JPH06279039A - 光学素子成形用型 - Google Patents
光学素子成形用型Info
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- JPH06279039A JPH06279039A JP9202293A JP9202293A JPH06279039A JP H06279039 A JPH06279039 A JP H06279039A JP 9202293 A JP9202293 A JP 9202293A JP 9202293 A JP9202293 A JP 9202293A JP H06279039 A JPH06279039 A JP H06279039A
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B11/00—Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
- C03B11/12—Cooling, heating, or insulating the plunger, the mould, or the glass-pressing machine; cooling or heating of the glass in the mould
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B11/00—Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
- C03B11/06—Construction of plunger or mould
- C03B11/08—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses
- C03B11/084—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses material composition or material properties of press dies therefor
- C03B11/086—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses material composition or material properties of press dies therefor of coated dies
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2215/00—Press-moulding glass
- C03B2215/02—Press-mould materials
- C03B2215/08—Coated press-mould dies
- C03B2215/10—Die base materials
- C03B2215/12—Ceramics or cermets, e.g. cemented WC, Al2O3 or TiC
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- C03B2215/14—Die top coat materials, e.g. materials for the glass-contacting layers
- C03B2215/16—Metals or alloys, e.g. Ni-P, Ni-B, amorphous metals
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- C03B2215/30—Intermediate layers, e.g. graded zone of base/top material
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 成形用型の成形面に強制的に温度分布を付与
し、どのような形状の光学素子の成形であっても、ヒケ
のない光学素子を得る。 【構成】 上型２は電気絶縁性のＳｉＣ焼結体により形
成する。その先端にはＳｉＣ膜４を成膜する。ＳｉＣ膜
４の表面は、成形基礎面５となる。成形基礎面５の中心
部には、Ｎｉ−Ｃｒ合金膜（電気伝導性膜）６を形成す
る。さらにその両端に連続して、Ａｌ膜（電気伝導性
膜）７を成形面外（型外周面）まで形成する。ここに、
Ａｌ膜７はＮｉ−Ｃｒ合金膜６より抵抗値が小さいため
に、通電しても発熱しない。その上に、ＳｉＣ膜（電気
絶縁性膜）８を成膜する。また、その上に離型膜として
Ｃｒ−Ｎ膜９を成膜し、成形面１０を形成する。成形面
１０外のＡｌ膜７にはリード線１１を接続する。下型３
も上型２と同様に構成する。
し、どのような形状の光学素子の成形であっても、ヒケ
のない光学素子を得る。 【構成】 上型２は電気絶縁性のＳｉＣ焼結体により形
成する。その先端にはＳｉＣ膜４を成膜する。ＳｉＣ膜
４の表面は、成形基礎面５となる。成形基礎面５の中心
部には、Ｎｉ−Ｃｒ合金膜（電気伝導性膜）６を形成す
る。さらにその両端に連続して、Ａｌ膜（電気伝導性
膜）７を成形面外（型外周面）まで形成する。ここに、
Ａｌ膜７はＮｉ−Ｃｒ合金膜６より抵抗値が小さいため
に、通電しても発熱しない。その上に、ＳｉＣ膜（電気
絶縁性膜）８を成膜する。また、その上に離型膜として
Ｃｒ−Ｎ膜９を成膜し、成形面１０を形成する。成形面
１０外のＡｌ膜７にはリード線１１を接続する。下型３
も上型２と同様に構成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、成形可能に加熱軟化さ
れたガラス素材を加圧して光学素子を成形する光学素子
成形用型に関する。
れたガラス素材を加圧して光学素子を成形する光学素子
成形用型に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、ガラス素材を加熱軟化した後、ガ
ラス素材を所望の光学素子に加圧成形するにあたり、転
写性を向上させる手段として、例えば特開平１−２７０
５２９号公報に開示されているような光学素子成形用型
がある。これは、一対の成形用型を対向配置し、そのう
ちの少なくとも一方の成形用型の外周部に断熱材を付設
することにより、成形用型の温度分布を減少させ、ガラ
ス素材の外周部の粘度上昇を遅らせることによって、ヒ
ケのない良好な面精度を有した光学素子を成形できる光
学素子成形用型である。
ラス素材を所望の光学素子に加圧成形するにあたり、転
写性を向上させる手段として、例えば特開平１−２７０
５２９号公報に開示されているような光学素子成形用型
がある。これは、一対の成形用型を対向配置し、そのう
ちの少なくとも一方の成形用型の外周部に断熱材を付設
することにより、成形用型の温度分布を減少させ、ガラ
ス素材の外周部の粘度上昇を遅らせることによって、ヒ
ケのない良好な面精度を有した光学素子を成形できる光
学素子成形用型である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】確かに、上記従来の光
学素子成形用型では、型の外周部に雰囲気ガスとの熱交
換を弱めるための円筒形状の断熱材が取り付けられてい
るので、外周部の縁肉より中心部の中肉が厚い形状のレ
ンズを成形した場合には、レンズ外周部の粘度上昇を遅
くなり、成形用型による加圧保持時のヒケ防止の効果が
ある。しかし、逆に中心部の中肉より外周部の縁肉が厚
い形状のレンズを成形する場合には、ヒケは外周部の厚
い部分に発生するので、中心部のガラス素材の粘度上昇
を遅らせなければならず、従来の成形用型では、ヒケ防
止の効果がないどころか、逆に外周部のヒケが大きくな
ってしまい、面精度が低下するという欠点があった。
学素子成形用型では、型の外周部に雰囲気ガスとの熱交
換を弱めるための円筒形状の断熱材が取り付けられてい
るので、外周部の縁肉より中心部の中肉が厚い形状のレ
ンズを成形した場合には、レンズ外周部の粘度上昇を遅
くなり、成形用型による加圧保持時のヒケ防止の効果が
ある。しかし、逆に中心部の中肉より外周部の縁肉が厚
い形状のレンズを成形する場合には、ヒケは外周部の厚
い部分に発生するので、中心部のガラス素材の粘度上昇
を遅らせなければならず、従来の成形用型では、ヒケ防
止の効果がないどころか、逆に外周部のヒケが大きくな
ってしまい、面精度が低下するという欠点があった。
【０００４】本発明は、かかる従来の問題点に鑑みてな
されたもので、成形用型の成形面に強制的に温度分布を
付与し、どのような形状の光学素子の成形であっても、
ヒケのない光学素子を成形することができる光学素子成
形用型を提供することを目的とする。
されたもので、成形用型の成形面に強制的に温度分布を
付与し、どのような形状の光学素子の成形であっても、
ヒケのない光学素子を成形することができる光学素子成
形用型を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は、電気絶縁性の型基材の成形基礎面の一部
に電気伝導性膜を形成し、その上に電気絶縁性膜を形成
するとともに、その電気絶縁性膜の表面を成形面に加工
し、前記電気伝導性膜に通電加熱可能として、光学素子
成形用型を構成した。
に、本発明は、電気絶縁性の型基材の成形基礎面の一部
に電気伝導性膜を形成し、その上に電気絶縁性膜を形成
するとともに、その電気絶縁性膜の表面を成形面に加工
し、前記電気伝導性膜に通電加熱可能として、光学素子
成形用型を構成した。
【０００６】つまり、型基材を電気絶縁性の材料により
形成し、成形面となる面を所望形状に近い形状に加工し
て、成形基礎面とする。その成形基礎面の一部分に比較
的抵抗値が大きい電気伝導性膜を形成する。ここで、成
形しようとするレンズの中肉が縁肉より厚い場合には、
電気伝導性膜を成形基礎面の中心部には形成せず、外周
部に形成する。一方、成形しようとするレンズの縁肉が
中肉より厚い場合には、電気伝導性膜を成形基礎面の外
周部には形成せず、中心部に形成し、その膜の２ヶ所か
ら外周方向に向けて、抵抗値が中心部に形成した電気伝
導性膜のそれより小さい線状の電気伝導性膜を形成す
る。
形成し、成形面となる面を所望形状に近い形状に加工し
て、成形基礎面とする。その成形基礎面の一部分に比較
的抵抗値が大きい電気伝導性膜を形成する。ここで、成
形しようとするレンズの中肉が縁肉より厚い場合には、
電気伝導性膜を成形基礎面の中心部には形成せず、外周
部に形成する。一方、成形しようとするレンズの縁肉が
中肉より厚い場合には、電気伝導性膜を成形基礎面の外
周部には形成せず、中心部に形成し、その膜の２ヶ所か
ら外周方向に向けて、抵抗値が中心部に形成した電気伝
導性膜のそれより小さい線状の電気伝導性膜を形成す
る。
【０００７】電気伝導性膜を形成した後、電気絶縁性膜
を研削研磨加工できる厚さ、すなわち、少なくとも２０
μｍ以上の膜厚で形成し、その膜を所望の形状に研磨剤
研磨加工を施し、その膜の材質がガラスとのぬれ性が良
い場合にはガラスとの離型性が良い膜を形成する。さら
に、上記電気伝導性膜の成形面外の部分にリード線を接
続して、通電可能とし、電気伝導性膜を設けた成形面の
一部を成形面の他の部分より高温にして、成形面に対し
て温度分布を強制的に付与することができるような構成
とする。
を研削研磨加工できる厚さ、すなわち、少なくとも２０
μｍ以上の膜厚で形成し、その膜を所望の形状に研磨剤
研磨加工を施し、その膜の材質がガラスとのぬれ性が良
い場合にはガラスとの離型性が良い膜を形成する。さら
に、上記電気伝導性膜の成形面外の部分にリード線を接
続して、通電可能とし、電気伝導性膜を設けた成形面の
一部を成形面の他の部分より高温にして、成形面に対し
て温度分布を強制的に付与することができるような構成
とする。
【０００８】
【作用】上記構成の光学素子成形用型によれば、成形面
下の一部分に電気伝導性膜を形成し、そこにリード線を
介して通電することにより、電気伝導性膜がヒータとな
って、成形面に温度分布を付与することができる。中肉
より縁肉が厚いレンズを成形する場合には、中肉の方が
薄いために、プレスした時に中心部の方が外周部より早
く冷却され、粘度が高くなってプレス時の圧力は中心部
に集中し、外周部には荷重が作用せずにヒケを発生して
しまう。ところが、本発明によれば、成形面の中心部付
近に電気伝導性膜を形成し、その膜に通電して抵抗加熱
をすることにより、成形面には中心部の高温領域と外周
部の低温領域の分布が形成されることとなる。この温度
分布を持った成形用型でレンズを成形した場合、中心部
の冷却速度は、電気伝導性膜がない時よりも遅くなり、
縁肉の粘度上昇速度と中肉の粘度上昇速度との差は小さ
くなり、外周部にも中心部とほぼ等しい圧力が作用し
て、外周部にヒケが発生するのを防止することができ
る。
下の一部分に電気伝導性膜を形成し、そこにリード線を
介して通電することにより、電気伝導性膜がヒータとな
って、成形面に温度分布を付与することができる。中肉
より縁肉が厚いレンズを成形する場合には、中肉の方が
薄いために、プレスした時に中心部の方が外周部より早
く冷却され、粘度が高くなってプレス時の圧力は中心部
に集中し、外周部には荷重が作用せずにヒケを発生して
しまう。ところが、本発明によれば、成形面の中心部付
近に電気伝導性膜を形成し、その膜に通電して抵抗加熱
をすることにより、成形面には中心部の高温領域と外周
部の低温領域の分布が形成されることとなる。この温度
分布を持った成形用型でレンズを成形した場合、中心部
の冷却速度は、電気伝導性膜がない時よりも遅くなり、
縁肉の粘度上昇速度と中肉の粘度上昇速度との差は小さ
くなり、外周部にも中心部とほぼ等しい圧力が作用し
て、外周部にヒケが発生するのを防止することができ
る。
【０００９】また、上記とは逆に、縁肉より中肉が厚い
レンズを成形する場合には、電気伝導性膜を成形基礎面
の外周部に形成し、その電気伝導性膜に通電して外周部
を中心部より高温としているために、縁肉部の粘度上昇
速度は中肉部のそれに近くなり、中心部も縁肉部も均等
に圧力が作用し、ヒケのない高い面精度の光学素子を得
ることができる。
レンズを成形する場合には、電気伝導性膜を成形基礎面
の外周部に形成し、その電気伝導性膜に通電して外周部
を中心部より高温としているために、縁肉部の粘度上昇
速度は中肉部のそれに近くなり、中心部も縁肉部も均等
に圧力が作用し、ヒケのない高い面精度の光学素子を得
ることができる。
【００１０】一方、本発明の光学素子成形用型を製造す
るにあたり、成形基礎面に電気伝導性膜を形成し、その
上に電気絶縁性膜を研削研磨加工できる厚さに形成した
理由は、電気伝導性膜は成形基礎面状にパターンを持っ
て形成しているために、単に電気絶縁性膜を形成して成
形面を加工しないと、電気伝導性膜の膜厚による段差を
生じ、面精度を劣化させるからである。
るにあたり、成形基礎面に電気伝導性膜を形成し、その
上に電気絶縁性膜を研削研磨加工できる厚さに形成した
理由は、電気伝導性膜は成形基礎面状にパターンを持っ
て形成しているために、単に電気絶縁性膜を形成して成
形面を加工しないと、電気伝導性膜の膜厚による段差を
生じ、面精度を劣化させるからである。
【００１１】
【実施例１】本実施例は、図２に示すような両凹レンズ
１を成形するための光学素子成形用型の例である。この
成形用型は、図１に示すようなもので、上型２および下
型３の成形面形状がどちらも凸面であるので、一方の上
型２によって以下説明する。
１を成形するための光学素子成形用型の例である。この
成形用型は、図１に示すようなもので、上型２および下
型３の成形面形状がどちらも凸面であるので、一方の上
型２によって以下説明する。
【００１２】上型２は電気絶縁性のＳｉＣ焼結体により
形成されており、その先端は所望の形状に加工され、こ
れにＣＶＤ法でＳｉＣ膜４が成膜されている。このＳｉ
Ｃ膜４の表面は、鏡面研磨加工が施され、所望の形状に
近い成形基礎面５とされている。そして、この成形基礎
面５の中心部には、ＰＶＤ法によりＮｉ−Ｃｒ合金膜
（電気伝導性膜）６が厚さ０．３μｍで形成されてい
る。このＮｉ−Ｃｒ合金膜６は、フォトエッチングによ
り図１のような渦巻状のパターンで形成されている。ま
た、このＮｉ−Ｃｒ合金膜６は幅約１ｍｍで形成されて
おり、さらにその両端に連続して、ＰＶＤ法でフォトエ
ッチングにより、図１のような幅１ｍｍのパターンでＡ
ｌ膜（電気伝導性膜）７が成形面外（型外周面）まで形
成されている。ここに、Ａｌ膜７はＮｉ−Ｃｒ合金膜６
より抵抗値が小さいために、通電しても発熱しない。さ
らに、その上には、ＣＶＤ法でＳｉＣ膜（電気絶縁性
膜）８が２００μｍ成膜され、所望の形状に鏡面加工が
施されている。また、その上には離型膜としてＣｒ−Ｎ
膜９が成膜され、成形面１０が形成されている。そし
て、成形用型の成形面１０外のＡｌ膜７にはリード線１
１が接続されている。なお、下型３も上型２と同様に構
成されている。
形成されており、その先端は所望の形状に加工され、こ
れにＣＶＤ法でＳｉＣ膜４が成膜されている。このＳｉ
Ｃ膜４の表面は、鏡面研磨加工が施され、所望の形状に
近い成形基礎面５とされている。そして、この成形基礎
面５の中心部には、ＰＶＤ法によりＮｉ−Ｃｒ合金膜
（電気伝導性膜）６が厚さ０．３μｍで形成されてい
る。このＮｉ−Ｃｒ合金膜６は、フォトエッチングによ
り図１のような渦巻状のパターンで形成されている。ま
た、このＮｉ−Ｃｒ合金膜６は幅約１ｍｍで形成されて
おり、さらにその両端に連続して、ＰＶＤ法でフォトエ
ッチングにより、図１のような幅１ｍｍのパターンでＡ
ｌ膜（電気伝導性膜）７が成形面外（型外周面）まで形
成されている。ここに、Ａｌ膜７はＮｉ−Ｃｒ合金膜６
より抵抗値が小さいために、通電しても発熱しない。さ
らに、その上には、ＣＶＤ法でＳｉＣ膜（電気絶縁性
膜）８が２００μｍ成膜され、所望の形状に鏡面加工が
施されている。また、その上には離型膜としてＣｒ−Ｎ
膜９が成膜され、成形面１０が形成されている。そし
て、成形用型の成形面１０外のＡｌ膜７にはリード線１
１が接続されている。なお、下型３も上型２と同様に構
成されている。
【００１３】上記構成の本実施例の光学素子成形用型を
用いて、外径φ１０ｍｍ、中肉１．２ｍｍ、縁肉３ｍｍ
のＳＫ１１からなる両凹レンズ１を成形した。上型２お
よび下型３には、それぞれリード線１１を通して通電し
た。また、上下型２，３は別にヒータを設けて加熱し
た。この時、成形面１０の外周部、すなわちエッヂ付近
の表面温度は４５０℃であったのに対し、中心部の表面
温度は５３０℃であった。成形されたレンズはニュート
ン縞で２本以内のクセであった。
用いて、外径φ１０ｍｍ、中肉１．２ｍｍ、縁肉３ｍｍ
のＳＫ１１からなる両凹レンズ１を成形した。上型２お
よび下型３には、それぞれリード線１１を通して通電し
た。また、上下型２，３は別にヒータを設けて加熱し
た。この時、成形面１０の外周部、すなわちエッヂ付近
の表面温度は４５０℃であったのに対し、中心部の表面
温度は５３０℃であった。成形されたレンズはニュート
ン縞で２本以内のクセであった。
【００１４】これに対して、Ｎｉ−Ｃｒ合金膜６に通電
しなかった場合には、表面温度を５３０℃となるよう設
定しても、成形されたレンズはニュートン縞で５本のク
セがあり、外周部にヒケが発生していることがわかっ
た。
しなかった場合には、表面温度を５３０℃となるよう設
定しても、成形されたレンズはニュートン縞で５本のク
セがあり、外周部にヒケが発生していることがわかっ
た。
【００１５】以上のように、中肉より縁肉が厚い場合で
も、本実施例の光学素子成形用型で成形すれば、ヒケに
よる面精度の劣化はなくなった。
も、本実施例の光学素子成形用型で成形すれば、ヒケに
よる面精度の劣化はなくなった。
【００１６】
【実施例２】本実施例は、図４に示すような両凹レンズ
１２を成形するための光学素子成形用型の例である。こ
の成形用型は、図３に示すようなもので、上型１３およ
び下型１４の成形面形状がどちらも凹面であるので、一
方の上型１３によって以下説明する。
１２を成形するための光学素子成形用型の例である。こ
の成形用型は、図３に示すようなもので、上型１３およ
び下型１４の成形面形状がどちらも凹面であるので、一
方の上型１３によって以下説明する。
【００１７】上型２は電気絶縁性のＡｌＮ焼結体により
形成されており、その先端は所望の形状に加工され、こ
れにＣＶＤ法でＡｌＮ膜１５が成膜されている。このＡ
ｌＮ膜１５の表面は、所望の形状に近い形状に加工さ
れ、成形基礎面１６とされている。そして、この成形基
礎面１６の外周部には、ＰＶＤ法によりＮｉ−Ｃｒ−Ｆ
ｅ合金膜（電気伝導性膜）１７が厚さ０．５μｍで形成
されている。このＮｉ−Ｃｒ−Ｆｅ合金膜１７は、フォ
トエッチングにより図３の斜線部ようなパターンで形成
されている。このＮｉ−Ｃｒ−Ｆｅ合金膜１７は、成形
面外（型外周面）にもはみ出して形成されている。さら
に、その上には、ＣＶＤ法でＡｌＮ膜（電気絶縁性膜）
１８が１００μｍ成膜され、所望の形状に鏡面加工が施
されて、成形面１９が形成されている。そして、成形用
型の成形面１９外にはみ出して成膜してあるＮｉ−Ｃｒ
−Ｆｅ合金膜１７にはリード線２０が接続され、通電で
きるように構成されている。なお、下型１４も上型１３
と同様に構成されている。
形成されており、その先端は所望の形状に加工され、こ
れにＣＶＤ法でＡｌＮ膜１５が成膜されている。このＡ
ｌＮ膜１５の表面は、所望の形状に近い形状に加工さ
れ、成形基礎面１６とされている。そして、この成形基
礎面１６の外周部には、ＰＶＤ法によりＮｉ−Ｃｒ−Ｆ
ｅ合金膜（電気伝導性膜）１７が厚さ０．５μｍで形成
されている。このＮｉ−Ｃｒ−Ｆｅ合金膜１７は、フォ
トエッチングにより図３の斜線部ようなパターンで形成
されている。このＮｉ−Ｃｒ−Ｆｅ合金膜１７は、成形
面外（型外周面）にもはみ出して形成されている。さら
に、その上には、ＣＶＤ法でＡｌＮ膜（電気絶縁性膜）
１８が１００μｍ成膜され、所望の形状に鏡面加工が施
されて、成形面１９が形成されている。そして、成形用
型の成形面１９外にはみ出して成膜してあるＮｉ−Ｃｒ
−Ｆｅ合金膜１７にはリード線２０が接続され、通電で
きるように構成されている。なお、下型１４も上型１３
と同様に構成されている。
【００１８】上記構成の本実施例の光学素子成形用型を
用いて、外径φ２０ｍｍ、中肉８ｍｍ、縁肉４ｍｍのＢ
Ｋ７からなる両凸レンズ１２を成形した。上型１３およ
び下型１４は、それぞれリード線２０を通して通電し
た。また、上下型１３，１４は別にヒータを設けて加熱
した。この時、成形面１９の中心部の表面温度は４８０
℃であったのに対し、外周部、すなわち成形面１９のエ
ッヂ付近の温度は５５５℃であった。成形の結果、クセ
はニュートン縞で２本以内であった。すなわち、中心部
にヒケが発生しようとしていても、外周部の粘度低下が
型が高温となっているために遅くなり、縁肉も追従して
プレスされるので、圧力はガラス素材全体に均等に作用
してヒケが発生しなくなった。
用いて、外径φ２０ｍｍ、中肉８ｍｍ、縁肉４ｍｍのＢ
Ｋ７からなる両凸レンズ１２を成形した。上型１３およ
び下型１４は、それぞれリード線２０を通して通電し
た。また、上下型１３，１４は別にヒータを設けて加熱
した。この時、成形面１９の中心部の表面温度は４８０
℃であったのに対し、外周部、すなわち成形面１９のエ
ッヂ付近の温度は５５５℃であった。成形の結果、クセ
はニュートン縞で２本以内であった。すなわち、中心部
にヒケが発生しようとしていても、外周部の粘度低下が
型が高温となっているために遅くなり、縁肉も追従して
プレスされるので、圧力はガラス素材全体に均等に作用
してヒケが発生しなくなった。
【００１９】比較のために、Ｎｉ−Ｃｒ−Ｆｅ合金膜１
７に通電せずに、上記と同様の成形を行った。この場
合、成形面１９の表面温度は全面４８０℃となり、この
成形用型で図４に示す両凸レンズ１２を成形した場合に
は、中心部にヒケが生じると共に、外周部の縁肉が先に
粘度が上昇するために、中肉が所望の値になるまで押圧
することができなかった。
７に通電せずに、上記と同様の成形を行った。この場
合、成形面１９の表面温度は全面４８０℃となり、この
成形用型で図４に示す両凸レンズ１２を成形した場合に
は、中心部にヒケが生じると共に、外周部の縁肉が先に
粘度が上昇するために、中肉が所望の値になるまで押圧
することができなかった。
【００２０】以上のように、本実施例の光学素子成形用
型は、薄肉部となる外周部をプレスする成形面１９の温
度を強制的に高くしているため、その部分の粘度上昇速
度を遅らせることができ、薄肉部と厚肉部の肉厚差があ
っても均等に圧力が作用し、ヒケによる転写精度低下を
防止することができる。
型は、薄肉部となる外周部をプレスする成形面１９の温
度を強制的に高くしているため、その部分の粘度上昇速
度を遅らせることができ、薄肉部と厚肉部の肉厚差があ
っても均等に圧力が作用し、ヒケによる転写精度低下を
防止することができる。
【００２１】
【発明の効果】以上のように、本発明の光学素子成形用
型によれば、電気絶縁性の型基材の成形基礎面の一部に
電気伝導性膜を形成し、その上に電気絶縁性膜を形成す
るとともに、その電気絶縁性膜の表面を成形面に加工
し、前記電気伝導性膜に通電加熱可能としているので、
電気伝導性膜に通電すると成形面内の薄肉部を形成する
場所が厚肉部を成形する場所より高温となり、薄肉部の
ガラス表面層の粘度上昇速度を厚肉部の粘度上昇速度に
近づけることができ、ガラス素材に均等に圧力を作用さ
せることができて、薄肉部と厚肉部の肉厚差が大きくて
もヒケのない高い面精度の光学素子を成形することがで
きる。
型によれば、電気絶縁性の型基材の成形基礎面の一部に
電気伝導性膜を形成し、その上に電気絶縁性膜を形成す
るとともに、その電気絶縁性膜の表面を成形面に加工
し、前記電気伝導性膜に通電加熱可能としているので、
電気伝導性膜に通電すると成形面内の薄肉部を形成する
場所が厚肉部を成形する場所より高温となり、薄肉部の
ガラス表面層の粘度上昇速度を厚肉部の粘度上昇速度に
近づけることができ、ガラス素材に均等に圧力を作用さ
せることができて、薄肉部と厚肉部の肉厚差が大きくて
もヒケのない高い面精度の光学素子を成形することがで
きる。
【図１】本発明の実施例１の光学素子成形用型を示す概
略構成図である。
略構成図である。
【図２】同実施例１の光学素子成形用型により成形した
レンズの側面図である。
レンズの側面図である。
【図３】本発明の実施例２の光学素子成形用型を示す概
略構成図である。
略構成図である。
【図４】同実施例２の光学素子成形用型により成形した
レンズの側面図である。
レンズの側面図である。
２，１３ 上型 ３，１４ 下型 ４，８ ＳｉＣ膜 ５，１６ 成形基礎面 ６ Ｎｉ−Ｃｒ合金膜 ７ Ａｌ膜 ９ Ｃｒ−Ｎ膜 １０，１９ 成形面 １１，２０ リード線 １５，１８ ＡｌＮ膜 １７ Ｎｉ−Ｃｒ−Ｆｅ合金膜
Claims (1)
- 【請求項１】 電気絶縁性の型基材の成形基礎面の一部
に電気伝導性膜を形成し、その上に電気絶縁性膜を形成
するとともに、その電気絶縁性膜の表面を成形面に加工
し、前記電気伝導性膜に通電加熱可能としたことを特徴
とする光学素子成形用型。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9202293A JPH06279039A (ja) | 1993-03-26 | 1993-03-26 | 光学素子成形用型 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9202293A JPH06279039A (ja) | 1993-03-26 | 1993-03-26 | 光学素子成形用型 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06279039A true JPH06279039A (ja) | 1994-10-04 |
Family
ID=14042917
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9202293A Withdrawn JPH06279039A (ja) | 1993-03-26 | 1993-03-26 | 光学素子成形用型 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06279039A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100414171B1 (ko) * | 1999-11-30 | 2004-01-13 | 한국전기초자 주식회사 | 유리고브 가열장치 |
| JP2010150059A (ja) * | 2008-12-24 | 2010-07-08 | Olympus Corp | 光学素子の成形用型、製造方法及び製造装置 |
-
1993
- 1993-03-26 JP JP9202293A patent/JPH06279039A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100414171B1 (ko) * | 1999-11-30 | 2004-01-13 | 한국전기초자 주식회사 | 유리고브 가열장치 |
| JP2010150059A (ja) * | 2008-12-24 | 2010-07-08 | Olympus Corp | 光学素子の成形用型、製造方法及び製造装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20000530 |