JP3130612B2 - 光学素子成形用型 - Google Patents
光学素子成形用型Info
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- C03B11/08—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、上型および下型からな
る成形型の間に加熱されたガラス素材を挿入して押圧成
形してガラス光学素子を製造する際に用いる光学素子成
形用型に関する。
る成形型の間に加熱されたガラス素材を挿入して押圧成
形してガラス光学素子を製造する際に用いる光学素子成
形用型に関する。
【０００２】
【従来の技術】特に肉厚差の大きい成形品を得ようとす
る場合における成形用型として、特開平２−５５２３５
号公報及び特開平２−１１６３５号公報に開示されたも
のがある。
る場合における成形用型として、特開平２−５５２３５
号公報及び特開平２−１１６３５号公報に開示されたも
のがある。
【０００３】特開平２−５５２３５号公報記載のもの
は、一対の凸面成形用型と胴型から成る精密ガラスプレ
ス用成形用型で、熱源に接する型の一部にくりぬき部を
設け、凹形状レンズの光学面部中心の温度が非光学面部
の温度より高く保ちつつ冷却加圧することを特徴とする
凹形状レンズの成形用型である。これは、成形用型のく
りぬき部により、空気断熱層が構成されることで、加圧
冷却時に収縮量の小さいレンズ光学面中心の温度を高く
保ち、収縮量の大きい非光学面側との収縮差を縮めなが
ら冷却することにより、形状精度を良好な高精度の成形
レンズを形成しようとするものである。
は、一対の凸面成形用型と胴型から成る精密ガラスプレ
ス用成形用型で、熱源に接する型の一部にくりぬき部を
設け、凹形状レンズの光学面部中心の温度が非光学面部
の温度より高く保ちつつ冷却加圧することを特徴とする
凹形状レンズの成形用型である。これは、成形用型のく
りぬき部により、空気断熱層が構成されることで、加圧
冷却時に収縮量の小さいレンズ光学面中心の温度を高く
保ち、収縮量の大きい非光学面側との収縮差を縮めなが
ら冷却することにより、形状精度を良好な高精度の成形
レンズを形成しようとするものである。
【０００４】一方、特開平２−１１１６３５号公報記載
のものは、凹状の第１の光学面を有する第１の成形型
と、凹状の第２の光学面を有する第２の成形型と、前記
第１および第２の成形型を案内する胴型とを具備し、前
記第１および第２の成形型の少なくとも一方の光学面の
背面の外周部に凹部を設けることを特徴とするプレスレ
ンズの成形用型（凸レンズおよび凸メニスカスレンズに
対し適用される）であり、また、凸状の第１の光学面を
有する第１の成形型と、凸状の第２の光学面を有する第
２の成形型と、前記第１および第２の成形型を案内する
胴型とを具備し、前記第１および第２の成形型の少なく
とも一方の光学面の背面の中心部に凹部を設けることを
特徴とするプレスレンズの成形用型（凹レンズおよび凹
メニスカスレンズに対し適用される）である。
のものは、凹状の第１の光学面を有する第１の成形型
と、凹状の第２の光学面を有する第２の成形型と、前記
第１および第２の成形型を案内する胴型とを具備し、前
記第１および第２の成形型の少なくとも一方の光学面の
背面の外周部に凹部を設けることを特徴とするプレスレ
ンズの成形用型（凸レンズおよび凸メニスカスレンズに
対し適用される）であり、また、凸状の第１の光学面を
有する第１の成形型と、凸状の第２の光学面を有する第
２の成形型と、前記第１および第２の成形型を案内する
胴型とを具備し、前記第１および第２の成形型の少なく
とも一方の光学面の背面の中心部に凹部を設けることを
特徴とするプレスレンズの成形用型（凹レンズおよび凹
メニスカスレンズに対し適用される）である。
【０００５】以上の構成の成形用型によれば、各工程に
おける加熱ステージと、前記成形用型の凹部とは接触せ
ず、熱伝達が抑制され、ガラス内部に温度差を生じにく
くすることができる。従って、高精度のプレスレンズを
製造できる。
おける加熱ステージと、前記成形用型の凹部とは接触せ
ず、熱伝達が抑制され、ガラス内部に温度差を生じにく
くすることができる。従って、高精度のプレスレンズを
製造できる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】特開平２−５５２３５
号公報および特開平２−１１１６３５号公報の成形用型
によると、ともに成形用型の背面に凹部を設けて空気断
熱層を形成することにより、熱伝達を抑制してレンズ内
部に温度差を生じにくくしている。しかしながら、空気
断熱層によりレンズから成形用型に移動する熱量の移動
速度は必然的に遅くなるため、加圧冷却時間は長くな
り、効率の良い成形ができない欠点があった。
号公報および特開平２−１１１６３５号公報の成形用型
によると、ともに成形用型の背面に凹部を設けて空気断
熱層を形成することにより、熱伝達を抑制してレンズ内
部に温度差を生じにくくしている。しかしながら、空気
断熱層によりレンズから成形用型に移動する熱量の移動
速度は必然的に遅くなるため、加圧冷却時間は長くな
り、効率の良い成形ができない欠点があった。
【０００７】本発明は、かかる従来の問題点に鑑みてな
されたもので、加圧冷却時間が比較的短くてもレンズ内
部の温度差が生じにくく、形状精度の良好なガラス光学
素子を得ることができる光学素子成形型を提供すること
を目的とする。
されたもので、加圧冷却時間が比較的短くてもレンズ内
部の温度差が生じにくく、形状精度の良好なガラス光学
素子を得ることができる光学素子成形型を提供すること
を目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、耐熱性材料から成る型基材の成形面部
に、熱伝導率の異なる２種以上の材質の膜を形成して光
学素子成形用型を構成した。
に、本発明は、耐熱性材料から成る型基材の成形面部
に、熱伝導率の異なる２種以上の材質の膜を形成して光
学素子成形用型を構成した。
【０００９】
【作用】上記構成の成形用型では、加熱されたガラス素
材の熱量は、成形用型によって押圧成形されながら、成
形用型へと熱伝導していくことによって冷却される。本
発明では、前記成形用型の型基材の成形面部を熱伝導率
の異なる耐熱材料で構成することにより、ガラス全体の
冷却速度を遅らせることなく、ガラス薄肉部の冷却速度
を相対的に遅延させることができるので、短時間の成形
にて形状精度の良好な光学素子が得られる。
材の熱量は、成形用型によって押圧成形されながら、成
形用型へと熱伝導していくことによって冷却される。本
発明では、前記成形用型の型基材の成形面部を熱伝導率
の異なる耐熱材料で構成することにより、ガラス全体の
冷却速度を遅らせることなく、ガラス薄肉部の冷却速度
を相対的に遅延させることができるので、短時間の成形
にて形状精度の良好な光学素子が得られる。
【００１０】なお、成形面部に形成される膜は、ガラス
と融着しにくいものであることが必要なことから、Ｃ，
Ｃｒ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ｏｓ，Ｉｒ若しくはＰｔ又は
Ｂ，Ａｌ，Ｔｉ，Ｃｒ若しくはＴａの窒化物又はＢ，Ｔ
ｉ，Ｃｒ若しくはＴａの炭化物又はＴｉ，Ｚｒ若しくは
Ｃｒのホウ化物又はＡｌ，Ｔｉ，Ｃｒ，Ｚｒ若しくはＨ
ｆの酸化物のうちのいずれか１種又はこれらの混合物か
らなるものであるのが望ましい。これらの中から、ガラ
スの種類や成形方法等に応じて適当な材質を選択する。
参考のために、各種材料の熱伝導率を表１に示す。
と融着しにくいものであることが必要なことから、Ｃ，
Ｃｒ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ｏｓ，Ｉｒ若しくはＰｔ又は
Ｂ，Ａｌ，Ｔｉ，Ｃｒ若しくはＴａの窒化物又はＢ，Ｔ
ｉ，Ｃｒ若しくはＴａの炭化物又はＴｉ，Ｚｒ若しくは
Ｃｒのホウ化物又はＡｌ，Ｔｉ，Ｃｒ，Ｚｒ若しくはＨ
ｆの酸化物のうちのいずれか１種又はこれらの混合物か
らなるものであるのが望ましい。これらの中から、ガラ
スの種類や成形方法等に応じて適当な材質を選択する。
参考のために、各種材料の熱伝導率を表１に示す。
【００１１】
【表１】
【００１２】
【実施例１】図１は本実施例の成形用型を示すもので、
超硬合金から成る型基材１の成形面部２は、外径φ１
１．８、曲率Ｒ３８．３７５の凹球面に加工されてい
る。また、型基材１の成形面部２の中心φ５より外側の
外周部には、マスキングをして、ＲＦマグネトロンスパ
ッタリングにより、中央部にＰｔとＴｉＢ2 との混合膜
３が厚さ１μｍで形成されている。これは、Ｐｔ８０％
およびＴｉＢ2 ２０％の割合で混合したターゲットを用
いて、Ａｒガスでスパッタリングをしたものである。さ
らに、型基材１の成形面部２の中央部（既に混合膜３の
付いている部分）をマスキングして、ＲＦマグネトロン
スパッタリングにより、外周部にＣｒＮ膜４が厚さ１μ
ｍで形成されている。これは、Ｃｒ2 Ｎのターゲットを
用いて、Ｎ2 ガスでスパッタリングをしたものである。
すなわち、成形品厚肉部に対応する型中心部には熱伝導
率の良い混合膜３を形成し、一方、成形品薄肉部に対応
する型外周部には熱伝導率の悪いＣｒＮ膜４を形成し
た。
超硬合金から成る型基材１の成形面部２は、外径φ１
１．８、曲率Ｒ３８．３７５の凹球面に加工されてい
る。また、型基材１の成形面部２の中心φ５より外側の
外周部には、マスキングをして、ＲＦマグネトロンスパ
ッタリングにより、中央部にＰｔとＴｉＢ2 との混合膜
３が厚さ１μｍで形成されている。これは、Ｐｔ８０％
およびＴｉＢ2 ２０％の割合で混合したターゲットを用
いて、Ａｒガスでスパッタリングをしたものである。さ
らに、型基材１の成形面部２の中央部（既に混合膜３の
付いている部分）をマスキングして、ＲＦマグネトロン
スパッタリングにより、外周部にＣｒＮ膜４が厚さ１μ
ｍで形成されている。これは、Ｃｒ2 Ｎのターゲットを
用いて、Ｎ2 ガスでスパッタリングをしたものである。
すなわち、成形品厚肉部に対応する型中心部には熱伝導
率の良い混合膜３を形成し、一方、成形品薄肉部に対応
する型外周部には熱伝導率の悪いＣｒＮ膜４を形成し
た。
【００１３】上記のようにして作製した成形用型を用い
て成形を行った。型基材１の底部を型マウント５に取り
付け、型マウント５には型ヒータ６を組み込んだ。型基
材１と型マウント５とは、熱の伝導が行われるのに十分
なように互いに密着させた。なお、以上の説明は上型に
ついてのものであるが、下型についても全く同様の構成
とする。但し、下型は、球面部の曲率がＲ２７．９８３
である点のみが異なる。
て成形を行った。型基材１の底部を型マウント５に取り
付け、型マウント５には型ヒータ６を組み込んだ。型基
材１と型マウント５とは、熱の伝導が行われるのに十分
なように互いに密着させた。なお、以上の説明は上型に
ついてのものであるが、下型についても全く同様の構成
とする。但し、下型は、球面部の曲率がＲ２７．９８３
である点のみが異なる。
【００１４】以上のような成形用型を用いて、光学ガラ
スの成形を行ったところ、形状精度の良好な光学素子を
短時間で得ることができた。
スの成形を行ったところ、形状精度の良好な光学素子を
短時間で得ることができた。
【００１５】本実施例の変形例として、成形面の膜の作
製法はＲＦマグネトロンスパッタリングに限らず、他の
ＰＶＤ法やＣＶＤ法においても、同様の効果を得ること
ができる。また、膜材質も表１に示すものの中から、熱
伝導率の高いものと低いものとを適当に組み合わせて使
用することが可能である。また、中心部から外周部に向
かって、除々に熱伝導率が変化する３種以上の膜材質に
より構成することも可能である。
製法はＲＦマグネトロンスパッタリングに限らず、他の
ＰＶＤ法やＣＶＤ法においても、同様の効果を得ること
ができる。また、膜材質も表１に示すものの中から、熱
伝導率の高いものと低いものとを適当に組み合わせて使
用することが可能である。また、中心部から外周部に向
かって、除々に熱伝導率が変化する３種以上の膜材質に
より構成することも可能である。
【００１６】
【実施例２】本実施例の成形用型の製造プロセスを図２
に示す。 （ａ工程） モリブデン製の型基材５の端面をを外径φ
１５、曲率Ｒ１９．９の凸球面に加工する。 （ｂ工程） 成形面部５ａに、プラズマＣＶＤ法によ
り、Ａｌ2 Ｏ3 膜６を厚さ０．８ｍｍで付ける。 （ｃ工程） Ａｌ2 Ｏ3 膜６の中央部φ６の部分のみ残
し、他は研削加工により削り取る。 （ｄ工程） 成形面部５ａに、プラズマＣＶＤ法により
ＡｌＮ膜７を厚さ０．８ｍｍで付ける。 （ｅ工程） 成形面部を研削、研磨加工して、Ｒ２０．
０１２の凸球面に仕上げる。表面は、中央部が熱伝導率
の小さいＡｌ2 Ｏ3 膜６、、外周部が熱伝導率の大きい
ＡｌＮ膜７となっている。
に示す。 （ａ工程） モリブデン製の型基材５の端面をを外径φ
１５、曲率Ｒ１９．９の凸球面に加工する。 （ｂ工程） 成形面部５ａに、プラズマＣＶＤ法によ
り、Ａｌ2 Ｏ3 膜６を厚さ０．８ｍｍで付ける。 （ｃ工程） Ａｌ2 Ｏ3 膜６の中央部φ６の部分のみ残
し、他は研削加工により削り取る。 （ｄ工程） 成形面部５ａに、プラズマＣＶＤ法により
ＡｌＮ膜７を厚さ０．８ｍｍで付ける。 （ｅ工程） 成形面部を研削、研磨加工して、Ｒ２０．
０１２の凸球面に仕上げる。表面は、中央部が熱伝導率
の小さいＡｌ2 Ｏ3 膜６、、外周部が熱伝導率の大きい
ＡｌＮ膜７となっている。
【００１７】上記のようにして製造した成形用型を用い
て、凸レンズの成形を行ったところ、形状精度の良好な
光学素子を短時間で得ることができた。
て、凸レンズの成形を行ったところ、形状精度の良好な
光学素子を短時間で得ることができた。
【００１８】本実施例では、ＣＶＤ法により厚膜を形成
したため、実施例１より大きな効果を得ることができ
る。また、厚膜にした場合には、２種の膜の膜厚の差が
生じやすいが、膜形成後に後加工をすることでこれを解
決している。
したため、実施例１より大きな効果を得ることができ
る。また、厚膜にした場合には、２種の膜の膜厚の差が
生じやすいが、膜形成後に後加工をすることでこれを解
決している。
【００１９】
【発明の効果】以上のように、本発明の光学素子成形用
型によれば、成形型の型基材上に熱伝導率の異なる材質
の膜を形成して成形面部としたことにより、ガラス全体
の冷却速度を遅らせることなく、ガラス薄肉部の冷却速
度を相対的に遅延させることができるので、短時間の成
形にて形状精度の良好な光学素子が得られる。
型によれば、成形型の型基材上に熱伝導率の異なる材質
の膜を形成して成形面部としたことにより、ガラス全体
の冷却速度を遅らせることなく、ガラス薄肉部の冷却速
度を相対的に遅延させることができるので、短時間の成
形にて形状精度の良好な光学素子が得られる。
【図１】本発明の実施例１の光学素子成形用型を取り付
けた成形装置を示す一部破断正面図である。
けた成形装置を示す一部破断正面図である。
【図２】本発明の実施例２の製造工程を示す工程図であ
る。
る。
１，５ 型基材 ２，５ａ 成形面部 ３ 混合膜 ４ ＣｒＮ膜 ６ Ａｌ2 Ｏ3 膜 ７ ＡｌＮ膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C03B 11/00
Claims (2)
- 【請求項１】 耐熱性材料から成る型基材の成形面部に
熱伝導率の異なる２種以上の材質の膜を形成したことを
特徴とする光学素子成形用型。 - 【請求項２】 上記膜は、Ｃ，Ｃｒ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｐ
ｄ，Ｏｓ，Ｉｒ若しくはＰｔ又はＢ，Ａｌ，Ｔｉ，Ｃｒ
若しくはＴａの窒化物又はＢ，Ｔｉ，Ｃｒ若しくはＴａ
の炭化物又はＴｉ，Ｚｒ若しくはＣｒのホウ化物又はＡ
ｌ，Ｔｉ，Ｃｒ，Ｚｒ若しくはＨｆの酸化物のうちのい
ずれか１種又はこれらの混合物からなることを特徴とす
る光学素子成形用型。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03339730A JP3130612B2 (ja) | 1991-11-28 | 1991-11-28 | 光学素子成形用型 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03339730A JP3130612B2 (ja) | 1991-11-28 | 1991-11-28 | 光学素子成形用型 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05147953A JPH05147953A (ja) | 1993-06-15 |
| JP3130612B2 true JP3130612B2 (ja) | 2001-01-31 |
Family
ID=18330265
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP03339730A Expired - Fee Related JP3130612B2 (ja) | 1991-11-28 | 1991-11-28 | 光学素子成形用型 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3130612B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7671934B2 (en) | 2007-11-13 | 2010-03-02 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Display device and display device stand |
-
1991
- 1991-11-28 JP JP03339730A patent/JP3130612B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7671934B2 (en) | 2007-11-13 | 2010-03-02 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Display device and display device stand |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05147953A (ja) | 1993-06-15 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20001024 |
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