１０・・・シーケンス制御装置、１１・・・レ
ーザ光、１２・・・タイマである。 なお、各図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。 代理人 大岩増雄 ８− ０ 箪 ２５ 第 ３１！！ 手続補正書（自発） ５９６１４ 昭和 年 月 日 １、事件の表示 特願昭５８−１４９９３６号２、発明
の名称 レーザ媒質ガス交換装置３、補正をする者 代表者片由仁へ部 （ｊ＋１！９、′Ｘ先 ０３ぐ２１シ）＝＋、ニア４４
）、”、’、−：’、’７１）５、補正の対象 明細書
の「発明の詳細な説明」の欄。 ６、補正の内容 （１） 明細書第３頁第４行目の「が下がり、」を、「
が劣化し、」と補正する。 ２− ４００
Claims (1)
- ガスレーザ発振器内に所定の圧力のレーザ媒質ガスを封
入し、一定時間レーザ発振をさせた後に、真空ポンプを
作動させ、前記ガスレーザ発振器内が高真空になるまで
前記レーザ媒質ガスを排気し、代シに新しいレーザ媒質
ガスを封入して繰シ返しレーザ発振を行うガスレーザ装
置において、タイマを具備し、このタイマによシ、前記
真空ポンプの能力によって決まる高真空度達成時間をあ
らかじめ設定し、かつこの真空ポンプを作動させる様に
して成ることを特徴とするレーザ媒質ガス交換装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14993683A JPS6041276A (ja) | 1983-08-17 | 1983-08-17 | レ−ザ媒質ガス交換装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14993683A JPS6041276A (ja) | 1983-08-17 | 1983-08-17 | レ−ザ媒質ガス交換装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6041276A true JPS6041276A (ja) | 1985-03-04 |
Family
ID=15485800
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14993683A Pending JPS6041276A (ja) | 1983-08-17 | 1983-08-17 | レ−ザ媒質ガス交換装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6041276A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01100984A (ja) * | 1987-10-14 | 1989-04-19 | Nissin Electric Co Ltd | エキシマレーザ装置のガス充填方法 |
| US4935937A (en) * | 1987-03-19 | 1990-06-19 | Fanuc Ltd. | Abnormality detection device for laser oscillator piping system |
| US5857494A (en) * | 1994-04-27 | 1999-01-12 | Tokyo Gas Kabushiki Kaisha | Pipeline structure with a lining material, an end structure of said pipeline and a method for applying a lining material to a pipeline |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54140891A (en) * | 1978-04-24 | 1979-11-01 | Nec Corp | Ion laser unit |
| JPS5723288A (en) * | 1980-07-16 | 1982-02-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Laser device |
-
1983
- 1983-08-17 JP JP14993683A patent/JPS6041276A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54140891A (en) * | 1978-04-24 | 1979-11-01 | Nec Corp | Ion laser unit |
| JPS5723288A (en) * | 1980-07-16 | 1982-02-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Laser device |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4935937A (en) * | 1987-03-19 | 1990-06-19 | Fanuc Ltd. | Abnormality detection device for laser oscillator piping system |
| JPH01100984A (ja) * | 1987-10-14 | 1989-04-19 | Nissin Electric Co Ltd | エキシマレーザ装置のガス充填方法 |
| US5857494A (en) * | 1994-04-27 | 1999-01-12 | Tokyo Gas Kabushiki Kaisha | Pipeline structure with a lining material, an end structure of said pipeline and a method for applying a lining material to a pipeline |
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