JPH06275756A - リード・フレーム形成用材の作製方法 - Google Patents
リード・フレーム形成用材の作製方法Info
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- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 61
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 40
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 38
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 36
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 claims description 13
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 10
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 12
- -1 Alkyl titanate Chemical compound 0.000 description 48
- 238000000034 method Methods 0.000 description 38
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 37
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 37
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 32
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 28
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 26
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 26
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 21
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 19
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 18
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 18
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 18
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 18
- YKXAYLPDMSGWEV-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCO YKXAYLPDMSGWEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 238000011161 development Methods 0.000 description 15
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 15
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 14
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 12
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 11
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 11
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 10
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 9
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 8
- 235000011007 phosphoric acid Nutrition 0.000 description 8
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 8
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 8
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 7
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 7
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical class CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 7
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KCXZNSGUUQJJTR-UHFFFAOYSA-N Di-n-hexyl phthalate Chemical compound CCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCC KCXZNSGUUQJJTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 6
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 6
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 6
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 6
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N dibutyl phthalate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 6
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical compound OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 5
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 5
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 5
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 5
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 5
- ROVRRJSRRSGUOL-UHFFFAOYSA-N victoria blue bo Chemical compound [Cl-].C12=CC=CC=C2C(NCC)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(CC)CC)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 ROVRRJSRRSGUOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BMRVLXHIZWDOOK-UHFFFAOYSA-N 2-butylnaphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=CC2=C(S(O)(=O)=O)C(CCCC)=CC=C21 BMRVLXHIZWDOOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WBIQQQGBSDOWNP-UHFFFAOYSA-N 2-dodecylbenzenesulfonic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O WBIQQQGBSDOWNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910000570 Cupronickel Inorganic materials 0.000 description 4
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 4
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 4
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229940092714 benzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 4
- KXNQKOAQSGJCQU-UHFFFAOYSA-N benzo[e][1,3]benzothiazole Chemical class C1=CC=C2C(N=CS3)=C3C=CC2=C1 KXNQKOAQSGJCQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- YOCUPQPZWBBYIX-UHFFFAOYSA-N copper nickel Chemical compound [Ni].[Cu] YOCUPQPZWBBYIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229940060296 dodecylbenzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=C2C(S(=O)(=O)O)=CC=CC2=C1 PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 4
- 150000003014 phosphoric acid esters Chemical class 0.000 description 4
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 4
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 4
- 230000003449 preventive effect Effects 0.000 description 4
- PNGLEYLFMHGIQO-UHFFFAOYSA-M sodium;3-(n-ethyl-3-methoxyanilino)-2-hydroxypropane-1-sulfonate;dihydrate Chemical compound O.O.[Na+].[O-]S(=O)(=O)CC(O)CN(CC)C1=CC=CC(OC)=C1 PNGLEYLFMHGIQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- CXVGEDCSTKKODG-UHFFFAOYSA-N sulisobenzone Chemical compound C1=C(S(O)(=O)=O)C(OC)=CC(O)=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 CXVGEDCSTKKODG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 4
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WXHLLJAMBQLULT-UHFFFAOYSA-N 2-[[6-[4-(2-hydroxyethyl)piperazin-1-yl]-2-methylpyrimidin-4-yl]amino]-n-(2-methyl-6-sulfanylphenyl)-1,3-thiazole-5-carboxamide;hydrate Chemical compound O.C=1C(N2CCN(CCO)CC2)=NC(C)=NC=1NC(S1)=NC=C1C(=O)NC1=C(C)C=CC=C1S WXHLLJAMBQLULT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxystyrene Chemical compound OC1=CC=C(C=C)C=C1 FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 8beta-(2,3-epoxy-2-methylbutyryloxy)-14-acetoxytithifolin Natural products COC(=O)C(C)O LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 3
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical class C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 3
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 3
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 3
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 3
- ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N doxepin Chemical compound C1OC2=CC=CC=C2C(=C/CCN(C)C)/C2=CC=CC=C21 ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N 0.000 description 3
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 3
- 125000005439 maleimidyl group Chemical group C1(C=CC(N1*)=O)=O 0.000 description 3
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 3
- 229940057867 methyl lactate Drugs 0.000 description 3
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 3
- 235000010981 methylcellulose Nutrition 0.000 description 3
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CMPQUABWPXYYSH-UHFFFAOYSA-N phenyl phosphate Chemical compound OP(O)(=O)OC1=CC=CC=C1 CMPQUABWPXYYSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 3
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 3
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 3
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 3
- ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2,7-diazaspiro[4.5]decane-7-carboxylate Chemical compound C1N(C(=O)OC(C)(C)C)CCCC11CNCC1 ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DQFBYFPFKXHELB-VAWYXSNFSA-N trans-chalcone Chemical group C=1C=CC=CC=1C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 DQFBYFPFKXHELB-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 3
- AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N triphenylmethane Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FLYXGBNUYGAFAC-UHFFFAOYSA-N (2,4-dihydroxyphenyl)-(2-hydroxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1O FLYXGBNUYGAFAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MIOPJNTWMNEORI-GMSGAONNSA-N (S)-camphorsulfonic acid Chemical compound C1C[C@@]2(CS(O)(=O)=O)C(=O)C[C@@H]1C2(C)C MIOPJNTWMNEORI-GMSGAONNSA-N 0.000 description 2
- KETQAJRQOHHATG-UHFFFAOYSA-N 1,2-naphthoquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=O)C=CC2=C1 KETQAJRQOHHATG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QPSVFNQMURAADJ-UHFFFAOYSA-N 1,4-dicyclohexyloxy-1,4-dioxobutane-2-sulfonic acid Chemical compound C1CCCCC1OC(=O)C(S(=O)(=O)O)CC(=O)OC1CCCCC1 QPSVFNQMURAADJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GYSCBCSGKXNZRH-UHFFFAOYSA-N 1-benzothiophene-2-carboxamide Chemical compound C1=CC=C2SC(C(=O)N)=CC2=C1 GYSCBCSGKXNZRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LDMOEFOXLIZJOW-UHFFFAOYSA-N 1-dodecanesulfonic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCS(O)(=O)=O LDMOEFOXLIZJOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxybutane Chemical compound CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JLIDVCMBCGBIEY-UHFFFAOYSA-N 1-penten-3-one Chemical compound CCC(=O)C=C JLIDVCMBCGBIEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTTJWXVQRJUJQW-UHFFFAOYSA-N 2,2-dioctyl-3-sulfobutanedioic acid Chemical compound CCCCCCCCC(C(O)=O)(C(C(O)=O)S(O)(=O)=O)CCCCCCCC CTTJWXVQRJUJQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WOHLSTOWRAOMSG-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydro-1,3-benzothiazole Chemical compound C1=CC=C2SCNC2=C1 WOHLSTOWRAOMSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JIAGYOWSALSPII-UHFFFAOYSA-N 2,3-dioctylnaphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=C2C(S(O)(=O)=O)=C(CCCCCCCC)C(CCCCCCCC)=CC2=C1 JIAGYOWSALSPII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LXFQSRIDYRFTJW-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-trimethylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC(C)=C(S(O)(=O)=O)C(C)=C1 LXFQSRIDYRFTJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIAFKZKHHVMJGS-UHFFFAOYSA-N 2,4-dihydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1O UIAFKZKHHVMJGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GPVDHNVGGIAOQT-UHFFFAOYSA-N 2,4-dimethoxybenzoic acid Chemical compound COC1=CC=C(C(O)=O)C(OC)=C1 GPVDHNVGGIAOQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFXZSGVZSSMCMB-UHFFFAOYSA-N 2,5-dichlorobenzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC(Cl)=CC=C1Cl LFXZSGVZSSMCMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IRLYGRLEBKCYPY-UHFFFAOYSA-N 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(C)C(S(O)(=O)=O)=C1 IRLYGRLEBKCYPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MTFZCGPANOZASK-UHFFFAOYSA-N 2-(3,4-dimethyl-2,5-dioxopyrrol-1-yl)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCN1C(=O)C(C)=C(C)C1=O MTFZCGPANOZASK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 2-Methylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTOPCEPRAXJJEO-UHFFFAOYSA-N 2-butoxybenzenesulfonic acid Chemical compound CCCCOC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O CTOPCEPRAXJJEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YMWKFQYHRBCLGU-UHFFFAOYSA-N 2-butoxynaphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=CC2=C(S(O)(=O)=O)C(OCCCC)=CC=C21 YMWKFQYHRBCLGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QFNSAOSWJSCHID-UHFFFAOYSA-N 2-butylbenzenesulfonic acid Chemical compound CCCCC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O QFNSAOSWJSCHID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GNTARUIZNIWBCN-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-5-nitrobenzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC([N+]([O-])=O)=CC=C1Cl GNTARUIZNIWBCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UAZLASMTBCLJKO-UHFFFAOYSA-N 2-decylbenzenesulfonic acid Chemical compound CCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O UAZLASMTBCLJKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SBIWALRETKPJEV-UHFFFAOYSA-N 2-dodecoxybenzenesulfonic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O SBIWALRETKPJEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QPSOKRZKUPBFMU-UHFFFAOYSA-N 2-dodecoxynaphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=CC2=C(S(O)(=O)=O)C(OCCCCCCCCCCCC)=CC=C21 QPSOKRZKUPBFMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PKURFTDCIWJBDF-UHFFFAOYSA-N 2-hexylnaphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=CC2=C(S(O)(=O)=O)C(CCCCCC)=CC=C21 PKURFTDCIWJBDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QWHHBVWZZLQUIH-UHFFFAOYSA-N 2-octylbenzenesulfonic acid Chemical compound CCCCCCCCC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O QWHHBVWZZLQUIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZTFYJIXFKGPCHV-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-ylnaphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=CC2=C(S(O)(=O)=O)C(C(C)C)=CC=C21 ZTFYJIXFKGPCHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WJQOZHYUIDYNHM-UHFFFAOYSA-N 2-tert-Butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC=C1O WJQOZHYUIDYNHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HTXMGVTWXZBZNC-UHFFFAOYSA-N 3,5-bis(methoxycarbonyl)benzenesulfonic acid Chemical compound COC(=O)C1=CC(C(=O)OC)=CC(S(O)(=O)=O)=C1 HTXMGVTWXZBZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QDWTXRWOKORYQH-UHFFFAOYSA-N 3-bromobenzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC(Br)=C1 QDWTXRWOKORYQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IQOJIHIRSVQTJJ-UHFFFAOYSA-N 3-chlorobenzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC(Cl)=C1 IQOJIHIRSVQTJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LULAYUGMBFYYEX-UHFFFAOYSA-N 3-chlorobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(Cl)=C1 LULAYUGMBFYYEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WDGANUIVKUCJGK-UHFFFAOYSA-N 3-nonyl-3-phenoxydodecane-1-sulfonic acid Chemical compound CCCCCCCCCC(CCCCCCCCC)(CCS(O)(=O)=O)OC1=CC=CC=C1 WDGANUIVKUCJGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMVDXEDSYBMIFW-UHFFFAOYSA-N 3-pentyl-3-phenoxyoctane-1-sulfonic acid Chemical compound CCCCCC(CCCCC)(CCS(O)(=O)=O)OC1=CC=CC=C1 IMVDXEDSYBMIFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CNBZYRKENAOQOF-UHFFFAOYSA-N 3-phenoxydodecane-1-sulfonic acid Chemical compound CCCCCCCCCC(CCS(O)(=O)=O)OC1=CC=CC=C1 CNBZYRKENAOQOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XFKRPUUIHKVIDM-UHFFFAOYSA-N 4,5-dinitronaphthalene-2,7-disulfonic acid Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC(S(O)(=O)=O)=CC2=CC(S(=O)(=O)O)=CC([N+]([O-])=O)=C21 XFKRPUUIHKVIDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ACPXHHDRVABPNY-UHFFFAOYSA-N 4-acetylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC(=O)C1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 ACPXHHDRVABPNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RJWBTWIBUIGANW-UHFFFAOYSA-N 4-chlorobenzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 RJWBTWIBUIGANW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZEYHEAKUIGZSGI-UHFFFAOYSA-N 4-methoxybenzoic acid Chemical compound COC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 ZEYHEAKUIGZSGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZDTXQHVBLWYPHS-UHFFFAOYSA-N 4-nitrotoluene-2-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1S(O)(=O)=O ZDTXQHVBLWYPHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XXSDRJUQIXHGAZ-UHFFFAOYSA-N 4-nonyl-4-phenoxytridecane-1-sulfonic acid Chemical compound CCCCCCCCCC(CCCCCCCCC)(CCCS(O)(=O)=O)OC1=CC=CC=C1 XXSDRJUQIXHGAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IWTPDRIJQXKEGS-UHFFFAOYSA-N 4-phenoxytridecane-1-sulfonic acid Chemical compound CCCCCCCCCC(CCCS(O)(=O)=O)OC1=CC=CC=C1 IWTPDRIJQXKEGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDSULTPOCMWJCM-UHFFFAOYSA-N 4h-chromene-2,3-dione Chemical class C1=CC=C2OC(=O)C(=O)CC2=C1 CDSULTPOCMWJCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YLKCHWCYYNKADS-UHFFFAOYSA-N 5-hydroxynaphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1S(O)(=O)=O YLKCHWCYYNKADS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HUKPVYBUJRAUAG-UHFFFAOYSA-N 7-benzo[a]phenalenone Chemical class C1=CC(C(=O)C=2C3=CC=CC=2)=C2C3=CC=CC2=C1 HUKPVYBUJRAUAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HWTDMFJYBAURQR-UHFFFAOYSA-N 80-82-0 Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O HWTDMFJYBAURQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002126 Acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 2
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004709 Chlorinated polyethylene Substances 0.000 description 2
- 229910020366 ClO 4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- GHVNFZFCNZKVNT-UHFFFAOYSA-N Decanoic acid Natural products CCCCCCCCCC(O)=O GHVNFZFCNZKVNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 2
- PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N Maleimide Chemical compound O=C1NC(=O)C=C1 PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QLZHNIAADXEJJP-UHFFFAOYSA-N Phenylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)C1=CC=CC=C1 QLZHNIAADXEJJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N TOTP Chemical compound CC1=CC=CC=C1OP(=O)(OC=1C(=CC=CC=1)C)OC1=CC=CC=C1C YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZFOZVQLOBQUTQQ-UHFFFAOYSA-N Tributyl citrate Chemical compound CCCCOC(=O)CC(O)(C(=O)OCCCC)CC(=O)OCCCC ZFOZVQLOBQUTQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N acridine Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3N=C21 DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 2
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 2
- 125000005250 alkyl acrylate group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical group 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- IONYAPWXJUCNPR-UHFFFAOYSA-N benzo[e][1]benzofuran-1-one Chemical class C1=CC=CC2=C3C(=O)COC3=CC=C21 IONYAPWXJUCNPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 2
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- WXNRYSGJLQFHBR-UHFFFAOYSA-N bis(2,4-dihydroxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(O)C=C1O WXNRYSGJLQFHBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- FUSUHKVFWTUUBE-UHFFFAOYSA-N buten-2-one Chemical compound CC(=O)C=C FUSUHKVFWTUUBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 125000000490 cinnamyl group Chemical group C(C=CC1=CC=CC=C1)* 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FHIVAFMUCKRCQO-UHFFFAOYSA-N diazinon Chemical compound CCOP(=S)(OCC)OC1=CC(C)=NC(C(C)C)=N1 FHIVAFMUCKRCQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 2
- FLKPEMZONWLCSK-UHFFFAOYSA-N diethyl phthalate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC FLKPEMZONWLCSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940113088 dimethylacetamide Drugs 0.000 description 2
- DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N diphenylamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC1=CC=CC=C1 DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N diphenylmethane Chemical compound C=1C=CC=CC=1CC1=CC=CC=C1 CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WJJMNDUMQPNECX-UHFFFAOYSA-N dipicolinic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=N1 WJJMNDUMQPNECX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960000878 docusate sodium Drugs 0.000 description 2
- FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxyethane Chemical compound CCOC=C FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WGXGKXTZIQFQFO-CMDGGOBGSA-N ethenyl (e)-3-phenylprop-2-enoate Chemical compound C=COC(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WGXGKXTZIQFQFO-CMDGGOBGSA-N 0.000 description 2
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 2
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 2
- JTHNLKXLWOXOQK-UHFFFAOYSA-N hex-1-en-3-one Chemical compound CCCC(=O)C=C JTHNLKXLWOXOQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 2
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 2
- 229940117841 methacrylic acid copolymer Drugs 0.000 description 2
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 2
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 2
- KVBGVZZKJNLNJU-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=CC2=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C21 KVBGVZZKJNLNJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 2
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- ATGUVEKSASEFFO-UHFFFAOYSA-N p-aminodiphenylamine Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1NC1=CC=CC=C1 ATGUVEKSASEFFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007793 ph indicator Substances 0.000 description 2
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 2
- LCPDWSOZIOUXRV-UHFFFAOYSA-N phenoxyacetic acid Chemical compound OC(=O)COC1=CC=CC=C1 LCPDWSOZIOUXRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003016 phosphoric acids Chemical class 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N pyrylium Chemical class C1=CC=[O+]C=C1 WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 2
- 230000003381 solubilizing effect Effects 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000626 sulfinic acid group Chemical group 0.000 description 2
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000001577 tetrasodium phosphonato phosphate Substances 0.000 description 2
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 2
- HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound OC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RDJHJYJHQKPTKS-UHFFFAOYSA-N (2-sulfamoylphenyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=CC=C1S(N)(=O)=O RDJHJYJHQKPTKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVGIKVYOESLAHS-UHFFFAOYSA-N (3-sulfamoylnaphthalen-1-yl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1=CC=C2C(OC(=O)C(=C)C)=CC(S(N)(=O)=O)=CC2=C1 BVGIKVYOESLAHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJSCOYMPEVWETJ-UHFFFAOYSA-N (3-sulfamoylphenyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=CC(S(N)(=O)=O)=C1 YJSCOYMPEVWETJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIUHGYUFFPSEOW-UHFFFAOYSA-N (4-hydroxyphenyl) prop-2-enoate Chemical compound OC1=CC=C(OC(=O)C=C)C=C1 NIUHGYUFFPSEOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJJHHTWSRXUUPG-UHFFFAOYSA-N (4-sulfamoylphenyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=C(S(N)(=O)=O)C=C1 IJJHHTWSRXUUPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUPAJKKAHDLPAZ-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triphenylguanidine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC(=NC=1C=CC=CC=1)NC1=CC=CC=C1 FUPAJKKAHDLPAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethoxyethane Chemical compound CCOCCOCC LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMLSBRLVTDLLOI-UHFFFAOYSA-N 1-(dimethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CN(C)C(C)OC(=O)C(C)=C HMLSBRLVTDLLOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NFTVTXIQFYRSHF-UHFFFAOYSA-N 1-(dimethylamino)ethyl prop-2-enoate Chemical compound CN(C)C(C)OC(=O)C=C NFTVTXIQFYRSHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IANQTJSKSUMEQM-UHFFFAOYSA-N 1-benzofuran Chemical group C1=CC=C2OC=CC2=C1 IANQTJSKSUMEQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXCVIFJHBFNFBO-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxyoctane Chemical compound CCCCCCCCOC=C XXCVIFJHBFNFBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVGRCEFMXPHEBL-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxypropane Chemical compound CCCOC=C OVGRCEFMXPHEBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUFPHBVGCFYCNW-UHFFFAOYSA-N 1-naphthylamine Chemical compound C1=CC=C2C(N)=CC=CC2=C1 RUFPHBVGCFYCNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUIZKZHDMPERHR-UHFFFAOYSA-N 1-phenylprop-2-en-1-one Chemical compound C=CC(=O)C1=CC=CC=C1 KUIZKZHDMPERHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSZXXBTXZJGELH-UHFFFAOYSA-N 2,3,4-tri(propan-2-yl)naphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=CC2=C(C(C)C)C(C(C)C)=C(C(C)C)C(S(O)(=O)=O)=C21 RSZXXBTXZJGELH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQRVLBIMMFOHHC-UHFFFAOYSA-N 2,3,4-tributylnaphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=CC2=C(CCCC)C(CCCC)=C(CCCC)C(S(O)(=O)=O)=C21 QQRVLBIMMFOHHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 2,4-Dihydroxybenzophenone Chemical compound OC1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEVQZPWSVWZAOB-UHFFFAOYSA-N 2-(bromomethyl)-1-iodo-4-(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=C(I)C(CBr)=C1 YEVQZPWSVWZAOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AKCRQHGQIJBRMN-UHFFFAOYSA-N 2-chloroaniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1Cl AKCRQHGQIJBRMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKHZGIKPBFMBBY-UHFFFAOYSA-N 2-cyano-n-[4-(diethylamino)phenyl]-2-phenylacetamide Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1NC(=O)C(C#N)C1=CC=CC=C1 DKHZGIKPBFMBBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VUIWJRYTWUGOOF-UHFFFAOYSA-N 2-ethenoxyethanol Chemical compound OCCOC=C VUIWJRYTWUGOOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DILXLMRYFWFBGR-UHFFFAOYSA-N 2-formylbenzene-1,4-disulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=C(S(O)(=O)=O)C(C=O)=C1 DILXLMRYFWFBGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZRUOTKQBVMWMDK-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-6-methylbenzaldehyde Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1C=O ZRUOTKQBVMWMDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWBAMDVCIHSKNW-UHFFFAOYSA-N 2-iminonaphthalene-1,4-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=N)CC(=O)C2=C1 CWBAMDVCIHSKNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NCWMNWOBNHPTGX-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-(2-sulfamoylethyl)prop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCCS(N)(=O)=O NCWMNWOBNHPTGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGYXHOXRNFKMRL-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-(2-sulfamoylphenyl)prop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NC1=CC=CC=C1S(N)(=O)=O NGYXHOXRNFKMRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DRUFZDJLXROPIW-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-(3-sulfamoylphenyl)prop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NC1=CC=CC(S(N)(=O)=O)=C1 DRUFZDJLXROPIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VRWOCLJWLOZDAI-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-propanoylprop-2-enamide Chemical compound CCC(=O)NC(=O)C(C)=C VRWOCLJWLOZDAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WLJVXDMOQOGPHL-PPJXEINESA-N 2-phenylacetic acid Chemical compound O[14C](=O)CC1=CC=CC=C1 WLJVXDMOQOGPHL-PPJXEINESA-N 0.000 description 1
- XLLXMBCBJGATSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenol Chemical class OC=CC1=CC=CC=C1 XLLXMBCBJGATSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBBOQIHGWMYDPM-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butylphenol;formaldehyde Chemical compound O=C.CC(C)(C)C1=CC=CC=C1O LBBOQIHGWMYDPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 2h-oxazine Chemical compound N1OC=CC=C1 BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OALHHIHQOFIMEF-UHFFFAOYSA-N 3',6'-dihydroxy-2',4',5',7'-tetraiodo-3h-spiro[2-benzofuran-1,9'-xanthene]-3-one Chemical compound O1C(=O)C2=CC=CC=C2C21C1=CC(I)=C(O)C(I)=C1OC1=C(I)C(O)=C(I)C=C21 OALHHIHQOFIMEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 3-(2-phenylethenyl)furan-2,5-dione Chemical compound O=C1OC(=O)C(C=CC=2C=CC=CC=2)=C1 PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- REEBWSYYNPPSKV-UHFFFAOYSA-N 3-[(4-formylphenoxy)methyl]thiophene-2-carbonitrile Chemical compound C1=CC(C=O)=CC=C1OCC1=C(C#N)SC=C1 REEBWSYYNPPSKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWTYTFSSTWXZFU-UHFFFAOYSA-N 3-chloroprop-1-enylbenzene Chemical compound ClCC=CC1=CC=CC=C1 IWTYTFSSTWXZFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- INZNWRQMMQYAHP-UHFFFAOYSA-N 3-phenyl-2-(sulfonylmethyl)prop-2-enamide Chemical compound O=S(=O)=CC(C(=O)N)=CC1=CC=CC=C1 INZNWRQMMQYAHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBSXSAXOLABXMF-UHFFFAOYSA-N 4-Vinylaniline Chemical compound NC1=CC=C(C=C)C=C1 LBSXSAXOLABXMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OLQIKGSZDTXODA-UHFFFAOYSA-N 4-[3-(4-hydroxy-2-methylphenyl)-1,1-dioxo-2,1$l^{6}-benzoxathiol-3-yl]-3-methylphenol Chemical compound CC1=CC(O)=CC=C1C1(C=2C(=CC(O)=CC=2)C)C2=CC=CC=C2S(=O)(=O)O1 OLQIKGSZDTXODA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPAMLADQPZFXMD-UHFFFAOYSA-N 4-anilinobenzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1NC1=CC=CC=C1 DPAMLADQPZFXMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPFIISCRTZAMEQ-UHFFFAOYSA-N 4-chloro-n-(2-methylprop-2-enoyl)benzamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NC(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 MPFIISCRTZAMEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFDVPJUYSDEJTH-UHFFFAOYSA-N 4-ethenylpyridine Chemical compound C=CC1=CC=NC=C1 KFDVPJUYSDEJTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940090248 4-hydroxybenzoic acid Drugs 0.000 description 1
- 125000004203 4-hydroxyphenyl group Chemical group [H]OC1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- RBLUJIWKMSZIMK-UHFFFAOYSA-N 4-n-(4-methoxyphenyl)benzene-1,4-diamine Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1NC1=CC=C(N)C=C1 RBLUJIWKMSZIMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYAQFHLUEMJOMF-UHFFFAOYSA-N 4-phenoxybenzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1OC1=CC=CC=C1 RYAQFHLUEMJOMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYLOSPCJTPLXSF-UHFFFAOYSA-N 5-amino-2-anilinobenzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC(N)=CC=C1NC1=CC=CC=C1 HYLOSPCJTPLXSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJCOSYZMQJWQCA-UHFFFAOYSA-N 9H-xanthene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3OC2=C1 GJCOSYZMQJWQCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JUQPZRLQQYSMEQ-UHFFFAOYSA-N CI Basic red 9 Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC=C1C(C=1C=CC(N)=CC=1)=C1C=CC(=[NH2+])C=C1 JUQPZRLQQYSMEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 206010012442 Dermatitis contact Diseases 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 1
- MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N Di-n-octyl phthalate Natural products CCCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCCC MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- IMQLKJBTEOYOSI-GPIVLXJGSA-N Inositol-hexakisphosphate Chemical compound OP(O)(=O)O[C@H]1[C@H](OP(O)(O)=O)[C@@H](OP(O)(O)=O)[C@H](OP(O)(O)=O)[C@H](OP(O)(O)=O)[C@@H]1OP(O)(O)=O IMQLKJBTEOYOSI-GPIVLXJGSA-N 0.000 description 1
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000881 Modified starch Polymers 0.000 description 1
- 239000004368 Modified starch Substances 0.000 description 1
- CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N N-Methylolacrylamide Chemical compound OCNC(=O)C=C CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- IMQLKJBTEOYOSI-UHFFFAOYSA-N Phytic acid Natural products OP(O)(=O)OC1C(OP(O)(O)=O)C(OP(O)(O)=O)C(OP(O)(O)=O)C(OP(O)(O)=O)C1OP(O)(O)=O IMQLKJBTEOYOSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- 229920000147 Styrene maleic anhydride Polymers 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001089 [(2R)-oxolan-2-yl]methanol Substances 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 239000011354 acetal resin Substances 0.000 description 1
- IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N acetaldehyde Chemical compound [14CH]([14CH3])=O IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N 0.000 description 1
- ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N acetic acid;zinc Chemical compound [Zn].CC(O)=O.CC(O)=O ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical group 0.000 description 1
- JPIYZTWMUGTEHX-UHFFFAOYSA-N auramine O free base Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=N)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 JPIYZTWMUGTEHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001540 azides Chemical class 0.000 description 1
- 229940052223 basic fuchsin Drugs 0.000 description 1
- 238000010923 batch production Methods 0.000 description 1
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N benzyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940114055 beta-resorcylic acid Drugs 0.000 description 1
- GSEZYWGNEACOIW-UHFFFAOYSA-N bis(2-aminophenyl)methanone Chemical class NC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1N GSEZYWGNEACOIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006664 bond formation reaction Methods 0.000 description 1
- 229960001506 brilliant green Drugs 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 125000002603 chloroethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])Cl 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 150000001896 cresols Chemical group 0.000 description 1
- ZXJXZNDDNMQXFV-UHFFFAOYSA-M crystal violet Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1[C+](C=1C=CC(=CC=1)N(C)C)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 ZXJXZNDDNMQXFV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCCCC1 KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 229960001760 dimethyl sulfoxide Drugs 0.000 description 1
- ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N diphenylmethanediamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(N)(N)C1=CC=CC=C1 ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJZIJOLEWHWTJO-UHFFFAOYSA-H dipotassium;hexafluorozirconium(2-) Chemical compound [F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[K+].[K+].[Zr+4] BJZIJOLEWHWTJO-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000002848 electrochemical method Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- NHOGGUYTANYCGQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxybenzene Chemical compound C=COC1=CC=CC=C1 NHOGGUYTANYCGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJELOQYISYPGDX-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2-chloroacetate Chemical compound ClCC(=O)OC=C XJELOQYISYPGDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl butanoate Chemical compound CCCC(=O)OC=C MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- JVICFMRAVNKDOE-UHFFFAOYSA-M ethyl violet Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(CC)CC)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 JVICFMRAVNKDOE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940093470 ethylene Drugs 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- VOOLKNUJNPZAHE-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;2-methylphenol Chemical compound O=C.CC1=CC=CC=C1O VOOLKNUJNPZAHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- PMYUVOOOQDGQNW-UHFFFAOYSA-N hexasodium;trioxido(trioxidosilyloxy)silane Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])([O-])O[Si]([O-])([O-])[O-] PMYUVOOOQDGQNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNMQRPPRQDGUDR-UHFFFAOYSA-N hexyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCOC(=O)C=C LNMQRPPRQDGUDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- KNQVWTDLQQGKSV-UHFFFAOYSA-O hydroxy-oxo-phenylphosphanium Chemical compound O[P+](=O)C1=CC=CC=C1 KNQVWTDLQQGKSV-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 229910001412 inorganic anion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017053 inorganic salt Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- QDLAGTHXVHQKRE-UHFFFAOYSA-N lichenxanthone Natural products COC1=CC(O)=C2C(=O)C3=C(C)C=C(OC)C=C3OC2=C1 QDLAGTHXVHQKRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940107698 malachite green Drugs 0.000 description 1
- FDZZZRQASAIRJF-UHFFFAOYSA-M malachite green Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)=C1C=CC(=[N+](C)C)C=C1 FDZZZRQASAIRJF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- RUAIJHHRCIHFEV-UHFFFAOYSA-N methyl 4-amino-5-chlorothiophene-2-carboxylate Chemical compound COC(=O)C1=CC(N)=C(Cl)S1 RUAIJHHRCIHFEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DWCZIOOZPIDHAB-UHFFFAOYSA-L methyl green Chemical compound [Cl-].[Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)[N+](C)(C)C)=C1C=CC(=[N+](C)C)C=C1 DWCZIOOZPIDHAB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 1
- VUAAUVMKUNKSNE-UHFFFAOYSA-N n,n'-diphenylethene-1,2-diamine Chemical group C=1C=CC=CC=1NC=CNC1=CC=CC=C1 VUAAUVMKUNKSNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUORTJUPDJJXST-UHFFFAOYSA-N n-(2-hydroxyethyl)prop-2-enamide Chemical compound OCCNC(=O)C=C UUORTJUPDJJXST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POVITWJTUUJBNK-UHFFFAOYSA-N n-(4-hydroxyphenyl)prop-2-enamide Chemical group OC1=CC=C(NC(=O)C=C)C=C1 POVITWJTUUJBNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNTMQTKDNSEIFO-UHFFFAOYSA-N n-(hydroxymethyl)-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCO DNTMQTKDNSEIFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OJBZOTFHZFZOIJ-UHFFFAOYSA-N n-acetyl-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CC(=O)NC(=O)C(C)=C OJBZOTFHZFZOIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMJFVKWBSWWAKT-UHFFFAOYSA-N n-cyclohexylprop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NC1CCCCC1 PMJFVKWBSWWAKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BNTUIAFSOCHRHV-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-n-phenylprop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)N(CC)C1=CC=CC=C1 BNTUIAFSOCHRHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWPMNMYLORDLJE-UHFFFAOYSA-N n-ethylprop-2-enamide Chemical compound CCNC(=O)C=C SWPMNMYLORDLJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYCBGURDLIKBDA-UHFFFAOYSA-N n-hexyl-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CCCCCCNC(=O)C(C)=C FYCBGURDLIKBDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPCNEKWROYSOLT-UHFFFAOYSA-N n-phenylprop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NC1=CC=CC=C1 BPCNEKWROYSOLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CHDKQNHKDMEASZ-UHFFFAOYSA-N n-prop-2-enoylprop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NC(=O)C=C CHDKQNHKDMEASZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N n-vinylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(C=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000025 natural resin Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010680 novolac-type phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 229940065472 octyl acrylate Drugs 0.000 description 1
- ANISOHQJBAQUQP-UHFFFAOYSA-N octyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)C=C ANISOHQJBAQUQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940060184 oil ingredients Drugs 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000004866 oxadiazoles Chemical class 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GIPDEPRRXIBGNF-KTKRTIGZSA-N oxolan-2-ylmethyl (z)-octadec-9-enoate Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(=O)OCC1CCCO1 GIPDEPRRXIBGNF-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- UCUUFSAXZMGPGH-UHFFFAOYSA-N penta-1,4-dien-3-one Chemical class C=CC(=O)C=C UCUUFSAXZMGPGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYDSPAVLTMAXHT-UHFFFAOYSA-N pentyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCOC(=O)C(C)=C GYDSPAVLTMAXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULDDEWDFUNBUCM-UHFFFAOYSA-N pentyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCOC(=O)C=C ULDDEWDFUNBUCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHIWWQKSHDUIBK-UHFFFAOYSA-N periodic acid Chemical compound OI(=O)(=O)=O KHIWWQKSHDUIBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001791 phenazinyl group Chemical class C1(=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C12)* 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical group 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- PCYCKXJRAKEYSM-UHFFFAOYSA-N phenyl-(1,5,6-trihydroxycyclohexa-2,4-dien-1-yl)methanone Chemical compound OC1C(O)=CC=CC1(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 PCYCKXJRAKEYSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229940068041 phytic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000002949 phytic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000000467 phytic acid Substances 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- ZMRUPTIKESYGQW-UHFFFAOYSA-N propranolol hydrochloride Chemical compound [H+].[Cl-].C1=CC=C2C(OCC(O)CNC(C)C)=CC=CC2=C1 ZMRUPTIKESYGQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=C NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N propyl prop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C=C PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004053 quinones Chemical class 0.000 description 1
- PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N rhodamine B Chemical compound [Cl-].C=12C=CC(=[N+](CC)CC)C=C2OC2=CC(N(CC)CC)=CC=C2C=1C1=CC=CC=C1C(O)=O PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043267 rhodamine b Drugs 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- FQENQNTWSFEDLI-UHFFFAOYSA-J sodium diphosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O FQENQNTWSFEDLI-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- GCLGEJMYGQKIIW-UHFFFAOYSA-H sodium hexametaphosphate Chemical compound [Na]OP1(=O)OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])O1 GCLGEJMYGQKIIW-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 235000019982 sodium hexametaphosphate Nutrition 0.000 description 1
- 235000019795 sodium metasilicate Nutrition 0.000 description 1
- 229940048086 sodium pyrophosphate Drugs 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019832 sodium triphosphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 1
- 150000003456 sulfonamides Chemical class 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSYVTEYKTMYBMK-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofurfuryl alcohol Chemical compound OCC1CCCO1 BSYVTEYKTMYBMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940072958 tetrahydrofurfuryl oleate Drugs 0.000 description 1
- 235000019818 tetrasodium diphosphate Nutrition 0.000 description 1
- NBOMNTLFRHMDEZ-UHFFFAOYSA-N thiosalicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1S NBOMNTLFRHMDEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940103494 thiosalicylic acid Drugs 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STCOOQWBFONSKY-UHFFFAOYSA-N tributyl phosphate Chemical compound CCCCOP(=O)(OCCCC)OCCCC STCOOQWBFONSKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N triphenylamine Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004961 triphenylmethanes Chemical class 0.000 description 1
- KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N vinyl benzoate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1 KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006163 vinyl copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004246 zinc acetate Substances 0.000 description 1
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- H01L21/4814—Conductive parts
- H01L21/4821—Flat leads, e.g. lead frames with or without insulating supports
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Abstract
作製できるリード・フレーム形成用材の作製方法を提供
すること。 【構成】 リード・フレーム形成用帯状金属板を順次連
続的に、脱脂処理及び酸洗浄処理し、得られる処理済リ
ード・フレーム形成用金属板上に、感光材を塗布し、乾
燥させた後、そのリード・フレーム形成用金属板を長手
方向に沿って、一定長毎に切断し、複数枚のリード・フ
レーム形成用材を作製する。
Description
成用材の作製方法に関し、さらに詳しくは、均一な品質
のリード・フレームを大量に作製できるリード・フレー
ム形成用材の作製方法に関する。
ドICや、セラミックスパッケージIC等において用い
られる半導体ペレットを固定するダイパッド(Die
)と引き出し配線リード端子を形成する金属フレーム
である。金属フレームは、材料として、銅又は銅―ニッ
ケルを主体とする合金製のリード・フレーム形成用金属
板が使われる。近年、チタン、クロム等活性金属系の元
素を添加した材料も使用され始めている。いずれにして
も、機械的強度があり、導電率が高く軟化温度が高く、
さらに半導体ペレットやパッケージ材料の熱膨脹係数と
マッチした熱膨脹係数をもち、リードの平面性確保、曲
げ異方性が小さく、放熱性がよく、低コストの材料が使
用され、打ち抜きプレス又はエッチングによりリード・
フレーム形成用金属板に対しエッチング液でパターン形
成している。打ち抜きは低コストででき、エッチング液
による方法は正確なパターン形成ができる。近年、半導
体や、これを使用し集積回路の発達に伴い、リード・フ
レームを使用する電子部品の需要も高まり、均一な品質
のリード・フレームを大量に作製する必要性が高まって
きた。
は、例えば銅を主体とする合金板、又は銅―ニッケルを
主体とする合金板を購入し、合金板上に設けてある防錆
材を除去するため、順次脱脂処理及び酸洗浄処理を施し
て合金板表面を処理した後、合金板表面にホイラー塗布
法により液状レジストを塗布又はドライタイプで例えば
ネガ形の感光材層を溶着し乾燥させて感光材層を設け、
所定のエッチングパターンを露光後現像処理し、露光部
分の感光材を除去した後、合金板をエッチング液中に浸
漬し、合金板面に所定のエッチングパターンを形成させ
ていた。このようなパターンを形成した均一な品質のリ
ード・フレームを大量に作製するための従来リード・フ
レーム形成用材を作製するには、例えば、上述した合金
板を多数枚購入し、これら多数枚の合金板を順次バッチ
処理で、合金板上の防錆材を脱脂処理及び酸洗浄処理を
施した上、得られる合金板上に感光材を塗布し、乾燥し
て多数枚のリード・フレーム形成用金属板を作製してい
た。
来のリード・フレーム形成用材の作製方法は、多数のリ
ード・フレーム形成用金属板を、バッチ処理で、順次脱
脂処理及び酸洗浄処理した後、得られる各脱脂処理・酸
洗浄処理済リード・フレーム形成用金属板上に感光材を
塗布し、乾燥させるから、リード・フレーム形成用金属
板と感光材層間に異物が混入しやすく、パターン形成後
のリード・フレームが断線不良を生じることがあり、同
時に大量に均一品質のリード・フレームを作製すること
が困難であった。そこで、この発明は、このような従来
のリード・フレーム形成用材の作製方法の難点を除去
し、均一な品質のリード・フレームを大量に作製できる
リード・フレーム形成用材の作製方法を提供しようとす
るものである。
め、この発明にかかるリード・フレーム形成用材の作製
方法は、リード・フレーム形成用帯状金属板を順次、脱
脂処理及び酸洗浄処理を施し、得られた処理済リード・
フレーム形成用金属板上に、感光材を塗布し、乾燥させ
るとともに、当該リード・フレーム形成用金属板を長手
方向に沿って一定長毎に切断又は巻取ることを特徴とす
るものである。前記リード・フレーム形成用帯状金属板
は、銅又は銅―ニッケルを主体とする合金あるいはこれ
らにさらにチタン、クロム等の活性金属元素を添加した
合金で作られた薄板、又は帯状で長寸の合金板であるこ
とが望ましい。
アルカリが使用でき、具体的には炭酸ナトリウム、燐
酸、硫酸、塩酸、硝酸、水酸化ナトリウム、メタケイ酸
ナトリムウ、二号ケイ酸ナトリウム、ヘキサメタリン酸
ナトリウム、第2燐酸ナトリムウ、トリポリン酸ナトリ
ウム、ピロリン酸ナトリウム等の燐酸水溶液が用いられ
る。処理条件は、濃度0.01%〜50%、温度20℃
〜90℃、処理時間5秒〜5分で行う。以上の条件でリ
ード・フレーム形成用帯状金属板の脱脂処理は、上記の
処理以外に、電気化学的方法を組合わせる電解脱脂処理
法で行ってもよい。また脱脂処理前に粗面化を行っても
良い。粗面化方法としてはブラシ等を用いた粗面化方法
が一般である。このような処理を行うと、スマットが発
生する。そこで、その残渣物を除去する必要がある。こ
のスタットは燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等により、ま
たはこれら混合物により除去することが出来る。本発明
において、残渣物のない清浄な面が必要である。また各
工程の後に水洗を行い残液が残らない様にすることも必
要である。その後感光層を塗布する。塗布方法としては
連続的に、しかも均一に塗布できることが必要である。
感光液としては、ネガ型とポジ型があり、ネガ型として
は、重クロム酸塩類+ポリマー、芳香族ビスアジド化合
物+環化ゴム、アジド系ポリマー、けい皮酸ビニル系ポ
リマー、光重合性モノマー・オリゴマー等がある。また
ポジ型では、o−ナフトキノンジアジド系、等も用いら
れる。ネガ型、ポジ型共、柔軟性と密着性が必要であ
る。
細書に記載されている弗化ジルコニウム酸カリウム処
理、米国特許第3,201,247号明細書に記載され
ているホスホモリブデート処理、英国特許第1,10
8,559号に記載されているアルキルチタネート処
理、独国特許第1,091,433号明細書に記載され
ているポリアクリル酸処理、独国特許第1,134,0
93号明細書や英国特許第1,230,447号明細書
に記載されているポリビニルホスホン酸処理、特公昭4
4−6409号公報に記載されているホスホン酸処理、
米国特許第3,307,951号明細書に記載されてい
るフィチン酸処理、特開昭58−16893号や特開昭
58−18291号の各公報に記載されている親油性有
機高分子化合物と2価の金属との塩による処理や、米国
特許第3,860,426号明細書に記載されているよ
うに、水溶性金属塩(例えば酢酸亜鉛など)を含む親水
性セルロース(例えばカルボキシメチルセルロースな
ど)の下塗り層を設けたり、特開昭59−101651
号公報に記載されているスルホン酸基を有する水溶性重
合体の下塗りによって親水化処理を行ったものや、特開
昭62−019494号公報に記載されているリン酸
塩、特開昭62−033692号公報に記載されている
水溶性エポキシ化合物、特開昭62−097892号公
報に記載のリン酸変性デンプン、特開昭63−0564
98号公報に記載のジアミン化合物、特開昭63−13
0391号公報記載のアミノ酸の無機または有機酸、特
開昭63−145092号公報に記載の−COOHまた
は−OHを含む有機ホスホン酸、特開昭63−1651
83号公報に記載のアミノ基とホスホン酸基を有する化
合物、特開平2−316290号公報に記載の特定のカ
ルボン酸誘導体、特願平1−272594号明細書に記
載のリン酸エステル、特願平2−59592号明細書に
記載の1個のアミノ基とリンの酸素酸基1個を持つ化合
物、特願平2−265845号明細書に記載のリン酸エ
ステル、特願平3−10604号明細書に記載のフェニ
ルホスホン酸などの脂肪族または芳香族ホスホン酸、特
開平1−307745号公報に記載のチオサリチル酸の
ようなS原子を含む化合物、特願平3−46932号明
細書に記載のリンの酸素酸のグループを持つ化合物など
の下塗りや、特開昭60−64352号公報に記載され
ている酸性汚染による着色を行なう事もできる。
板には、以下に例示する感光層を設けて感光性平版印刷
板とすることができる。 〔I〕o−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルお
よびフェノール・クレゾール混合のノボラック樹脂を含
有する感光層を設ける場合。 o−キノンジアジド化合物はo−ナフトキノンジアジド
化合物であり、例えば、米国特許第2,766,118
号、同第2,767,092号、同第2,772,97
2号、同第2,859,112号、同第3,102,8
09号、同第3,106,465号、同第3,635,
709号、同第3,647,443号の各明細書をはじ
め、多数の刊行物に記されており、これらは、好適に使
用することができる。
合物のo−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルま
たはo−ナフトキノンジアジドカルボン酸エステル、及
び芳香族アミン化合物のo−ナフトキノンジアジドスル
ホン酸アミドまたはo−ナフトキノンジアジドカルボン
酸アミドが好ましく、特に米国特許第3,635,70
9号明細書に記されているビロガロールとアセトンとの
縮合物にo−ナフトキノンジアジドスルホン酸をエステ
ル反応せさたもの、米国特許第4,028,111号明
細書に記されている末端にヒドロキシ基を有するポリエ
ステルにo−ナフトキノンジアジドスルホン酸、または
o−ナフトキノンジアジドカルボン酸をエステル反応さ
せたもの、英国特許第1,494,043号明細書に記
されているようなp−ヒドロキシスチレンのホモポリマ
ーまたはこれと他の共重合し得るモノマーとの共重合体
にo−ナフトキノンジアジドスルホン酸、またはo−ナ
フトキノンジアジドカルボン酸をエステル反応せさたも
の、米国特許第3,759,711号明細書に記されて
いるようなp−アミノスチレンと他の共重合し得るモノ
マーとの共重合体にo−ナフトキノンジアジドスルホン
酸、またはo−ナフトキノンジアジドカルボン酸をアミ
ド反応させたものは非常に優れている。
独で使用することができるが、アルカリ可溶性樹脂と、
混合して用いた方が好ましい。好適なアルカリ可溶性樹
脂には、ノボラック型フェノール樹脂が含まれ、具体的
には、フェノールホルムアルデヒド樹脂、o−クレゾー
ルホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾールホルムアルデ
ヒド樹脂、などが含まれる。さらに米国特許第4,02
8,111号明細書に記されているように上記のような
フェノール樹脂と共に、t−ブチルフェノールホルムア
ルデヒド樹脂のような炭素数3〜8のアルキル基で置換
されたフェノールまたはクレゾールとホルムアルデヒド
との縮合物を併用すると、より一層好ましい。また、露
光により可視像を形成するために、o−ナフトキノンジ
アジド−4−スルホニルクロライド、p−ジアゾジフェ
ニルアミンの無機アニオン塩、トリハロメチルオキサジ
アゾール化合物、ベンゾフラン環を有するトリハロメチ
ルオキサジアゾール化合物等の化合物などが添加され
る。一方画像の着色剤としては、ビクトリアブルーBO
H、クリスタルバイオレット、オイルブルー等のトリフ
ェニルメタン染料が用いられる。また、特開昭62−2
93247号公報に記載されている染料は特に好まし
い。
253号公報に記載されているような炭素数3〜15の
アルキル基で置換されたフェノール、例えばt−ブチル
フェノール、N−オクチルフェノール、t−ブチルフェ
ノールとホルムアルデヒドとを縮合させたノボラック樹
脂、または、このようなノボラック樹脂のo−ナフトキ
ノンジアジド−4−または−5−スルホン酸エステル
(例えば、特開昭61−242446号公報に記載され
ている)を含有させることができる。また、現像性能を
良くするためにさらに特開昭62−251740号公報
に記載されているような非イオン界面活性剤を含有させ
ることができる。以上の組成物は、上記各成分を溶解す
る溶媒に溶かして支持体上に塗布する。ここで使用する
溶媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノ
ン、メチルエチルケトン、エチレングリコールモノメチ
ルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、
2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プ
ロパノール、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、
乳酸メチル、乳酸エチル、ジメチルスルホキシド、ジメ
チルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、水、N−メ
チルピロリドン、テトラヒドロフルフリルアルコール、
アセトン、ジアセトンアルコール、メタノール、エタノ
ール、イソプロパノール、ジエチレングリコールジメチ
ルエーテルなどがあり、これらの溶媒を単独あるいは混
合して使用する。これらの成分からなる感光性組成物
が、固形分として0.5〜3.0g/m2設けられる。
分子化合物を含有する感光層を設ける場合。 ジアゾ樹脂としては、例えばp−ジアゾジフェニルアミ
ンとホルムアルデヒドまたはアセトアルデヒドの縮合物
と、ヘキサフルオロリン酸塩、テトラフルオロホウ酸塩
との有機溶媒可溶の反応生成物であるジアゾ樹脂無機
塩、また米国特許第3,300,309号明細書に記載
されているような、前記縮合物とスルホン酸類例えばパ
ラトルエンスルホン酸またはその塩、ホスフィン酸類例
えばベンゼンホスフィン酸またはその塩、ヒドロキシル
基含有化合物、例えば、2,4−ジヒドロキシベンゾフ
ェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン
−5−スルホン酸またはその塩等の反応生成物である有
機溶媒可溶性ジアゾ樹脂有機酸塩等が挙げられる。本発
明においては、好適に用いることができる他のジアゾ樹
脂は、カルボキシル基、スルホン酸基、スルフィン酸
基、リンの酸素酸基およびヒドロキシル基のうち少なく
とも一つの有機基を有する芳香族化合物と、ジアゾニウ
ム化合物、好ましくは芳香族ジアゾニウム化合物とを構
造単位として含む共縮合体である。そして上記の芳香族
環としては、好ましくはフェニル基、ナフチル基を挙げ
ることができる。
ルフィン酸基、リンの酸素酸基、及びヒドロキシル基の
うち少なくとも一つを含有する芳香族化合物としては種
々のものが挙げられるが、好ましいのは、4−メトキシ
安息香酸、3−クロロ安息香酸、2,4−ジメトキシ安
息香酸、p−フェノキシ安息香酸、4−アニリノ安息香
酸、フェノキシ酢酸、フェニル酢酸、p−ヒドロキシ安
息香酸、2,4−ジヒドロキシ安息香酸、ベンゼンスル
ホン酸、p−トルエンスルフィン酸、1−ナフタレンス
ルホン酸、フェニルリン酸、フェニルホスホン酸であ
る。前述の共縮合ジアゾ樹脂の構成単位をなす芳香族ジ
アゾニウム化合物には、例えば特公昭49−48001
号に挙げられているようなジアゾニウム塩を用いること
ができるが、特に、ジフェニルアミン−4−ジアゾニウ
ム塩類が好ましい。ジフェニルアミン−4−ジアゾニウ
ム塩類は、4−アミノ−ジフェニルアミン類から誘導さ
れるが、このような4−アミノ−ジフェニルアミン類と
しては、4−アミノ−ジフェニルアミン、4−アミノ−
3−メトキシ−ジフェニルアミン、4−アミノ−2−メ
トキシ−ジフェニルアミン、4′−アミノ−2−メトキ
シ−ジフェニルアミン、4′−アミノ−4−メトキシ−
ジフェニルアミン、4−アミノ−3−メチルジフェニル
アミン、4−アミノ−3−エトキシ−ジフェニルアミ
ン、4−アミノ−3−β−ヒドロキシエトキシジフェニ
ルアミン、4−アミノ−ジフェニルアミン−2−スルホ
ン酸、4−アミノ−ジフェニルアミン−2−カルボン
酸、4−アミノ−ジフェニルアミン−2′−カルボン酸
等が挙げられ、特に好ましくは、3−メトキシ−4−ア
ミノ−4−ジフェニルアミン、4−アミノ−ジフェニル
アミンである。
合ジアゾ樹脂以外のジアゾ樹脂として、特願平1−13
0493号、特願平1−303705号、及び特願平2
−53101号に記載された酸基を含有するアルデヒド
またはそのアセタール化合物で縮合したジアゾ樹脂も好
ましく用いることができる。ジアゾ樹脂の対アニオンと
しては、ジアゾ樹脂と安定に塩を形成し、かつ該樹脂を
有機溶媒に可溶となすアニオンを含む。これらは、デカ
ン酸及び安息香酸等の有機カルボン酸、フェニルリン酸
等の有機リン酸及びスルホン酸を含み、典型的な例とし
ては、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン
酸などのフルオロアルカンスルホン酸、ラウリルスルホ
ン酸、ジオクチルスルホコハク酸、ジシクロヘキシルス
ルホコハク酸、カンファースルホン酸、トリルオキシ−
3−プロパンスルホン酸、ノニルフェノキシ−3−プロ
パンスルホン酸、ノニルフェノキシ−4−ブタンスルホ
ン酸、ジブチルフェノキシ−3−プロパンスルホン酸、
ジアミルフェノキシ−3−プロパンスルホン酸、ジノニ
ルフェノキシ−3−プロパンスルホン酸、ジブチルフェ
ノキシ−4−ブタンスルホン酸、ジノニルフェノキシ−
4−ブタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエン
スルホン酸、メシチレンスルホン酸、p−クロロベンゼ
ンスルホン酸、2,5−ジクロロベンゼンスルホン酸、
スルホサリチル酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホン
酸、p−アセチルベンゼンスルホン酸、5−ニトロ−o
−トルエンスルホン酸、2−ニトロベンゼンスルホン
酸、3−クロロベンゼンスルホン酸、3−ブロモベンゼ
ンスルホン酸、2−クロロ−5−ニトロベンゼンスルホ
ン酸、ブチルベンゼンスルホン酸、オクチルベンゼンス
ルホン酸、デシルベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼ
ンスルホン酸、ブトキシベンゼンスルホン酸、ドデシル
オキシベンゼンスルホン酸、2−ヒドロキシ−4−メト
キシベンゾフェノン−5−スルホン酸、イソプロピルナ
フタレンスルホン酸、ブチルナフタレンスルホン酸、ヘ
キシルナフタレンスルホン酸、オクチルナフタレンスル
ホン酸、ブトキシナフタレンスルホン酸、ドデシルオキ
シナフタレンスルホン酸、ジブチルナフタレンスルホン
酸、ジオクチルナフタレンスルホン酸、トリイソプロピ
ルナフタレンスルホン酸、トリブチルナフタレンスルホ
ン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、ナフタリン−
1−スルホン酸、ナフタリン−2−スルホン酸、1,8
−ジニトロ−ナフタレン−3,6−ジスルホン酸、ジメ
チル−5−スルホイソフタレート等の脂肪族並びに芳香
族スルホン酸、2,2′,4,4′−テトラヒドロキシ
ベンゾフェノン、1,2,3−トリヒドロキシベンゾフ
ェノン、2,2′,4−トリヒドロキシベンゾフェノン
等の水酸基含有芳香族化合物、ヘキサフルオロリン酸、
テトラフルオロホウ酸等のハロゲン化ルイス酸、ClO
4 ,IO4 等の過ハロゲン酸等が挙げられるが、これに
限られるものではない。これらの中で、特に好ましいも
のは、ブチルナフタレンスルホン酸、ジブチルナフタレ
ンスルホン酸、ヘキサフルオロリン酸、2−ヒドロキシ
−4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホン酸、ドデ
シルベンゼンスルホン酸である。
のモル比及び縮合条件を種々変えることにより、その分
子量は任意の値として得ることができるが、本発明の目
的とする使途に有効に供するためには分子量が約400
〜100,000のもの、好ましくは、約800〜8,
000のものが適当である。水不溶性かつ親油性高分子
化合物としては、下記(1)〜(15)に示すモノマー
をその構造単位とする通常1〜20万の分子量をもつ共
重合体が挙げられる。
ド類、メタクリルアミド類、アクリル酸エステル類、メ
タクリル酸エステル類及びヒドロキシスチレン類、例え
ばN−(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミドまた
はN−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、
o−,m−,p−ヒドロキシスチレン、o−,m−,p
−ヒドロキシフェニル−アクリレートまたはメタクリレ
ート。 (2)脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類、及
びメタクリル酸エステル類、例えば2−ヒドロキシエチ
ルアクリレートまたは2−ヒドロキシエチルメタクリレ
ート、4−ヒドロキシブチルメタクリレート。 (3)アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、イ
タコン酸等の不飽和カルボン酸。 (4)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、ア
クリル酸ヘキシル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリ
ル酸オクチル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸−2−
クロロエチル、グリシジルアクリレート、N−ジメチル
アミノエチルアクリレート等の(置換)アルキルアクリ
レート。
クリレート、プロピルメタクリレート、ブチルメタクリ
レート、アミルメタクリレート、シクロヘキシルメタク
リレート、ベンジルメタクリレート、グリシジルメタク
リレート、N−ジメチルアミノエチルメタクリレート等
の(置換)アルキルメタクリレート。 (6)アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロ
ールアクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミ
ド、N−エチルアクリルアミド、N−ヘキシルメタクリ
ルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−ヒ
ドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリル
アミド、N−ニトロフェニルアクリルアミド、N−エチ
ル−N−フェニルアクリルアミド等のアクリルアミドも
しくはメタクリルアミド類。 (7)エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニル
エーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピル
ビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニ
ルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテ
ル類。 (8)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビ
ニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル
類。 (9)スチレン、α−メチルスチレン、クロロメチルス
チレン等のスチレン類。
ルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケト
ン等のビニルケトン類。 (11)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジ
エン、イソプレン等のオレフィン類。 (12)ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾール、
4−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリロニ
トリル等。 (13)マレイミド、N−アクリロイルアクリルアミ
ド、N−アセチルメタクリルアミド、N−プロピオニル
メタクリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタ
クリルアミド等の不飽和イミド。 (14)N−(o−アミノスルホニルフェニル)メタク
リルアミド、N−(m−アミノスルホニルフェニル)メ
タクリルアミド、N−(p−アミノ)スルホニルフェニ
ルメタクリルアミド、N−(1−(3−アミノスルホニ
ル)ナフチル)メタクリルアミド、N−(2−アミノス
ルホニルエチル)メタクリルアミド等のメタクリル酸ア
ミド類、及び上記と同様の置換基を有するアクリルアミ
ド類、また、o−アミノスルホニルフェニルメタクリレ
ート、m−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、
p−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、1−
(3−アミノスルホニルナフチル)メタクリレート等の
メタクリル酸エステル類、及び上記と同様の置換基を有
するアクリル酸エステル類などの不飽和スルホンアミ
ド。
シ)−エチル)−2,3−ジメチルマレイミド、ビニル
シンナメート、などの、側鎖に、架橋性基を有する不飽
和モノマー。更に、上記モノマーと共重合し得るモノマ
ーを共重合させてもよい。 (16)米国特許第3,751,257号明細書に記載
されているフェノール樹脂およひ例えばポリビニルフォ
ルマール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂のようなポリ
ビニルアセタール樹脂。 (17)ポリウレタンをアルカリ可溶化した特公昭54
−19773号、特開昭57−94747号、同60−
182437号、同62−58242号、同62−12
3452号、同62−123453号、同63−113
450号、特開平2−146042号に記載された高分
子化合物。 上記共重合体の好ましい分子量は1〜20万である。ま
た上記共重合体には必要に応じて、ポリビニルブチラー
ル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ
樹脂、ノボラック樹脂、天然樹脂等を添加してもよい。
視画像と現像後の可視画像を得ることを目的としてさら
に色素を用いることができる。該色素としては、例え
ば、ビクトリアピュアブルーBOH〔保土谷化学社
製〕、オイルブルー#603〔オリエント化学工業社
製〕、パテントビュアブルー〔住友三国化学社製〕、ク
リスタルバイオレット、ブリリアントグリーン、エチル
バイオレット、メチルバイオレット、メチルグリーン、
エリスロシンBベイシックフクシン、マラカイトグリー
ン、オイルレッド、m−クレゾールパープル、ローダミ
ンB、オーラミン、4−p−ジエチルアミノフェニルイ
ミナフトキノン、シアノ−p−ジエチルアミノフェニル
アセトアニリド等に代表されるトリフェニルメタン系、
ジフェニルメタン系、オキサジン系、キサンテン系、イ
ミノナフトキノン系、アゾメチン系またはアントラキノ
ン系の色素が有色から無色あるいは異なる有色の色調へ
変化する変色剤の例として挙げられる。
ては、ロイコ色素及び、例えばトリフェニルアミン、ジ
フェニルアミン、o−クロロアニリン、1,2,3−ト
リフェニルグアニジン、ナフチルアミン、ジアミノジフ
ェニルメタン、p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェ
ニルアミン、1,2−ジアニリノエチレン、p,p′,
p″−トリス−ジメチルアミノトリフェニルメタン、
p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェニルメチルイミ
ン、p,p′,p″−トリアミノ−o−メチルトリフェ
ニルメタン、p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェニ
ル−4−アニリノナフチルメタン、p,p′,p″−ト
リアミノトリフェニルメタンに代表される第1級または
第2級アリールアミン系色素が挙げられる。特に好まし
くは、トリフェニルメタン系、ジフェニルメタン系色素
が有効に用いられ、さらに好ましくはトリフェニルメタ
ン系色素であり、特にビクトリアピュアブルーBOHで
ある。
加物を加えることができる。例えば、塗布性を改良する
ためのアルキルエーテル類(例えばエチルセルロース、
メチルセルロース)、フッ素系界面活性剤類や、ノニオ
ン系界面活性剤(特にフッ素系界面活性剤が好まし
い)、塗膜の柔軟性、耐摩耗性を付与するための可塑剤
(例えばブチルフタリル、ポリエチレングリコール、ク
エン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチ
ル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸
トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチ
ル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸ま
たはメタクリル酸のオリゴマー及びポリマー、この中で
特にリン酸トリクレジルが好ましい)、画像部の感脂性
を向上させるための感脂化剤(例えば特開昭55−52
7号公報記載のスチレン―無水マレイン酸共重合体のア
ルコールによるハーフエステル化物、p−t−ブチルフ
ェノール―ホルムアルデヒド樹脂などのノボラック樹
脂、p−ヒドロキシスチレンの50%脂肪酸エステル
等)、安定剤{例えば、リン酸、亜リン酸、有機酸(ク
エン酸、シュウ酸、ジピコリン酸、ベンゼンスルホン
酸、ナフタレンスルホン酸、スルホサリチル酸、4−メ
トキシ−2−ヒドロキシベンゾフェノン−5−スルホン
酸、酒石酸等)}、現像促進剤(例えば高級アルコー
ル、酸無水物等)等が好ましく用いられる。
は、感光性ジアゾ樹脂、親油性高分子化合物、及び必要
に応じて種々の添加剤の所定量を適当な溶媒(メチルセ
ロソルブ、エチルセロソルブ、ジメトキシエタン、ジエ
チルグリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノー
ル、メチルセロソルブアセテート、アセトン、メチルエ
チルケトン、メタノール、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド、シクロヘキサノン、ジオキサン、テ
トラヒドロフラン、乳酸メチル、乳酸エチル、エチレン
ジクロライド、ジメチルスルホキシド、水またはこれら
の混合物等)中に溶解させ感光性組成物の塗布液を調整
し、これを支持体上に塗布、乾燥すればよい。用いられ
る溶媒は単独でもよいが、メチセロソルブ、1−メトキ
シ−2−プロパノール、乳酸メチルのような高沸点溶媒
と、メタノール、メチルエチルケトンのような低沸点溶
媒との混合物をするとさらに好ましい。
1〜50重量%の範囲とすることが望ましい。この場
合、感光性組成物の塗布量は、おおむね、0.2〜10
0g/m2 (乾燥重量)程度とすればよく、さらに好ま
しくは0.5〜20g/m2 とするとよい。 〔III 〕光二量化型感光性組成物及び光重合性感光性組
成物を含む感光層を設ける場合。 光二重化型感光性組成物としてはマレイミド基やシンナ
ミル基、シンナモイル基、シンナミリデン基、シンナミ
リデンアセチル基やカルコン基などを側鎖、または主鎖
に有するポリマーが挙げられ、マレイミド基を側鎖に有
するポリマーとして、特開昭52−988号(対応米国
特許第4,079,041号)公報や、独国特許第2,
626,769号明細書、ヨーロッパ特許第21,01
9号明細書、ヨーロッパ特許第3,552号明細書や、
ディー・アンゲバンドゥテ・マクロモレクラーレ・ケミ
ー(Die Angewandte Makromolekulare Chemie)115
(1983)の163〜181頁に記載されているポリ
マーや、特開昭49−128991号、同49−128
992号、同49−128993号、同50−5376
号、同50−5377号、同50−5379号、同50
−5378号、同50−5380号、同53−5298
号、同53−5299号、同53−5300号、同50
−50107号、同51−47940号、同52−13
907号、同50−45076号、同52−12170
0号、同50−10884号、同50−45087号、
独国特許第2,349,948号、同第2,616,2
72号各公報に記載されているポリマーなどを挙げるこ
とができる。
または膨潤性とするためには、カルボン酸、スルホン
酸、リン酸、ホスホン酸、及びこれらのアルカリ金属塩
やアンモニウム塩、及びアルカリ水に対し解離するpK
aが6〜12の酸基などを、ポリマー中に含めたものが
有用である。必要により上記酸基を有するモノマー1〜
3種類と、マレイミド基を有するモノマーを共重合させ
ることもできる。酸基を有するマレイミドポリマーの酸
価は30〜300の範囲が好ましく、このような酸価を
有するポリマーの中でも、ディー・アンゲバンドゥテ・
マクロモレクラーレ・ケミー((Die Angewandte Makro
molekulare Chemie)128(1984)の71〜91頁
に記載されているような、N−〔2−(メタクリロイル
オキシ)エチル〕−2,3−ジメチルマレイミドとメタ
クリル酸あるいはアクリル酸との共重合体が有用であ
る。更にこの共重合体の合成に際して第3成分のビニル
モノマーを共重合することによって目的に応じた多元共
重合体を容易に合成することができる。例えば、第3成
分のビニルモノマーとして、そのホモポリマーのガラス
転移点が室温以下のアルキルメタアクリレートやアルキ
ルアクリレートを用いることによって、共重合体に柔軟
性を与えることができる。
リデン基、シンナミリデンアセチル基やカルコン基など
を側鎖、または主鎖に有する光架橋性ポリマーとして
は、米国特許第3,030,208号、米国特許出願第
709,496号、同第828,455号の各明細書に
記載されている感光性ポリエステルがある。これらの光
架橋性ポリマーをアルカリ水可溶化したものとしては、
次のようなものが挙げられる。すなわち、特開昭60−
191244号明細書中に記載されているような感光性
ポリマーを挙げることができる。さらに、特開昭62−
175729号、特開昭62−175730号、特開昭
63−25443号、特開昭63−218944号、特
開昭63−218945号の各明細書に記載されている
感光性ポリマーを挙げることができる。また、これらを
含む感光層には増感剤を使用することが出来るが、その
ような増感剤としては、ベンゾフェノン誘導体、ベンズ
アンスロン誘導体、キノン類、芳香族ニトロ化合物、ナ
フトチアゾリン誘導体、ベンゾチアゾリン誘導体、チオ
キサントン類、ナフトチアゾール誘導体、ケトクマリン
化合物、ベンゾチアゾール誘導体、ナフトフラノン化合
物、ビリリウム塩、チアビリリウム塩などを挙げること
が出来る。このような感光層には必要に応じて塩素化ポ
リエチレン、塩素化ポリプロピレン、ポリアクリル酸ア
ルキルエステル、アクリル酸アルキルエステル、アクリ
ロニトリル、塩化ビニル、スチレン、ブタジエンなどの
モノマーの少なくとも一種との共重合体、ポリアミド、
メチルセルロース、ポリビニルホルマール、ポリビニル
ブチラール、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合
体、イタコン酸共重合体、などの結合剤や、ジブチルフ
タレート、ジヘキシルフタレートなどのフタル酸ジアル
キルエステル、オリゴエチレングリコールアルキルエス
テル、リン酸エステルなどの可塑剤などを使用すること
が出来る。また、感光層の着色を目的として、染料もし
くは顔料や焼出し剤としてpH指示薬等を添加するのも
好ましい。
ルボン酸及びその塩、不飽和カルボン酸と脂肪族多価ア
ルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪
族多価アミン化合物とのアミドなどが挙げられる。光重
合開始剤としては、ビシナールポリケタルドニル化合
物、α−カルボニル化合物、アシロインエーテル、α−
位が炭化水素で置換された芳香族アシロイン化合物、多
核キノン化合物、トリアリルイミダゾールダイマー/p
−アミノフェニルケトンの組み合わせ、ベンゾチアゾー
ル系化合物、トリハロメチル−s−トリアジン化合物、
アクリジン及びフェナジン化合物、オキサジアゾール化
合物などが含まれ、これらとともに、アルカリ水可溶性
または膨潤性で、かつフィルム形成可能な高分子重合体
としては、ベンジル(メタ)アクリレート/(メタ)ア
クリル酸/必要に応じてその他の付加重合性ビニルモノ
マー共重合体、メタクリル酸/メタクリル酸メチル(ま
たはメタクリル酸エステル)共重合体、無水マレイン酸
共重合体にペンタエリスリトールトリアクリレートを半
エステル化で付加させたものや酸性ビニル共重合体など
が挙げられる。
されているTnO感光層を用いることもできる。また、
特開昭56−161550号、特開昭60−18684
7号、特開昭61−238063号公報などに記載され
ている電子写真感光体を用いた感光層を用いてもよい。
支持体上に設けられる感光層の量は、塗布後の乾燥重量
で、約0.1〜約7g/m2 、好ましくは0.5〜4g
/m2 の範囲である。本発明法においては、支持体と感
光層との密着性を高めるためや、現像後に感光層が残ら
ないようにするため、またはハレーションを防止するな
どの目的で、必要に応じて中間層を設けてもよい。密着
性向上のためには、一般に中間層は、ジアゾ樹脂や、例
えばアルミに吸着するリン酸化合物、アミノ化合物、カ
ルボン酸化合物などからなっている。現像後に感光層が
残存しないように溶解性の高い物質からなる中間層は、
一般に溶解性の良好なポリマーや、水溶性ポリマーから
なっている。更にハレーション防止のためには、中間層
は一般染料やUV吸収剤を含む。中間層の厚さは任意で
あり、露光した時に、上層の感光層と均一な結合形成反
応を行い得る厚みでなければならない。通常、乾燥個体
で約1〜100mg/m2 の塗布割合がよく、5〜40
mg/m2 が特に良好である。
けられた突起物により構成されるマット層を設けること
もできる。マット層の目的は、密着露光におけるネガ画
像フィルムと感光性平版印刷版との真空密着性を改良す
ることにより、真空引き時間を短縮し、さらに密着不良
による露光時の微小網点のつぶれを防止することであ
る。マット層の塗布方法としては、特開昭55−129
74号に記載されているパウダリングされた固体粉末を
熱融着する方法、特開昭58−182636号に記載さ
れているポリマー含有水をスプレーし乾燥させる方法な
どがあり、どの方法でもよいが、マット層自体が実質的
に有機溶剤を含まない水性アルカリ現像液に溶解する
か、あるいはこれにより除去可能な物が望ましい。
刷版は、画像露光された後、常法により現像を含む処理
によって樹脂画像が形成される。例えば、前記〔I〕の
感光層を有する感光性平版印刷版の場合は、画像露光
後、米国特許第4,259,434号明細書に記載され
ているようなアルカリ水溶液で現像することにより露光
部分が除去されて、平版印刷版が得られ、〔II〕の感光
層を有する感光性平版印刷版の場合には、画像露光後、
米国特許第4,186,006号明細書に記載されてい
るような現像液で、未露光部の感光層が現像により除去
されて平版印刷版が得られる。また、特開昭59−84
241号、特開昭57−192952号、及び特開昭6
2−24263号公報に記載されているようなポジ型平
版印刷版を現像する際に用いられる水性アルカリ現像液
組成物を使用してもよい。
帯状金属板を順次連続的に、脱脂処理及び酸洗浄処理を
施し、得られた処理済リード・フレーム形成用金属板上
に、感光材を塗布し、乾燥させるから、リード・フレー
ム形成用金属板と感光材層間に異物混入の余地はない。
また、リード・フレーム形成用帯状金属板上に感光材を
塗布し、乾燥させた後、リード・フレーム形成用金属板
の長手方向に沿って一定長毎に切断するから、均一の品
質の複数枚のリード・フレーム形成用金属板を同時に多
数作製することができる。
る。板厚t=0.15mm、幅400mmの銅合金帯状
板、Fe 0.2%、P0.1%、Mn 0.01%、
Sn 0.5%、残部Cu)を「送り出し機」にセット
し、「送り出し機」の操作により、水酸化ナトリウム1
5%、温度60℃で、300sec処理し、水洗した
後、硫酸10%、温度60℃、20sec処理し、水洗
し、下記感光液を塗布後、乾燥し、連続的に処理し、5
00m巻取った。これらをサンプル〔A〕とし、長さ5
00mmにカットし、1000枚作製した。(A1 〜A
1000)、ただしこのとき塗布した感光液の組成:
2−ヒドロキシルメタクリレート/アクリロニトリル/
メチルメタクリレート/メタクリル酸(=10:20:
25:35:10モル比)の共重合体(平均分子量60
000)……5.0g 4−ジアゾジフェニルアミンとホルムアルデヒドの縮合
物の六弗化燐酸塩……0.5g 亜燐酸 ……0.05g ビクトリアピュアブルーBOH ………0.1g 水 ………5.0g 1−メトキシ−2−プロパノール ……45.0g メチルエチルケトン 50.0g
1 〜A1000)を使用し、リード・フレーム形成用金属板
の感光層上にエッチングパター像形成フイルム原版を密
着させ、露光後現像し、非露光部の感光材を除いた後、
リード・フレーム形成用金属板をエッチング液(塩化第
2鉄液)中に浸漬し、エッチング部分を除去して、所望
のリード・フレームを1,000枚作製した。
0mm、長さ500mmの銅合金板(Fe 0.2%、
P 0.1%、Mn 0.01%、Sn 0.5%、C
u残り)を1000枚用意し、バッチ処理にて1枚ずつ
水酸化ナトリウム15%、温度60℃で300sec処
理し、水洗した後、硫酸10%、温度60℃で20se
c処理し、水洗し、下記感光材を1枚ずつ塗布した。こ
れらをサンプルB1 〜B1000とする。
ル)メタクリルアミド/2−ヒドロキシルメタクリレー
ト/アクリロニトリル/メチルメタクリレート/メタク
リル酸(=10:20:25:35:10モル比)の共
重合体(平均分子量60000)……5.0g 4−ジアゾジフェニルアミンとホルムアルデヒドの縮合
物の六弗化燐酸塩……0.5g 亜燐酸 ……0.05g ビクトリアピュアブルーBOH ………0.1g 水 ………5.0g 1−メトキシ−2−プロパノール ……45.0g メチルエチルケトン 50.0g
プル(B1 〜B1000)を使用し、リード・フレーム形成
用金属板の感光層上にエッチング・パターン像形成フイ
ルム原版を密着させ、露光後現像し、未露光部の感光材
を除去した後、リード・フレーム形成用金属板をエッチ
ング液(塩化第2鉄液)中に浸漬し、エッチング部分を
除去して、所望のリード・フレームを作製した。
〜A1000)と、比較例で作製したサンプル(B1 〜B
1000)の特性を比較したところ、A1 〜A1000では2
枚、B1〜B1000では68枚発生した。また、サンプル
A1 〜A1000を作製に要する時間は2時間であったが、
サンプルB1 〜B1000を作製するのに要した時間は15
時間かかった。上述した実施例では、鋼主体、鋼―ニッ
ケル合金材で形成したリード・フレーム形成用母材を使
用した例について説明したが、これらの合金に限らす、
これらの合金の素材にチタン、クロム等の活性金属元素
を添加した合金材料であってもよい。
・フレーム形成帯状用材を順次連続的に、脱脂処理及び
酸洗浄処理を施し、得られた処理済リード・フレーム形
成用材に感光材を塗布し、乾燥させた後、長手方向に一
定長毎に切断し、複数枚のリード・フレーム形成用材を
作製するので、異物が混入しない、均一な品質のリード
・フレームが多数、同時に作製することができる。
ドICや、セラミックスパッケージIC等において用い
られる半導体ペレットを固定するダイパッド(Die
Pad)と引き出し配線リード端子を形成する金属フレ
ームである。金属フレームは、材料として、銅又は銅―
ニッケルを主体とする合金製のリード・フレーム形成用
金属板が使われる。近年、チタン、クロム等活性金属系
の元素を添加した材料も使用され始めている。いずれに
しても、機械的強度があり、導電率が高く軟化温度が高
く、さらに半導体ペレットやパッケージ材料の熱膨脹係
数とマッチした熱膨脹係数をもち、リードの平面性確
保、曲げ異方性が小さく、放熱性がよく、低コストの材
料が使用され、打ち抜きプレス又はエッチングによりリ
ード・フレーム形成用金属板に対しエッチング液でパタ
ーン形成している。打ち抜きは低コストででき、エッチ
ング液による方法は正確なパターン形成ができる。近
年、半導体や、これを使用した集積回路の発達に伴い、
リード・フレームを使用する電子部品の需要も高まり、
均一な品質のリード・フレームを大量に作製する必要性
が高まってきた。
は、例えば銅を主体とする合金板、又は銅―ニッケルを
主体とする合金板を購入し、合金板上に設けてある防錆
材を除去するため、順次脱脂処理及び酸洗浄処理を施し
て合金板表面を処理した後、合金板表面にホイラー塗布
法により液状レジストを塗布又はドライタイプで例えば
ネガ形の感光材層を溶着し乾燥させて感光材層を設け、
所定のエッチングパターンを露光後現像処理し、露光部
分の感光材を除去した後、合金板をエッチング液中に浸
漬し、合金板面に所定のエッチングパターンを形成させ
ていた。このようなパターンを形成した均一な品質のリ
ード・フレームを大量に生産するため、従来リード・フ
レーム形成用材を作製するには、例えば、上述した合金
板を多数枚購入し、これら多数枚の合金板を順次バッチ
処理で、合金板上の防錆材を脱脂処理及び酸洗浄処理を
施した上、得られる合金板上に感光材を塗布し、乾燥し
て多数枚のリード・フレーム形成用金属板を作製してい
た。
板には、以下に例示する感光層を設けてリード・フレー
ム形成用材とすることができる。 〔I〕o−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルお
よびフェノール・クレゾール混合のノボラック樹脂を含
有する感光層を設ける場合。 o−キノンジアジド化合物はo−ナフトキノンジアジド
化合物であり、例えば、米国特許第2,766,118
号、同第2,767,092号、同第2,772,97
2号、同第2,859,112号、同第3,102,8
09号、同第3,106,465号、同第3,635,
709号、同第3,647,443号の各明細書をはじ
め、多数の刊行物に記されており、これらは、好適に使
用することができる。
合ジアゾ樹脂以外のジアゾ樹脂として、特開平4−18
559号公報、特開平3−163551号公報、及び特
開平3−253857号公報に記載された酸基を含有す
るアルデヒドまたはそのアセタール化合物で縮合したジ
アゾ樹脂も好ましく用いることができる。ジアゾ樹脂の
対アニオンとしては、ジアゾ樹脂と安定に塩を形成し、
かつ該樹脂を有機溶媒に可溶となすアニオンを含む。こ
れらは、デカン酸及び安息香酸等の有機カルボン酸、フ
ェニルリン酸等の有機リン酸及びスルホン酸を含み、典
型的な例としては、メタンスルホン酸、トリフルオロメ
タンスルホン酸などのフルオロアルカンスルホン酸、ラ
ウリルスルホン酸、ジオクチルスルホコハク酸、ジシク
ロヘキシルスルホコハク酸、カンファースルホン酸、ト
リルオキシ−3−プロパンスルホン酸、ノニルフェノキ
シ−3−プロパンスルホン酸、ノニルフェノキシ−4−
ブタンスルホン酸、ジブチルフェノキシ−3−プロパン
スルホン酸、ジアミルフェノキシ−3−プロパンスルホ
ン酸、ジノニルフェノキシ−3−プロパンスルホン酸、
ジブチルフェノキシ−4−ブタンスルホン酸、ジノニル
フェノキシ−4−ブタンスルホン酸、ベンゼンスルホン
酸、トルエンスルホン酸、メシチレンスルホン酸、p−
クロロベンゼンスルホン酸、2,5−ジクロロベンゼン
スルホン酸、スルホサリチル酸、2,5−ジメチルベン
ゼンスルホン酸、p−アセチルベンゼンスルホン酸、5
−ニトロ−o−トルエンスルホン酸、2−ニトロベンゼ
ンスルホン酸、3−クロロベンゼンスルホン酸、3−ブ
ロモベンゼンスルホン酸、2−クロロ−5−ニトロベン
ゼンスルホン酸、ブチルベンゼンスルホン酸、オクチル
ベンゼンスルホン酸、デシルベンゼンスルホン酸、ドデ
シルベンゼンスルホン酸、ブトキシベンゼンスルホン
酸、ドデシルオキシベンゼンスルホン酸、2−ヒドロキ
シ−4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホン酸、イ
ソプロピルナフタレンスルホン酸、ブチルナフタレンス
ルホン酸、ヘキシルナフタレンスルホン酸、オクチルナ
フタレンスルホン酸、ブトキシナフタレンスルホン酸、
ドデシルオキシナフタレンスルホン酸、ジブチルナフタ
レンスルホン酸、ジオクチルナフタレンスルホン酸、ト
リイソプロピルナフタレンスルホン酸、トリブチルナフ
タレンスルホン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、
ナフタリン−1−スルホン酸、ナフタリン−2−スルホ
ン酸、1,8−ジニトロ−ナフタレン−3,6−ジスル
ホン酸、ジメチル−5−スルホイソフタレート等の脂肪
族並びに芳香族スルホン酸、2,2′,4,4′−テト
ラヒドロキシベンゾフェノン、1,2,3−トリヒドロ
キシベンゾフェノン、2,2′,4−トリヒドロキシベ
ンゾフェノン等の水酸基含有芳香族化合物、ヘキサフル
オロリン酸、テトラフルオロホウ酸等のハロゲン化ルイ
ス酸、ClO4 ,IO4 等の過ハロゲン酸等が挙げられ
るが、これに限られるものではない。これらの中で、特
に好ましいものは、ブチルナフタレンスルホン酸、ジブ
チルナフタレンスルホン酸、ヘキサフルオロリン酸、2
−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−スル
ホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸である。
リデン基、シンナミリデンアセチル基やカルコン基など
を側鎖、または主鎖に有する光架橋性ポリマーとして
は、米国特許第3,030,208号、米国特許出願第
709,496号、同第828,455号の各明細書に
記載されている感光性ポリエステルがある。これらの光
架橋性ポリマーをアルカリ水可溶化したものとしては、
次のようなものが挙げられる。すなわち、特開昭60−
191244号公報中に記載されているような感光性ポ
リマーを挙げることができる。さらに、特開昭62−1
75729号、特開昭62−175730号、特開昭6
3−25443号、特開昭63−218944号、特開
昭63−218945号の各公報に記載されている感光
性ポリマーを挙げることができる。また、これらを含む
感光層には増感剤を使用することが出来るが、そのよう
な増感剤としては、ベンゾフェノン誘導体、ベンズアン
スロン誘導体、キノン類、芳香族ニトロ化合物、ナフト
チアゾリン誘導体、ベンゾチアゾリン誘導体、チオキサ
ントン類、ナフトチアゾール誘導体、ケトクマリン化合
物、ベンゾチアゾール誘導体、ナフトフラノン化合物、
ビリリウム塩、チアビリリウム塩などを挙げることが出
来る。このような感光層には必要に応じて塩素化ポリエ
チレン、塩素化ポリプロピレン、ポリアクリル酸アルキ
ルエステル、アクリル酸アルキルエステル、アクリロニ
トリル、塩化ビニル、スチレン、ブタジエンなどのモノ
マーの少なくとも一種との共重合体、ポリアミド、メチ
ルセルロース、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチ
ラール、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、
イタコン酸共重合体、などの結合剤や、ジブチルフタレ
ート、ジヘキシルフタレートなどのフタル酸ジアルキル
エステル、オリゴエチレングリコールアルキルエステ
ル、リン酸エステルなどの可塑剤などを使用することが
出来る。また、感光層の着色を目的として、染料もしく
は顔料や焼出し剤としてpH指示薬等を添加するのも好
ましい。
けられた突起物により構成されるマット層を設けること
もできる。マット層の目的は、密着露光におけるネガ画
像フィルムとリード・フレーム形成用材との真空密着性
を改良することにより、真空引き時間を短縮し、さらに
密着不良による露光時の微小網点のつぶれを防止するこ
とである。マット層の塗布方法としては、特開昭55−
12974号に記載されているパウダリングされた固体
粉末を熱融着する方法、特開昭58−182636号に
記載されているポリマー含有水をスプレーし乾燥させる
方法などがあり、どの方法でもよいが、マット層自体が
実質的に有機溶剤を含まない水性アルカリ現像液に溶解
するか、あるいはこれにより除去可能な物が望ましい。
ーム形成用材は、画像露光された後、常法により現像を
含む処理によって樹脂画像が形成される。例えば、前記
〔I〕の感光層を有するリード・フレーム形成用材の場
合は、画像露光後、米国特許第4,259,434号明
細書に記載されているようなアルカリ水溶液で現像する
ことにより露光部分が除去されて、リード・フレーム形
成用材が得られ、〔II〕の感光層を有する感光性平版印
刷版の場合には、画像露光後、米国特許第4,186,
006号明細書に記載されているような現像液で、未露
光部の感光層が現像により除去されてリード・フレーム
材が得られる。また、特開昭59−84241号、特開
昭57−192952号、及び特開昭62−24263
号公報に記載されているようなポジ型平版印刷版を現像
する際に用いられる水性アルカリ現像液組成物を使用し
てもよい。
1 〜A1000)を使用し、リード・フレーム形成用金属板
の感光層上にエッチングパターン像形成フイルム原版を
密着させ、露光後現像し、非露光部の感光材を除いた
後、リード・フレーム形成用金属板をエッチング液(塩
化第2鉄液)中に浸漬し、エッチング部分を除去して、
所望のリード・フレームを1,000枚作製した。
〜A1000)と、比較例で作製したサンプル(B1 〜B
1000)の特性を比較したところ、A1 〜A1000では2
枚、B1〜B1000では68枚故障が発生した。また、サ
ンプルA1 〜A1000を作製に要する時間は2時間であっ
たが、サンプルB1 〜B1000を作製するのに要した時間
は15時間かかった。上述した実施例では、鋼主体、鋼
―ニッケル合金材で形成したリード・フレーム形成用母
材を使用した例について説明したが、これらの合金に限
らす、これらの合金の素材にチタン、クロム等の活性金
属元素を添加した合金材料であってもよい。 ─────────────────────────────────────────────────────
ーム形成用材は、画像露光された後、常法により現像を
含む処理によって樹脂画像が形成される。例えば、前記
〔I〕の感光層を有するリード・フレーム形成用材の場
合は、画像露光後、米国特許第4,259,434号明
細書に記載されているようなアルカリ水溶液で現像する
ことにより露光部分が除去されて、リード・フレーム材
が得られ、〔II〕の感光層を有するリード・フレーム形
成用材の場合には、画像露光後、米国特許第4,18
6,006号明細書に記載されているような現像液で、
未露光部の感光層が現像により除去されてリード・フレ
ーム材が得られる。また、特開昭59−84241号、
特開昭57−192952号、及び特開昭62−242
63号公報に記載されているようなポジ型平版印刷版を
現像する際に用いられる水性アルカリ現像液組成物を使
用してもよい。
Claims (1)
- 【請求項1】 リード・フレーム形成用帯状金属板を順
次連続的に、脱脂処理及び酸洗浄処理を施し、得られた
処理済リード・フレーム形成用金属板上に、感光材を塗
布・乾燥させるとともに、当該リード・フレーム形成用
金属板を長手方向に沿って一定長毎に切断又は巻取する
ことを特徴とするリード・フレーム形成用材の作製方
法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP08779993A JP3156945B2 (ja) | 1993-03-24 | 1993-03-24 | リード・フレーム形成用材の作製方法 |
EP94104629A EP0617332B1 (en) | 1993-03-24 | 1994-03-23 | Manufacturing process for a lead-frame forming material |
DE69430019T DE69430019T2 (de) | 1993-03-24 | 1994-03-23 | Herstellungsverfahren für ein Leiterrahmen-Material |
US08/572,505 US6309698B1 (en) | 1993-03-24 | 1995-12-14 | Manufacturing process for a lead-frame forming material |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP08779993A JP3156945B2 (ja) | 1993-03-24 | 1993-03-24 | リード・フレーム形成用材の作製方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06275756A true JPH06275756A (ja) | 1994-09-30 |
JP3156945B2 JP3156945B2 (ja) | 2001-04-16 |
Family
ID=13925034
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP08779993A Expired - Fee Related JP3156945B2 (ja) | 1993-03-24 | 1993-03-24 | リード・フレーム形成用材の作製方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6309698B1 (ja) |
EP (1) | EP0617332B1 (ja) |
JP (1) | JP3156945B2 (ja) |
DE (1) | DE69430019T2 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3281714B2 (ja) * | 1994-03-10 | 2002-05-13 | 富士写真フイルム株式会社 | リード・フレーム形成材料 |
JP3262448B2 (ja) * | 1994-03-14 | 2002-03-04 | 富士写真フイルム株式会社 | リード・フレーム形成材料 |
US20050074552A1 (en) * | 2003-10-07 | 2005-04-07 | Howard Ge | Photoresist coating process for microlithography |
KR101232249B1 (ko) * | 2004-08-10 | 2013-02-12 | 간또 가가꾸 가부시끼가이샤 | 반도체 기판 세정액 및 반도체 기판 세정방법 |
CN101425468B (zh) * | 2007-10-29 | 2012-07-04 | 飞思卡尔半导体(中国)有限公司 | 经过涂敷的引线框 |
US9129951B2 (en) | 2013-10-17 | 2015-09-08 | Freescale Semiconductor, Inc. | Coated lead frame bond finger |
CN111405772B (zh) * | 2020-03-10 | 2021-04-20 | 昆山一鼎工业科技有限公司 | 半导体器件的表面处理方法 |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3647443A (en) * | 1969-09-12 | 1972-03-07 | Eastman Kodak Co | Light-sensitive quinone diazide polymers and polymer compositions |
JPS5645127B2 (ja) * | 1974-02-25 | 1981-10-24 | ||
US4089733A (en) * | 1975-09-12 | 1978-05-16 | Amp Incorporated | Method of forming complex shaped metal-plastic composite lead frames for IC packaging |
US4148649A (en) * | 1977-02-09 | 1979-04-10 | Polychrome Corporation | Method for producing lithographic printing plates |
US4259434A (en) * | 1977-10-24 | 1981-03-31 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for developing positive acting light-sensitive planographic printing plate |
JPS5734557A (en) * | 1980-08-07 | 1982-02-24 | Toray Ind Inc | Preventing method for sticking of surface of water-developable photosensitive polyamide resin layer |
DE3045516A1 (de) * | 1980-12-03 | 1982-07-08 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Lichtempfindliches mehrschichtenmaterial und verfahren zur herstellung von haftschichten dafuer |
US4527185A (en) * | 1981-01-12 | 1985-07-02 | Avx Corporation | Integrated circuit device and subassembly |
JPS5856360A (ja) * | 1981-09-29 | 1983-04-04 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | Ic用リ−ドフレ−ム及びその製造方法 |
US4451845A (en) * | 1981-12-22 | 1984-05-29 | Avx Corporation | Lead frame device including ceramic encapsulated capacitor and IC chip |
US4441118A (en) * | 1983-01-13 | 1984-04-03 | Olin Corporation | Composite copper nickel alloys with improved solderability shelf life |
CH668654A5 (en) * | 1985-04-13 | 1989-01-13 | Kurt Etter Dr | Continuous prodn. equipment for presensitised lithographic plates - incorporates station for oxidn. or silicate treatment of strip or plate between preliminary and final rinses |
JPS6227192A (ja) * | 1985-07-26 | 1987-02-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用支持体の製造方法 |
JPS62154766A (ja) * | 1985-12-27 | 1987-07-09 | Nec Corp | 半導体装置用リ−ドフレ−ムの製造方法 |
JPS62196191A (ja) * | 1986-02-24 | 1987-08-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用支持体の製造方法 |
US4795694A (en) * | 1986-06-20 | 1989-01-03 | Siemens Aktiengesellschaft | Manufacture of fine structures for semiconductor contacting |
US4872946A (en) * | 1987-02-23 | 1989-10-10 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of manufacturing supports for lithographic printing plate |
US5183724A (en) * | 1990-12-18 | 1993-02-02 | Amkor Electronics, Inc. | Method of producing a strip of lead frames for integrated circuit dies in a continuous system |
-
1993
- 1993-03-24 JP JP08779993A patent/JP3156945B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1994
- 1994-03-23 EP EP94104629A patent/EP0617332B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-03-23 DE DE69430019T patent/DE69430019T2/de not_active Expired - Lifetime
-
1995
- 1995-12-14 US US08/572,505 patent/US6309698B1/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6309698B1 (en) | 2001-10-30 |
DE69430019D1 (de) | 2002-04-11 |
EP0617332B1 (en) | 2002-03-06 |
DE69430019T2 (de) | 2002-07-11 |
JP3156945B2 (ja) | 2001-04-16 |
EP0617332A1 (de) | 1994-09-28 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090209 Year of fee payment: 8 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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