JPH03219099A - 化学処理工程用搬送キャリアの液受け装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 メツキ工程用搬送キャリアの液受は装置に関し、搬送中
のプリント基板から落下する処理液を他の処理液と混合
させることなく回収して再使用できるようにすることを
目的とし、 被処理物の化学処理工程において、搬送キャリアが任意
の一処理槽から引き上げた被処理物を他の処理槽の上方
に搬送する時に、搬送キャリアに同行し、該被処理物か
ら落下する処理液を受容する受液樋を備える、化学処理
工程用搬送キャリアの液受は装置であって、互いに混合
すべきでない処理液の種類と同数以上の受液樋と、各受
液樋の中から上記任意の一処理槽の処理液に対応する受
液樋を選択して、該受液樋を被処理物の昇降空間から離
れた退避位置から搬送キャリアに吊り下げられた被処理
物の下方に位置する受液位置に移動させる樋駆動装置と
を設ける構成とした。

〔産業上の利用分野〕

本発明は、化学処理工程で使用される搬送キャリアの液
受は装置に関し、特に、メンキ工程用搬送キャリアの液
受は装置に関するものである。

〔従来の技術〕

プリント基板のメツキ工場にはメツキ金属の種類によっ
て異なるメツキ処理液を貯留する多数の処理槽や、各メ
ツキ処理液に対応する前処理用処理液を貯留する多数の
前処理槽や、各メツキ処理液に対応する後処理用処理液
を貯留する多数の後処理槽が配設される。処理されるプ
リント基板は搬送キャリアのハンガー枠に吊り下げられ
、予め定められた順に所要の処理槽に移動される。そし
て、各処理槽において、所低の時間にわたって処理液に
浸漬し、処理液から引き上げた後、次の処理槽に搬送さ
れる。プリント基板を処理する任意の一処理槽とその次
の処理槽とはプリント基板に施すメツキの種類によって
異なり、任意の一処理槽からその次の処理槽に搬送する
間に他の処理槽の上方を通過することも少なくない。

任意の一処理槽から引き上げられたプリント基板には該
処理槽内の処理液が付着しており、この処理液はその次
の処理槽あるいはそこまで搬送する間に通過する処理槽
の処理液と混合すべきでない場合が多い。

そこで、従来では、例えば第３図に示すように、多数の
処理槽１１０ａ・１１０ｂの上方を通過する搬送経路に
沿って移動する搬送キャリア１２０に、搬送キャリア１
２０が搬送位置に吊り上げたプリント基板１３０から落
下する処理液を受ける受液装置１４０を設けている。

搬送キャリア１２０は、搬送経路に沿って設けられた１
対の搬送レール１５０に跨がって走行可能に載置される
クラブ１２１と、クラブ１２１がら懸垂させたマスト１
２２と、マスト１２２の搬送方向の片面に昇降可能に支
持されたハンガー枠１２３とを備えていて、前記クラブ
１２１に組付けた走行駆動装置１２４を図示しない制御
装置で制御してハンガー枠１２３を所要の処理槽１１０
ａ・１１０ｂ・の上方に位置させるように構成されてい
る。また、前記制御装置によりクラブ１２１とマスト１
２２とにわたって組付けられた昇降駆動装置１２５を制
御して、ハンガー枠１２３及びこれに※吊り下げたプリ
ント基板１３０を、該プリント基板１３０が処理槽１１
０ａ・１１０ｂ・１１０ｃの上方の所定の高さに位置す
る搬送位置と、該プリント基板１３０が処理槽１１０ａ
・１１０ｂｌｌＯｃ内の処理液Ａ−Ｂ−Ｃに浸漬される
処理位置とにわたって昇降させるように構成している。

前記受液装置１４０は、搬送キャリア１２０のマス）１
２２に搬送方向に揺動可能に懸垂させた平行うランク機
構１４１と、平行うランク機構１４１の下端部に支持さ
れた受液樋１４２と、マスト１２２と平行うランク機構
１４１とにわたって架着されたシリンダからなる樋駆動
装置１４３とを備えている。そして、上記制御装置によ
って樋駆動装置１４３を伸縮させることにより、受液樋
１４２をプリント基板１３０の昇降空間から離れた退避
位置（実線で示す）と搬送キャリア１２０に吊り下げら
れたプリント基板１３０の下方に位置する受液位置（仮
想線で示す）とにわたって往復させるようにしている。

また、受液樋１４２には内部に溜まった処理液を排出す
るためのドレン弁１４６が設けである。

この受液装置１４０によれば、例えば任意の一処理槽１
１０ａに浸漬されていたプリント基板１３０をその処理
槽１１０ａの処理液Ａから引き上げた後、隣の処理槽１
１０ｂに移動させる際に受液樋１４２を受液位置に移動
させることにより、プリント基板１３０から落下する処
理液Ａを受液樋１４２に受けて、隣の処理槽１２０ｂの
処理液Ｂに混入することを防止できる。そして、後に搬
送キャリア１２０を元の任意の一処理槽１１０ａの上方
に戻した時に、ドレン弁１４６を開いて受液樋１４２に
受けた処理液Ａをその処理槽１１０ａに回収して、再使
用することができる。

また、第４図に示す他の従来例では、搬送キャリア２２
０とは別に任意の一処理槽２１０ａとこれに隣接する処
理槽２１０ｂとの上側に受液装置２４０を設けている。

この搬送キャリア２２０の構成は、受液装置１４０を備
えない点を除けば第３図に示した従来例と同様である。

従って、第３図において第４図に示す各部分に対応する
部分には第４図の各部分と同じ名称と第４図の符号の第
１桁の数字１を２に書き換えた符号とを付しである。

受液装置２４０は、両処理槽２１０ａ・２１０ｂの上側
にわたって張設された１対のコンベアチェーン２４１と
、両コンベアチェーン２４１の間に架着された受液樋２
４２と、両コンヘアチェーン２４１を同期駆動する同期
駆動装置２４３とを備えている。そして、図示しない制
御装置によって同期駆動装置２４３を制御することによ
り、受液樋２４２が主搬送キャリア２２０に吊り下げら
れたプリント基板２３０の下方に位置しながら搬送キャ
リア２２０及びプリント基板２３０と同行するように構
成しである。

この従来例は、受液装置２４０が搬送キャリアから独立
していること、また、これ故に、受液装置２４０の受液
！２４２が搬送キャリア２２０に吊り下げられたプリン
ト基板２３０の下方に位置しながらキャリア２２０及び
プリント基板２３０と同行するように構成されているこ
とを除けば、本質的には第３図に示した従来例と同様に
構成され、同様に作用し、同様の効果が得られる。

〔発明が解決しようとする課題〕

これらの従来例によれば、上記のように、受液樋１４０
・２４０が受ける処理液Ａが１種類であれば、プリント
基板に付着した処理液を回収して再使用できる。

ここで、メツキ工場の稼働効率を高めるため、３つ以上
の処理槽にわたって１つの受液樋１４２・２４２に処理
液を順に受けて、後でまとめて受液樋１４２・２４２に
受けた処理液を処理するという操業方法が考えられる。

しかしながら、この操業方法には次のような問題が伴う
。

即ち、複数種類の処理液が１つの受液樋１４２・２４２
に受けられると、受液樋１４２・２４２内で反応して発
熱したり、凝固や成分の析出が発生したりして、処理液
を回収して再使用できなくなるばかりでなく、危険な反
応の防止策を検討する必要が生じてくる。

そこで、処理液の反応性について検討し、その検討結果
に従って受液樋１４２・２４２内で反応が生じない複数
の処理液ごとに受液樋１４２・２４２に受け、まとめて
処理するように搬送キャリア１３０・２３０および受液
装置１４０・２４０の運用を決定することにより、メツ
キ工場の稼働効率を高めることが考えられる。

しかしながら、処理液の反応性について一々検討して搬
送キャリア１３０・２３０および受液装置１４０・２４
０の運用を決定することは、処理液の反応性によって搬
送キャリア１３０・２３０および受液装置１４０・２４
０の運用の融通性を高める上で大きな制限が与えられて
実用性に乏しい上、工程管理が煩瑣であり、メツキ工場
の稼働効率を高める上で大きな不満が感じられる。

また、受液樋１４０・２４０が受ける処理液が例えば水
溶液と水というように混合されても反応の問題が生じな
い場合でも、受液樋１４０・２４０に受けられた処理液
の濃度が大きく変わるので、これらを混合させないこと
に越したことはない。

本発明は、上記の事情を考慮してなされたものであり、
搬送中のプリント基板から落下する処理液を他の処理液
と混合させることなく回収して再使用できるようにした
メツキ工程用搬送キャリアの液受は装置を提供すること
を目的とする。

〔課題を解決するための手段〕

本発明は、例えば第１図、第２図あるいは第３図に示す
ように、被処理物３の化学処理工程において、搬送キャ
リア２が多数設けられた処理槽１ａ・１ｂ・ＩＣの中の
任意の一処理槽１ａから引き上げた被処理物３を他の処
理槽１ｂの上方に搬送する時に、搬送キャリア２に同行
し、該被処理物３から落下する処理液Ａ−Ｂを受容する
受液樋４１ａ・４１ｂ・４１Ｃを備える、化学処理工程
用搬送キャリアの液受は装置であって、上記の目的を達
成するため、次のような手段を講じている。

すなわち、互いに混合すべきでない処理液Ａ・Ｂの種類
と同数以上の受液樋４１ａ・４１ｂ・４１Ｃと、各受液
樋４１ａ−４１ｂ・４１ｃの中から上記任意の一処理槽
１ａの処理液に対応する受液部４１ａを選択して、該受
液樋４１ａを被処理物３の昇降空間から離れた退避位置
から搬送キャリア２に吊り下げられた被処理物３の下方
に位置する受液位置に移動させる機駆動装置４２・４２
ａ・４２ｂ・４２ｃとを設けている。

〔作用〕

本発明においては、プリント基板３を任意の一処理槽１
ａの処理液Ａから該処理槽１ａの上方の所定の高さに引
き上げた後、機駆動装置４２・４２ａ・４２ｂ・４２Ｃ
が作動して該処理槽１ａの処理液Ａに対応する受液樋４
１ａを選択して退避位置から受液位置に移動させ、引き
上げられたプリント基板３から落下する処理液Ａをその
受液部４１ａに受けるようにする。この後、搬送キャリ
ア２を移動させて、液受は装置４を同行させてプリント
基板３を他の処理槽１ｂの上方に移動させる。受液樋４
１ａはこの搬送キャリア２の移動に同行されるので、プ
リント基板３が他の処理槽１ｂの上方に移動する間にプ
リント基板３から落下する処理液Ａが他の処理槽１ｂに
貯留された処理液Ｂに混入されることはない。処理槽１
ｂの上方で、機駆動装置４２が作動して受液部４１　ａ
を受液位置から退避位置に退避させた後、プリント基板
３を処理槽１ｂの処理液Ｂに浸漬して、該処理槽１ｂに
おける処理を行う。該処理槽１ｂにおける処理が終了す
ると、プリント基板３が処理液Ｂから処理槽１ｂの上方
の所定の高さに引き上げられる。機駆動装置４２・４２
ａ・４２ｂ・４２Ｃは今度は該処理槽１ｂの処理液に対
応する受液部４１ｂを選択して退避位置から受液位置に
移動させる。従って、プリント基板３から落下する処理
液Ｂは受液樋４１ｂに受けられる。従って、プリント基
板３から落下する処理液Ａ−Ｂはその種類に対応する受
液樋４１ａ・４１ｂに分別して受けられ、互いに混合さ
れるおそれはない。

〔実施例〕

以下、本発明の実施例を図面に基づき説明する。

第１図は本発明の一実施例に係るメンキ工程用搬送キャ
リアの斜視図である。

このプリント基板のメツキ工場には、メツキ金属の種類
によって異なるメツキ処理液を貯留する多数の処理槽や
、各メツキ処理液に対応する前処理用処理液を貯留する
多数の前処理槽や、各メツキ処理液に対応する後処理用
処理液を貯留する多数の後処理槽が配設されているが、
以下、説明を簡単にするため、混合すべきでない異なる
種類の処理液Ａ−Ｂを貯留する２つの処理槽１ａ・１ｂ
のみに符号を付して説明する。

処理されるプリント基板３は多数の処理槽１ａ・ｌｂの
上方を通過する搬送経路に沿って移動する搬送キャリア
２のハンガー枠２３に吊り下げられ、予め定められた順
に所要の処理槽に移動される。そして、搬送中にプリン
ト基板３から落下する処理液Ａ−Ｂを処理槽１ａ・１ｂ
に落下させないように、搬送キャリア２に搬送中のプリ
ント基板３から落下する処理液Ａ−Ｂを受ける液受は装
置４を設けている。

搬送キャリア２は、搬送経路に沿って設けられた１対の
搬送レール５に跨がって走行可能に載置される台車２１
を備えている。

この台車２１は左右１対の側梁２１ａ・２１ｂとこれら
を連結するクロスメンバ２１ｃとを備え、各側梁２１ａ
・２１ｂの前後両端部から上方にそれぞれ円柱状の支柱
２１ｄを立設し、これらの支柱２１ｄの上端部どうしを
水平台枠２１ｅで連結する。そして、水平台枠２１ｅか
ら更に上方にマスト２１ｆを立設し、このマスト２１ｆ
に昇降枠２２を昇降可能に支持している。また、この昇
降枠２２にはプリント基板３を吊り下げるハンガー枠２
３が懸垂支持される。

また、この台車２１には、走行時の支重用のローラ２４
と走行駆動装置２５とが設けられる。

前記ローラ２４は各側梁２１ａ・２１ｂの前後両側部に
それぞれ回転自在に支持されている。

また、走行駆動装置２５は、各側梁２１ａ・２１ｂ内の
前後に並ぷローラ２２の間に配置され、それぞれ搬送レ
ール５の上面に固定されたラック５ａに噛み合う１対の
ピニオン２５ａと、両ピニオン２５ａを連結する連結軸
２５ｂと、クロスメンバ２１ｃの上側に固定した走行駆
動モータ２５Ｃと、走行駆動モータ２５ｃに連結軸２５
ｂを連動させる伝動装置２５ｄとを備える。

そして、任意に与えられる制御指令に従って制御装置で
制御して台車２１を任意の処理槽１ａ・１ｂの上方の所
定の位置に移動させるように構成されている。

なお、各ローラ２４は、これらをラック５ａの内側（台
車の中央側）で搬送レール５に転接させることにより、
搬送レール５から脱輪することを防止されている。

上記マスト２１ｆ内には、昇降枠２２を昇降駆動する昇
降駆動装置２６を組付ける。この昇降駆動装置２６は、
昇降駆動モータ２６ａと、減速機２６ｂと、モータ２６
ａに減速器２６ｂを介して連動連結される駆動スプロケ
ット２６ｃと、アイドルスプロケットと、無端状のチェ
ーン２６ｄとを備える。

上記駆動スプロケット２６ｃはマスト２１ｆの上端部に
回転自在に枢支され、アイドルスプロケットはマスト２
１ｆの下端部に回転自在に枢支される。そして、両スプ
ロケットにわたって巻掛けられたチェーン２６ｄの一点
に昇降枠２２が固定され、前記制御装置によりこの昇降
駆動装置２６を制御して、ハンガー枠２３及びこれにに
吊り下げたプリント基板３を、該プリント基板３が処理
槽１ａ・１ｂの上方の所定の高さに位置する搬送位置と
、該プリント基板３が処理槽１ａ・ｌｂ内の処理液Ａ−
Ｂに浸漬される処理位置とにわたって昇降できるように
している。

上記液受は装置４は、処理液Ａ−Ｂの互いに混合すべき
でない種類と同数以上の（ここでは、３個）の受液樋４
１ａ・４１ｂ・４１ｃとを備えている。

各受液樋４１ａ・４１ｂ・４１Ｃは、その基端部を台車
２１の右前の支柱２１ｄ（同図においては、各受液樋４
１ａ・４１ｂ・４１ｃの基端部に隠れるので示していな
い）に水平回転自在に外嵌され、それぞれ独立した樋駆
動装置４２ａ・４２ｂ・４２ｃにより個別に揺動駆動さ
れる。即ち、前記制御装置により、これら樋駆動装置４
２ａ・４２ｂ・４２Ｃを制御して任意の受液樋４１ａ・
４１ｂ・４１ｃを側梁２１ｂの上方でプリント基板３の
昇降空間から離れる退避位置（受液樋４１ｂ・４１Ｃの
図示位置）と搬送キャリア２に吊り下げられたプリント
基板３の下方に位置する受液位置（受液樋４１ａの図示
位置）とにわたって往復させるようにしている。また、
各受液樋４１ａ・４１ｂ・４１ｃには内部に溜まった処
理液を排出するためのドレン弁４３を設ける。

上記制御装置は、例えば、次のような手順で走行駆動装
置２５、昇降駆動装置２６及び樋駆動装置４２ａ・４２
ｂ・４２ｃを制御するように構成してあればよい。

即ち、メンチ処理工程においては、まず、初期位置で搬
送キャリア２にプリント基板３が吊り下げられた後、制
御が開始され、プリント基板３を吊り下げた搬送キャリ
ア２を所要の処理槽１ａ・１ｂの上方に移動させ、プリ
ント基板３を当該処理槽１ａ・１ｂの処理液Ａ　−’Ｂ
に所定時間にわたって浸漬させた後、処理槽１ａ・１ｂ
から引上げ、その処理液Ａ−Ｂの種類に対応する受液！
４１　ａ・４１ｂ・４１ｃを退避位置から受液位置に移
動させてから、搬送キャリア２、プリント基板３及び受
液樋４１ａ・４１ｂ・４１ｃを次の移動先に移動させる
。

この後、その移動先で受液樋４１ａ・４１ｂ・４１ｃを
受液位置から退避位置に戻し、プリント基板３を当該処
理槽１ａ・１ｂの処理液Ａ−，Ｂに所定時間にわたって
浸漬させた後、処理槽１ａ・１ｂから引上げ、その処理
液Ａ−Ｂの種類に対応する受液樋４１ａ・４１ｂ・４１
Ｃを退避位置から受液位置に移動させ、搬送キャリア２
、プリント基板３及び受液樋４１ａ・４１ｂ・４１ｃを
次の移動先に移動させるという手順を必要に応じて繰り
返す。

そして、最後の処理槽から最後の移動先あるいは初期位
置に搬送キャリア２、プリント基板３及び液受は装置４
を移動させ、プリント基板３を搬送キャリア２から外す
とともに、全ての受液樋４１ａ・４１ｂ・４１ｃを退避
位置から受液位置に位置させる。プリント基板３を搬送
キャリア２から外す位置が初期位置と異なる場合には、
この後搬送キャリア２を初期位置に戻す。

なお、搬送キャリア２が何れかの処理槽１ａ・１ｂの上
方で停止している間にその処理槽１ａ・１ｂの処理液Ａ
−Ｂに対応する受液樋４１ａ・４１ｂ・４１ｃのドレン
弁４３を開弁させることにより、該受液樋４１ａ・４１
ｂ・４１ｃ内に貯留された処理液Ａ−Ｂが対応する処理
槽１ａ・１ｂに戻されるようにしている。

この搬送キャリア２及び液受は装置４においては、搬送
キャリア２が任意の１つの処理槽１ａに位置に移動し、
当該処理槽１ａにおける処理が終了してプリント基板３
を搬送位置まで上昇させた後、当該処理槽１ａの処理液
Ａの種類に対応する受液樋４１ａを退避位置から受液位
置に移動させ、ドレン弁４３を所定時間開弁させる。ド
レン弁４３の開弁時間が経過すると、ドレン弁４３が閉
弁され、走行駆動装置２４が始動して搬送キャリア２、
受液装置４及びプリント基板３の移動が開始される。

そして、次の処理槽１ｂの上方の所定の位置までプリン
ト基板３が移動すると走行駆動装置２４が停止され、搬
送キャリア２、受液装置４及びプリント基板３が停止す
る。

この後、受液樋４１ａを受液位置から退避位置に戻して
から昇降駆動装置２５を作動させ、プリント基板３を処
理液Ｂに浸漬してその処理槽１ｂにおける処理を所定時
間にわたって行う。この処理が終わった後、プリント基
板３を搬送位置まで上昇させ、その処理槽１ｂの処理液
Ｂの種類に対応する受液樋４１ｂを退避位置から受液位
置に移動させ、受液樋４１ｂのドレン弁４３を所定時間
開弁させる。ドレン弁４３の開弁時間が経過すると、ド
レン弁４３が閉弁され、走行駆動装置２４が始動して搬
送キャリア２、受液装置４及びプリント基板３が次の移
動先に向かって移動し始める。

なお、各受液樋４１ａ４１ｂ−４１ｃのドレン弁４３を
閉弁した後に各受液樋４１ａ・４１ｂ・４１Ｃに落下し
た処理液Ａ・Ｂはその受液樋４１ａ・４１ｂ・４１Ｃに
貯留され、後に受液樋４１ａ・４１ｂ・４１ｃが対応す
る処理槽１ａ・１ｂ−１ｃ上の受液位置に位置する時に
その受液樋４１ａ・４１ｂ・４１ｃのドレン弁４３を開
弁して各受液樋４１ａ・４１ｂ・４１Ｃから処理液Ａ・
Ｂを処理槽１ａ・１ｂに回収して、再使用する。

このようにして、順次所要の処理槽１ａ・１ｂに移動す
る間、受液装置４の樋駆動装置４２ａ・４２ｂ・４２Ｃ
はその直前の処理に使用した処理液Ａ−Ｂに対応する受
液樋４１ａ・４１ｂ・４１Ｃを選択してプリント基板３
の下側の受液位置に位置させ、プリント基板３から落下
する処理液Ａ・Ｂを対応する受液樋４１ａ・４１ｂ・４
１ｃに受けることにより、他の処理槽１ａ・１ｂに貯留
された種類の異なる処理液Ａ−Ｂにプリント基板３から
落下する処理液Ａ−Ｂが混合されることを防止できる。

また、処理液Ａ−Ｂの種類に対応して受液樋４１ａ・４
１ｂ・４１ｃが選択されるので、混合すべきでない異種
の処理液Ａ−Ｂどうしが受液樋４１ａ・４１ｂ・４１ｃ
内で混合されるおそれがなく、受液樋４１ａ・４１ｂ・
４１Ｃ内に溜まった処理液Ａ−Ｂをそれぞれ回収して再
使用することが可能になる。

なお、上記の実施例では受液樋４１ａ・４１ｂ・４１Ｃ
に受けた処理液Ａ−Ｂを直接光の処理槽１ａ・１ｂに戻
すように構成しているが、受液樋４１ａ・４１ｂに受け
た処理液Ａ−Ｂのうちの１種以上を別に処理液Ａ−Ｂの
種類にに対応して設けた再生処理槽に回収し、再生処理
をしてから元の処理槽１ａ・１ｂに戻すように構成する
ことも可能である。

また、上記の一実施例では、実施例に係るメ・７キエ程
用搬送キヤリアの液受は液受は装置４が搬送キャリア２
に組付けられているが、液受は装置４を搬送キャリア２
の台車２１とは別に搬送レール５上を走行する台車を設
け、この台車に液受は装置４を搭載することも可能であ
る。

また、上記の一実施例では、受液樋４１ａ・４１ｂ・４
１ｃが互いに独立して受液位置と退避位置との間を往復
するように構成れているが、例えば第３図に示すように
、各受液樋４１ａ・４１ｂ・４１ｃが同時に所定の循環
軌道を移動し、任意に択一された受液樋４１ａ・４１ｂ
・４１ｃを受液位置に停止されるように構成してもよい
。

即ち、樋駆動装置４２が左右１対のエンドレスチェーン
４２ｄを備え、各受液樋４１ａ・４１ｂ・４１ｃの両端
が適当な間隔をおいて両エンドレスチェーン４２ｄに回
転可能に連結される。両エンドレスチェーン４２ｄを同
期駆動装置４２ｅにより同期駆動して選択された受液樋
４１ａ・４１ｂ・４１ｃを受液位置に移動させるように
構成することができる。

以上メソキ工程に適用した場合についてのみ説明したが
、この発明は、複数種の液を使用する他の化学処理に適
用できることは勿論である。

〔発明の効果〕

以上のように、本発明によれば、搬送キャリアに吊り下
げられたプリント基板を任意の一処理槽から他の処理槽
に搬送する間は、直前に終了した処理に使用する処理液
の種類に対応する受液樋をそのプリント基板の下方の受
液位置に位置させ、プリント基板から落下する処理液を
該受液樋に受けるので、プリント基板が搬送される間に
その下方の処理槽に直前に終了した処理に使用する処理
液が落下することを防止でき、搬送中に通過する処理槽
の処理液とプリント基板から落下した処理液とが反応し
たり、搬送中に通過する処理槽の処理液の濃度管理が困
難になったりすることを防止できる。

また、混合すべきでない種類の異なる処理液をその種類
ごとに異なる受液樋に受けているので、種類の異なる処
理液が受液樋の中で混合されて反応したり、受液樋に受
けた処理液の濃度が極端に変わったりしたりすることを
防止でき、受液樋に受けた処理液を簡単に回収して再使
用できる。

３・・・プリント基板、 ４１　ａ　・４　ｌ　ｂ　・４１　ｃ−受液樋、４２・
４２ａ・４２ｂ・４２Ｃ・・・樋駆動装置。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例に係るメツキ工程用搬送キャ
リアの斜視図であり、第２図は本発明の他の実施例に係
るメツキ工程用搬送キャリアの液受は装置の要部の斜視
図であり、第３図は一従来例に係るメツキ工程用搬送キ
ャリアの側面図であり、第４図は他の従来例に係るメツ
キ工程用搬送キャリアの側面図である。 図中、 Ａ−Ｂ・・・処理液、 １ａ・１ｂ・・・処理槽、 ２・・・搬送キャリア、 褪棄イク１」の偕」面図 第 図 イ（米例の僅ＩＪ面図 第 因

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 〔１〕　被処理物（３）の化学処理工程において、搬送
   キャリア（２）が任意の一処理槽（１ａ）から引き上げ
   た被処理物（３）を他の処理槽（１ｂ）の上方に搬送す
   る時に、搬送キャリア（２）に同行し、該被処理物（３
   ）から落下する処理液（Ａ）・（Ｂ）を受容する受液樋
   （４１ａ）・（４１ｂ）・（４１ｃ）を備える、化学処
   理工程用搬送キャリアの液受け装置であって、互いに混
   合すべきでない処理液（Ａ）・（Ｂ）の種類と同数以上
   の受液樋（４１ａ）・（４１ｂ）・（４１ｃ）と、各受
   液樋（４１ａ）・（４１ｂ）・（４１ｃ）の中から上記
   任意の一処理槽（１ａ）の処理液に対応する受液樋（４
   １ａ）を選択して、該受液樋（４１ａ）を被処理物（３
   ）の昇降空間から離れた退避位置から搬送キャリア（２
   ）に吊り下げられた被処理物（３）の下方に位置する受
   液位置に移動させる樋駆動装置（４２）・（４２ａ）・
   （４２ｂ）・（４２ｃ）とを設けたことを特徴とする、
   化学処理工程用搬送キャリアの液受け装置。