JPH0631477B2 - ワ−ク処理保管装置 - Google Patents

ワ−ク処理保管装置

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JPH0631477B2
JPH0631477B2 JP24502086A JP24502086A JPH0631477B2 JP H0631477 B2 JPH0631477 B2 JP H0631477B2 JP 24502086 A JP24502086 A JP 24502086A JP 24502086 A JP24502086 A JP 24502086A JP H0631477 B2 JPH0631477 B2 JP H0631477B2
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rail
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敦彦 佐藤
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Uemera Kogyo Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はめっき処理工程を含む一連のワーク(被処理
物)処理システムを対象としており、特にそのようなシ
ステムにおいて、めっき処理の完了したワークを、後処
理工程へ送る前に、一時的に保管するための装置に関す
る。
(従来の技術) 一般に機械部品(例えば車両用ディスクブレーキの部
品)を製造する場合、前処理工程で機械加工された部品
は中間のめっき処理工程で処理され、その後に後処理工
程へ送られて組み立てられる。そのようなシステムにお
いて、各処理工程の操業時間が同じであり、例えば午前
9時に操業を開始して午後5時に操業を停止する場合で
も、めっき処理工程では、ワークの処理を途中で中断す
ることができない。そのためにめっき処理工程では、操
業終了前に供給された全てのワークの処理が完了するま
で、操業終了後に無人運転が行われる。このようにして
処理の完了したワークは翌日の操業が開始されると後処
理工程へ搬送され、それまでは保管される。
(発明が解決しようとする問題点) ところが従来構造によると、めっき処理済みのワークの
保管のために専用の保管場所を設けるようになっている
ので、保管のために広いスペースが必要である。
(問題点を解決するための手段) 上記問題を解決するために、本発明はめっき処理領域を
利用してワークを保管するようにしたもので、次のよう
に構成されている。
すなわち本発明は、中間処理領域に、前処理領域に接続
するワーク入口通路と、後処理領域に接続するワーク出
口通路と、上記入口通路から出口通路まで延びる処理搬
送通路と、上記出口通路を入口通路に接続するワーク戻
し通路とを設け、上記処理搬送通路と戻し通路とを循環
する搬送部を設け、ワークを保持する保持昇降部を上記
搬送部に昇降自在に取り付け、処理搬送通路に沿って多
数のめっき処理槽を配置し、ワークがめっき処理槽に漬
かる下降位置とその上方の上昇位置との間で上記保持昇
降部を昇降させる昇降駆動機構を設け、保持昇降部を上
記搬送部と共に移動可能な状態で処理槽上方の保管位置
に保管する保管機構を設け、処理搬送通路よりも下流側
において保持昇降部を保管機構へ導入する導入機構と、
保管機構から保持昇降部を排出する排出機構と、上記導
入機構及び排出機構を作動位置と非作動位置との間で切
り換える制御部とを設けたことを特徴としている。
(作用) 上記構成によると、前処理領域から中間処理領域へ供給
されたワークは、保持昇降部に保持された状態で、処理
搬送通路に沿って搬送される。この搬送は保持昇降部を
取り付けた搬送部を処理搬送通路に沿って移動させるこ
とにより行われ、この移動行程中に保持昇降部を昇降さ
せてワークを処理槽に漬けることによりめっき処理が行
われる。
そして通常の操業時間内では、導入機構は非作動位置に
保持される。従って、保持昇降部は処理搬送通路からワ
ーク出口通路へ排出され、ワークは後処理領域へ送られ
る。
操業時間が終了すると、導入機構が作動位置に保持さ
れ、処理搬送通路が通過した保持昇降部は保管機構によ
り上方の保管位置に保持され、その状態で循環通路を循
環する。すなわち処理の完了したワークは循環通路に沿
って保管される。
翌日の操業が開始されると、排出機構が作動し、保管機
構から保持昇降部が排出されるので、ワークは循環通路
から後処理領域へ順々に排出される。
(実施例) 第1図は本発明実施例のめっき処理装置の垂直断面略
図、第2図は本発明の実施例のシステム全体の平面略図
である。
第2図において、めっき処理領域1は前処理領域2と後
処理領域3の間に形成されている。このシステムは例え
ば車両用ブレーキ部品の加工組立てを行うためのシステ
ムであり、前処理領域2では機械加工が行われ、後処理
領域3では組立てが行われる。
めっき処理領域1には多数の処理槽5が直列に配置され
ている。これらの処理槽5からなる処理槽群6は例えば
U形に延びている。めっき処理領域1には処理槽群6に
沿って処理搬送通路7(実線で示す通路)が設けてあ
る。処理搬送通路7の入口8は入口通路9(破線で示す
通路)を介して前処理領域2の出口通路に接続してい
る。処理搬送通路7の出口10は出口通路11(破線で
示す通路)を介して後処理領域3の入口通路に接続して
いる。
更にめっき処理領域1には、処理搬送通路7の出口通路
11を入口通路9に接続する戻し通路13(2点鎖線で
示す通路)が設けてある。戻し通路13は処理搬送通路
7や通路9、11と共に循環通路15を形成している。
第1図において、処理槽群6の側部には基礎フレーム2
0が設けてある。基礎フレーム20は上方の延びるガイ
ドコラム21を備え、ガイドコラム21の上端に上部フ
レーム22が設けてある。基礎フレーム20の側部上面
と上部フレーム22の側部下面にはレール23、24が
設けてある。レール23、24は前記循環通路15を形
成しており、垂直なハンガーガイド25の下端及び上端
のローラ26を案内している。ハンガーガイド25は多
数設けてあり(2個のみ図示)、循環通路15の長手方
向に間隔を隔てて配置されている。
各ハンガーガイド25にはハンガー27がローラ28を
介して昇降自在に取り付けてある。ハンガー27はガイ
ドコラム21側へ突出したローラ29を備えている。ロ
ーラ29の回転軸は水平であり、レール23、34と直
角に延びている。ガイドコラム21にはスライダ30が
昇降自在に取り付けてある。スライダ30はローラ29
の下面と係合するスライダレール31を備えており、図
示されていないチェーン・モータ機構等の駆動機構によ
り、全てのスライダ30が同期した状態でガイドコラム
21に沿って昇降させられるようになっている。
下部レール23の近傍には無端チェーン33が設けてあ
る。チェーン33は循環通路15に沿って延びており、
図示されていないモータ等の駆動機構により駆動され
る。全てのハンガーガイド25はチェーン33に連結し
ており、チェーン33が駆動されることにより、全ての
ハンガーガイド25が循環通路15に沿って同期して移
動する。
上記ハンガー27にはアーム35の基端部が取り付けて
ある。アーム35は処理槽5の上方まで水平方向に突出
しており、先端部にワークWの治具36の上端部を掛け
止めるようになっている。各治具36は例えば枠状であ
り、複数のワークWを保持するようになっている。
第2図に関連して以上に記載した構造は、本件出願人に
よる特開昭59−267040号(特開昭61−145
030号)に記載された構造と基本的に類似している。
そして本発明の実施例では、上部レール24の近傍にお
いて、上部フレーム22にブラケット37を介して保管
用レール38が取り付けてある。レール38はハンガー
ローラ29の真上に位置しており、循環通路15の全周
にわたって併設されている。
第1図のIII-III矢視略図である第3図の如く、レール
38は、所定の上昇位置にあるスライダレール31やロ
ーラ29よりも高い位置を占めている。前記循環通路1
5の搬送通路出口10より下流側の部分には、上昇位置
にあるスライダレール31からハンガーローラ29を保
管用レール38へ案内するためのガイドレール40が設
けてある。ガイドレール40は、例えば、ヒンジを介し
てレール38の切り欠き部の下流側(ワーク搬送方向後
方)の縁に連結されており、図示されていないエアーシ
リンダやソレノイド等の駆動機構によりガイドレール4
0を駆動することにより、ガイドレール40が実線で示
す作動位置と、2点鎖線で示す非作動位置との間を移動
するようになっている。作動位置では、ガイドレール4
0は保管用レール38からスライダレール31へ向かっ
て斜め下向きに傾斜し、非作動位置では、水平な姿勢と
なってスライダレール31上のローラ29よりも上方の
位置を占める。
ガイドレール40の例えば近傍において、保管用レール
38には前記ガイドレール40と類似した構造のガイド
レール41が設けてある。ガイドレール41は、例え
ば、ヒンジを介してレール38の別の切り欠き部の上流
側の縁に連結されており、図示されていない駆動機構に
よりガイドレール41を駆動することにより、ガイドレ
ール41が実線で示す非作動位置と、2点鎖線で示す作
動位置との間を移動するようになっている。作動位置で
は、ガイドレール41は保管用レール38から例えば出
口通路11のレールに向かって斜め下向きに傾斜し、非
作動位置では、水平な姿勢となって保管用レール38の
切欠きを塞ぐ。
なお、前述のスライダレール31は各処理槽5の例えば
出口と入口の近傍だけに設けてある。換言すれば、スラ
イダレール31は処理搬送通路7のワークの昇降を必要
とする短い複数の区間だけに設けてある。そして処理搬
送通路7においてスライダレール31を設置した区間以
外の区間にはレール43が設けてある。レール43は所
定の上昇位置にあるスレイダレール31と同じ高さにあ
り、スライダレール31により上昇させられたローラ2
9はガイドレール43上を走行して後続のスライダレー
ル31上へ移動するようになっている。
従って前記ガイドレール40を作動位置(傾斜位置)に
おいてレール43に接続するように構成することもでき
る。
上述の各部は図示されていない制御装置により制御され
ながら以下のように作動する。
まず第1図において。スライダ30が昇降するとハンガ
ー27がハンガーガイド25に沿って昇降し、それによ
り、処理槽5に対するワークWの浸漬や引上げが行われ
る。又ハンガーガイド25がチェーン33によりレール
23、24に沿って駆動されると、ハンガー27もハン
ガーガイド25と共に移動する。これによりワークWの
水平方向の搬送が行われる。このような昇降動作と搬送
動作を組み合わせることにより、ワークWが種々の処理
槽5に順々に漬けられて一連のめっき処理が完了する。
通常の操業時間内では、第3図のガイドレール40、4
1は非作動位置にある。従ってめっき処理完了後にハン
ガーローラ29は処理搬送通路7から第1図の出口通路
11へ移動し、ワークW及び治具36は出口通路11か
ら後処理領域3へ移送される。
又出口通路11へ移動したハンガー27及びハンガーガ
イド25は戻し通路13を介して入口通路9へ戻り、入
口通路9において、前処理領域2から移送されてきたワ
ークW及び治具36がアーム35に取り付けれ、前述の
如く処理される。
操業時間が終了すると、前処理領域2からのワーク供給
は停止するが、処理装置は処理行程の途中にあるワーク
Wの処理が完了するまで作動する。従って操業終了後
も、ある一定の時間にわたって処理搬送通路7から処理
済みのワークWが排出される。
そして操業時間が終了すると、第3図のガイドレール4
0は作動位置へ移動する、従って処理搬送通路7から排
出されたハンガーローラ29はガイドレール40を介し
て保管用レール38へ移動し、上方の位置に保管され
る。この状態では、処理中のワークの昇降のためにレー
ル31が下降しても、レール38上のハンガーローラ2
9が下降することはない。レール38上へ移動したハン
ガーローラ29は、ハンガーガイド25の移動にともな
って、保管用レール38上を移動する。その結果、ワー
クWは処理槽5よりも高い位置において、循環通路15
に沿って並んだ状態で保管される。
チェーン33は最後のワークWの処理が完了すると停止
し、翌日の操業が開始されると始動する。操業が開始さ
れると、ガイドレール41が作動位置に移動する。従っ
て前述の如く保管用レール38上に保管されていたハン
ガーローラ29は、ハンガーガイド25の移動にともな
って、保管用レール38からガイドレール41を介して
出口通路11へ排出され、出口通路11からワークWが
後処理領域3へ供給される。従って後処理領域3では、
操業開始とほぼ同時にめっき処理済みワークWの組立て
等を行うことができる。ガイドレール41は保管用レー
ル38上の全てのハンガーローラ29が排出されると非
作動位置へ戻る。
(発明の効果) 以上説明したように本発明によると、めっき処理領域を
利用してワークWを保管するようにしたので、専用の保
管場所が不要であり、工場の敷地を有効に利用すること
ができる。
(別の実施例) 図示の実施例では、保管用レール38、ガイドレール4
0、ガイドレール41により保管機構や導入機構、排出
機構を構成しているが、それらの構造は様々に変えるこ
とができ、例えば、第4図の如く、ガイドレール40や
ガイドレール41を共通のレールで構成することもでき
る。又図示の実施例では、ハンガーガイド25、ハンガ
ー27、スライダ30により搬送部や保持昇降部、昇降
駆動機構を構成しているが、それらの具体的な構造も様
々に変更することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明実施例のめっき処理装置の垂直断面略
図、第2図は本発明の実施例のシステム全体の平面略
図、第3図は第1図のII-II矢視略図、第4図は別の実
施例の側面略図である。1……中間処理領域、2……前
処理領域、3……後処理領域、5……めっき処理槽、7
……処理搬送通路、9……入口通路、11……出口通
路、13……戻し通路、15……循環通路、25……ハ
ンガーガイド(搬送部)、28……ハンガー(保持昇降
部)、30……スライダ(昇降駆動機構)、38……保
管用レール(保管機構)、40……ガイドレール(導入
機構)、41……ガイドレール(排出機構)、W……ワ
ーク

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】中間処理領域に、前処理領域に接続するワ
    ーク入口通路と、後処理領域に接続するワーク出口通路
    と、上記入口通路から出口通路まで延びる処理搬送通路
    と、上記出口通路を入口通路に接続するワーク戻し通路
    とを設け、上記処理搬送通路と戻し通路とを循環する搬
    送部を設け、ワークを保持する保持昇降部を上記搬送部
    に昇降自在に取り付け、処理搬送通路に沿って多数のめ
    っき処理槽を配置し、ワークがめっき処理槽に漬かる下
    降位置とその上方の上昇位置との間で上記保持昇降部を
    昇降させる昇降駆動機構を設け、保持昇降部を上記搬送
    部と共に移動可能な状態で処理槽上方の保管位置に保管
    する保管機構を設け、処理搬送通路よりも下流側におい
    て保持昇降部を保管機構へ導入する導入機構と、保管機
    構から保持昇降部を排出する排出機構と、上記導入機構
    及び排出機構を作動位置と非作動位置との間で切り換え
    る制御部とを設けたことを特徴とするワーク処理保管装
    置。
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CN105712080B (zh) * 2016-04-05 2017-12-26 常州君合科技股份有限公司 浸液器提升装置
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