JPH06310865A - プリント配線板およびその製造方法 - Google Patents
プリント配線板およびその製造方法Info
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- JPH06310865A JPH06310865A JP4347638A JP34763892A JPH06310865A JP H06310865 A JPH06310865 A JP H06310865A JP 4347638 A JP4347638 A JP 4347638A JP 34763892 A JP34763892 A JP 34763892A JP H06310865 A JPH06310865 A JP H06310865A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 内層配線と信頼性よく接続できると共に高配
線密度を実現できるプリント配線板を提供する。 【構成】 内層配線22まで到達すると共に底部より開
口部が大きいブラインドホール23を基板21に形成
し、ブラインドホール23の底面および内周面に内層配
線22と表層配線24とを接続する導電体パタン25を
形成する。
線密度を実現できるプリント配線板を提供する。 【構成】 内層配線22まで到達すると共に底部より開
口部が大きいブラインドホール23を基板21に形成
し、ブラインドホール23の底面および内周面に内層配
線22と表層配線24とを接続する導電体パタン25を
形成する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ブラインドホールの底
面および内周面の導電体パタンを介して上層配線と下層
配線とを接続したプリント配線板およびその製造方法に
関する。
面および内周面の導電体パタンを介して上層配線と下層
配線とを接続したプリント配線板およびその製造方法に
関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、プリント配線板においては、
その配線密度を高密度化するためにランドを可能な限り
小さくする試みがなされている。そして、その典型的な
例としてランドレス基板がある。すなわち、内周面がめ
っきされたスルーホール(Plated Through Hole;以下、
PTHという)を用いて接続する場合に、スルーホール
に対するランドをなくすことにより配線密度を高めたも
のである。
その配線密度を高密度化するためにランドを可能な限り
小さくする試みがなされている。そして、その典型的な
例としてランドレス基板がある。すなわち、内周面がめ
っきされたスルーホール(Plated Through Hole;以下、
PTHという)を用いて接続する場合に、スルーホール
に対するランドをなくすことにより配線密度を高めたも
のである。
【0003】かかるランドレス基板は、例えば図3に示
すように、基板1に形成した貫通孔であるスルーホール
2の内周面に、表面の接続ライン3と裏面の接続ライン
4とを接続するめっき層5を形成してPTHとしたもの
である。また、このようなランドレス基板は、スルーホ
ールの内周面に樹脂層を形成し、さらにその上にはんだ
めっきを施した後、はんだめっきの垂直部(内周面)上
にポジ型フォトレジストを残してエッチングを施し、垂
直部以外のはんだめっきを除去することにより形成され
る。
すように、基板1に形成した貫通孔であるスルーホール
2の内周面に、表面の接続ライン3と裏面の接続ライン
4とを接続するめっき層5を形成してPTHとしたもの
である。また、このようなランドレス基板は、スルーホ
ールの内周面に樹脂層を形成し、さらにその上にはんだ
めっきを施した後、はんだめっきの垂直部(内周面)上
にポジ型フォトレジストを残してエッチングを施し、垂
直部以外のはんだめっきを除去することにより形成され
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このようなラ
ンドレス基板では、図3に示すような内層ライン6とは
んだめっき層の垂直部との接続は不可能である。
ンドレス基板では、図3に示すような内層ライン6とは
んだめっき層の垂直部との接続は不可能である。
【0005】一方、スルーホールの内周面に樹脂層を形
成しないで、内層ライン6とはんだめっき層の垂直部と
を接続することが考えられる。図4は、このようにして
形成した接続状態を示し、(A)は平面図、(B)は断
面図である。これらの図に示すように、このように内層
ライン6とめっき層7とを接続した場合、その接続面積
は、内層ライン6の幅×厚みの面積だけになる。よっ
て、内層ライン6とめっき層7との接続は、信頼性に欠
ける。
成しないで、内層ライン6とはんだめっき層の垂直部と
を接続することが考えられる。図4は、このようにして
形成した接続状態を示し、(A)は平面図、(B)は断
面図である。これらの図に示すように、このように内層
ライン6とめっき層7とを接続した場合、その接続面積
は、内層ライン6の幅×厚みの面積だけになる。よっ
て、内層ライン6とめっき層7との接続は、信頼性に欠
ける。
【0006】また、図5に示すように、内層ライン6を
切断するように基板1の厚さ方向の途中までドリル穴を
形成してその内周面に上述したポジ型フォトレジストを
用いたエッチングによりめっき層8を形成することで、
ランドレスのバイア接続をすることも可能である。しか
し、この場合にも同様に接続の信頼性は得られない。
切断するように基板1の厚さ方向の途中までドリル穴を
形成してその内周面に上述したポジ型フォトレジストを
用いたエッチングによりめっき層8を形成することで、
ランドレスのバイア接続をすることも可能である。しか
し、この場合にも同様に接続の信頼性は得られない。
【0007】一方、下層配線である内層配線まで到達す
るブラインドホールを用いて上層配線である例えば表層
配線と内層配線とを接続する構造が知られている。かか
る構造の製造工程を図6に示す。同図に示すように、基
板11上に形成された内層配線となる配線12を覆うよ
うに光感光性樹脂層13を設け((a))、ブラインドホ
ールの大きさの遮光部14aを有する遮光パタン14を
介して露光して遮光部以外の光感光性層13に光を照射
した((b))後、現像することにより、内層配線12ま
で到達するブラインドホール15を形成する((c))。
続いて、ブラインドホール15の底面および内周面並び
に基板11の表面に導電体層16を形成し((d))、ブ
ラインドホール15を覆うようにドライフィルムフォト
レジスト17を設けると共に、ブラインドホール15の
開口部より少し大きくかつ位置ずれを考慮しても底面を
覆うような寸法の遮光部18aを有する遮光パタン18
を介して露光して遮光部18a以外のフォトレジスト1
7に光を照射する((e))。その後、現像することによ
りブラインドホール15の開口を覆うレジストパタン1
7aを形成し((f))、さらにエッチングすることによ
り、内層配線12に接続されると共にブラインドホール
15の開口部の周囲にランドを有する導電体パタン16
aを形成する。そして、常法に基づき、この導電体パタ
ン16aのランドに連続するように基板11上に図示し
ない表層配線を形成することにより、導電体パタン16
aを介して内層配線12と表層配線とを接続する構造が
得られる。
るブラインドホールを用いて上層配線である例えば表層
配線と内層配線とを接続する構造が知られている。かか
る構造の製造工程を図6に示す。同図に示すように、基
板11上に形成された内層配線となる配線12を覆うよ
うに光感光性樹脂層13を設け((a))、ブラインドホ
ールの大きさの遮光部14aを有する遮光パタン14を
介して露光して遮光部以外の光感光性層13に光を照射
した((b))後、現像することにより、内層配線12ま
で到達するブラインドホール15を形成する((c))。
続いて、ブラインドホール15の底面および内周面並び
に基板11の表面に導電体層16を形成し((d))、ブ
ラインドホール15を覆うようにドライフィルムフォト
レジスト17を設けると共に、ブラインドホール15の
開口部より少し大きくかつ位置ずれを考慮しても底面を
覆うような寸法の遮光部18aを有する遮光パタン18
を介して露光して遮光部18a以外のフォトレジスト1
7に光を照射する((e))。その後、現像することによ
りブラインドホール15の開口を覆うレジストパタン1
7aを形成し((f))、さらにエッチングすることによ
り、内層配線12に接続されると共にブラインドホール
15の開口部の周囲にランドを有する導電体パタン16
aを形成する。そして、常法に基づき、この導電体パタ
ン16aのランドに連続するように基板11上に図示し
ない表層配線を形成することにより、導電体パタン16
aを介して内層配線12と表層配線とを接続する構造が
得られる。
【0008】図6に示すような構造は、内層配線との接
続の信頼性は得られるものの、その製造工程上の特性に
よりブラインドホールの開口部周囲にランドが存在する
ので、配線密度を高めるという要望には応えられない。
続の信頼性は得られるものの、その製造工程上の特性に
よりブラインドホールの開口部周囲にランドが存在する
ので、配線密度を高めるという要望には応えられない。
【0009】本発明はこのような事情に鑑み、上層配線
と下層配線とを信頼性よく接続できると共に高配線密度
を実現できるプリント配線板およびその製造方法を提供
することを目的とする。
と下層配線とを信頼性よく接続できると共に高配線密度
を実現できるプリント配線板およびその製造方法を提供
することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】かかる目的を達成する本
発明は、上層配線および下層配線を有するプリント配線
板において、前記下層配線まで到達すると共に底部より
開口部が大きいブラインドホールが形成されており、か
つ該ブラインドホールの底面および内周面には前記上層
配線と下層配線とを接続する導電体パタンが形成されて
いることを特徴とするプリント配線板にあり、また、内
層配線を有するプリント配線板に該内層配線まで到達す
ると共に底部より開口部が大きいブラインドホールを形
成する工程と、前記プリント配線板表面の少なくとも前
記ブラインドホールの周囲および該ブラインドホールの
底面および内周面に前記内層配線と接続される導電体層
を形成する工程と、前記導電体層表面にポジ型フォトレ
ジスト層を形成する工程と、前記ブラインドホールの底
部より大きいが開口部より小さい遮光部を有する遮光パ
タンを介して露光した後現像して該ブラインドホールの
底部および内周面上にレジストパタンを形成する工程
と、前記レジストパタンの部分以外の前記導電体層をエ
ッチングにより除去して導電体パタンを形成する工程と
を具備することを特徴とするプリント配線板の製造方法
にある。
発明は、上層配線および下層配線を有するプリント配線
板において、前記下層配線まで到達すると共に底部より
開口部が大きいブラインドホールが形成されており、か
つ該ブラインドホールの底面および内周面には前記上層
配線と下層配線とを接続する導電体パタンが形成されて
いることを特徴とするプリント配線板にあり、また、内
層配線を有するプリント配線板に該内層配線まで到達す
ると共に底部より開口部が大きいブラインドホールを形
成する工程と、前記プリント配線板表面の少なくとも前
記ブラインドホールの周囲および該ブラインドホールの
底面および内周面に前記内層配線と接続される導電体層
を形成する工程と、前記導電体層表面にポジ型フォトレ
ジスト層を形成する工程と、前記ブラインドホールの底
部より大きいが開口部より小さい遮光部を有する遮光パ
タンを介して露光した後現像して該ブラインドホールの
底部および内周面上にレジストパタンを形成する工程
と、前記レジストパタンの部分以外の前記導電体層をエ
ッチングにより除去して導電体パタンを形成する工程と
を具備することを特徴とするプリント配線板の製造方法
にある。
【0011】
【作用】上述した構成のプリント配線板では、下層配線
との接続はブラインドホールの底面上の導電体パタンで
信頼性よく行われると共に上層配線との接続はブライン
ドホールの内周面上の導電体パタンで信頼性よく行わ
れ、しかも、ブラインドホールの開口部の周囲にはラン
ドが存在しないので、高密度配線を実現できる。
との接続はブラインドホールの底面上の導電体パタンで
信頼性よく行われると共に上層配線との接続はブライン
ドホールの内周面上の導電体パタンで信頼性よく行わ
れ、しかも、ブラインドホールの開口部の周囲にはラン
ドが存在しないので、高密度配線を実現できる。
【0012】また、上述した製造方法では、導電体層の
表面にポジ型フォトレジスト層を設けると共に、前記ブ
ラインドホールの底部より大きいが開口部より小さい遮
光部を有する遮光パタンを介して露光し、現像すること
により、ブラインドホール底部および内周面は覆うが開
口部の周囲は完全に除去されたレジストパタンを形成す
ることができる。すなわち、かかる露光では、ブライン
ドホールの内周面上のフォトレジストの一部にも光が照
射されることになるが、この内周面は光の照射方向に対
して傾斜しており、その光の照射量が開口部の周囲と比
べて少ないので、内周面上のレジストはほとんど除去さ
れない。したがって、その後、エッチングを施すことに
より、ブラインドホールの底部から内周面のほぼ全域に
連続して延びる導電体パタンを形成することができる。
表面にポジ型フォトレジスト層を設けると共に、前記ブ
ラインドホールの底部より大きいが開口部より小さい遮
光部を有する遮光パタンを介して露光し、現像すること
により、ブラインドホール底部および内周面は覆うが開
口部の周囲は完全に除去されたレジストパタンを形成す
ることができる。すなわち、かかる露光では、ブライン
ドホールの内周面上のフォトレジストの一部にも光が照
射されることになるが、この内周面は光の照射方向に対
して傾斜しており、その光の照射量が開口部の周囲と比
べて少ないので、内周面上のレジストはほとんど除去さ
れない。したがって、その後、エッチングを施すことに
より、ブラインドホールの底部から内周面のほぼ全域に
連続して延びる導電体パタンを形成することができる。
【0013】
【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて説明する。
【0014】図1は、一実施例にかかるプリント配線板
の構成を概念的に示すものであり、(A)は一部を切り
欠いた斜視図、(B)はその断面図である。両図に示す
ように、基板21には、下層配線である内層配線22ま
で到達すると共に底部から開口部に向かって径が漸大す
るブラインドホール23が形成されており、かつブライ
ンドホール23の底面および内周面には内層配線22と
上層配線である例えば表層配線24とを接続する導電体
パタン25が形成されている。ここで、導電体パタン2
5は、表層配線24との接続部以外はブラインドホール
23内にある。したがって、ブラインドホール23の開
口部の周囲にはランドがなく、配線密度を高める点では
有利である。
の構成を概念的に示すものであり、(A)は一部を切り
欠いた斜視図、(B)はその断面図である。両図に示す
ように、基板21には、下層配線である内層配線22ま
で到達すると共に底部から開口部に向かって径が漸大す
るブラインドホール23が形成されており、かつブライ
ンドホール23の底面および内周面には内層配線22と
上層配線である例えば表層配線24とを接続する導電体
パタン25が形成されている。ここで、導電体パタン2
5は、表層配線24との接続部以外はブラインドホール
23内にある。したがって、ブラインドホール23の開
口部の周囲にはランドがなく、配線密度を高める点では
有利である。
【0015】かかるプリント配線板の一製造例を図2を
参照しながら説明する。同図に示すように、基板21a
上に形成された銅のめっき層などからなる下層配線であ
る内層配線22を覆うように絶縁性の光感光性樹脂層2
1bを設け((a))、ブラインドホールの大きさの遮光
部26aを有する遮光パタン26を介して露光して遮光
部26a以外の光感光性樹脂層21bに光を照射した
((b))後、現像することにより、基板21に、内層配
線22まで到達するブラインドホール23を形成する
((c))。ここで、ブラインドホール23は、底部から
開口部にかけて径が漸大する形状となる。続いて、内層
配線22と連続するようにブラインドホール23の底面
および内周面、並びに基板21の表面に銅めっきなどか
らなる導電体層25’を形成する((d))。次に、導電
体層25’上に、例えば電着などの手段によりポジ型フ
ォトレジスト層27形成する。そして、ブラインドホー
ル23の底部より少し大きいが開口部より小さく位置ず
れを考慮しても底部を覆うような大きさの遮光部28a
を有する遮光パタン28を介して露光して遮光部28a
以外のフォトレジスト層27に光を照射する((e))。
このとき、ブラインドホール23の内周面上のフォトレ
ジスト層27にも光が照射されるが、この部分は光の照
射方向に対して、例えば、60〜70度傾斜しているの
で、フォトレジストに与えられる光エネルギーが他の部
分と比べて少ない。したがって、その後、現像すると、
ブラインドホール23の底面のほか内周面上にもレジス
トパタン27aが形成されるが、開口部の周囲のレジス
トは完全に除去される((f))。そして、さらにエッチ
ングすることにより、ブラインドホール23の底面およ
び内周面上に、内層配線22に接続される導電体パタン
25が形成され、ブラインドホール23の開口部の周囲
にはランドは形成されない。この後は、常法に基づき、
すなわち、基板21表面に再び導電体層およびフォトレ
ジスト層を設けると共に遮光パタンを介して露光・現像
し、再びエッチングすることにより、この導電体パタン
25に接続する図示しない上層配線である例えば表層配
線を形成する。これにより、導電体パタン25を介して
内層配線22と表層配線とを接続したプリント配線板を
得ることができる(図1参照)。
参照しながら説明する。同図に示すように、基板21a
上に形成された銅のめっき層などからなる下層配線であ
る内層配線22を覆うように絶縁性の光感光性樹脂層2
1bを設け((a))、ブラインドホールの大きさの遮光
部26aを有する遮光パタン26を介して露光して遮光
部26a以外の光感光性樹脂層21bに光を照射した
((b))後、現像することにより、基板21に、内層配
線22まで到達するブラインドホール23を形成する
((c))。ここで、ブラインドホール23は、底部から
開口部にかけて径が漸大する形状となる。続いて、内層
配線22と連続するようにブラインドホール23の底面
および内周面、並びに基板21の表面に銅めっきなどか
らなる導電体層25’を形成する((d))。次に、導電
体層25’上に、例えば電着などの手段によりポジ型フ
ォトレジスト層27形成する。そして、ブラインドホー
ル23の底部より少し大きいが開口部より小さく位置ず
れを考慮しても底部を覆うような大きさの遮光部28a
を有する遮光パタン28を介して露光して遮光部28a
以外のフォトレジスト層27に光を照射する((e))。
このとき、ブラインドホール23の内周面上のフォトレ
ジスト層27にも光が照射されるが、この部分は光の照
射方向に対して、例えば、60〜70度傾斜しているの
で、フォトレジストに与えられる光エネルギーが他の部
分と比べて少ない。したがって、その後、現像すると、
ブラインドホール23の底面のほか内周面上にもレジス
トパタン27aが形成されるが、開口部の周囲のレジス
トは完全に除去される((f))。そして、さらにエッチ
ングすることにより、ブラインドホール23の底面およ
び内周面上に、内層配線22に接続される導電体パタン
25が形成され、ブラインドホール23の開口部の周囲
にはランドは形成されない。この後は、常法に基づき、
すなわち、基板21表面に再び導電体層およびフォトレ
ジスト層を設けると共に遮光パタンを介して露光・現像
し、再びエッチングすることにより、この導電体パタン
25に接続する図示しない上層配線である例えば表層配
線を形成する。これにより、導電体パタン25を介して
内層配線22と表層配線とを接続したプリント配線板を
得ることができる(図1参照)。
【0016】かかる製造方法では、上述したようにポジ
型フォトレジスト層と遮光パタンとの位置ずれ誤差量を
ブラインドホールの内周面内で吸収できるので、遮光パ
タンを従来程厳しく位置合せしなくても、ブラインドホ
ールの底面および内周面に導電体パタンを形成すること
ができる。
型フォトレジスト層と遮光パタンとの位置ずれ誤差量を
ブラインドホールの内周面内で吸収できるので、遮光パ
タンを従来程厳しく位置合せしなくても、ブラインドホ
ールの底面および内周面に導電体パタンを形成すること
ができる。
【0017】例えば、ブラインドホールの深さが80μ
mの場合、その底部の直径は通常、150μm程度で、
開口部の直径は280μm程度である。そして、従来の
ようにドライフィルムフォトレジストを用いて導電体層
をエッチングした場合、フォトレジスト層と遮光パタン
との位置ずれ量を考慮すると、開口部の周囲に直径41
0μm程度のランドが形成されてしまう。しかし、上述
した本発明方法によれば、ランドが形成されず、280
μm程度で済むので、かなりの省スペース化を図ること
ができる。
mの場合、その底部の直径は通常、150μm程度で、
開口部の直径は280μm程度である。そして、従来の
ようにドライフィルムフォトレジストを用いて導電体層
をエッチングした場合、フォトレジスト層と遮光パタン
との位置ずれ量を考慮すると、開口部の周囲に直径41
0μm程度のランドが形成されてしまう。しかし、上述
した本発明方法によれば、ランドが形成されず、280
μm程度で済むので、かなりの省スペース化を図ること
ができる。
【0018】実施例は、上下2層の配線接続を中心に述
べたが、本発明は、そのような配線接続およびその製造
工程を繰返すことにより、3層以上の多層配線にも適用
できることは明らかである。
べたが、本発明は、そのような配線接続およびその製造
工程を繰返すことにより、3層以上の多層配線にも適用
できることは明らかである。
【0019】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、ブライ
ンドホールの底面の導電体パタンを介して下層配線と接
続すると共に内周面の導電体パタンを介して上層配線と
接続してブラインドホールの開口部の周囲のランドを排
除した構造としたので、上層配線と下層配線との接続の
信頼性が高く高配線密度が実現できるプリント配線板を
提供するすることができるものである。
ンドホールの底面の導電体パタンを介して下層配線と接
続すると共に内周面の導電体パタンを介して上層配線と
接続してブラインドホールの開口部の周囲のランドを排
除した構造としたので、上層配線と下層配線との接続の
信頼性が高く高配線密度が実現できるプリント配線板を
提供するすることができるものである。
【図1】本発明の一実施例に係るプリント配線板を示す
模式図である。
模式図である。
【図2】本発明のプリント配線板の製造方法の一例を示
す工程図である。
す工程図である。
【図3】従来技術に係るプリント配線板の一例を示す模
式図である。
式図である。
【図4】従来技術の問題点を説明する模式図である。
【図5】従来技術の問題点を説明する模式図である。
【図6】従来技術のプリント配線板の製造方法の一例を
示す工程図である。
示す工程図である。
21 基板 22 内層配線 23 ブラインドホール 24 表面配線 25 導電体パタン 26,28 遮光パタン 27 ポジ型フォトレジスト層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 土田 修平 滋賀県野洲郡野洲町大字市三宅800番地 日本アイ・ビー・エム株式会社 野洲事業 所内
Claims (2)
- 【請求項1】 上層配線および下層配線を有するプリン
ト配線板において、前記下層配線まで到達すると共に底
部より開口部が大きいブラインドホールが形成されてお
り、かつ該ブラインドホールの底面および内周面には前
記上層配線と下層配線とを接続する導電体パタンが形成
されていることを特徴とするプリント配線板。 - 【請求項2】 内層配線を有するプリント配線板に該内
層配線まで到達すると共に底部より開口部が大きいブラ
インドホールを形成する工程と、 前記プリント配線板表面の少なくとも前記ブラインドホ
ールの周囲および該ブラインドホールの底面および内周
面に前記内層配線と接続される導電体層を形成する工程
と、 前記導電体層表面にポジ型フォトレジスト層を形成する
工程と、 前記ブラインドホールの底部より大きいが開口部より小
さい遮光部を有する遮光パタンを介して露光した後現像
して該ブラインドホールの底部および内周面上にレジス
トパタンを形成する工程と、 前記レジストパタンの部分以外の前記導電体層をエッチ
ングにより除去して導電体パタンを形成する工程とを具
備することを特徴とするプリント配線板の製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4347638A JP2502902B2 (ja) | 1992-12-28 | 1992-12-28 | プリント配線板およびその製造方法 |
US08/561,533 US5537740A (en) | 1992-12-28 | 1995-11-22 | Method of making printed circuit board |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4347638A JP2502902B2 (ja) | 1992-12-28 | 1992-12-28 | プリント配線板およびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06310865A true JPH06310865A (ja) | 1994-11-04 |
JP2502902B2 JP2502902B2 (ja) | 1996-05-29 |
Family
ID=18391577
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4347638A Expired - Fee Related JP2502902B2 (ja) | 1992-12-28 | 1992-12-28 | プリント配線板およびその製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5537740A (ja) |
JP (1) | JP2502902B2 (ja) |
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1992
- 1992-12-28 JP JP4347638A patent/JP2502902B2/ja not_active Expired - Fee Related
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1995
- 1995-11-22 US US08/561,533 patent/US5537740A/en not_active Expired - Lifetime
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US5537740A (en) | 1996-07-23 |
JP2502902B2 (ja) | 1996-05-29 |
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