JPH06319947A - エッチング排ガス除害剤及びその使用方法 - Google Patents
エッチング排ガス除害剤及びその使用方法Info
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- JPH06319947A JPH06319947A JP5132593A JP13259393A JPH06319947A JP H06319947 A JPH06319947 A JP H06319947A JP 5132593 A JP5132593 A JP 5132593A JP 13259393 A JP13259393 A JP 13259393A JP H06319947 A JPH06319947 A JP H06319947A
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Abstract
に含まれる有害なハロゲン含有物質を、無害で加水分解
し難い化合物に変えることができるエッチング排ガス除
害剤を提供する。またこの除害剤の使用方法を提供す
る。 【構成】 酸化鉄及び酸化マンガンからなる組成物を主
成分として含むエッチング排ガス除害剤。エッチング排
ガスを、この除害剤を充填した層に通し、次いで金属酸
化物を担持した活性炭を充填した層に通すエッチング排
ガス除害剤の使用方法。
Description
排出されるエッチング排ガスから有害物を除去するため
の処理に適した除害剤、及びこのエッチング排ガスから
有害物を除去するための除害剤の使用方法に関する。
ば、アルミニウムのドライエッチング用に、三塩化ホウ
素、四塩化ケイ素、塩素、臭化水素等の無機系ハロゲン
化合物ガスやこれらのガスと有機系ハロゲン化炭化水素
との混合ガスが多量に利用されている。
からは、例えば、BCl3 、Cl2、SiCl4 、HC
l、HBr、HF、BBr3 、Br2 、SF6 等の無機
ハロゲン含有化合物ガスやこれらのガスと有機ハロゲン
含有化合物ガスとの混合ガスからなるエッチング工程か
らの排ガス(以下、単に「エッチング排ガス」と言うこ
とがある)が排出される。
一因となることから、大気中への放出は厳しく規制され
ている。また、三塩化ホウ素は空気中の水分等と接触す
るとH3 BO3 の粉末を生じ、この粉末が堆積して真空
ポンプの排出口やダクト配管を閉塞する恐れがあり、H
3 BO3 の粉末を生じる前に三塩化ホウ素を除去してお
くことが半導体製造装置の保守の面からも必要である。
有害なハロゲン含有物質のガスを除去するために、エッ
チング排ガスを、活性炭や金属酸化物(例えば、CuO
及びZnO)を担持させた活性炭のような吸着剤を充填
した吸着塔のような吸着装置に通して、ハロゲン含有物
質ガスを吸着剤に吸着させることによって、エッチング
排ガスからハロゲン含有物質を除去する方法が行われて
いる。
用する方法は、吸着剤に捕捉されたハロゲン含有物質が
変化することなくそのまま物理的に吸着剤に結合してい
るので、次のような問題点を有している。処理条件に
よってハロゲン含有物質が吸着剤から脱着することがあ
り、破過までの吸着剤の処理能力が低下する恐れがあ
る。加水分解するハロゲン含有物質、特に三塩化ホウ
素、四塩化ケイ素等が吸着されている場合には、水分を
含む空気等が多量に吸着装置内に入ったとき、このよう
なハロゲン含有物質が水と反応して発熱し、吸着装置内
の温度が上昇し、吸着剤に吸着している物質の脱着を生
じさせ、破過までの吸着剤の処理能力が低下する。更
に、場合によっては、吸着装置の損傷、火災等に至る恐
れがある。吸着装置の運搬時に装置が破損して吸着剤
が外に出た場合、ハロゲン含有物質が脱着し環境を汚染
することがある。
のエッチング排ガスからのハロゲン含有物質の除去方法
が有する上記のような問題点のない新規なエッチング排
ガス除害剤及びこの除害剤の使用方法を提供することに
ある。
を達成する方法について鋭意研究した結果、エッチング
排ガス中のハロゲン含有物質を化学的に安定な化合物、
例えば、加水分解し難い物質に容易に変性して捕捉する
ことができる材料を見出し、この材料を使用してエッチ
ング排ガスを処理することによって、従来の吸着作用を
利用する方法が有する問題点を解決することが可能にな
った。
量部の鉄化合物及びMnOとして5〜80重量部のマン
ガン化合物からなる組成物を主成分として含むことを特
徴とする、エッチング排ガス除害剤にある。
3 として20〜95重量部の鉄化合物及びMnOとして
5〜80重量部のマンガン化合物からなる組成物を主成
分として含む除害剤を充填した層に通し、次いで金属酸
化物を担持した活性炭を充填した層に通すことを特徴と
する、エッチング排ガス除害剤の使用方法にある。
の合計量100重量部に対して、10〜50重量部のS
iO2 及び/又はAl2 O3 を含有する上記のエッチン
グ排ガス除害剤及びエッチング排ガス除害剤の使用方
法。
uO及びZnOを担持した活性炭である上記のエッチン
グ排ガス除害剤及びエッチング排ガス除害剤の使用方
法。
ついて説明する。
単に「除害剤」と言うことがある)は、Fe2 O3 、M
nOとしての合計量を100重量部としたとき、Fe2
O3として20〜95重量部(好ましくは、70〜94
重量部)の鉄化合物、及びMnOとして5〜80重量部
(好ましくは、6〜30重量部)のマンガン化合物から
なる組成物を主成分として含むものである。本発明の除
害剤は多孔質であることが好ましく、ペレット状、タブ
レット状、球状等の形状を有する成形物であることが好
ましい。
であるが、他の鉄酸化物例えば、FeO、Fe3 O4 等
の形態のものや水酸化鉄がFe2 O3 基準で25重量%
程度以下含まれていてもよい。また、マンガン化合物は
MnO、Mn2 O3 や水酸化マンガン等の混合物であ
る。
重量%のSiO2 及び/又はAl2O3 が含まれていて
もよい。更に、本発明の除害剤には、メチルエチルセル
ロースのような有機物バインダーが除害剤の5重量%以
下含まれていてもよい。これらの物質は除害剤を成形す
る際の成形助剤として機能する。
測定したとき、50m2 /g以上、好ましくは150m
2 /g以上の表面積を有することが好ましい。また、本
発明の除害剤は、ポロシメーター法により測定したと
き、0.1〜0.8ml/gの細孔容積を有することが
好ましい。本発明の除害剤の平均粒径は、エッチング排
ガスの処理に使用する際の充填層の充填密度、エッチン
グ排ガスを通すときの圧力損失等を考慮して、0.5〜
5mmであることが好ましい。
は塩及びマンガンの酸化物又は塩を水中で混合し、鉄及
びマンガンの塩を水酸化物に変え、濾過、水洗、乾燥を
行った後、150〜450℃の温度で焼成し、焼成物に
所望によりシリカ、アルミナ、有機物バインダー等を添
加し、混練、成形(造粒)及び乾燥を行って製造するこ
とができる。
が、硫酸鉄、塩化鉄等の無機酸の塩であることが好まし
く、それを目的として製造されたものでもよく、また例
えば、鉄板を硫酸、塩酸等で酸処理したときの廃液に含
まれる鉄の塩を使用することもできる。また、上記のマ
ンガンの塩としては特に限定されないが、硫酸マンガ
ン、塩化マンガン等の無機酸の塩であることが好まし
く、それを目的として製造されたものでもよく、また例
えば、チタン鉄鉱を硫酸処理したときの廃液に含まれる
マンガンの塩を使用することもできる。
触したとき、エッチング排ガス中に含まれる前記のよう
なハロゲン含有物質と化学的に反応して、ハロゲン含有
物質を無害な化合物又は従来の吸着剤で容易に捕捉し得
る化合物に変える機能を有している。
iCl4 のようなハロゲン化物である場合には、Fe2
O3 やMnOの触媒作用によりハロゲン化物のハロゲン
はハロゲンイオンになった後、Fe2 O3 と反応してF
eCl3 になったり、MnOと反応してMnCl2 にな
ったりして無害な化合物に変わる。同時にホウ素やケイ
素はそれらの酸化物に変わる。
ハロゲン化水素である場合には、Fe2 O3 やMnOと
反応して上記のような無害な化合物に変わる。
ハロゲン分子である場合には、エッチング排ガス中の水
と反応してハロゲン化水素に変わり上記のようにして無
害な化合物に変わったり、Fe2 O3 やMnOの触媒作
用によりハロゲン化物のハロゲンはハロゲンイオンにな
った後、Fe2 O3 やMnOと反応して上記のような無
害な化合物に変わる。
化鉄は、ハロゲン化物及びハロゲン分子のハロゲンをイ
オン化させるための触媒として機能すると共に、ハロゲ
ンイオンの捕捉剤としても機能する。また、酸化マンガ
ンは酸化鉄の機能を増大させる役割を果たすものである
が、同時にハロゲンイオンの捕捉剤として機能する。
用方法について添付する図面を参照して説明する。
法(以下、単に「除害剤の使用方法」と言うことがあ
る)は、前記のように半導体製造装置等からのエッチン
グ排ガスを、本発明の除害剤を充填した層に通し、次い
で金属酸化物を担持した活性炭を充填した層に通すこと
によりエッチング排ガスを処理する際に本発明の除害剤
を使用する方法である。
施例で使用する排ガス処理装置の主要部の概略を模式的
に示す断面図である。図1に於て、充填塔1の中には、
下層として本発明の除害剤を充填した除害剤充填層2
と、上層として金属酸化物を担持した活性炭を充填した
活性炭充填層3とが形成されている。半導体製造装置
(図示せず)からのエッチング排ガスは、管4を通って
充填塔1の下部に導入され、除害剤充填層2及び活性炭
充填層3を通過して充填塔1の上部から排出され、管5
を経てガス検出器6に導かれ、管7から排出される。
来エッチング排ガスに含まれるハロゲン含有物質を吸着
するために使用されている活性炭であってよく、特にC
uO及びZnOを担持した活性炭であることが好まし
い。活性炭充填層3には金属酸化物を担持させた活性炭
に、他物質を担持させない活性炭を混入してもよい。
まれる酸性ガスや塩素ガスと反応して変色するガス検出
試薬が充填されている。ガス検出試薬は種々のものが知
られており、任意に選択し使用できる。
ら充填塔1内に導入されたエッチング排ガスは、除害剤
充填層2を上方に通過する間に、エッチング排ガスに含
まれているハロゲン含有物質ガスが除害剤と接触し、前
記のような除害剤に含まれている酸化鉄及び酸化マンガ
ンの作用により、化学反応して無害な化合物に変わる。
こうしてエッチング排ガスが除害剤充填層2を上昇する
間にエッチング排ガス中に含まれている有害なハロゲン
含有物質は除去され活性炭充填層3に入る。
グ排ガス中に元々含まれていたハロゲン化水素及びハロ
ゲン含有物質と除害剤との反応で生じたハロゲン化水素
のうち、除害剤と反応しなかったハロゲン化水素が含ま
れており、このハロゲン化水素は活性炭に担持されてい
る金属酸化物と反応して金属ハロゲン化物に変わるか又
は活性炭に吸着される。このように、活性炭充填層3に
入るガス中には、ハロゲン化水素以外の有害なハロゲン
含有物質(三塩化ホウ素等)は実質的に含まれていない
ので、従来の吸着作用を利用するエッチング排ガス処理
法が有している問題点は生じない。
剤充填層の温度が0〜90℃の範囲内であるような条件
下で行う。また、充填塔入口でのエッチング排ガスの圧
力が、大気圧より充填塔内を通過させるに必要な僅かに
高い圧力であるような条件が一般的であるが、より高い
圧力又はより低い圧力であってもよい。
活性炭を含む活性炭の充填量との比率は、除害剤の組
成、エッチング排ガス中のハロゲン含有物質の組成及び
含有量等により変わるので一律に定めることはできない
が、当業者が実験的に容易に決定することができる。
填塔に設けてもよい。
詳細に説明する。
水酸化ナトリウムで中和して得られる鉄化合物をFe2
O3 として50重量%含むスラッジ500重量部と、チ
タン鉄鉱硫酸処理廃液を水酸化カルシウムで中和、濾過
及び水洗して得られる、Fe2 O3 、MnO、CaSO
4 、SiO2 及びAl2 O3 を含むスラッジ1000重
量部との混合物に、メチルセルロース20重量部を添加
し、混合物を混練し、4mm径で押し出し、5mm長さ
に切断し、130℃で乾燥し、そして350℃で焼成し
て、約700重量部の除害剤ペレットを製造した。
あった。 Fe2 O3 50.0重量% MnO 5.4重量% SiO2 14.9重量% Al2 O3 6.7重量% CaSO4 23.0重量%
る表面積は171m2 /gであり、ポロシメーター法に
よる細孔容積は0.125ml/gであった。
g及び硫酸マンガン(II)水和物240gを50リット
ルの水に溶解し、この溶液に炭酸ナトリウム1378g
を含む水溶液50リットルを、室温で2時間で加えた。
混合液を濾過し、濾滓を水洗し、乾燥した後、350℃
で焼成して焼成物800gを得た。この焼成物に水32
0g及びシリカアルミナ系の成形助剤400gを加え、
以下実施例1に於けると同様に混練、押出し、切断、乾
燥を行って、除害剤ペレット1200gを製造した。
あった。 Fe2 O3 62.9重量% MnO 5.6重量% SiO2 15.8重量% Al2 O3 15.7重量%
る表面積は197m2 /gであり、ポロシメーター法に
よる細孔容積は0.131ml/gであった。
m、長さ400mmのガラス管を使用し、図1に示すよ
うに組み立てた(但し、ガス検出器は使用せず)排ガス
処理装置を使用して、表1に示す種々の組成を有するガ
スを処理した。充填塔には下層として実施例1で得られ
た除害剤ペレット(充填剤A)を充填し、上層としてC
uO及びZnOをそれぞれ8.1重量%及び8.1重量
%担持した活性炭(武田薬品工業株式会社製、XRC)
(充填剤B)を充填した。充填剤A及び充填剤Bの合計
充填量は707mlであり、充填剤A:充填剤Bの体積
比率は1:4にした。
を有する処理ガス(23℃)を770〜780ml/分
の速度で送入した。充填塔の上部から排出された排出ガ
ス中の捕捉対象ガスの濃度が1ppmになった時点で、
充填塔への処理ガスの送入を停止し、充填剤A及び充填
剤Bの合計重量を測定した。
算出した。 P=(W1 −W0 )/W0 (但し、W0 は、処理ガスの送入開始前の充填剤A及び
充填剤Bの合計重量を表し、W1 は、排出ガス中の捕捉
対象ガスの濃度が1ppmになった時点での充填剤A及
び充填剤Bの合計重量を表す)。
剤の処理能力を示す。
層の充填剤Aの代わりに、活性炭(クラレケミカル株式
会社製、4GS)を使用した他は、実施例3に於けると
同様の装置を使用し同様に実施して、表1に示す種々の
組成を有するガスを処理して、充填剤の処理能力を測定
した。。
剤の処理能力を示す。
らのエッチング排ガス中に含まれる前記のようなハロゲ
ン含有物質を、化学反応により無害で加水分解し難い化
合物又は従来の吸着剤で容易に捕捉し得る化合物に変え
ることができる。従って、本発明の除害剤の使用方法は
エッチング排ガスを処理した場合、エッチング排ガス中
に多量の水分が含まれる場合でも処理装置の発熱が小さ
く、装置の損傷、火災等が起きる危険が少なく、処理装
置から充填剤が外部に出た場合でも、前記のようなハロ
ゲン含有物質が脱着して環境を汚染する恐れが少ないと
いう顕著な効果を奏する。
る排ガス処理装置の主要部の概略を模式的に示す断面図
である。
Claims (2)
- 【請求項1】 Fe2 O3 として20〜95重量部の鉄
化合物及びMnOとして5〜80重量部のマンガン化合
物からなる組成物を主成分として含むことを特徴とす
る、エッチング排ガス除害剤。 - 【請求項2】 エッチング排ガスを、Fe2 O3 として
20〜95重量部の鉄化合物及びMnOとして5〜80
重量部のマンガン化合物からなる組成物を主成分として
含む除害剤を充填した層に通し、次いで金属酸化物を担
持した活性炭を充填した層に通すことを特徴とする、エ
ッチング排ガス除害剤の使用方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5132593A JP2581642B2 (ja) | 1993-05-10 | 1993-05-10 | エッチング排ガス除害剤及び排ガス処理方法 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06319947A true JPH06319947A (ja) | 1994-11-22 |
JP2581642B2 JP2581642B2 (ja) | 1997-02-12 |
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ID=15084976
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP5132593A Expired - Lifetime JP2581642B2 (ja) | 1993-05-10 | 1993-05-10 | エッチング排ガス除害剤及び排ガス処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
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