JP2003063832A - 光学素子成形用型 - Google Patents

光学素子成形用型

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Yasuhiko Sato
保彦 佐藤
Hiroaki Fujita
浩明 藤田
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 高い形状精度とバラツキがなく形成された成
形型を備えるとともに、成形された光学素子の良好な離
型性を確保した光学素子成形用型を提供する。 【解決手段】 上下一対の成形型(1、2)と胴型
(3)とを備えた成形用型のキャビティ内に加熱軟化し
た光学素材(10)を配置し、上下一対の成形型で加圧
することにより光学素子を成形する成形用型において、
ガラスからなる成形型用素材(1´)を加熱しながら成
形母型(4)で押圧成形し、前記成形型用素材(1´)
に成形母型(4)の転写面(4A)を転写させて成形し
た、転写面(1A)を有する下型(1)を備え、さらに
前記ガラスからなる成形型用素材(1´)の線膨張係数
を光学素材(10)の線膨張係数以下とするとともに、
光学素材(10)のガラス転移点(Tg)をT、光学
素子成形時の成形加熱温度をT、成形型用素材(1
´)のガラス転移点(Tg)をTとしたとき、T
<Tとなるように設計した。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、光学素子を製造
するための光学素子成形用型に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、光学素材(ないしはガラス素材)
を加熱炉内で加熱軟化した後、胴型3と上下一対の成形
型を備えた成形用型のキャビティ内に配置した光学素材
(ないしはガラス素材)10を上型2と下型1でプレス
し、光学素子(ないしはガラス成形品)を成形する成形
用型において、上下一対の成形型(上型2、下型1)の
少なくとも一方を、ガラスからなる成形型用素材で成形
した光学素子成形用型が用いられるようになった。
【0003】例えば、光ピックアップ用非球面対物レン
ズなどの厳密な形状や表面品質が要求される光学素子を
製造するための成形用型においては、高い形状精度とバ
ラツキがなく成形された成形型を備えることが要求され
ており、硬質の金属部材を研削加工や研磨加工すること
によって製造された成形型には、加工形状に限界があっ
た。これに対して、ガラスからなる成形型用素材を加熱
しながら成形母型で押圧成形し、前記成形型用素材に成
形母型を転写させて成形した成形型は、加工形状の自由
度が広がり、かつバラツキがない。このように、成形型
をガラス成形によって製造する技術は、特開平2−26
7129、特開昭64−33022等によって知られて
いる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来技
術による、ガラスからなる成形型用素材で成形した成形
型を備えた成形用型によって光学素子を成形した場合、
成形型内で光学素材を加熱加圧した後、冷却して光学素
子を成形したときに、光学素子の離型性が悪くなり取出
しが困難となったり、成形した光学素子にワレが発生し
たりしていた。
【0005】そこでこの発明は、厳密な形状や表面品質
が要求される光学素子を成形するため、形状精度が高
く、かつバラツキがなく形成された成形型を備えた成形
用型であって、さらに光学素子成形時の冷却過程におけ
る、光学素子の離型性悪化や、光学素子のワレを防止し
た光学素子成形用型を提供するものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
め、この発明によれば、上下一対の成形型と胴型とを備
えた成形用型のキャビティ内に加熱軟化した光学素材を
配置し、上下一対の成形型で加圧することにより光学素
子を成形する成形用型において、ガラスからなる成形型
用素材を加熱しながら成形母型で押圧成形し、前記成形
型用素材に成形母型の転写面を転写させて成形した、転
写面を有する下型を備え、さらに前記ガラスからなる成
形型用素材の線膨張係数を光学素材の線膨張係数以下と
するとともに、光学素材のガラス転移点(Tg)を
、光学素子成形時の成形加熱温度をT、成形型用
素材のガラス転移点(Tg)をTとしたとき、T
<Tとなるように設計した。
【0007】以下にこの発明の好適な実施例を図面を参
照にして説明する。
【0008】この発明による光学素子成形用型では、少
なくとも下型1を、ガラスからなる成形型用素材1´で
成形する。図1は、ガラス製の下型1を備えた成形用型
の断面図を示すものであり、この実施例による光学素子
成形用型は、胴型3の孔31内に配置されたガラス製の
下型1の転写面1Aの上に加熱軟化した光学素材(ない
しはガラス素材)10を載置し、胴型3の孔31内を摺
動しながら昇降運動する上型2を降下させ、前記光学素
材(ないしはガラス素材)10を加熱しながら下型1と
上型2とで挟み込んで加圧することにより、光学素材
(ないしはガラス素材)10に下型1の転写面1Aと上
型2の転写面2Aを転写し、その後、加熱加圧によって
転写面1Aと2Aが転写された光学素材(ないしはガラ
ス素材)10を冷却し、光学素子(ないしはガラス成形
品)を成形するものである。なお、図1に示す光学素子
成形用型は超硬からなる上型2を備えるが、ガラスから
なる成形型用素材1´で成形した上型2を使用してもよ
い。
【0009】図2は、ガラス製の下型1を成形するため
の下型成形用型の断面図を示すものであり、加熱軟化し
たガラスからなる成形型用素材1´を胴型3の孔31内
に配置し、胴型3の孔31内を摺動しながら昇降運動す
る成形母型4を降下させ、ガラスからなる成形型用素材
1´を加熱しながら成形母型4で押圧成形し、この成形
型用素材1´に成形母型4の転写面4Aを転写した後、
加熱加圧によって転写面4Aが転写された成形型用素材
1´を冷却し、転写面1Aを備えた下型1を成形するも
のである。なお図2に示す下型成形用型では、超硬から
なる成形母型4を使用している。
【0010】なおこの実施例では、図1に示す光学素子
成形用型と、図2に示す下型1の下型成形用型において
同一の胴型3を使用し、前記胴型3は、孔31を有する
第1部材3Aと、前記孔31の下方開口を閉鎖し、孔3
1内に配置される下型1を支持する第2部材3Bとから
構成される。また胴型3(第1部材3A及び第2部材3
B)は超硬からなり、さらに胴型3の外側には電気炉な
どの加熱手段を設けてある。加熱手段を備えた胴型3に
よって、下型1の成形時には、この熱を成形型用素材1
´に加え、ガラスからなる成形型用素材1´が軟化した
状態で、成形母型4を押圧成形し、転写面1Aが形成さ
れた下型1を成形する。また光学素子の成形時には、こ
の熱を光学素材10に加え、光学素材10が軟化した状
態で上下型1、2で加圧し、転写面1A、2Aを有する
光学素子を成形する。
【0011】つまり、この実施例では、胴型3の孔31
内に配置したガラスからなる成形型用素材1´に成形母
型4の転写面4Aを転写することにより、転写面1Aを
備えたガラス製の下型1を成形した後、この下型1と胴
型3を用いた(成形母型4を取除いた)成形用型を使用
し、胴型3の孔31内に配置に配置されているガラス製
の下型1の転写面1A上に光学素材10を配置し、転写
面2Aを有する上型2を孔31内を摺動させて前記光学
素材10を加圧して転写面1Aと2Aが転写された光学
素子(ないしはガラス成形品)を成形する。
【0012】なお、この実施例では図1に示す光学素子
成形用型の上型2及び胴型3を超硬で形成したが、超硬
の代わりにセラミックスで形成してもよい。また図2に
示すガラス製の下型1を成形するための下型成形用型の
成形母型4及び胴型3も超硬で形成したが、超硬の代わ
りにセラミックスで形成してもよい。
【0013】さらに、この実施例による光学素子成形用
型は、成形される光学素材10の線膨張係数以下の線膨
張係数であるガラスからなる成形型用素材1´で成形し
た下型1(ガラス製)を備え、かつ光学素材10のガラ
ス転移点(Tg)をT、光学素子を成形するときの成
形加熱温度をT、成形型用素材1´のガラス転移点
(Tg)をTとしたとき、T<T<Tとなるよ
うに設計してある
【0014】なお、成形型用素材1´のガラス転移点
(Tg)であるTが、光学素材10のガラス転移点
(Tg)であるTよりも100℃以上高くなるよう
(T−T ≧100)に設計することが好ましい。
【0015】ガラスからなる成形型用素材1´として、
光学素材10の線膨張係数と同じか、もしくは光学素材
10の線膨張係数よりも小さい線膨張係数であるガラス
素材で成形した下型1を使用することによって、光学素
子成形時の冷却過程において、下型1の転写面1A内に
収容された光学素子が外周から下型1によって抱き込ま
れて締めつけられることなく、光学素子の離型性が確保
でき、また下型1による外周からの圧力によって光学素
子にワレが発生する心配もない。また、T<T<T
となるように設計し、かつT−T≧100に設計
することによって、光学素子成形用型の下型1(ガラス
製)は、光学素子成形時に成形加熱によって軟化される
ことなく良好な硬度を保ち、光学素子の成形性に優れ、
形状精度が高く、表面品質の優れた光学素子を成形でき
る。
【0016】例えば、図1に示すガラス製の下型1を備
えた光学素子成形用型において、住田光学ガラス社製の
硝材PSK100(以下、硝材PSK100という)か
らなる光学素材10を使用し、成形温度430℃、成形
圧力50kgfにて加熱加圧し、光学素子を成形する場
合、住田光学ガラス社製の硝材PBK40(以下、硝材
PBK40という)からなる成形型用素材1´で成形し
た下型1を使用することが好ましい。
【0017】光学素材として使用した硝材PSK100
と、下型1の成形型用素材1´として使用した硝材PB
K40の線膨張係数とガラス転移点(Tg)について、
表1に示す。
【0018】
【表1】
【0019】光学素材として硝材PSK100を使用
し、成形型用素材1´として硝材PBK40を使用した
場合、表1に示すように、成形型素材(硝材PBK4
0)は光学素材(硝材PSK100)よりも線膨張係数
が小さく、また光学素材(硝材PSK100)のガラス
転移点(T)と、成形型用素材(硝材PBK40)の
ガラス転移点(T)と、成形加熱温度(T)とにつ
いて、T<T<Tの関係が満たされ、かつ硝材P
BK40のガラス点移転が硝材PSK100よりも10
0℃以上高いため(T−T≧100)、硝材PBK
40からなる下型1を備えた光学素子成形用型では、光
学素子の成形性が良好であり、かつ光学素子(硝材PS
K100)の冷却過程において、下型1の転写面1Aに
収容された光学素子が外周から下型1によって抱き込ま
れて締めつけれられることなく、光学素子の離型性が確
保できる。また、硝材PBK40からなる下型1を備え
た光学素子成形用型において、直径φ1.3μm、レン
ズ厚0.4μmの光学素子(硝材PSK100)を成形
したところ、成形した光学素子にワレ等の不具合は発生
せず、形状精度が高く、表面品質の優れた光学素子を成
形できた。
【0020】なお、硝材PSK100を光学素材として
使用して光学素子を成形する光学素子成形用型(図1)
において、表1に示す住田光学ガラス社製の硝材SFL
D21からなる成形型用素材1´で形成された下型1を
使用した場合(比較例)、下型1を構成する成形型用素
材1´の線膨張係数のほうが光学素材10の線膨張係数
よりも大きく、その結果、光学素子成形時の冷却過程に
おいて、下型1の転写面1A内に収容された光学素子が
外周から下型1に抱き込まれ、締めつけられる。また、
硝材SFLD21からなる下型1を備えた光学素子成形
用型(比較例)において、直径φ1.3μm、レンズ厚
0.4μmの光学素子(硝材PSK100)を成形した
ところ、成形した光学素子の9割にワレ等の不具合が発
生した。
【0021】すなわちこの発明では、上下一対の成形型
と胴型とを備えた成形用型のキャビティ内に加熱軟化し
た光学素材を配置し、上下一対の成形型で加圧すること
により光学素子を成形する成形用型において、ガラスか
らなる成形型用素材で成形した下型を備え、さらに前記
ガラスからなる成形型用素材の線膨張係数を光学素材の
線膨張係数以下とするとともに、光学素材のガラス転移
点をT、光学素子を成形するときの成形加熱温度をT
、成形型用素材のガラス転移点(Tg)をT とした
とき、T<T<Tとなるように設計したことによ
って、光学素子の成形性が良好で、かつ光学素子成形時
の冷却過程において下型が光学素子を締めつけることが
なく、光学素子の離型性悪化や、光学素子のワレを防止
することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による光学素子成形用型の断面図。
【図2】本発明による光学素子成形用型の下型を成形す
る下型成形用型の断面図。
【符号の説明】
1 下型 1A 転写面 1´ 成形型用素材 2 上型 2A 転写面 3 胴型 31 孔 4 成形母型 4A 転写面 10 光学素材(ないしはガラス素材)

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 上下一対の成形型(1、2)と胴型
    (3)とを備えた成形用型のキャビティ内に加熱軟化し
    た光学素材(10)を配置し、上下一対の成形型で加圧
    することにより光学素子を成形する成形用型において、 ガラスからなる成形型用素材(1´)を加熱しながら成
    形母型(4)で押圧成形し、前記成形型用素材(1´)
    に成形母型(4)の転写面(4A)を転写させて成形し
    た、転写面(1A)を有する下型(1)を備え、 さらに前記ガラスからなる成形型用素材(1´)の線膨
    張係数を光学素材(10)の線膨張係数以下とするとと
    もに、光学素材(10)のガラス転移点(Tg)を
    、光学素子成形時の成形加熱温度をT、成形型用
    素材(1´)のガラス転移点(Tg)をTとしたと
    き、T<T<Tとなるように設計したことを特徴
    とする光学素子成形用型。
  2. 【請求項2】 T−T≧100℃となるように設計
    したことを特徴とする請求項1に記載の光学素子成形用
    型。
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