JPH0483720A - 光学素子成形型 - Google Patents
光学素子成形型Info
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- JPH0483720A JPH0483720A JP2195756A JP19575690A JPH0483720A JP H0483720 A JPH0483720 A JP H0483720A JP 2195756 A JP2195756 A JP 2195756A JP 19575690 A JP19575690 A JP 19575690A JP H0483720 A JPH0483720 A JP H0483720A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B11/00—Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
- C03B11/06—Construction of plunger or mould
- C03B11/08—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses
- C03B11/084—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses material composition or material properties of press dies therefor
- C03B11/086—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses material composition or material properties of press dies therefor of coated dies
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2215/00—Press-moulding glass
- C03B2215/02—Press-mould materials
- C03B2215/08—Coated press-mould dies
- C03B2215/10—Die base materials
- C03B2215/12—Ceramics or cermets, e.g. cemented WC, Al2O3 or TiC
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C03B2215/02—Press-mould materials
- C03B2215/08—Coated press-mould dies
- C03B2215/14—Die top coat materials, e.g. materials for the glass-contacting layers
- C03B2215/16—Metals or alloys, e.g. Ni-P, Ni-B, amorphous metals
- C03B2215/17—Metals or alloys, e.g. Ni-P, Ni-B, amorphous metals comprising one or more of the noble meals, i.e. Ag, Au, platinum group metals
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は高精度のプレス成形によって研削、研磨を必要
としない光学素子を得る製造方法に関する。詳しくは光
学素子を成形する際に使用する光学素子成形型に関する
ものである。
としない光学素子を得る製造方法に関する。詳しくは光
学素子を成形する際に使用する光学素子成形型に関する
ものである。
〔従来の技術］
従来、この種の光学素子成形型においては、それに使用
する型材に関して種々検討が加えられ、完成する光学素
子の高精度化に寄与している０例えば特開昭４７−１１
２７７号にはガラス状炭素鋼を使用したもの、また特開
昭５２−４５６１３号にはＳ １ＣＳＳ ｉｓ Ｎａ
、Ｓ ｉ Ｃ＋Ｃを使用したもの等が開示されている。
する型材に関して種々検討が加えられ、完成する光学素
子の高精度化に寄与している０例えば特開昭４７−１１
２７７号にはガラス状炭素鋼を使用したもの、また特開
昭５２−４５６１３号にはＳ １ＣＳＳ ｉｓ Ｎａ
、Ｓ ｉ Ｃ＋Ｃを使用したもの等が開示されている。
上記の如き従来の技術に於いては、型材料としてガラス
状炭素を用いた場合、光学素子の要求する高精度な鏡面
（表面粗さＲ，、，１００Å以下）が得られないこと、
又強度的にも低いため繰り返しの成形による表面の劣化
が生じることなどの問題点があった。また、ＳｉＣ，Ｓ
ｉｓ Ｎａ、ＳｉＣ＋Ｃなどの型材料は高精度な鏡面は
得やすいもののガラスの成分である鉛やアルカリ元素と
反応しやすいため、高精度な光学素子の成形時に融着現
象を起こすという問題点もあった。
状炭素を用いた場合、光学素子の要求する高精度な鏡面
（表面粗さＲ，、，１００Å以下）が得られないこと、
又強度的にも低いため繰り返しの成形による表面の劣化
が生じることなどの問題点があった。また、ＳｉＣ，Ｓ
ｉｓ Ｎａ、ＳｉＣ＋Ｃなどの型材料は高精度な鏡面は
得やすいもののガラスの成分である鉛やアルカリ元素と
反応しやすいため、高精度な光学素子の成形時に融着現
象を起こすという問題点もあった。
本発明はこの欅な従来の問題点を鑑みてなされたもので
高強度で高精度な鏡面を得ることができさらにガラスと
の融着現象を生じない光学素子成形型を提供することを
目的とする。
高強度で高精度な鏡面を得ることができさらにガラスと
の融着現象を生じない光学素子成形型を提供することを
目的とする。
上記目的のために本発明では、高精度のプレス成形によ
って研削、研磨を必要としない光学素子を得る製造方法
に使用する光学素子成形型において、 Ａｉ、Ｏ，−ＴｉＣ系セラミックの母材と、該母材上に
形成すると共に高温、高真空下で再結晶させた純白金膜
と、 を有することを課題解決の手段とするものである。
って研削、研磨を必要としない光学素子を得る製造方法
に使用する光学素子成形型において、 Ａｉ、Ｏ，−ＴｉＣ系セラミックの母材と、該母材上に
形成すると共に高温、高真空下で再結晶させた純白金膜
と、 を有することを課題解決の手段とするものである。
本発明に於いては、まず母材としてＡｉ２０ｓ−ＴｉＣ
系セラミック（ＡＬＴＩＣ）を使用したので高温下での
強度が強く、耐熱性は良好である。
系セラミック（ＡＬＴＩＣ）を使用したので高温下での
強度が強く、耐熱性は良好である。
さラニ、Ａｌｘ ０ｓ−ＴｉＣ系セラミック（ＡＬＴＩ
Ｃ）は研削、研磨仕上げにより、容易に表面粗さＲ，、
，１００Å以下を得られるので、要求する光学素子の表
面粗さに対して十分に対応することができる。
Ｃ）は研削、研磨仕上げにより、容易に表面粗さＲ，、
，１００Å以下を得られるので、要求する光学素子の表
面粗さに対して十分に対応することができる。
次に前記研削、研磨されたＡｌｚ Ｏｓ Ｔ ｉ Ｃ
系セラミック（ＡＬＴＩＣ）母材の上に、純白金（Ｐｔ
：９９．９重量％以上）を５０Å以下の膜厚で形成し高
温、高真空下で再結晶させた。ここで純白金膜の膜厚を
５０Å以下にすることと、高温、高真空下で再結晶させ
ることがポイントであり、たとえば純白金の膜厚を５０
Å以上で形成し、高温、高真空下で再結晶させると純白
金膜が粒状化し表面粗さが極端に悪くなる。その点、純
白金膜の膜厚が５０Å以下の場合は高温、高真空下で再
結晶させても粒状化現象は生じず極めて安定した状態に
なる。この再結晶した安定状態は、純白金膜を形成した
すぐの状！ａ（再結晶前の状態）と比較すると硬度が数
段上昇しており純白金膜表面にキズが入るようなことも
なく、光学素子成形型として使用するのに好適である。
系セラミック（ＡＬＴＩＣ）母材の上に、純白金（Ｐｔ
：９９．９重量％以上）を５０Å以下の膜厚で形成し高
温、高真空下で再結晶させた。ここで純白金膜の膜厚を
５０Å以下にすることと、高温、高真空下で再結晶させ
ることがポイントであり、たとえば純白金の膜厚を５０
Å以上で形成し、高温、高真空下で再結晶させると純白
金膜が粒状化し表面粗さが極端に悪くなる。その点、純
白金膜の膜厚が５０Å以下の場合は高温、高真空下で再
結晶させても粒状化現象は生じず極めて安定した状態に
なる。この再結晶した安定状態は、純白金膜を形成した
すぐの状！ａ（再結晶前の状態）と比較すると硬度が数
段上昇しており純白金膜表面にキズが入るようなことも
なく、光学素子成形型として使用するのに好適である。
さらにこの純白金膜は白金自体がガラスとの反応性が低
い物質なので融着現象を起こすこともなく表面積炭を劣
化させるような不都合も解消する。
い物質なので融着現象を起こすこともなく表面積炭を劣
化させるような不都合も解消する。
第１図は本発明の一実施例であって外径２０ｍ、高さ２
５−凹面曲率５０−のＡｊ２．０ｆｆ−Ｔ ｉ Ｃ系セ
ラミック（ＡＬＴＩＣ）母材１ａを準備し、該母材１ａ
の凹面曲率部を研削、研磨により鏡面仕上げし表面粗さ
Ｒ０□１００Å以下にした。次に、この母材１ａの鏡面
部に純白金１ｆ！１ｂ（Ｐｃ：９９．９重量％以上）を
スパッタリングにより膜厚５０Å以下に形成し成形型１
とした。製作した成形型１を第２図の様なスケジュール
（８００”Ｃまで１５分で加熱し、８００℃で６０分間
保持して、その後冷却する）で真空度５ Ｘ １０−’
Ｔｏｒｒ以下を保ちながら加熱処理し、純白金膜１ｂを
再結晶させた。
５−凹面曲率５０−のＡｊ２．０ｆｆ−Ｔ ｉ Ｃ系セ
ラミック（ＡＬＴＩＣ）母材１ａを準備し、該母材１ａ
の凹面曲率部を研削、研磨により鏡面仕上げし表面粗さ
Ｒ０□１００Å以下にした。次に、この母材１ａの鏡面
部に純白金１ｆ！１ｂ（Ｐｃ：９９．９重量％以上）を
スパッタリングにより膜厚５０Å以下に形成し成形型１
とした。製作した成形型１を第２図の様なスケジュール
（８００”Ｃまで１５分で加熱し、８００℃で６０分間
保持して、その後冷却する）で真空度５ Ｘ １０−’
Ｔｏｒｒ以下を保ちながら加熱処理し、純白金膜１ｂを
再結晶させた。
以上の様に製作した成形型ｌは第３図に示すように上下
型で１対となしスリーブ３の中に被成形ガラス２を挟む
如（配置し、加熱加圧成形により被成形ガラスを成形す
る。第４図に示す如く、成形終了光学素子４は表面粗さ
がＲ，、，１００Å以下ですぐれた光学特性を示した。
型で１対となしスリーブ３の中に被成形ガラス２を挟む
如（配置し、加熱加圧成形により被成形ガラスを成形す
る。第４図に示す如く、成形終了光学素子４は表面粗さ
がＲ，、，１００Å以下ですぐれた光学特性を示した。
さらに、製作した成形型ｌによりプレスを１００回繰り
返して行なったが、純白金膜ｉｂには何ら変化は認めら
れなかった。
返して行なったが、純白金膜ｉｂには何ら変化は認めら
れなかった。
なお、比較のために前記成形型１と同形状のＳｉＣ，Ｓ
ｉ３Ｎ、 、ＳｉＣ＋Ｃを母材とする型を準備し、プレ
ス成形を行なったところ、５ｉＣ１Ｓ ｉｓ Ｎ ４
、Ｓ ｉ Ｃ＋ Ｃの母材の型はともに第１回目の成形
で融着反応を生じその後の使用に耐えられないものとな
った。
ｉ３Ｎ、 、ＳｉＣ＋Ｃを母材とする型を準備し、プレ
ス成形を行なったところ、５ｉＣ１Ｓ ｉｓ Ｎ ４
、Ｓ ｉ Ｃ＋ Ｃの母材の型はともに第１回目の成形
で融着反応を生じその後の使用に耐えられないものとな
った。
以上の様に本発明によればＡｊ！ｚ Ｏｓ Ｔ ｉ
Ｃ（ＡＬＴＩＣ）を母材とし、その母材上面を高精度な
鏡面（表面粗さＲ□Ｘ Ｘ１００Å以下）となし、その
上に純白金Ｗ！Ｉ（Ｐｔ：９９．９重量％以上）を形成
しその後、高温、高真空下で再結晶させた成形型とした
ので、プレス成形時に高精度な表面状態を保つと共にガ
ラスとの融着反応を起こすことがないので、高精度な光
学素子を得ることができる効果がある。
Ｃ（ＡＬＴＩＣ）を母材とし、その母材上面を高精度な
鏡面（表面粗さＲ□Ｘ Ｘ１００Å以下）となし、その
上に純白金Ｗ！Ｉ（Ｐｔ：９９．９重量％以上）を形成
しその後、高温、高真空下で再結晶させた成形型とした
ので、プレス成形時に高精度な表面状態を保つと共にガ
ラスとの融着反応を起こすことがないので、高精度な光
学素子を得ることができる効果がある。
また、本発明による成形型は、多種類ある光学ガラスの
ほとんど総てに対応することができるので、プレス成形
の可能性の範囲を大きく広げるという効果もある。
ほとんど総てに対応することができるので、プレス成形
の可能性の範囲を大きく広げるという効果もある。
第１図は本発明による光学素子成形型を示す縦断面図、
第２図は純白金膜の再結晶時の温度スケジュールを説明
する図、 第３図はプレス成形時の型構造を説明する概略縦断面図
、 第４図はプレス成形で製作した成形終了光学素子を示す
図である。 〔主要部分の符号の説明〕 １・・・・・・成形型、 １ ａ ＝・＝・Ａｌｚ ０３ Ｔ ｒ Ｃセラミッ
ク（ＡＬＴＩＣ）母材 １ｂ・・・・・・純白金膜、 ２・・・・・・被成形ガラス、 ４・・・・・・成形終了光学素子。
する図、 第３図はプレス成形時の型構造を説明する概略縦断面図
、 第４図はプレス成形で製作した成形終了光学素子を示す
図である。 〔主要部分の符号の説明〕 １・・・・・・成形型、 １ ａ ＝・＝・Ａｌｚ ０３ Ｔ ｒ Ｃセラミッ
ク（ＡＬＴＩＣ）母材 １ｂ・・・・・・純白金膜、 ２・・・・・・被成形ガラス、 ４・・・・・・成形終了光学素子。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、Ａｌ＿２Ｏ＿３−ＴｉＣ系セラミックの母材と、該
母材上に形成すると共に高温、高真空下で再結晶させた
純白金膜と、 を有することを特徴とする光学素子成形型。 ２、前記純白金膜が純白金（Ｐｔ）が９９．９重量％以
上、層厚が５０Å以下であることを特徴とする特許請求
の範囲第１項記載の光学素子成形型。 ３、前記母材上面が高精度な鏡面（表面粗さＲｍａｘ１
００Å以下）であることを特徴とする特許請求の範囲第
１項記載の光学素子成形型。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2195756A JP2800384B2 (ja) | 1990-07-24 | 1990-07-24 | 光学素子成形型 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2195756A JP2800384B2 (ja) | 1990-07-24 | 1990-07-24 | 光学素子成形型 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0483720A true JPH0483720A (ja) | 1992-03-17 |
| JP2800384B2 JP2800384B2 (ja) | 1998-09-21 |
Family
ID=16346440
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2195756A Expired - Fee Related JP2800384B2 (ja) | 1990-07-24 | 1990-07-24 | 光学素子成形型 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2800384B2 (ja) |
-
1990
- 1990-07-24 JP JP2195756A patent/JP2800384B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2800384B2 (ja) | 1998-09-21 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |