JPH06314409A - 磁気ヘッドの研磨方法 - Google Patents
磁気ヘッドの研磨方法Info
- Publication number
- JPH06314409A JPH06314409A JP12463193A JP12463193A JPH06314409A JP H06314409 A JPH06314409 A JP H06314409A JP 12463193 A JP12463193 A JP 12463193A JP 12463193 A JP12463193 A JP 12463193A JP H06314409 A JPH06314409 A JP H06314409A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- core block
- polishing
- polishing material
- magnetic head
- winding groove
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000005498 polishing Methods 0.000 title claims abstract description 38
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 13
- 238000004804 winding Methods 0.000 claims abstract description 28
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 26
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 claims description 3
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 abstract description 8
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 abstract description 5
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 abstract description 4
- 239000004744 fabric Substances 0.000 abstract description 2
- 229920005830 Polyurethane Foam Polymers 0.000 abstract 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000013013 elastic material Substances 0.000 abstract 1
- 239000011496 polyurethane foam Substances 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 11
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 3
- 238000007781 pre-processing Methods 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229910000702 sendust Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 磁気ヘッドを構成するコアブロック半体の斜
面取り部を高精度に研磨し、フェライト及び金属磁性膜
の磁気特性を向上させる。 【構成】 コアブロック半体1の巻線溝5側の面を弾力
性を有するポリシング材15によって研磨し、巻線溝5
の斜面取り部4までポリシング材15を入り込ませて研
磨する。
面取り部を高精度に研磨し、フェライト及び金属磁性膜
の磁気特性を向上させる。 【構成】 コアブロック半体1の巻線溝5側の面を弾力
性を有するポリシング材15によって研磨し、巻線溝5
の斜面取り部4までポリシング材15を入り込ませて研
磨する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気ヘッドの研磨方法
に関する。更に詳述すると、本発明は、フェライト等の
酸化物磁性材料からなるコアブロックのギャップ突き合
わせ面に金属磁性膜を形成したメタルインギャップ(M
IG)型磁気ヘッドの金属磁性膜の成膜前処理としての
研磨方法に関する。
に関する。更に詳述すると、本発明は、フェライト等の
酸化物磁性材料からなるコアブロックのギャップ突き合
わせ面に金属磁性膜を形成したメタルインギャップ(M
IG)型磁気ヘッドの金属磁性膜の成膜前処理としての
研磨方法に関する。
【0002】
【従来の技術】MIGヘッドは、従来、例えば図2に示
す工程を経て製造されている。
す工程を経て製造されている。
【0003】まず、図2(A)に示すように、フェライ
ト等からなる1対のバー状のコアブロック半体1,2の
うち一方または両方(この従来例では一方のコアブロッ
ク半体1)に研削によって矩形の溝3を形成する。そし
て、矩形の溝3の一方の角が研削によって面取り加工さ
れ、図2(B)に示すような斜面取り部4が形成され
る。これによって、舟形の巻線用溝5が形成される。そ
の後、コアブロック半体1のギャップ突き合わせ面6,
7及び巻線溝5の内面(以下、巻線溝側の面と総称す
る)と他方のコアブロック半体2の突き合わせ面8に図
2(C)に示すようにスパッタリング等によって金属磁
性材料の薄膜(以下金属磁性膜という)9が形成され
る。次に、1対のコアブロック半体1,2を低融点ガラ
スなどで接合してギャップ突き合わせ面6,8の間でギ
ャップ10を形成する。尚、コアブロック半体1の巻線
用溝5がコアブロック半体2によって閉塞されて巻線窓
12が形成される。
ト等からなる1対のバー状のコアブロック半体1,2の
うち一方または両方(この従来例では一方のコアブロッ
ク半体1)に研削によって矩形の溝3を形成する。そし
て、矩形の溝3の一方の角が研削によって面取り加工さ
れ、図2(B)に示すような斜面取り部4が形成され
る。これによって、舟形の巻線用溝5が形成される。そ
の後、コアブロック半体1のギャップ突き合わせ面6,
7及び巻線溝5の内面(以下、巻線溝側の面と総称す
る)と他方のコアブロック半体2の突き合わせ面8に図
2(C)に示すようにスパッタリング等によって金属磁
性材料の薄膜(以下金属磁性膜という)9が形成され
る。次に、1対のコアブロック半体1,2を低融点ガラ
スなどで接合してギャップ突き合わせ面6,8の間でギ
ャップ10を形成する。尚、コアブロック半体1の巻線
用溝5がコアブロック半体2によって閉塞されて巻線窓
12が形成される。
【0004】斯様にして得られた磁気ヘッドブロックを
図2の(D)に示す一点鎖線に沿って切断加工して図2
の(E)に示すヘッドチップ11が得られる。
図2の(D)に示す一点鎖線に沿って切断加工して図2
の(E)に示すヘッドチップ11が得られる。
【0005】ここで、コアブロック半体1,2を接合し
たときに磁路を構成する金属磁性膜9は、スパッタリン
グなどの薄膜形成技術により形成される。したがって、
均一かつ連続的に成膜されるように、コアブロック半体
1の巻線溝側の面およびコアブロック半体2の突き合わ
せ面8、特にギャップを構成するギャップ突き合わせ面
6,8及びギャップ近傍となる斜面取り部4は金属磁性
膜9の成膜前に表面粗さを平滑にしたり、前加工の加工
変質層を取り除いておく必要がある。そこで、従来、ギ
ャップ突き合わせ面6,7の平滑処理は、ラップ加工に
より行われる。このラップ加工によって、ギャップ突き
合わせ面6,7の表面粗さや前加工の加工変質層を0μ
mに近づけることができる。また、同様にコアブロック
半体2の突き合わせ面8もラップ加工される。一方、巻
線溝5内特にギャップに近い斜面取り部4は、ギャップ
突き合わせ面6より凹んでいるのでラップ加工が不可能
であることから、従来、砥石による研削加工によって仕
上げられている。
たときに磁路を構成する金属磁性膜9は、スパッタリン
グなどの薄膜形成技術により形成される。したがって、
均一かつ連続的に成膜されるように、コアブロック半体
1の巻線溝側の面およびコアブロック半体2の突き合わ
せ面8、特にギャップを構成するギャップ突き合わせ面
6,8及びギャップ近傍となる斜面取り部4は金属磁性
膜9の成膜前に表面粗さを平滑にしたり、前加工の加工
変質層を取り除いておく必要がある。そこで、従来、ギ
ャップ突き合わせ面6,7の平滑処理は、ラップ加工に
より行われる。このラップ加工によって、ギャップ突き
合わせ面6,7の表面粗さや前加工の加工変質層を0μ
mに近づけることができる。また、同様にコアブロック
半体2の突き合わせ面8もラップ加工される。一方、巻
線溝5内特にギャップに近い斜面取り部4は、ギャップ
突き合わせ面6より凹んでいるのでラップ加工が不可能
であることから、従来、砥石による研削加工によって仕
上げられている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、砥石に
よる研削加工であると、いくら粒度の細かい砥石を使用
しても、加工精度に限界が有り、斜面取り部4に加工変
質層が0.5μm程度残ってしまったり表面粗さがラッ
プ加工に比べて荒くなってしまうため、フェライトの磁
気特性が悪化したり、スパッタリング等により形成され
る金属磁性膜9の磁気特性が悪化し、ヘッドの感度が劣
化したりうねりが生じたりするなどの問題を起こす虞が
ある。
よる研削加工であると、いくら粒度の細かい砥石を使用
しても、加工精度に限界が有り、斜面取り部4に加工変
質層が0.5μm程度残ってしまったり表面粗さがラッ
プ加工に比べて荒くなってしまうため、フェライトの磁
気特性が悪化したり、スパッタリング等により形成され
る金属磁性膜9の磁気特性が悪化し、ヘッドの感度が劣
化したりうねりが生じたりするなどの問題を起こす虞が
ある。
【0007】本発明の目的は、コアブロック半体の巻線
窓溝の斜面取り部を高精度にて平滑処理して、フェライ
ト及び金属磁性膜の磁気特性を向上させることのできる
磁気ヘッドの研磨方法を提供することを目的とする。
窓溝の斜面取り部を高精度にて平滑処理して、フェライ
ト及び金属磁性膜の磁気特性を向上させることのできる
磁気ヘッドの研磨方法を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】かかる目的を達成するた
め、本発明は、斜面取り部を有する巻線窓が形成された
磁気ヘッド用のコアブロック半体を研磨する磁気ヘッド
の研磨方法において、巻線窓を構成する巻線溝側の面
を、弾力性を有するポリシング材によって研磨する。
め、本発明は、斜面取り部を有する巻線窓が形成された
磁気ヘッド用のコアブロック半体を研磨する磁気ヘッド
の研磨方法において、巻線窓を構成する巻線溝側の面
を、弾力性を有するポリシング材によって研磨する。
【0009】
【作用】したがって、コアブロック半体がポリシング材
に沈み込み、巻線溝の奥までポリシング材が入り込ん
で、コアブロック半体のギャップ突き合わせ面と同時に
斜面取り部を研磨する。
に沈み込み、巻線溝の奥までポリシング材が入り込ん
で、コアブロック半体のギャップ突き合わせ面と同時に
斜面取り部を研磨する。
【0010】
【実施例】以下、本発明の構成を図面に示す実施例に基
づいて詳細に説明する。
づいて詳細に説明する。
【0011】図2(A)に示すように、フェライト等の
酸化磁性材料からなる1対のコアブロック半体1,2の
うち一方または両方(本実施例では一方のコアブロック
半体1)に研削によって矩形の溝3を形成する。続い
て、図2(B)に示すように溝3の一方の角に研削によ
って面取り加工を施して斜面取り部4を形成し、舟形の
巻線用溝5を形成する。
酸化磁性材料からなる1対のコアブロック半体1,2の
うち一方または両方(本実施例では一方のコアブロック
半体1)に研削によって矩形の溝3を形成する。続い
て、図2(B)に示すように溝3の一方の角に研削によ
って面取り加工を施して斜面取り部4を形成し、舟形の
巻線用溝5を形成する。
【0012】ここまでは従来例と同様であるが、本発明
では、この巻線溝5の形成後、コアブロック半体1の巻
線溝側の面を弾力性を有するポリシング材によって研磨
し、ギャップ突き合わせ面6,7と巻線溝5の斜面取り
部4とに平滑処理を同時に施す。
では、この巻線溝5の形成後、コアブロック半体1の巻
線溝側の面を弾力性を有するポリシング材によって研磨
し、ギャップ突き合わせ面6,7と巻線溝5の斜面取り
部4とに平滑処理を同時に施す。
【0013】この平滑処理に用いる研磨装置は、例えば
図1に示すように、軸13を中心に回転する回転定盤1
4と、この回転定盤14の上面に張られて固着された発
泡ポリウレタンのクロス等の弾力性あるポリシング材1
5と、このポリシング材15に散布した砥粒16とを備
えている。砥粒16はポリシング材15に接着させるよ
うにしてもよい。ポリシング材15の厚さ及び弾力性
は、コアブロック半体1を押しつけたときに、コアブロ
ック半体1がポリシング材15に沈み込んで、巻線溝5
の奥までポリシング材15の一部が入り込むことが可能
となる程度であることが必要である。
図1に示すように、軸13を中心に回転する回転定盤1
4と、この回転定盤14の上面に張られて固着された発
泡ポリウレタンのクロス等の弾力性あるポリシング材1
5と、このポリシング材15に散布した砥粒16とを備
えている。砥粒16はポリシング材15に接着させるよ
うにしてもよい。ポリシング材15の厚さ及び弾力性
は、コアブロック半体1を押しつけたときに、コアブロ
ック半体1がポリシング材15に沈み込んで、巻線溝5
の奥までポリシング材15の一部が入り込むことが可能
となる程度であることが必要である。
【0014】このような研磨装置の回転定盤14のポリ
シング材15の上に、コアブロック半体1の巻線溝側の
面を接触させてコアブロック半体1を押しつけてポリシ
ング・研磨する。このとき、コアブロック半体1は、図
示していない治具に接着されて自転運動を行いながらポ
リシング材15に所定圧力で押しつけられる。すると、
ポリシング材15には弾力性があるので、コアブロック
半体1はポリシング材15に沈み込み、巻線溝5の奥ま
でポリシング材15が入り込む。したがって、コアブロ
ック半体1のギャップ突き合わせ面6,7および斜面取
り部4を含む巻線溝5とが同時に、砥粒16及びポリシ
ング材15により研磨される。
シング材15の上に、コアブロック半体1の巻線溝側の
面を接触させてコアブロック半体1を押しつけてポリシ
ング・研磨する。このとき、コアブロック半体1は、図
示していない治具に接着されて自転運動を行いながらポ
リシング材15に所定圧力で押しつけられる。すると、
ポリシング材15には弾力性があるので、コアブロック
半体1はポリシング材15に沈み込み、巻線溝5の奥ま
でポリシング材15が入り込む。したがって、コアブロ
ック半体1のギャップ突き合わせ面6,7および斜面取
り部4を含む巻線溝5とが同時に、砥粒16及びポリシ
ング材15により研磨される。
【0015】従来の砥石による研削では斜面取り部4に
0.5μm程度の加工変質層が残っていたが、本発明の
研磨方法によると加工変質層は0.1mμ以下にでき
る。
0.5μm程度の加工変質層が残っていたが、本発明の
研磨方法によると加工変質層は0.1mμ以下にでき
る。
【0016】この研磨が終了したら、治具によりコアブ
ロック半体1を持ち上げてポリシング材15から離し、
ギャップ突き合わせ面6,7を従来のラップ工法により
研磨を行う。
ロック半体1を持ち上げてポリシング材15から離し、
ギャップ突き合わせ面6,7を従来のラップ工法により
研磨を行う。
【0017】その後は、公知の手法によってコアブロッ
ク半体1のギャップ突き合わせ面7,8及び巻線溝5並
びにコアブロック半体2のギャップ突き合わせ面8と
に、図2の(C)に示すようにスパッタリング等により
センダスト等の金属磁性材料からなる金属磁性膜9を形
成してから、図2の(D)に示すように接合してギャッ
プ10を形成する。そして、コアブロックをスライスし
て、図2の(E)に示すような所定幅のヘッドチップ1
1を切り出す。
ク半体1のギャップ突き合わせ面7,8及び巻線溝5並
びにコアブロック半体2のギャップ突き合わせ面8と
に、図2の(C)に示すようにスパッタリング等により
センダスト等の金属磁性材料からなる金属磁性膜9を形
成してから、図2の(D)に示すように接合してギャッ
プ10を形成する。そして、コアブロックをスライスし
て、図2の(E)に示すような所定幅のヘッドチップ1
1を切り出す。
【0018】なお、上述の実施例は本発明の好適な実施
の一例ではあるがこれに限定されるものではなく本発明
の要旨を逸脱しない範囲において種々変形実施可能であ
る。
の一例ではあるがこれに限定されるものではなく本発明
の要旨を逸脱しない範囲において種々変形実施可能であ
る。
【0019】
【発明の効果】以上の説明より明らかなように、本発明
の磁気ヘッドの研磨方法は、コアブロック半体の巻線溝
側の面を弾力性を有するポリシング材によって研磨する
ようにしているので、巻線溝の斜面取り部までポリシン
グ材が入り込んだ状態で研磨され、高精度に研磨され
る。依って、本発明方法によって得られる磁気ヘッド
は、フェライト及び金属磁性膜の磁気特性を向上でき、
感度を向上させ得ると共にうねり等を抑制できる。
の磁気ヘッドの研磨方法は、コアブロック半体の巻線溝
側の面を弾力性を有するポリシング材によって研磨する
ようにしているので、巻線溝の斜面取り部までポリシン
グ材が入り込んだ状態で研磨され、高精度に研磨され
る。依って、本発明方法によって得られる磁気ヘッド
は、フェライト及び金属磁性膜の磁気特性を向上でき、
感度を向上させ得ると共にうねり等を抑制できる。
【図1】本発明の磁気ヘッドの研磨方法を説明する概略
図である。
図である。
【図2】コアの一般的な製造工程を示す斜視図で、
(A)は溝形成工程、(B)は斜面取り部形成工程、
(C)は金属磁性膜形成工程、(D)は接着工程、
(E)は得られたヘッドチップである。
(A)は溝形成工程、(B)は斜面取り部形成工程、
(C)は金属磁性膜形成工程、(D)は接着工程、
(E)は得られたヘッドチップである。
1,2 コアブロック半体 4 斜面取り部 5 巻線溝 6,7,8 ギャップ突き合わせ面 14 回転定盤 15 ポリシング材 16 砥粒
Claims (1)
- 【請求項1】 斜面取り部を有する巻線窓が形成された
磁気ヘッドのコアブロック半体を研磨する方法におい
て、前記巻線窓を構成する巻線溝側の面を、弾力性を有
するポリシング材によって研磨することを特徴とする磁
気ヘッドの研磨方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12463193A JPH06314409A (ja) | 1993-04-30 | 1993-04-30 | 磁気ヘッドの研磨方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12463193A JPH06314409A (ja) | 1993-04-30 | 1993-04-30 | 磁気ヘッドの研磨方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06314409A true JPH06314409A (ja) | 1994-11-08 |
Family
ID=14890198
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12463193A Pending JPH06314409A (ja) | 1993-04-30 | 1993-04-30 | 磁気ヘッドの研磨方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06314409A (ja) |
-
1993
- 1993-04-30 JP JP12463193A patent/JPH06314409A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US20020142707A1 (en) | Glass substrate for magnetic recording medium, production method thereof, and magnetic recording medium using the substrate | |
JPH09102122A (ja) | 記録媒体用基板 | |
JPH06314409A (ja) | 磁気ヘッドの研磨方法 | |
JPS61114813A (ja) | 切断方法 | |
JPS58100432A (ja) | ウエハの面取り加工方法 | |
JPS61172220A (ja) | デイスク基板の製造方法 | |
JP2630594B2 (ja) | 面取加工方法 | |
JPS637266A (ja) | 円筒加工用研摩工具 | |
JP3368928B2 (ja) | 押出成形用金型の製造方法 | |
JPS63804A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
JPH01224918A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
JPH0295559A (ja) | コアブロックの研削方法 | |
JPS6151335B2 (ja) | ||
JPS6379207A (ja) | 磁気ヘツド製造方法 | |
JPS60185249A (ja) | 記録再生用装置のテ−プガイドの製造方法 | |
JPH07326034A (ja) | 磁気ヘッドスライダの成形方法 | |
JPH0145136B2 (ja) | ||
JP2623252B2 (ja) | 面取加工装置 | |
JPS60135173A (ja) | 薄膜磁気ヘツドの加工方法 | |
JPS63300854A (ja) | 磁気ヘツドのテ−プ研磨装置 | |
JPH02294930A (ja) | ディスク基板の研磨装置および研磨方法 | |
JPH0340278A (ja) | 浮動式磁気ヘッド | |
JPH0760649A (ja) | 研削切断用砥石 | |
JPH09167311A (ja) | 複合型磁気ヘッドのヘッドコアピースの製造方法 | |
JPH07121831A (ja) | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |