Patents
Search within the title, abstract, claims, or full patent document: You can restrict your search to a specific field using field names.
Use TI= to search in the title, AB= for the abstract, CL= for the claims, or TAC= for all three. For example, TI=(safety belt).
Search by Cooperative Patent Classifications (CPCs): These are commonly used to represent ideas in place of keywords, and can also be entered in a search term box. If you're searching forseat belts, you could also search for B60R22/00 to retrieve documents that mention safety belts or body harnesses. CPC=B60R22 will match documents with exactly this CPC, CPC=B60R22/low matches documents with this CPC or a child classification of this CPC.
Learn MoreKeywords and boolean syntax (USPTO or EPO format): seat belt searches these two words, or their plurals and close synonyms. "seat belt" searches this exact phrase, in order. -seat -belt searches for documents not containing either word.
For searches using boolean logic, the default operator is AND with left associativity. Note: this means safety OR seat belt is searched as (safety OR seat) AND belt. Each word automatically includes plurals and close synonyms. Adjacent words that are implicitly ANDed together, such as (safety belt), are treated as a phrase when generating synonyms.
Learn MoreChemistry searches match terms (trade names, IUPAC names, etc. extracted from the entire document, and processed from .MOL files.)
Substructure (use SSS=) and similarity (use ~) searches are limited to one per search at the top-level AND condition. Exact searches can be used multiple times throughout the search query.
Searching by SMILES or InChi key requires no special syntax. To search by SMARTS, use SMARTS=.
To search for multiple molecules, select "Batch" in the "Type" menu. Enter multiple molecules separated by whitespace or by comma.
Learn MoreSearch specific patents by importing a CSV or list of patent publication or application numbers.
光学素子成形型
JPH0483720A
Japan
- Other languages
English - Inventor
Mitsumasa Negishi 根岸 光正 Takashi Arai 新井 孝史 Hideki Takizawa 滝沢 英樹 - Current Assignee
- Nikon Corp
- Info
- Legal events
- Similar documents
- Priority and Related Applications
- External links
- Espacenet
- Global Dossier
- Discuss
Description
translated from
としない光学素子を得る製造方法に関する。詳しくは光
学素子を成形する際に使用する光学素子成形型に関する
ものである。
する型材に関して種々検討が加えられ、完成する光学素
子の高精度化に寄与している０例えば特開昭４７−１１
２７７号にはガラス状炭素鋼を使用したもの、また特開
昭５２−４５６１３号にはＳ １ＣＳＳ ｉｓ Ｎａ
、Ｓ ｉ Ｃ＋Ｃを使用したもの等が開示されている。
状炭素を用いた場合、光学素子の要求する高精度な鏡面
（表面粗さＲ，、，１００Å以下）が得られないこと、
又強度的にも低いため繰り返しの成形による表面の劣化
が生じることなどの問題点があった。また、ＳｉＣ，Ｓ
ｉｓ Ｎａ、ＳｉＣ＋Ｃなどの型材料は高精度な鏡面は
得やすいもののガラスの成分である鉛やアルカリ元素と
反応しやすいため、高精度な光学素子の成形時に融着現
象を起こすという問題点もあった。
高強度で高精度な鏡面を得ることができさらにガラスと
の融着現象を生じない光学素子成形型を提供することを
目的とする。
って研削、研磨を必要としない光学素子を得る製造方法
に使用する光学素子成形型において、 Ａｉ、Ｏ，−ＴｉＣ系セラミックの母材と、該母材上に
形成すると共に高温、高真空下で再結晶させた純白金膜
と、 を有することを課題解決の手段とするものである。
系セラミック（ＡＬＴＩＣ）を使用したので高温下での
強度が強く、耐熱性は良好である。
Ｃ）は研削、研磨仕上げにより、容易に表面粗さＲ，、
，１００Å以下を得られるので、要求する光学素子の表
面粗さに対して十分に対応することができる。
系セラミック（ＡＬＴＩＣ）母材の上に、純白金（Ｐｔ
：９９．９重量％以上）を５０Å以下の膜厚で形成し高
温、高真空下で再結晶させた。ここで純白金膜の膜厚を
５０Å以下にすることと、高温、高真空下で再結晶させ
ることがポイントであり、たとえば純白金の膜厚を５０
Å以上で形成し、高温、高真空下で再結晶させると純白
金膜が粒状化し表面粗さが極端に悪くなる。その点、純
白金膜の膜厚が５０Å以下の場合は高温、高真空下で再
結晶させても粒状化現象は生じず極めて安定した状態に
なる。この再結晶した安定状態は、純白金膜を形成した
すぐの状！ａ（再結晶前の状態）と比較すると硬度が数
段上昇しており純白金膜表面にキズが入るようなことも
なく、光学素子成形型として使用するのに好適である。
い物質なので融着現象を起こすこともなく表面積炭を劣
化させるような不都合も解消する。
５−凹面曲率５０−のＡｊ２．０ｆｆ−Ｔ ｉ Ｃ系セ
ラミック（ＡＬＴＩＣ）母材１ａを準備し、該母材１ａ
の凹面曲率部を研削、研磨により鏡面仕上げし表面粗さ
Ｒ０□１００Å以下にした。次に、この母材１ａの鏡面
部に純白金１ｆ！１ｂ（Ｐｃ：９９．９重量％以上）を
スパッタリングにより膜厚５０Å以下に形成し成形型１
とした。製作した成形型１を第２図の様なスケジュール
（８００”Ｃまで１５分で加熱し、８００℃で６０分間
保持して、その後冷却する）で真空度５ Ｘ １０−’
Ｔｏｒｒ以下を保ちながら加熱処理し、純白金膜１ｂを
再結晶させた。
型で１対となしスリーブ３の中に被成形ガラス２を挟む
如（配置し、加熱加圧成形により被成形ガラスを成形す
る。第４図に示す如く、成形終了光学素子４は表面粗さ
がＲ，、，１００Å以下ですぐれた光学特性を示した。
返して行なったが、純白金膜ｉｂには何ら変化は認めら
れなかった。
ｉ３Ｎ、 、ＳｉＣ＋Ｃを母材とする型を準備し、プレ
ス成形を行なったところ、５ｉＣ１Ｓ ｉｓ Ｎ ４
、Ｓ ｉ Ｃ＋ Ｃの母材の型はともに第１回目の成形
で融着反応を生じその後の使用に耐えられないものとな
った。
Ｃ（ＡＬＴＩＣ）を母材とし、その母材上面を高精度な
鏡面（表面粗さＲ□Ｘ Ｘ１００Å以下）となし、その
上に純白金Ｗ！Ｉ（Ｐｔ：９９．９重量％以上）を形成
しその後、高温、高真空下で再結晶させた成形型とした
ので、プレス成形時に高精度な表面状態を保つと共にガ
ラスとの融着反応を起こすことがないので、高精度な光
学素子を得ることができる効果がある。
ほとんど総てに対応することができるので、プレス成形
の可能性の範囲を大きく広げるという効果もある。
する図、 第３図はプレス成形時の型構造を説明する概略縦断面図
、 第４図はプレス成形で製作した成形終了光学素子を示す
図である。 〔主要部分の符号の説明〕 １・・・・・・成形型、 １ ａ ＝・＝・Ａｌｚ ０３ Ｔ ｒ Ｃセラミッ
ク（ＡＬＴＩＣ）母材 １ｂ・・・・・・純白金膜、 ２・・・・・・被成形ガラス、 ４・・・・・・成形終了光学素子。
Claims (1)
Hide Dependent
translated from
- 【特許請求の範囲】 １、Ａｌ＿２Ｏ＿３−ＴｉＣ系セラミックの母材と、該
母材上に形成すると共に高温、高真空下で再結晶させた
純白金膜と、 を有することを特徴とする光学素子成形型。 ２、前記純白金膜が純白金（Ｐｔ）が９９．９重量％以
上、層厚が５０Å以下であることを特徴とする特許請求
の範囲第１項記載の光学素子成形型。 ３、前記母材上面が高精度な鏡面（表面粗さＲｍａｘ１
００Å以下）であることを特徴とする特許請求の範囲第
１項記載の光学素子成形型。