JPH06283490A

JPH06283490A - 物品の処理装置における洗浄液の供給方法

Info

Publication number: JPH06283490A
Application number: JP7180093A
Authority: JP
Inventors: Tomoharu Furukawa; 智晴古川
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1993-03-30
Filing date: 1993-03-30
Publication date: 1994-10-07

Abstract

(57)【要約】（修正有）【目的】洗浄液の節水と洗浄処理時の物品の空洗浄状
態の防止を目的とする。【構成】スタンバイ状態の時点から、第１のキャリヤ
Ｋａが薬液槽６１に投入されると、節水状態にあった純
水槽６２内の純水を一旦排水し、その後、新たに給水
し、溢水状態になると、その直後に再び節水状態にし、
前記第１のキャリヤＫａの薬液処理後、それがその薬液
槽から前記節水状態の純水槽に投入される直前に、その
純水槽内の純水を節水状態から溢水状態にし、その溢水
状態でキャリヤを洗浄するようにしている。【効果】純水の溢水状態を短縮することができるた
め、純水の使用量を節約することができると共に、純水
槽がカラの状態でキャリヤを洗浄することがなくなる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、例えば、半導体ウエ
ハなどの物品を複数枚、ウエハキャリヤに収納し、薬液
を用いてそれらの半導体ウエハの表面に付着している不
要な物質を除去したり、逆にその表面に薄膜を形成した
りするなどの薬液処理を行い、その後、その薬液を洗浄
液、例えば、純水で洗浄する際の洗浄槽への洗浄液の供
給方法に関するものである。なお、この明細書で用いら
れている「給水」、「排水」、「溢水」、「節水」、
「満水」など、「水」を含んだ用語は、「水」そのもの
や「純水」にだけ限定されるものではなく、アルコール
などの洗浄液にも適用するもので、このような「洗浄
液」の処理にも同様の用語を用い、全てを包含するもの
である。

【０００２】

【従来の技術】従来技術の処理装置として、半導体装置
の製造に、現在、一般的に用いられている自動処理装置
を取り挙げ、この自動洗浄装置を用いて物品である半導
体ウエハを純水で洗浄する場合の洗浄槽への純水の供給
方法を図４乃至図８を用いて説明する。図４は現在、半
導体装置の製造ラインで一般的に使用されている自動洗
浄装置の概略平面図であり、図５は図４の自動洗浄装置
内の処理槽部における薬液処理及び純水洗浄の工程図で
あり、図６は従来技術における純水洗浄槽の給排水状態
と半導体ウエハの洗浄処理時間関係を示すタイミングチ
ャートであり、図７は従来技術及びこの発明の、薬液処
理槽と純水洗浄槽への半導体ウエハの動きに応じて、純
水洗浄槽における純水が変化する状態を表したタイミン
グチャートであり、そして図８は図５の従来技術におけ
る純水洗浄槽への純水の供給状態と薬液処理槽の処理状
態との関係を示すタイミングチャートである。

【０００３】先ず、図４において、符号１００は全体と
して自動洗浄装置を示す。この自動洗浄装置１００での
キャリヤＫまたはＫａに収納された半導体ウエハ（以
下、単に「ウエハ」と記す）の流れとしては、キャリヤ
投入、払出部１１０から複数枚のウエハを収納したキャ
リヤＫを投入し、ストッカー部１２０でウエハを蓄え、
キャリヤ交換部１３０で薬液処理に適したキャリヤＫａ
へ交換し、搬送部１４０でローダー部１５０へキャリヤ
Ｋａを送り、そのローダー部１５０でウエハの薬液処理
及び純水洗浄処理開始のタイミングをコントロールし、
薬液及び純水の入った処理槽部１６０で薬液処理、純水
洗浄及び乾燥を行い、その後アンローダー部１７０へ運
ばれ、前記キャリヤ交換部１３０で処理前のキャリヤＫ
へ交換し、そして前記ストッカー部１２０に蓄え、適切
なタイミングで前記キャリヤ投入、払出部１１０から払
い出されるように構成されている。

【０００４】前記処理槽部１６０は複数の薬液処理槽
（以下、単に「薬液槽」と記す）と純水洗浄槽（以下、
単に「純水槽」と記す）から構成されていて、図５には
その内の１個の薬液槽６１と１個の純水槽６２とを示し
た。この薬液槽６１では、使用する薬液や処理方法によ
り異なるが、ウエハの表面に付着している不要な物質を
除去したり、逆にその表面に薄膜を形成したりする。

【０００５】キャリヤＫａの搬送は、図示していないが
ロボットで行われ、そのロボットの動きは、これも図示
していないが、自動洗浄装置１００に内蔵されている制
御部により制御されている。その制御部は、薬液槽６１
へのウエハの投入、薬液処理時間、搬出、純水槽６２へ
の投入、純水洗浄時間、搬出などロボットの動きを制御
する。また、その制御部は純水槽６２への純水の供給状
態などを制御する。

【０００６】次に、図５乃至図８を用いて、前記薬液槽
６１及び純水槽６２へのウエハの投入、搬出と、純水槽
６２の純水の給排水の状態を説明する。図５において、
先ず、洗浄開始当初においては、工程１のように、薬液
槽６１は処理に必要な薬液が所定の容量満たされた状態
で、また純水槽６２は、バルブ６２ｂが前記制御部によ
って僅かに開けられていて、純水を、例えば、毎分１リ
ットルの割合で給水管６２ａを通じて供給し、図示した
ように、純水槽６２の上部開口から少量の純水が溢れて
いる状態、即ち、節水状態でスタンバイしている。

【０００７】このスタンバイ状態の純水槽６２の状態
は、図６の時点ｔ１（Ｘ座標軸を時間軸とする）まで時
間を示すものであって、純水槽６２は満水状態で、給水
は節水状態にあり、そして排水弁６２ｃは閉塞状態にあ
る。

【０００８】このスタンバイ状態において、工程２に示
したように、複数枚のウエハが収納されたキャリヤＫａ
（以下、単に「キャリヤＫａ」と記す）が前記状態の薬
液槽６１に浸漬され、処理される状態になると、純水槽
６２の下方にある排水弁６２ｃが開放されて、前記スタ
ンバイ状態の純水槽６２の純水は一旦排水され、排水弁
６２ｃが閉塞された後、バルブ６２ｂが開放されて、毎
分３０リットルの割合で純水が前記給水管６２ａを通じ
て供給され、純水槽６２の上方開口から多量の純水が溢
れた状態、即ち、溢水状態にする。なお、前記給水管６
２ａ、バルブ６２ｂ及び排水弁６２ｃの動作の説明は以
下省略する。

【０００９】この排水状態は、図６において、時点ｔ１
から時点ｔ２、ｔ３を経て時点ｔ４を越えた時間帯まで
の状態を示すものである。時点ｔ１から時点ｔ２までは
純水槽６２内の純水が排水される時間を指し、時点ｔ２
から時点ｔ３までは純水槽６２には純水が給水されず、
空の状態が続き、時点ｔ３から時点ｔ４までは純水槽６
２へ純水が給水されている状態の時間帯を指し、そして
時点ｔ４以降の時間帯は純水槽６２が溢水状態にあるこ
とを表している。時点ｔ１から時点ｔ３までの時間帯Ｔ
ｂは排水弁６２ｃが開放されている排水時間帯であるこ
とは言うまでもない。そして、現用の処理槽部６０で
は、この排水時間Ｔｂは後続のキャリヤＫａの薬液処理
時間が異なっても一定に設定されている。

【００１０】次に、図５において、次工程３に示したよ
うに、薬液槽６１で所望の状態に薬液処理されると、そ
のキャリヤＫａを薬液槽６１から搬出し、前記のように
充分に溢水状態にある純水槽６２に投入する。そして、
工程４で所定の洗浄時間を掛け、純水洗浄を行う。この
間も純水を毎分３０リットルの割合で給水し、溢水状態
に保つ。

【００１１】この洗浄処理状態は、図６では時点ｔ４か
ら時点ｔ６までの時間帯で示すことができる。即ち、時
点ｔ４から充分に溢水状態になった時点ｔ５で純水洗浄
が開始され、所定の洗浄処理時間Ｔａを掛けて洗浄す
る。この洗浄処理時間Ｔａは後続のキャリヤＫａの薬液
処理の種類などによって異なる。

【００１２】そして、所定の通り洗浄できると、図５の
工程５に示したように、そのキャリヤＫａは純水槽６２
から搬出され、次工程の乾燥器に投入される。この時、
純水槽６２への純水の給水は毎分３０リットルの割合で
行われている溢水状態から毎分１リットルの割合で行わ
れる節水状態に切り換えられる。

【００１３】この給水状態の切り換えの状況は、図６の
時点ｔ６以降の状態で示されている。即ち、時点ｔ６で
洗浄処理が終了すると、時点ｔ６から時点ｔ７の若干の
時間経過後、前記バルブ６２ｂが絞られて、純水槽６２
への給水状態が溢水状態から節水状態に切り換えられ、
純水槽６２はそのまま満水状態に保たれる。当然のこと
ながら、前記排水弁６２ｃは時点ｔ３から閉塞状態を続
けている。

【００１４】この工程５の状態は工程１の状態に返った
状態である。キャリヤＫａが一個、或いは図４及び図５
に示したような一組の単発で薬液処理及び洗浄処理が終
了する場合は、この工程５で終了であるが、次々にキャ
リヤＫａが処理槽部６０へ搬入されて、前記のような薬
液処理及び洗浄処理を反復する連続処理の場合には、前
記工程５から工程２に戻って、キャリヤＫａの薬液処理
及び洗浄処理を行えばよい。

【００１５】図７Ａ及び図７Ｂに、従来技術の前記薬液
処理及び洗浄処理の単発処理及び連続処理におけるキャ
リヤＫａの動きと純水槽６２における純水の変化を示し
た。図７ＡはキャリヤＫａ（ウエハ）の動きを示してお
り、時点ｔ１で第１のキャリヤＫａが薬液槽６１に投入
されると同時に、純水槽６２内の純水が節水状態から排
水状態（時点ｔ１〜時点ｔ３）になり、そして時点ｔ３
で給水状態に転じて時点ｔ４で溢水状態になる。

【００１６】そして所定の薬液処理時間Ｔｃが経過する
と、その薬液処理済みの第１のキャリヤＫａは時点Ｔ５
の時点で純水槽６２に投入され、前記所定の時間Ｔａの
間、純水で洗浄処理される。この間に、空になっている
前記薬液槽６１に次の第２のキャリヤＫａが投入され、
同様に薬液処理される。

【００１７】そして、前記の時間Ｔａで洗浄処理された
第１のキャリヤＫａは純水槽６２から搬出され、乾燥器
へ移載される。それと同時に（時点ｔ６）、或いはその
直後の時点ｔ７で純水槽６２内の純水が排水され（図７
Ａには時点ｔ６及び時点ｔ７は同時点として描いた）、
そして給水されて、再び純水槽６２は溢水状態に保た
れ、次の薬液処理された第２のキャリヤＫａが何時投入
されてもよい受入れ態勢の状態に保たれる。以後、次々
に投入される第３、第４・・・のキャリヤＫａの動きと
それに伴う純水槽６２内の純水の変化は同様の繰り返し
を行う。

【００１８】図７Ａの純水槽６２において、キャリヤＫ
ａ（ウエハ）の存在しない期間があり、その期間をハッ
チングで示した。

【００１９】なお、この図７において、期間Ｓ１は薬液
処理及び洗浄処理が単発処理で終了する期間で、改めて
キャリヤＫａの薬液処理及び洗浄処理を行う場合は、こ
の期間Ｓ１のようなキャリヤＫａの動きと純水槽６２の
純水の変化が繰り返される。次々と連続的に第１、第
２、第３・・・のキャリヤＫａを処理する場合は、この
期間Ｓ１に続いて所望の期間である期間Ｓ２が追加さ
れ、繰り返される。即ち、現行の供給方法では、排水以
外は常時溢水状態になっている。

【００２０】

【発明が解決しようとする課題】前記のような従来技術
の供給方法では、純水槽６２内の排水は、薬液槽６１で
キャリヤＫａの処理が始まった時点で開始するように設
定されており、そして薬液槽６１にキャリヤＫａがあ
り、純水槽６２での先行するキャリヤＫａの洗浄処理が
終わってから溢水状態で給水が行われるようになってい
る。

【００２１】従って、先ず第１に、図６を用いて説明し
たように、純水槽６２内にキャリヤＫａが投入されてい
ない時間帯でも、即ち、図６の時点ｔ３から給水を開始
し、時点ｔ４になると溢水状態で給水が行われ、この状
態が長く続く。従って、図６のハッチングで示した部分
Ａに相当する分量の純水が無駄に使用される。

【００２２】また、従来技術の供給方法では、排水時間
（排水弁６２ｃの開放されている時間）Ｔｂが一定に設
定されている。従って、図８に示したように、薬液処理
時間が異なる時間Ｔｃ₁、Ｔｃ₂・・・のキャリヤＫａ
が連続して処理槽部６０に次々に浸漬され、処理される
場合には、ハッチングで示した部分Ｂａ、Ｂｂ・・・
の、まだ満水状態になっていない状態で、ハッチングで
示した時間帯Ｃａ、Ｃｂ・・・の間、純水槽６２にキャ
リヤＫａが投入されることになり、キャリヤＫａが均一
に洗浄されない状態（以下、単に「カラの状態」と記
す）が出現することがある。この発明は従来技術のこの
ような問題点を解決することを課題とするものである。

【００２３】

【課題を解決するための手段】それ故、この発明の物品
の処理装置における供給方法は、少なくとも一つの薬液
槽と純水槽とからなり、その薬液槽で薬液を用いて物品
を処理した後、その物品を前記純水槽で純水を用いて洗
浄し、薬液を除去する、単発の物品を単発処理する、或
いは複数の物品を次々に処理する物品の処理装置におい
て、第１の物品の薬液処理のスタンバイ状態の時、純水
槽内の純水を節水状態とし、前記物品が薬液槽に浸漬さ
れ、薬液処理されると、純水槽内の純水を節水状態から
一旦排水し、その後、新たな純水を供給し、純水槽が溢
水状態になると、その直後に純水の供給を制限して再び
節水状態にし、薬液槽での前記第１の物品の薬液処理が
終了し、その物品がその薬液槽から前記節水状態の純水
槽に投入される直前に、新たな純水を供給して純水槽内
の純水を節水状態から溢水状態にし、その純水が溢水状
態において薬液処理された第１の物品を洗浄するように
し、更に引き続き第２の物品が前記薬液槽に投入されて
薬液処理されると、前記第１の物品の洗浄が終了して、
その物品が前記純水槽から搬出され、その純水槽内の純
水が排水され、その後、新たな純水を供給して純水槽が
再び溢水状態になると、その直後に純水の供給を制限し
て再び節水状態にし、その薬液槽での前記第２の物品の
薬液処理が終了し、その物品がその薬液槽から前記節水
状態の純水槽に投入される直前に、また新たな純水を供
給してその純水槽内の純水を節水状態から溢水状態に
し、その純水の溢水状態で前記第２の物品を洗浄し、以
後投入される後続の物品に対しても第２の物品の純水洗
浄と同様に前記純水槽に純水を供給する方法を採って、
前記課題を解決した。

【００２４】

【作用】従って、純水の溢水状態を短縮することができ
るため、純水の使用量を節約することができると共に、
純水槽がカラの状態での物品の洗浄処理がなくなる。

【００２５】

【実施例】次に、この発明の実施例の自動処理装置を図
１乃至図３を用いて説明する。図１は図５に対応し、こ
の発明の自動洗浄装置内の処理槽部における、この発明
の薬液処理及び純水洗浄の工程図であり、図２は図１に
示したこの発明における純水槽の給排水状態とウエハの
洗浄処理時間関係を示すタイミングチャートであり、そ
して図３はこの発明における純水槽への純水の供給状態
と薬液槽の処理状態との関係を示すタイミングチャート
である。なお、従来技術の処理槽部と同一の部分には同
一の符号を付し、それらの説明を省略する。

【００２６】この発明の自動洗浄装置内における処理槽
部６０Ａの工程の特長は、図１に示したように、先ず、
洗浄開始当初においては、工程１のように、薬液槽６１
は処理に必要な薬液が所定の容量満たされた状態で、ま
た純水槽６２は、バルブ６２ｂが前記制御部によって僅
かに開けられていて、純水を、例えば、毎分１リットル
の割合で給水管６２ａを通じて供給し、図示したよう
に、純水槽６２の上方開口から少量の純水が溢れている
状態、即ち、節水状態でスタンバイしている。

【００２７】このスタンバイ状態の純水槽６２の状態
は、図２の時点ｔ１まで時間を示すものであって、純水
槽６２は満水状態で、給水は節水状態にあり、そして排
水弁６２ｃは閉塞状態にある。

【００２８】このスタンバイ状態において、工程２に示
したように、キャリヤＫａが前記状態の薬液槽６１に浸
漬され、処理される状態になると、純水槽６２の下方に
ある排水弁６２ｃが開放されて、前記スタンバイ状態の
純水槽６２の純水は一旦排水され、その後、バルブ６２
ｂが開放されて、毎分３０リットルの割合で純水が前記
給水管６２ａを通じて供給され、純水槽６２の上方開口
から多量の純水が溢れた状態、即ち、溢水状態にする。
この給排水状態は従来技術の給排水状態と同様である。

【００２９】即ち、この給排水状態は、図６において、
時点ｔ１から時点ｔ２、ｔ３を経て時点ｔ４を越えた時
間帯までの状態を示すものである。時点ｔ１から時点ｔ
２までは純水槽６２内の純水が排水される時間を指し、
時点ｔ２から時点ｔ３までは純水槽６２には純水が給水
されず、空の状態が続き、時点ｔ３から時点ｔ４までは
純水槽６２へ純水が毎分３０リットルの割合で給水され
ている状態の時間帯を指し、そして時点ｔ４以降の時間
帯は純水槽６２が溢水状態にあることを表している。

【００３０】次に、この発明の要点であるが、純水槽６
２内の純水が溢れる時点ｔ４になると、直ちに前記バル
ブ６２ｂを絞って節水状態に切り換え、純水槽６２に薬
液処理されたキャリヤＫａが投入される時点ｔ５までの
時間帯、純水槽６２への給水をこの節水状態に維持す
る。即ち、毎分１リットルの割合で給水する。

【００３１】純水槽６２がこのような節水状態にある時
に、図１の工程３Ａに示したように、キャリヤＫａが薬
液槽６１で所望の状態に薬液処理され、そのキャリヤＫ
ａが薬液槽６１から搬出されて、前記状態の純水槽６２
に投入されると同時に、或いはその直前に、前記純水槽
６２への純水の供給を前記節水状態から溢水状態に切り
換える。即ち、毎分３０リットルの割合で給水する。

【００３２】そして、工程４で時点ｔ６までの所定の洗
浄時間Ｔａを掛け、純水洗浄を行う。この間も純水を毎
分３０リットルの割合で給水し、溢水状態に保つ。

【００３３】この洗浄処理状態は、図２では時点ｔ５か
ら時点ｔ６までの時間帯で示すことができる。即ち、時
点ｔ５で充分に溢水状態になった時点ｔ５で純水洗浄が
開始され、所定の洗浄処理時間Ｔａを掛けて洗浄する。
この洗浄処理時間Ｔａは後続のキャリヤＫａの薬液処理
の種類などによって異なることは、従来技術の場合と同
様である。

【００３４】そして、所定の通り洗浄できると、図１の
工程５に示したように、そのキャリヤＫａは純水槽６２
から搬出され、次工程の乾燥器に投入される。この時、
純水槽６２への純水の給水は毎分３０リットルの割合で
行われている溢水状態から毎分１リットルの割合で行わ
れる節水状態に切り換えられることは従来技術の場合と
同様である。

【００３５】この給水状態の切り換えの状況は、図２の
時点ｔ６以降の状態で示されている。即ち、時点ｔ６で
洗浄処理が終了すると、時点ｔ６でバルブ６２ｂが絞ら
れて、純水槽６２への給水状態が溢水状態から節水状態
に切り換えられ、純水槽６２はそのまま満水状態に保た
れる。

【００３６】この工程５の状態は工程１の状態に返った
状態である。キャリヤＫａが一個、或いは図４及び図５
に示したような一組の単発で薬液処理及び洗浄処理が終
了する場合は、この工程５で終了であるが、次々にキャ
リヤＫａが処理槽部６０Ａへ搬入されて、前記のような
薬液処理及び洗浄処理を反復する連続処理の場合には、
前記工程５から工程２に戻って、キャリヤＫａの薬液処
理及び洗浄処理が行われる。

【００３７】図７Ａ及び図７Ｃに、前記薬液処理及び洗
浄処理の単発処理及び連続処理におけるキャリヤＫａの
動きとこの発明の純水槽６２における純水の変化を示し
た。図７Ａは前記のようにキャリヤＫａ（ウエハ）の動
きが示されたものであり、その動きの説明は既に記した
ので省略する。

【００３８】図７Ｃに示したように、第１のキャリヤＫ
ａが薬液槽６１内に浸漬されている間、純水槽６２内の
純水は満水状態にあって、その純水槽６２への給水は節
水状態にあり、その第１のキャリヤＫａが純水槽６２に
投入されると同時に（時点ｔ５）、純水槽６２内の純水
が節水状態から溢水状態（時点ｔ５〜時点ｔ６）にな
り、この間の前記所定の時間Ｔａ、純水で洗浄処理され
る。

【００３９】この間に、空になっている前記薬液槽６１
に次の第２のキャリヤＫａが投入され、同様に薬液処理
される。そして、前記の時間Ｔａで洗浄処理された第１
のキャリヤＫａは純水槽６２から搬出され、乾燥器へ移
載される。それと同時に（時点ｔ６）、またはその直後
の時点ｔ７の時点で、純水槽６２内の純水が排水され、
そして給水されて、再び純水槽６２は溢水状態になる
と、直ちに節水状態になり、次の薬液処理された第２の
キャリヤＫａが何時投入されてもよい受入れ態勢の状態
に保たれる。

【００４０】そして、その薬液処理された第２のキャリ
ヤＫａがその節水状態にある純水槽６２に投入されると
同時に、その純水槽６２への給水は溢水状態に切り替わ
り、そのキャリヤＫａは溢水状態で洗浄される。以後、
次々に投入される第３、第４・・・のキャリヤＫａの動
きとそれに伴う純水槽６２内の純水の変化は同様の繰り
返しを行う。

【００４１】なお、従来技術と同様に、この図７におい
て、期間Ｓ１は薬液処理及び洗浄処理が単発処理で終了
する期間で、改めてキャリヤＫａの薬液処理及び洗浄処
理を行う場合は、この期間Ｓ１のようなキャリヤＫａの
動きと純水槽６２の純水の変化が繰り返される。次々と
連続的に第１、第２、第３・・・のキャリヤＫａを処理
する場合は、この期間Ｓ１に続いて所望の期間である期
間Ｓ２が追加され、繰り返される。

【００４２】この図７から明かなように、従来技術の供
給方法では、排水以外は常時溢水状態になっているが、
この発明の供給方法では、排水状態の直後に必ず節水状
態を出現させており、このような状態が繰り返される。

【００４３】次に、次々と連続的に第１、第２、第３・
・・のキャリヤＫａを薬液、洗浄処理する場合の、純水
槽６２への純水の給排水状態を、図３を用いて、説明す
る。この図３は図８に対応する図である。

【００４４】前記のように、この発明の供給方法も、第
１のキャリヤＫａの薬液処理のスタンバイ状態の時、純
水槽６２内の純水を節水状態とし、そのキャリヤＫａが
薬液槽６１に浸漬され、薬液処理されると（時点ｔ
１）、その純水槽６２内の純水を節水状態から一旦排水
し、排水されると、その直後に（時点ｔ３）、新たな純
水を供給し、純水槽６２が溢水状態になると、その直後
（時点ｔ４）に純水の供給を制限して再び節水状態に
し、薬液槽６１での前記第１のキャリヤＫの薬液処理が
終了し、その第１のキャリヤＫがその薬液槽６１から前
記節水状態の純水槽６２に投入される直前に（時点ｔ
５）、新たな純水を供給して純水槽６２内の純水を節水
状態から溢水状態にし、その純水が溢水状態において薬
液処理された第１のキャリヤＫａを洗浄するようにし
た。

【００４５】更に、引き続き第２のキャリヤＫａが前記
薬液槽６１に投入されて薬液処理されると（時点ｔ１
１）、前記第１のキャリヤＫａの洗浄が終了して、その
キャリヤＫａが前記純水槽６２から搬出され、その純水
槽６２内の純水が排水され、空の状態になった時点ｔ１
２の直後（時点ｔ１３）に、再度、新たな純水を供給し
て純水槽６２が再び溢水状態になると（時点ｔ１４）、
その直後に純水の供給を制限して再び節水状態にし、薬
液処理が終了した前記第２のキャリヤＫａがその薬液槽
６１から前記節水状態の純水槽６２に投入される直前に
（時点ｔ１５）、また新たな純水を供給してその純水槽
６２内の純水を節水状態から溢水状態にし、その純水の
溢水状態で前記第２のキャリヤＫａを洗浄する。

【００４６】以後、投入される後続のキャリヤＫａに対
しても、その或るキャリヤＫａの薬液処理時間がたとえ
短い時間Ｔｃ₂であっても、第２のキャリヤＫａの純水
洗浄と同様に前記純水槽６２に純水を供給する方法を採
るようにした。

【００４７】即ち、純水槽６２内の排水は、薬液槽６１
でキャリヤＫａが次々に浸漬され、薬液処理される始め
る毎に、それらの処理時点で開始するように設定されて
おり、純水槽６２が空になると、その直後に純水を溢水
状態で供給することは従来技術と同様であるが、一旦溢
水状態になると、その溢水状態から純水槽６２にキャリ
ヤＫａが投入される寸前まで節水状態で給水が行われ、
純水槽６２にキャリヤＫａが投入される寸前に、純水槽
６２に純水を溢水状態で供給するようにした。

【００４８】従って、前記のように、たとえ処理時間が
異なるキャリヤＫａが次々に処理槽部６０に投入されて
も、従来技術の図８の部分Ｂａ、Ｂｂで示したような、
まだ満水状態になっていない状態で、時間帯Ｃａ、Ｃｂ
・・・の間に、純水槽６２にキャリヤＫａが投入される
という現象が生じることもなく、従って、キャリヤＫａ
が均一に洗浄されないカラの状態が出現するということ
もなくなった。

【００４９】前記の説明では、物品としてキャリヤに収
納された半導体ウエハを採り挙げて説明したが、この発
明の供給方法は、ＣＤなどのディスクや、その他の電子
部品、その他、エッチングやディポジションなどの処理
が施され、その後洗浄を必要とされる物品の処理装置に
おける洗浄液の供給方法にも応用できることは言うまで
もない。

【００５０】また、純水の給水量を「毎分３０リットル
の割合」、「毎分１リットルの割合」というような数量
で説明したが、これらの給水量は洗浄槽の洗浄能力や薬
液の種類に応じて設定されるものであることは言うまで
もない。

【００５１】

【発明の効果】以上、説明したように、この発明の物品
の処理装置における洗浄液の供給方法は、純水の溢水状
態を短縮することができるため、純水の使用量を節約す
ることができ、経費の節減になる。それと共に、何より
も純水槽がカラの状態での物品の洗浄処理がなくなるた
め、不良品の発生を防止することができ、歩留りが向上
するなどという優れた効果が得られた。

【図面の簡単な説明】

【図１】図４の自動洗浄装置内の処理槽部における、
この発明の薬液処理及び純水洗浄の工程図である。

【図２】図１に示したこの発明における純水洗浄槽
（純水槽）の給排水状態と半導体ウエハの洗浄処理時間
関係を示すタイミングチャートである。

【図３】この発明における純水洗浄槽（純水槽）への
純水の供給状態と薬液処理槽（薬液槽）の処理状態との
関係を示すタイミングチャートである。

【図４】現在、半導体装置の製造ラインで一般的に使
用されている自動洗浄装置の概略平面図である。

【図５】図４の自動洗浄装置内の処理槽部における薬
液処理及び純水洗浄の工程図である。

【図６】従来技術における純水洗浄槽（純水槽）の給
排水状態と半導体ウエハの洗浄処理時間関係を示すタイ
ミングチャートである。

【図７】従来技術及びこの発明の、薬液処理槽（薬液
槽）と純水洗浄槽（純水槽）への半導体ウエハの動きに
応じて、純水槽における純水が変化する状態を表したタ
イミングチャートである。

【図８】従来技術における純水洗浄槽（純水槽）への
純水の供給状態と薬液処理槽（薬液槽）の処理状態との
関係を示すタイミングチャートである。

【符号の説明】

Ｋウエハキャリヤ（キャリヤ）Ｋａウエハキャリヤ（キャリヤ）６１薬液処理槽（薬液槽）６２純水洗浄槽（純水槽）６２ａ給水管６２ｂバルブ６２ｃ排水弁１００自動洗浄装置１１０キャリヤ投入、払出部１２０ストッカー部１３０キャリヤ交換部１４０搬送部１５０ローダー部１６０処理槽部１６０Ａ処理槽部１７０アンローダー部

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】少なくとも一つの薬液処理槽と洗浄槽と
からなり、前記薬液処理槽で薬液を用いて物品を処理し
た後、その物品を前記洗浄槽で洗浄液を用いて洗浄し、
前記薬液を除去する物品の処理装置において、物品の薬
液処理のスタンバイ状態の時は、前記洗浄槽内の洗浄液
を節水状態とし、前記物品が前記薬液処理槽に投入さ
れ、薬液処理されている間は、前記洗浄槽内の洗浄液を
節水状態から一旦排液し、その後、新たな洗浄液を供給
して前記洗浄槽が溢水状態になると、その直後に洗浄液
の供給を制限して再び節水状態にし、前記薬液処理槽で
の物品の薬液処理が終了し、その物品がその薬液処理槽
から前記節水状態の洗浄槽に投入される直前に、新たな
洗浄液を供給して前記洗浄槽内の洗浄液を節水状態から
溢水状態にし、その洗浄液の溢水状態で薬液処理された
物品を洗浄し、洗浄液洗浄が終了するとその物品を洗浄
槽から搬出することを特徴とする物品の処理装置におけ
る洗浄液の供給方法。
【請求項２】少なくとも一つの薬液処理槽と洗浄槽と
からなり、前記薬液処理槽で薬液を用いて物品を処理し
た後、その物品を前記洗浄槽で洗浄液を用いて洗浄し、
前記薬液を除去する、複数の物品を次々に処理する物品
の処理装置において、第１の物品の薬液処理のスタンバ
イ状態の時は、前記洗浄槽内の洗浄液を節水状態とし、
前記第１の物品が前記薬液処理槽に投入され、薬液処理
されている間は、前記洗浄槽内の洗浄液を節水状態から
一旦排液し、その後、新たな洗浄液を供給して前記洗浄
槽が溢水状態になると、その直後に洗浄液の供給を制限
して再び節水状態にし、前記薬液処理槽での前記第１の
物品の薬液処理が終了し、その物品がその薬液処理槽か
ら前記節水状態の前記洗浄槽に投入される直前に、新た
な洗浄液を供給して前記洗浄槽内の洗浄液を節水状態か
ら溢水状態にし、その洗浄液の溢水状態で薬液処理され
た第１の物品を洗浄すると共に、続く第２の物品が前記
薬液処理槽に投入されて薬液処理され、前記第１の物品
の洗浄が終了して、その物品が前記洗浄槽から搬出され
ると、その洗浄槽内の洗浄液を排液し、その後、新たな
洗浄液を供給して前記洗浄槽が再び溢水状態になると、
その直後に洗浄液の供給を制限して再び節水状態にし、
前記薬液処理槽での前記第２の物品の薬液処理が終了
し、その物品がその薬液処理槽から前記節水状態の前記
洗浄槽に投入される直前に、また新たな洗浄液を供給し
て前記洗浄槽内の洗浄液を節水状態から溢水状態にし、
その洗浄液の溢水状態で薬液処理された第２の物品を洗
浄し、以後投入される後続の物品に対しても第２の物品
の洗浄と同様に前記洗浄槽に洗浄液を供給することを特
徴とする物品の処理装置における洗浄液の供給方法。