JPH06267123A - 光磁気ディスクに熱遮断方式及びパルストレイン方式で オーバーライトする場合における記録条件決定方法、 同記録条件決定装置、光磁気記録方法及び光磁気記録 装置 - Google Patents
光磁気ディスクに熱遮断方式及びパルストレイン方式で オーバーライトする場合における記録条件決定方法、 同記録条件決定装置、光磁気記録方法及び光磁気記録 装置Info
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- JPH06267123A JPH06267123A JP5255416A JP25541693A JPH06267123A JP H06267123 A JPH06267123 A JP H06267123A JP 5255416 A JP5255416 A JP 5255416A JP 25541693 A JP25541693 A JP 25541693A JP H06267123 A JPH06267123 A JP H06267123A
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- G11B11/105—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field using a beam of light or a magnetic field for recording by change of magnetisation and a beam of light for reproducing, i.e. magneto-optical, e.g. light-induced thermomagnetic recording, spin magnetisation recording, Kerr or Faraday effect reproducing
- G11B11/10595—Control of operating function
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Optical Recording Or Reproduction (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】マークの後ろエッジ及びマークの前エッジ位置
の記録データパターン依存性を小さくする。 【構成】レーザビーム強度を、ＰL からＰL より高い強
度ＰH へ立ち上げ、ＰH を時間ＴW1維持した後ＰH より
低い強度ＰLTに立ち下げ、その後ＰLTとＰLTより高い強
度ＰW2との間で周期Ｔpで強度変調させて前記ディスク
に高温サイクルによりマークを形成し、その後ＰL より
低い強度ＰLBに立ち下げ、時間Ｔoff 後ＰL に立ち上げ
る光磁気記録方法であって、ＰL はディスク上の温度が
ある一定温度Θpre となるプレヒート状態を保つレーザ
ビーム強度であり、かつ、高温サイクルを生じさせない
強度である上限と、高温サイクルにより形成されたマー
クを消去できる強度である下限との間の強度から選択さ
れ、ＰW2、ＰLT及びＰW2を維持する時間ＴW2のうちの少
なくとも１つを制御することにより、前記ディスク面上
に照射されたレーザビームのピーク温度位置又はスポッ
ト中心位置での温度を、ＴW1経過時とＴW2経過時とで等
しくする。
の記録データパターン依存性を小さくする。 【構成】レーザビーム強度を、ＰL からＰL より高い強
度ＰH へ立ち上げ、ＰH を時間ＴW1維持した後ＰH より
低い強度ＰLTに立ち下げ、その後ＰLTとＰLTより高い強
度ＰW2との間で周期Ｔpで強度変調させて前記ディスク
に高温サイクルによりマークを形成し、その後ＰL より
低い強度ＰLBに立ち下げ、時間Ｔoff 後ＰL に立ち上げ
る光磁気記録方法であって、ＰL はディスク上の温度が
ある一定温度Θpre となるプレヒート状態を保つレーザ
ビーム強度であり、かつ、高温サイクルを生じさせない
強度である上限と、高温サイクルにより形成されたマー
クを消去できる強度である下限との間の強度から選択さ
れ、ＰW2、ＰLT及びＰW2を維持する時間ＴW2のうちの少
なくとも１つを制御することにより、前記ディスク面上
に照射されたレーザビームのピーク温度位置又はスポッ
ト中心位置での温度を、ＴW1経過時とＴW2経過時とで等
しくする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、オーバーライト（over
write）可能な光磁気ディスクに熱遮断方式及びパルス
トレイン方式でオーバーライトする場合における記録条
件の決定方法、同決定装置、光磁気記録方法及び光磁気
記録装置に関する。オーバーライトとは、前の情報を消
去せずに新たな情報を記録する行為を言う。この場合、
再生したとき、前の情報は再生されてはならない。本明
細書で言う「オーバーライト」とは、特に、記録磁界Ｈ
b の向き及び強度を変調せずに、単にレーザビームを記
録すべき情報に従いパルス変調しながら照射する（irra
diate） ことにより、オーバーライトすることを言う。
write）可能な光磁気ディスクに熱遮断方式及びパルス
トレイン方式でオーバーライトする場合における記録条
件の決定方法、同決定装置、光磁気記録方法及び光磁気
記録装置に関する。オーバーライトとは、前の情報を消
去せずに新たな情報を記録する行為を言う。この場合、
再生したとき、前の情報は再生されてはならない。本明
細書で言う「オーバーライト」とは、特に、記録磁界Ｈ
b の向き及び強度を変調せずに、単にレーザビームを記
録すべき情報に従いパルス変調しながら照射する（irra
diate） ことにより、オーバーライトすることを言う。
【０００２】
【従来の技術】最近、高密度、大容量、高いアクセス速
度、並びに高い記録及び再生速度を含めた種々の要求を
満足する光学的記録再生方法、それに使用される記録装
置、再生装置及び記録媒体を開発しようとする努力が成
されている。広範囲な光学的記録再生方法の中で、光磁
気記録再生方法は、情報を記録した後、消去することが
でき、再び新たな情報を記録することが繰り返し何度も
可能であるというユニークな利点のために、最も大きな
魅力に満ちている。
度、並びに高い記録及び再生速度を含めた種々の要求を
満足する光学的記録再生方法、それに使用される記録装
置、再生装置及び記録媒体を開発しようとする努力が成
されている。広範囲な光学的記録再生方法の中で、光磁
気記録再生方法は、情報を記録した後、消去することが
でき、再び新たな情報を記録することが繰り返し何度も
可能であるというユニークな利点のために、最も大きな
魅力に満ちている。
【０００３】この光磁気記録再生方法で使用される記録
媒体は、記録を残す層として１層又は多層からなる垂直
磁化膜（perpendicular magnetic layer or layers）を
有する。この磁化膜は、例えばアモルファスのGdFeやGd
Co、GdFeCo、TbFe、TbCo、TbFeCoなどからなる。垂直磁
化膜は、一般に同心円状又はらせん状のトラックを有し
ており、このトラックの上に情報が記録される。トラッ
クは明示的な場合と黙示的な場合の２通りある。 〔明示的なトラック〕光磁気記録媒体はディスク形状を
している。明示的なトラックを有するディスクは、ディ
スク平面に対し垂直方向から見た場合、情報を記録する
トラックが渦巻状又は同心円状に形成されている。そし
て、隣接する２つのトラック間にトラッキングのため及
び分離のための溝（グルーブ groove ）が存在する。逆
に溝と溝の間をランド（land）と呼ぶ。実際には、ディ
スクの裏表でランドと溝が逆になる。そこで、ビームが
入射するのと同じにディスクを見て、手前を溝、奥をラ
ンドと呼ぶ。垂直磁化膜は、溝の上にもランドの上にも
一面に形成するので、溝の部分をトラックにしてもよい
し、ランドの部分をトラックにしてもよい。溝の幅とラ
ンドの幅との間に特に大小関係はない。
媒体は、記録を残す層として１層又は多層からなる垂直
磁化膜（perpendicular magnetic layer or layers）を
有する。この磁化膜は、例えばアモルファスのGdFeやGd
Co、GdFeCo、TbFe、TbCo、TbFeCoなどからなる。垂直磁
化膜は、一般に同心円状又はらせん状のトラックを有し
ており、このトラックの上に情報が記録される。トラッ
クは明示的な場合と黙示的な場合の２通りある。 〔明示的なトラック〕光磁気記録媒体はディスク形状を
している。明示的なトラックを有するディスクは、ディ
スク平面に対し垂直方向から見た場合、情報を記録する
トラックが渦巻状又は同心円状に形成されている。そし
て、隣接する２つのトラック間にトラッキングのため及
び分離のための溝（グルーブ groove ）が存在する。逆
に溝と溝の間をランド（land）と呼ぶ。実際には、ディ
スクの裏表でランドと溝が逆になる。そこで、ビームが
入射するのと同じにディスクを見て、手前を溝、奥をラ
ンドと呼ぶ。垂直磁化膜は、溝の上にもランドの上にも
一面に形成するので、溝の部分をトラックにしてもよい
し、ランドの部分をトラックにしてもよい。溝の幅とラ
ンドの幅との間に特に大小関係はない。
【０００４】このようなランドと溝を構成するために、
一般に、基板には、表面に渦巻状又は同心円状に形成さ
れたランドと、２つの隣合うランド間に挟まれた溝が存
在する。このような基板上に薄く垂直磁化膜が形成され
る。これにより垂直磁化膜はランドと溝を持つ。 〔マーク〕本明細書では、膜面に対し「上向き（upwar
d）」又は「下向き（downward）」の何れか一方を、
「Ａ向き」、他方を「逆Ａ向き」と定義する。
一般に、基板には、表面に渦巻状又は同心円状に形成さ
れたランドと、２つの隣合うランド間に挟まれた溝が存
在する。このような基板上に薄く垂直磁化膜が形成され
る。これにより垂直磁化膜はランドと溝を持つ。 〔マーク〕本明細書では、膜面に対し「上向き（upwar
d）」又は「下向き（downward）」の何れか一方を、
「Ａ向き」、他方を「逆Ａ向き」と定義する。
【０００５】記録すべき情報は、予め２値化されてお
り、この情報が「Ａ向き」の磁化を有するマーク（Ｂ1
）と、「逆Ａ向き」の磁化を有するマーク（Ｂ0 ）の
２つの信号で記録される。これらのマークＢ1 ，Ｂ0
は、デジタル信号の１，０の何れか一方と他方にそれぞ
れ相当する。しかし、一般には記録されるトラックの磁
化は、記録前に強力な外部磁場を印加することによって
「逆Ａ向き」に揃えられる。この磁化の向きを揃える行
為は、古い意味で「初期化* （initialize* ）」と呼ば
れる。その上でトラックに「Ａ向き」の磁化を有するマ
ーク（Ｂ1 ）を形成する。情報は、このマーク（Ｂ1 ）
の有無、位置、マークの前端位置、後端位置、マーク長
等によって表現される。特にマークのエッジ位置が情報
を表す方法はマーク長記録と呼ばれる尚、マークは、過
去にピット又はビットと呼ばれたことがあるが、最近は
マークと呼ぶ。
り、この情報が「Ａ向き」の磁化を有するマーク（Ｂ1
）と、「逆Ａ向き」の磁化を有するマーク（Ｂ0 ）の
２つの信号で記録される。これらのマークＢ1 ，Ｂ0
は、デジタル信号の１，０の何れか一方と他方にそれぞ
れ相当する。しかし、一般には記録されるトラックの磁
化は、記録前に強力な外部磁場を印加することによって
「逆Ａ向き」に揃えられる。この磁化の向きを揃える行
為は、古い意味で「初期化* （initialize* ）」と呼ば
れる。その上でトラックに「Ａ向き」の磁化を有するマ
ーク（Ｂ1 ）を形成する。情報は、このマーク（Ｂ1 ）
の有無、位置、マークの前端位置、後端位置、マーク長
等によって表現される。特にマークのエッジ位置が情報
を表す方法はマーク長記録と呼ばれる尚、マークは、過
去にピット又はビットと呼ばれたことがあるが、最近は
マークと呼ぶ。
【０００６】ところで、記録ずみの媒体を再使用するに
は、 （１） 媒体を再び初期化* 装置で初期化* する
か、又は （２） 記録装置に記録ヘッドと同様な消去ヘ
ッドを併設するか、又は （３） 予め、前段処理として
記録装置又は消去装置を用いて記録ずみ情報を消去する
必要がある。従って、光磁気記録方式では、これまで、
記録ずみ情報の有無にかかわらず新たな情報をその場で
記録できるオーバーライトは、不可能とされていた。
は、 （１） 媒体を再び初期化* 装置で初期化* する
か、又は （２） 記録装置に記録ヘッドと同様な消去ヘ
ッドを併設するか、又は （３） 予め、前段処理として
記録装置又は消去装置を用いて記録ずみ情報を消去する
必要がある。従って、光磁気記録方式では、これまで、
記録ずみ情報の有無にかかわらず新たな情報をその場で
記録できるオーバーライトは、不可能とされていた。
【０００７】もっとも、もし記録磁界Ｈb の向きを必要
に応じて「Ａ向き」と「逆Ａ向き」との間で自由に変調
することができれば、オーバーライトが可能になる。し
かしながら、記録磁界Ｈb の向きを高速度で変調するこ
とは不可能である。例えば、記録磁界Ｈb が永久磁石で
ある場合、磁石の向きを機械的に反転させる必要があ
る。しかし、磁石の向きを高速で反転させることは、無
理である。記録磁界Ｈbが電磁石である場合にも、大容
量の電流の向きをそのように高速で変調することは不可
能である。
に応じて「Ａ向き」と「逆Ａ向き」との間で自由に変調
することができれば、オーバーライトが可能になる。し
かしながら、記録磁界Ｈb の向きを高速度で変調するこ
とは不可能である。例えば、記録磁界Ｈb が永久磁石で
ある場合、磁石の向きを機械的に反転させる必要があ
る。しかし、磁石の向きを高速で反転させることは、無
理である。記録磁界Ｈbが電磁石である場合にも、大容
量の電流の向きをそのように高速で変調することは不可
能である。
【０００８】しかしながら、技術の進歩は著しく、記録
磁界Ｈb の強度を変調せずに（ON、OFF を含む）又は記
録磁界Ｈb の向きを変調せずに、照射する光ビームの強
度を記録すべき２値化情報に従い変調するだけで、オー
バーライトが可能な光磁気記録方法と、それに使用され
るオーバーライト可能な光磁気記録媒体と、同じくそれ
に使用されるオーバーライト可能な記録装置が発明さ
れ、特許出願された（特開昭62−175948号＝DE3,619,61
8A1 ＝米国特許出願中 Ser.No453,255）。以下、この発
明を「基本発明」と引用する。 〔基本発明の説明〕基本発明では、「基本的に垂直磁化
可能な磁性薄膜からなる記録再生層 recording layer
（本明細書では、この記録再生層をメモリー層 Memory
layer 又はＭ層と言う）と、垂直磁化可能な磁性薄膜か
らなる記録補助層 reference layer（本明細書では、
この記録補助層をライティング層 Writing layer 又は
Ｗ層と言う）とを含み、両層は交換結合（exchange-cou
pled）しており、かつ、室温でＭ層の磁化の向きは変え
ないでＷ層の磁化のみを所定の向きに向けておくことが
できるオーバーライト可能な多層光磁気記録媒体」を使
用する。
磁界Ｈb の強度を変調せずに（ON、OFF を含む）又は記
録磁界Ｈb の向きを変調せずに、照射する光ビームの強
度を記録すべき２値化情報に従い変調するだけで、オー
バーライトが可能な光磁気記録方法と、それに使用され
るオーバーライト可能な光磁気記録媒体と、同じくそれ
に使用されるオーバーライト可能な記録装置が発明さ
れ、特許出願された（特開昭62−175948号＝DE3,619,61
8A1 ＝米国特許出願中 Ser.No453,255）。以下、この発
明を「基本発明」と引用する。 〔基本発明の説明〕基本発明では、「基本的に垂直磁化
可能な磁性薄膜からなる記録再生層 recording layer
（本明細書では、この記録再生層をメモリー層 Memory
layer 又はＭ層と言う）と、垂直磁化可能な磁性薄膜か
らなる記録補助層 reference layer（本明細書では、
この記録補助層をライティング層 Writing layer 又は
Ｗ層と言う）とを含み、両層は交換結合（exchange-cou
pled）しており、かつ、室温でＭ層の磁化の向きは変え
ないでＷ層の磁化のみを所定の向きに向けておくことが
できるオーバーライト可能な多層光磁気記録媒体」を使
用する。
【０００９】そして、情報をＭ層（場合によりＷ層に
も）における「Ａ向き」磁化を有するマークと「逆Ａ向
き」磁化を有するマークで表現し、記録するのである。
この媒体は、Ｗ層が外部手段（例えば初期補助磁界Ｈin
i.）によって、その磁化の向きを「Ａ向き」に揃えるこ
とができる。しかも、そのとき、Ｍ層は、磁化の向きは
反転せず、更に、一旦「Ａ向き」に揃えられたＷ層の磁
化の向きは、Ｍ層からの交換結合力を受けても反転せ
ず、逆にＭ層の磁化の向きは、「Ａ向き」に揃えられた
Ｗ層からの交換結合力を受けても反転しない。
も）における「Ａ向き」磁化を有するマークと「逆Ａ向
き」磁化を有するマークで表現し、記録するのである。
この媒体は、Ｗ層が外部手段（例えば初期補助磁界Ｈin
i.）によって、その磁化の向きを「Ａ向き」に揃えるこ
とができる。しかも、そのとき、Ｍ層は、磁化の向きは
反転せず、更に、一旦「Ａ向き」に揃えられたＷ層の磁
化の向きは、Ｍ層からの交換結合力を受けても反転せ
ず、逆にＭ層の磁化の向きは、「Ａ向き」に揃えられた
Ｗ層からの交換結合力を受けても反転しない。
【００１０】そして、Ｗ層は、Ｍ層に比べて低い保磁力
Ｈc と高いキュリー点Ｔc を持つ。基本発明の記録方法
によれば、記録媒体は、記録前までに、外部手段により
Ｗ層の磁化の向きだけが「Ａ向き」に揃えられる。この
行為を本明細書では特別に“初期化（initialize）”と
呼ぶ。この“初期化”はオーバーライト可能な媒体に特
有なことである。
Ｈc と高いキュリー点Ｔc を持つ。基本発明の記録方法
によれば、記録媒体は、記録前までに、外部手段により
Ｗ層の磁化の向きだけが「Ａ向き」に揃えられる。この
行為を本明細書では特別に“初期化（initialize）”と
呼ぶ。この“初期化”はオーバーライト可能な媒体に特
有なことである。
【００１１】その上で、２値化情報に従いパルス変調さ
れたレーザビームが媒体に照射される。レーザビームの
強度は、高レベルＰH と低レベルＰL があり、これはパ
ルスの高レベルと低レベルに相当する。この低レベル
は、再生時に媒体を照射する再生レベルＰr よりも高
い。既に知られているように、記録をしない時にも、例
えば媒体における所定の記録場所をアクセスするために
レーザビームを＜非常な低レベル＞で点灯することがあ
る。この＜非常な低レベル＞も、再生レベルＰr と同一
又は近似のレベルである。
れたレーザビームが媒体に照射される。レーザビームの
強度は、高レベルＰH と低レベルＰL があり、これはパ
ルスの高レベルと低レベルに相当する。この低レベル
は、再生時に媒体を照射する再生レベルＰr よりも高
い。既に知られているように、記録をしない時にも、例
えば媒体における所定の記録場所をアクセスするために
レーザビームを＜非常な低レベル＞で点灯することがあ
る。この＜非常な低レベル＞も、再生レベルＰr と同一
又は近似のレベルである。
【００１２】例えば、「Ａ向き」に“初期化（initiali
ze）”された媒体は、低レベルＰLのレーザビームの照
射を受けると、媒体の温度が向上してＭ層の保磁力Ｈc1
が非常に小さくなるか極端にはゼロになる。このとき、
Ｗ層の保磁力Ｈc2は十分に大きく、「逆Ａ向き」の記録
磁界Ｈb で反転されることはない。このとき、Ｗ層の力
が交換結合力を介してＭ層に及ぶ。そのため、非常に小
さい保磁力Ｈc1を持つＭ層の磁化は、Ｗ層によって支配
された所定の向き（例えば、「Ａ向き」）を向く。仮に
Ｍ層の磁化がゼロだった場合でもレーザビームの照射が
なくなり、媒体の温度が自然に低下してキュリー点Ｔc1
よりやや下がると、Ｍ層に磁化が現れる。このとき、同
様にＷ層の力が交換結合力を介してＭ層に及ぶ。そのた
め、Ｍ層に現れる磁化は、Ｗ層によって支配された所定
の向き（例えば、「Ａ向き」）を向く。この状態から室
温に戻るが、所定の向きが保たれる。但し、室温へ戻る
途中にＭ層、Ｗ層に補償温度があると、そこを越えたと
き、Ｍ層、Ｗ層の磁化の向きは逆転する。このプロセス
は低温サイクルと呼ばれる。
ze）”された媒体は、低レベルＰLのレーザビームの照
射を受けると、媒体の温度が向上してＭ層の保磁力Ｈc1
が非常に小さくなるか極端にはゼロになる。このとき、
Ｗ層の保磁力Ｈc2は十分に大きく、「逆Ａ向き」の記録
磁界Ｈb で反転されることはない。このとき、Ｗ層の力
が交換結合力を介してＭ層に及ぶ。そのため、非常に小
さい保磁力Ｈc1を持つＭ層の磁化は、Ｗ層によって支配
された所定の向き（例えば、「Ａ向き」）を向く。仮に
Ｍ層の磁化がゼロだった場合でもレーザビームの照射が
なくなり、媒体の温度が自然に低下してキュリー点Ｔc1
よりやや下がると、Ｍ層に磁化が現れる。このとき、同
様にＷ層の力が交換結合力を介してＭ層に及ぶ。そのた
め、Ｍ層に現れる磁化は、Ｗ層によって支配された所定
の向き（例えば、「Ａ向き」）を向く。この状態から室
温に戻るが、所定の向きが保たれる。但し、室温へ戻る
途中にＭ層、Ｗ層に補償温度があると、そこを越えたと
き、Ｍ層、Ｗ層の磁化の向きは逆転する。このプロセス
は低温サイクルと呼ばれる。
【００１３】他方、例えば、「Ａ向き」に“初期化（in
itialize）”された媒体は、高レベルＰH のレーザビー
ムの照射を受けると、媒体の温度が向上してＭ層の保磁
力Ｈc1はゼロになり、Ｗ層の保磁力Ｈc2は非常に小さく
なるか、極端にはゼロになる。そのため、非常に小さい
保磁力Ｈc2を持つＷ層の磁化は、記録磁界Ｈb に負けて
所定の向き（例えば、「逆Ａ向き」）を向く。仮にＷ層
の磁化がゼロだった場合でもレーザビームの照射がなく
なり、媒体の温度が自然に低下してキュリー点Ｔc2より
やや下がると、Ｗ層に磁化が現れるが、このとき、同様
に記録磁界Ｈbに負けて、Ｗ層の磁化は所定の向き（例
えば、「逆Ａ向き」）を向く。更に媒体の温度が冷えて
キュリー点Ｔc1よりやや下がると、Ｍ層に磁化が現れ
る。このとき、Ｗ層の力が交換結合力を介してＭ層に及
ぶ。そのため、Ｍ層に現れる磁化は、Ｗ層によって支配
された所定の向き（例えば、「逆Ａ向き」）を向く。こ
の状態から室温に戻るが、所定の向きが保たれる。但
し、室温へ戻る途中にＭ層、Ｗ層に補償温度があると、
そこを越えたとき、Ｍ層、Ｗ層の磁化の向きは逆転す
る。このプロセスは高温サイクルと呼ばれる。
itialize）”された媒体は、高レベルＰH のレーザビー
ムの照射を受けると、媒体の温度が向上してＭ層の保磁
力Ｈc1はゼロになり、Ｗ層の保磁力Ｈc2は非常に小さく
なるか、極端にはゼロになる。そのため、非常に小さい
保磁力Ｈc2を持つＷ層の磁化は、記録磁界Ｈb に負けて
所定の向き（例えば、「逆Ａ向き」）を向く。仮にＷ層
の磁化がゼロだった場合でもレーザビームの照射がなく
なり、媒体の温度が自然に低下してキュリー点Ｔc2より
やや下がると、Ｗ層に磁化が現れるが、このとき、同様
に記録磁界Ｈbに負けて、Ｗ層の磁化は所定の向き（例
えば、「逆Ａ向き」）を向く。更に媒体の温度が冷えて
キュリー点Ｔc1よりやや下がると、Ｍ層に磁化が現れ
る。このとき、Ｗ層の力が交換結合力を介してＭ層に及
ぶ。そのため、Ｍ層に現れる磁化は、Ｗ層によって支配
された所定の向き（例えば、「逆Ａ向き」）を向く。こ
の状態から室温に戻るが、所定の向きが保たれる。但
し、室温へ戻る途中にＭ層、Ｗ層に補償温度があると、
そこを越えたとき、Ｍ層、Ｗ層の磁化の向きは逆転す
る。このプロセスは高温サイクルと呼ばれる。
【００１４】以上の低温サイクル、高温サイクルは、Ｍ
層、Ｗ層の磁化の向きに無関係に、起こる。ともかく、
レーザビームの照射前にＷ層が“初期化（initializ
e）”されておれば良い。そのため、オーバーライトが
可能となる。基本発明では、レーザビームは、記録すべ
き情報に従いパルス状に変調される。しかし、このこと
自身は、従来の光磁気記録でも行われており、記録すべ
き２値化情報に従いビーム強度をパルス状に変調する手
段は既知の手段である。例えば、THE BELL SYSTEM T
ECHNICAL JOURNAL, Vol.62 (1983) ,1923 −1936に詳
しく説明されている。従って、ビーム強度の必要な高レ
ベルと低レベルが与えられれば、従来の変調手段を一部
修正するだけで容易に入手できる。当業者にとって、そ
のような修正は、ビーム強度の高レベルと低レベルが与
えられれば、容易であろう。
層、Ｗ層の磁化の向きに無関係に、起こる。ともかく、
レーザビームの照射前にＷ層が“初期化（initializ
e）”されておれば良い。そのため、オーバーライトが
可能となる。基本発明では、レーザビームは、記録すべ
き情報に従いパルス状に変調される。しかし、このこと
自身は、従来の光磁気記録でも行われており、記録すべ
き２値化情報に従いビーム強度をパルス状に変調する手
段は既知の手段である。例えば、THE BELL SYSTEM T
ECHNICAL JOURNAL, Vol.62 (1983) ,1923 −1936に詳
しく説明されている。従って、ビーム強度の必要な高レ
ベルと低レベルが与えられれば、従来の変調手段を一部
修正するだけで容易に入手できる。当業者にとって、そ
のような修正は、ビーム強度の高レベルと低レベルが与
えられれば、容易であろう。
【００１５】基本発明に於いて特徴的なことの１つは、
ビーム強度の高レベルと低レベルである。即ち、ビーム
強度が高レベルの時に、記録磁界Ｈb その他の外部手段
によりＷ層の「Ａ向き」磁化を「逆Ａ向き」に反転（re
verse ）させ、このＷ層の「逆Ａ向き」磁化によってＭ
層に「逆Ａ向き」磁化〔又は「Ａ向き」磁化〕を有する
マークを形成する。ビーム強度が低レベルの時は、Ｗ層
の磁化の向きは、“初期化”状態と変わらず、そして、
Ｗ層の作用（この作用は交換結合力を通じてＭ層に伝わ
る）によってＭ層に「Ａ向き」磁化〔又は「逆Ａ向き」
磁化〕を有するマークを形成する。
ビーム強度の高レベルと低レベルである。即ち、ビーム
強度が高レベルの時に、記録磁界Ｈb その他の外部手段
によりＷ層の「Ａ向き」磁化を「逆Ａ向き」に反転（re
verse ）させ、このＷ層の「逆Ａ向き」磁化によってＭ
層に「逆Ａ向き」磁化〔又は「Ａ向き」磁化〕を有する
マークを形成する。ビーム強度が低レベルの時は、Ｗ層
の磁化の向きは、“初期化”状態と変わらず、そして、
Ｗ層の作用（この作用は交換結合力を通じてＭ層に伝わ
る）によってＭ層に「Ａ向き」磁化〔又は「逆Ａ向き」
磁化〕を有するマークを形成する。
【００１６】なお、本明細書で、○○○〔又は△△△〕
という表現は、先に〔 〕の外の○○○を読んだときに
は、以下の○○○〔又は△△△〕のときにも、〔 〕の
外の○○○を読むことにする。それに対して先に○○○
を読まずに〔 〕内の△△△の方を選択して読んだとき
には、以下の○○○〔又は△△△〕のときにも○○○を
読まずに〔 〕内の△△△を読むものとする。
という表現は、先に〔 〕の外の○○○を読んだときに
は、以下の○○○〔又は△△△〕のときにも、〔 〕の
外の○○○を読むことにする。それに対して先に○○○
を読まずに〔 〕内の△△△の方を選択して読んだとき
には、以下の○○○〔又は△△△〕のときにも○○○を
読まずに〔 〕内の△△△を読むものとする。
【００１７】基本発明で使用される媒体は、第１実施態
様と第２実施態様とに大別される。いずれの実施態様に
おいても、記録媒体は、Ｍ層とＷ層を含む多層構造を有
する。Ｍ層は、室温で保磁力が高く磁化反転温度が低い
磁性層である。Ｗ層はＭ層に比べ相対的に室温で保磁力
が低く磁化反転温度が高い磁性層である。なお、Ｍ層と
Ｗ層ともに、それ自体多層膜から構成されていてもよ
い。場合によりＭ層とＷ層との間に中間層（例えば、交
換結合力σW 調整層・・・・以下、この層をInt.層と略
す）が存在していてもよい。Int.層については、特開昭
64−50257 号や特開平１−273248号を参照されたい。ま
た、オーバーライト可能な光磁気記録については、その
他、特開平４−123339号や特開平４−134741号など多く
の資料が出されているので、ここでは、これ以上の説明
を省く。なお、特開平４−123339号に開示された４層構
造のディスクは、Ｍ層、Ｗ層の他に、“初期化”層（In
itializing layer：以下、Ｉ層と略す）、Ｉ層とＷ層と
の間に両層の間の交換結合をオン・オフするスイッチン
グ層（Swithing layer：以下：Ｓ層と略す）を持つ。
様と第２実施態様とに大別される。いずれの実施態様に
おいても、記録媒体は、Ｍ層とＷ層を含む多層構造を有
する。Ｍ層は、室温で保磁力が高く磁化反転温度が低い
磁性層である。Ｗ層はＭ層に比べ相対的に室温で保磁力
が低く磁化反転温度が高い磁性層である。なお、Ｍ層と
Ｗ層ともに、それ自体多層膜から構成されていてもよ
い。場合によりＭ層とＷ層との間に中間層（例えば、交
換結合力σW 調整層・・・・以下、この層をInt.層と略
す）が存在していてもよい。Int.層については、特開昭
64−50257 号や特開平１−273248号を参照されたい。ま
た、オーバーライト可能な光磁気記録については、その
他、特開平４−123339号や特開平４−134741号など多く
の資料が出されているので、ここでは、これ以上の説明
を省く。なお、特開平４−123339号に開示された４層構
造のディスクは、Ｍ層、Ｗ層の他に、“初期化”層（In
itializing layer：以下、Ｉ層と略す）、Ｉ層とＷ層と
の間に両層の間の交換結合をオン・オフするスイッチン
グ層（Swithing layer：以下：Ｓ層と略す）を持つ。
【００１８】このようなオーバーライトにおいて、変調
されない低レベルＰL のレーザビームでディスクを照射
すると、前の情報は消去されるので、この行為を消去と
呼んでも違和感はない。こうして消去された後に、記録
すべき情報に従って、低レベルＰL と高レベルＰH との
間でパルス変調されたレーザビームを照射することによ
り、マークを形成し、情報を記録したとする。このマー
クを特にマークH と呼ぶ。こうして考えると、オーバー
ライトにおいても、レーザビームの波形自身は従来法
（非オーバーライト）と変わりない。高レベルＰH の値
は従来法の高いレベル（第１レベル）と同じように見え
る。ただ、低レベルＰL はゼロでは低温サイクルが起き
ないので、この点で従来法の低いレベル（第２レベル）
とは異なる。
されない低レベルＰL のレーザビームでディスクを照射
すると、前の情報は消去されるので、この行為を消去と
呼んでも違和感はない。こうして消去された後に、記録
すべき情報に従って、低レベルＰL と高レベルＰH との
間でパルス変調されたレーザビームを照射することによ
り、マークを形成し、情報を記録したとする。このマー
クを特にマークH と呼ぶ。こうして考えると、オーバー
ライトにおいても、レーザビームの波形自身は従来法
（非オーバーライト）と変わりない。高レベルＰH の値
は従来法の高いレベル（第１レベル）と同じように見え
る。ただ、低レベルＰL はゼロでは低温サイクルが起き
ないので、この点で従来法の低いレベル（第２レベル）
とは異なる。
【００１９】ここで、一般的な光記録の記録方法及び記
録装置について説明する。光記録装置は、主として、レ
ーザビーム光源、該光源からレーザビームを光ディスク
に照射する照射光学系、レーザビーム強度を記録すべき
情報に従い変調する変調手段、並びに光ディスクの回転
手段からなる。光磁気記録装置の場合には、更にビーム
の照射位置に記録磁界Ｈb を印加する磁気手段が付加さ
れる。また、使用される記録媒体がオーバーライト可能
な光磁気ディスクであり、特開平４−123339号に開示さ
れた“初期化”層（Initializing layer）を持つディス
クではない場合には、初期化補助磁界Ｈini.印加手段が
記録装置に付加される。
録装置について説明する。光記録装置は、主として、レ
ーザビーム光源、該光源からレーザビームを光ディスク
に照射する照射光学系、レーザビーム強度を記録すべき
情報に従い変調する変調手段、並びに光ディスクの回転
手段からなる。光磁気記録装置の場合には、更にビーム
の照射位置に記録磁界Ｈb を印加する磁気手段が付加さ
れる。また、使用される記録媒体がオーバーライト可能
な光磁気ディスクであり、特開平４−123339号に開示さ
れた“初期化”層（Initializing layer）を持つディス
クではない場合には、初期化補助磁界Ｈini.印加手段が
記録装置に付加される。
【００２０】光記録はレーザビームの熱的性質を専ら利
用する（ヒートモード）ので、原理的には、レーザビー
ム強度を相対的に高い第１レベルと相対的に低い基底レ
ベル（第２レベル）との間でパルス変調すればよく、第
１レベルのとき、マークが形成され、第２レベルのと
き、マークは形成されない。つまり、１つのパルスで１
つのマークが形成される。第２レベルはマークを形成し
ないので、第２レベルはゼロでもよい。しかし、マーク
を形成したいとき、言い換えれば、マークの前エッジを
形成したいとき、形成直前のディスク温度状態を、常に
積極的に一定温度状態に保っておくことが好ましい。そ
うしないと、前エッジ位置が形成直前の温度状態に依存
して変動することになる。変動は、高密度で記録しよう
とすると、障害となる。そこで、光ディスクを所定の温
度Θpre に余熱してプレヒート状態にしておくことが好
ましく、第２レベルはこのプレヒート状態（温度Θpre
）を保つ強度Ｐpre とすることが一般的である。温度
Θpre は、マーク形成直前のディスクの温度が、ビーム
のピーク温度位置又はスポット中心位置で記録する情報
（データ）パターンによらず一定の温度であり、Ｐpre
は以下の式で示される。
用する（ヒートモード）ので、原理的には、レーザビー
ム強度を相対的に高い第１レベルと相対的に低い基底レ
ベル（第２レベル）との間でパルス変調すればよく、第
１レベルのとき、マークが形成され、第２レベルのと
き、マークは形成されない。つまり、１つのパルスで１
つのマークが形成される。第２レベルはマークを形成し
ないので、第２レベルはゼロでもよい。しかし、マーク
を形成したいとき、言い換えれば、マークの前エッジを
形成したいとき、形成直前のディスク温度状態を、常に
積極的に一定温度状態に保っておくことが好ましい。そ
うしないと、前エッジ位置が形成直前の温度状態に依存
して変動することになる。変動は、高密度で記録しよう
とすると、障害となる。そこで、光ディスクを所定の温
度Θpre に余熱してプレヒート状態にしておくことが好
ましく、第２レベルはこのプレヒート状態（温度Θpre
）を保つ強度Ｐpre とすることが一般的である。温度
Θpre は、マーク形成直前のディスクの温度が、ビーム
のピーク温度位置又はスポット中心位置で記録する情報
（データ）パターンによらず一定の温度であり、Ｐpre
は以下の式で示される。
【００２１】 Θpre ＝Ａ×Ｐpre ×｛１−exp(−∞／τ）｝＋ΘA ・・・式（３） 但し、Ａ（℃／ｍＷ）は、当該ディスクとスポットと記
録線速度によって決定されるレーザビーム強度の熱効率
であり、ΘA （℃）はビームを全く照射していない状態
でのディスク温度である。マークの形成方法の第１は、
単純に１つのパルスで１つのマークを形成する方法であ
る。図１３は、この第１の方法で１つのマークを形成す
る場合のレーザビーム強度の波形図である。図１３に示
すように、マーク形成を開始すべくレーザビーム強度を
基底レベル（第２レベル）Ｐpre から立ち上げ、立ち上
げた強度（第１レベル）ＰW1を半値幅で時間ＴW1維持し
た後、Ｐpre に立ち下げるパルス波形となる。この場合
には、マーク長が長くなったとき、熱蓄積による弊害が
でる。その弊害とは、マーク形成を終了すべくレーザビ
ーム強度をＰpre に立ち下げても、それまでの熱蓄積が
あるので、媒体温度がマーク形成開始温度以下になかな
か下がらない。そのため、マーク長さが不用意に長くな
ってしまったり、マークの幅が不用意に太くなることで
ある。この弊害を「マーク形成の終了位置、つまりマー
クの後ろエッジ位置の、記録データパターン依存性」と
言う。この依存性は、高密度記録にとって障害になり、
データの弁別性を低下させる。
録線速度によって決定されるレーザビーム強度の熱効率
であり、ΘA （℃）はビームを全く照射していない状態
でのディスク温度である。マークの形成方法の第１は、
単純に１つのパルスで１つのマークを形成する方法であ
る。図１３は、この第１の方法で１つのマークを形成す
る場合のレーザビーム強度の波形図である。図１３に示
すように、マーク形成を開始すべくレーザビーム強度を
基底レベル（第２レベル）Ｐpre から立ち上げ、立ち上
げた強度（第１レベル）ＰW1を半値幅で時間ＴW1維持し
た後、Ｐpre に立ち下げるパルス波形となる。この場合
には、マーク長が長くなったとき、熱蓄積による弊害が
でる。その弊害とは、マーク形成を終了すべくレーザビ
ーム強度をＰpre に立ち下げても、それまでの熱蓄積が
あるので、媒体温度がマーク形成開始温度以下になかな
か下がらない。そのため、マーク長さが不用意に長くな
ってしまったり、マークの幅が不用意に太くなることで
ある。この弊害を「マーク形成の終了位置、つまりマー
クの後ろエッジ位置の、記録データパターン依存性」と
言う。この依存性は、高密度記録にとって障害になり、
データの弁別性を低下させる。
【００２２】マーク形成方法の第２は、この問題を幾分
か解決するものである。図１４は、この第２の方法で１
つのマークを形成する場合のレーザビーム強度の波形図
である。図１４に示すように、マークを形成すべく、光
記録媒体に照射するレーザビーム強度を、Ｐpre からＰ
pre より高い強度ＰW1へ立ち上げ、ＰW1を時間ＴW1維持
した後ＰW1より低い強度ＰLTに立ち下げ、その後ＰLTと
ＰLTより高い強度ＰW2との間で強度変調させるのであ
る。ＰW2を維持する時間はＴW2、ＰLTとＰW2との間で強
度変調させる際の変調周期はＴp である。この方式は、
本来１つのパルスであるべき波形（図１３参照）が、先
頭の小パルスと１又は２以上の後続の小パルスとからな
る波形となっており、パルストレイン（pulse train ）
方式と呼ばれる。この場合には、マーク形成中の光ディ
スクのレーザビーム照射位置の温度は、一般に、高い温
度付近で上下に変動する。
か解決するものである。図１４は、この第２の方法で１
つのマークを形成する場合のレーザビーム強度の波形図
である。図１４に示すように、マークを形成すべく、光
記録媒体に照射するレーザビーム強度を、Ｐpre からＰ
pre より高い強度ＰW1へ立ち上げ、ＰW1を時間ＴW1維持
した後ＰW1より低い強度ＰLTに立ち下げ、その後ＰLTと
ＰLTより高い強度ＰW2との間で強度変調させるのであ
る。ＰW2を維持する時間はＴW2、ＰLTとＰW2との間で強
度変調させる際の変調周期はＴp である。この方式は、
本来１つのパルスであるべき波形（図１３参照）が、先
頭の小パルスと１又は２以上の後続の小パルスとからな
る波形となっており、パルストレイン（pulse train ）
方式と呼ばれる。この場合には、マーク形成中の光ディ
スクのレーザビーム照射位置の温度は、一般に、高い温
度付近で上下に変動する。
【００２３】他方、高密度記録の場合、次のマークの開
始位置が、前のマークの終了位置に依存して変動してし
まう問題があった。このことを「マーク形成の開始位
置、つまりマークの前エッジ位置の、記録データパター
ン依存性」と言う。この問題を解決するため、マーク形
成を終了すべくレーザビーム強度を立ち下げるとき、一
旦、Ｐpre より低いＰLBに下げて、時間Ｔoff 後Ｐpre
に立ち上げる光記録方式が提案された。図１１、図１２
は、この方式で１つのマークを形成する場合のレーザビ
ーム強度の波形図である。図１１は１つのパルスで１つ
マークを形成する場合であり、図１２はパルストレイン
方式でマークを形成する場合である。この方式では、前
のマーク長さがどんなであっても、次のマーク形成は所
定の位置から開始される。つまり、次のマークにとって
は、前のマークからの熱的影響が遮断されている訳であ
る。このように熱的影響が遮断される条件のことを「熱
遮断条件」と呼び、これはＰpre とＰLBとＴoff で示さ
れる。
始位置が、前のマークの終了位置に依存して変動してし
まう問題があった。このことを「マーク形成の開始位
置、つまりマークの前エッジ位置の、記録データパター
ン依存性」と言う。この問題を解決するため、マーク形
成を終了すべくレーザビーム強度を立ち下げるとき、一
旦、Ｐpre より低いＰLBに下げて、時間Ｔoff 後Ｐpre
に立ち上げる光記録方式が提案された。図１１、図１２
は、この方式で１つのマークを形成する場合のレーザビ
ーム強度の波形図である。図１１は１つのパルスで１つ
マークを形成する場合であり、図１２はパルストレイン
方式でマークを形成する場合である。この方式では、前
のマーク長さがどんなであっても、次のマーク形成は所
定の位置から開始される。つまり、次のマークにとって
は、前のマークからの熱的影響が遮断されている訳であ
る。このように熱的影響が遮断される条件のことを「熱
遮断条件」と呼び、これはＰpre とＰLBとＴoff で示さ
れる。
【００２４】パルストレイン方式で記録を行う場合、マ
ークの書き始め、すなわちマークの前エッジを形成する
ときに、形成直前のディスク温度状態を常に積極的に一
定に保っておく必要があり、その方法として、上記熱遮
断方式は非常に有効である。従って、パルストレイン方
式は、熱遮断方式と合わせて使用することが望ましい。
ークの書き始め、すなわちマークの前エッジを形成する
ときに、形成直前のディスク温度状態を常に積極的に一
定に保っておく必要があり、その方法として、上記熱遮
断方式は非常に有効である。従って、パルストレイン方
式は、熱遮断方式と合わせて使用することが望ましい。
【００２５】オーバーライト法で記録を行う場合、レー
ザビーム強度の変調は、前述の一般的な光記録方法と同
様に行えば良い。この時、相対的に高い第１レベルがＰ
H に、相対的に低い第２レベルがＰL に相当する。従
来、オーバーライト法でマークを形成する場合、一般的
な光記録方法における第１のマーク形成方法、すなわ
ち、単純に１つのパルスで１つのマークを形成する方法
で行っていた。
ザビーム強度の変調は、前述の一般的な光記録方法と同
様に行えば良い。この時、相対的に高い第１レベルがＰ
H に、相対的に低い第２レベルがＰL に相当する。従
来、オーバーライト法でマークを形成する場合、一般的
な光記録方法における第１のマーク形成方法、すなわ
ち、単純に１つのパルスで１つのマークを形成する方法
で行っていた。
【００２６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
如く、単純に１つのパルスで１つのマークを形成する方
法で記録を行うと、オーバーライト法においても、一般
的な光記録法の場合と同様に、「マークの後ろエッジ位
置の記録データパターン依存性」及び「マークの前エッ
ジ位置の記録データパターン依存性」が現れて、高密度
記録の障害となっていた。
如く、単純に１つのパルスで１つのマークを形成する方
法で記録を行うと、オーバーライト法においても、一般
的な光記録法の場合と同様に、「マークの後ろエッジ位
置の記録データパターン依存性」及び「マークの前エッ
ジ位置の記録データパターン依存性」が現れて、高密度
記録の障害となっていた。
【００２７】本発明は、「マークの後ろエッジ位置の記
録データパターン依存性」及び「マークの前エッジ位置
の記録データパターン依存性」を小さくすることができ
る記録条件決定方法、同記録条件決定装置、光磁気記録
方法及び光磁気記録装置を提供することを目的とする。
録データパターン依存性」及び「マークの前エッジ位置
の記録データパターン依存性」を小さくすることができ
る記録条件決定方法、同記録条件決定装置、光磁気記録
方法及び光磁気記録装置を提供することを目的とする。
【００２８】
【課題を解決するための手段】前記問題点を解決するた
め、本発明者らは、オーバーライト法での記録方式に前
記熱遮断方式及び前記パルストレイン方式を適用した。
この時、前記強度ＰLを、プレヒート状態を保つレーザ
ビーム強度Ｐpre に対応させ、かつ、高温サイクルを生
じさせない強度である上限と、高温サイクルにより形成
されたマークHを消去できる強度である下限との間の強
度から選択するように制御した。
め、本発明者らは、オーバーライト法での記録方式に前
記熱遮断方式及び前記パルストレイン方式を適用した。
この時、前記強度ＰLを、プレヒート状態を保つレーザ
ビーム強度Ｐpre に対応させ、かつ、高温サイクルを生
じさせない強度である上限と、高温サイクルにより形成
されたマークHを消去できる強度である下限との間の強
度から選択するように制御した。
【００２９】ここで、一般的な光記録法における熱遮断
条件及びパルストレイン条件は、従来、欧州コンピュー
タ製造業者連合（EUROPEAN COMPUTER MANUFACTURERS AS
SOCIA TION ：ECMAと略す）の規格書 ECMA ／TC31／92
／36文書の第87頁（図１５参照）にも示されているよう
に、ＰLBは再生時のレーザビーム強度Ｐr と等しく、Ｐ
LT はプレヒート状態（温度Θpre ）を保つ強度Ｐpre
と等しく、Ｔoff は書き込みクロック周期Ｔに等しく、
ＴW2は書き込みクロック周期Ｔの２分の１と決められて
いる。また、ＰW2は、予め決定しておいた最適なＰW1と
Ｐpre を用いて、ランダムパターンを記録し、「マーク
の後ろエッジ位置の、記録データパターン依存性」が最
小になる値として決められている。
条件及びパルストレイン条件は、従来、欧州コンピュー
タ製造業者連合（EUROPEAN COMPUTER MANUFACTURERS AS
SOCIA TION ：ECMAと略す）の規格書 ECMA ／TC31／92
／36文書の第87頁（図１５参照）にも示されているよう
に、ＰLBは再生時のレーザビーム強度Ｐr と等しく、Ｐ
LT はプレヒート状態（温度Θpre ）を保つ強度Ｐpre
と等しく、Ｔoff は書き込みクロック周期Ｔに等しく、
ＴW2は書き込みクロック周期Ｔの２分の１と決められて
いる。また、ＰW2は、予め決定しておいた最適なＰW1と
Ｐpre を用いて、ランダムパターンを記録し、「マーク
の後ろエッジ位置の、記録データパターン依存性」が最
小になる値として決められている。
【００３０】しかしながら本発明者らは、オーバーライ
ト法にこれら固定された記録条件をそのまま採用した場
合、使用する光磁気ディスクによっては、最適な記録条
件が得られないことを発見した。本発明者らは、鋭意研
究を進めた結果、光磁気ディスクごとに熱時定数τが異
なることから、τを考慮して最適な記録条件（熱遮断条
件及びパルストレイン条件）を決定する方法、同決定装
置を発明した。また、決定された記録条件を用いて、オ
ーバーライトする方法（光磁気記録法）、オーバーライ
ト可能な光磁気記録装置等も発明した。
ト法にこれら固定された記録条件をそのまま採用した場
合、使用する光磁気ディスクによっては、最適な記録条
件が得られないことを発見した。本発明者らは、鋭意研
究を進めた結果、光磁気ディスクごとに熱時定数τが異
なることから、τを考慮して最適な記録条件（熱遮断条
件及びパルストレイン条件）を決定する方法、同決定装
置を発明した。また、決定された記録条件を用いて、オ
ーバーライトする方法（光磁気記録法）、オーバーライ
ト可能な光磁気記録装置等も発明した。
【００３１】即ち、本発明は、第１に、オーバーライト
可能な光磁気ディスクに照射するレーザビーム強度を、
ＰL からＰL より高い強度ＰH へ立ち上げ、ＰH を時間
ＴW1維持した後ＰH より低い強度ＰLTに立ち下げ、その
後ＰLTとＰLTより高い強度ＰW2との間で周期Ｔp で強度
変調させて前記光磁気ディスクに高温サイクルによりマ
ークを形成し、その後ＰLより低い強度ＰLBに立ち下
げ、時間Ｔoff 後ＰL に立ち上げる光磁気記録方法であ
って、前記ＰL は前記光磁気ディスク上の温度がある一
定温度Θpre となるプレヒート状態を保つレーザビーム
強度であり、かつ、高温サイクルを生じさせない強度で
ある上限と、高温サイクルにより形成されたマークを消
去できる強度である下限との間の強度から選択され、前
記ＰL 、Ｔoff 及びＰLBのうちの少なくとも１つを制御
することにより、次のマークを形成すべく再度ＰH に立
ち上げるまでの時間内にプレヒート状態とし、かつ、前
記ＰW2、ＰLT及びＰW2を維持する時間ＴW2のうちの少な
くとも１つを制御することにより、前記光磁気ディスク
面上に照射されたレーザビームのピーク温度位置又はス
ポット中心位置での温度を、ＴW1経過時とＴW2経過時と
で等しくすることを特徴とする光磁気記録方法を提供す
る。
可能な光磁気ディスクに照射するレーザビーム強度を、
ＰL からＰL より高い強度ＰH へ立ち上げ、ＰH を時間
ＴW1維持した後ＰH より低い強度ＰLTに立ち下げ、その
後ＰLTとＰLTより高い強度ＰW2との間で周期Ｔp で強度
変調させて前記光磁気ディスクに高温サイクルによりマ
ークを形成し、その後ＰLより低い強度ＰLBに立ち下
げ、時間Ｔoff 後ＰL に立ち上げる光磁気記録方法であ
って、前記ＰL は前記光磁気ディスク上の温度がある一
定温度Θpre となるプレヒート状態を保つレーザビーム
強度であり、かつ、高温サイクルを生じさせない強度で
ある上限と、高温サイクルにより形成されたマークを消
去できる強度である下限との間の強度から選択され、前
記ＰL 、Ｔoff 及びＰLBのうちの少なくとも１つを制御
することにより、次のマークを形成すべく再度ＰH に立
ち上げるまでの時間内にプレヒート状態とし、かつ、前
記ＰW2、ＰLT及びＰW2を維持する時間ＴW2のうちの少な
くとも１つを制御することにより、前記光磁気ディスク
面上に照射されたレーザビームのピーク温度位置又はス
ポット中心位置での温度を、ＴW1経過時とＴW2経過時と
で等しくすることを特徴とする光磁気記録方法を提供す
る。
【００３２】また、本発明は、第２に、オーバーライト
可能な光磁気ディスクに照射するレーザビーム強度を、
ＰL からＰL より高い強度ＰH へ立ち上げ、ＰH を時間
ＴW1維持した後ＰH より低い強度ＰLTに立ち下げ、その
後ＰLTとＰLTより高い強度ＰW2との間で周期Ｔp で強度
変調させて前記光磁気ディスクに高温サイクルによりマ
ークを形成し、その後ＰL より低い強度ＰLBに立ち下
げ、時間Ｔoff 後ＰL に立ち上げる光磁気記録方法であ
って、前記ＰL は前記光磁気ディスク上の温度がある一
定温度Θpre となるプレヒート状態を保つレーザビーム
強度であり、かつ、高温サイクルを生じさせない強度で
ある上限と、高温サイクルにより形成されたマークを消
去できる強度である下限との間の強度から選択され、前
記各値を下記式（１）及び式（２）を満足する組合せと
して求めることを特徴とする光磁気記録方法を提供す
る。 Ｔoff ＝τ×ln[{(ＰH -ＰLB)-(ＰH -ＰL )×exp(-ＴW1/τ)}÷(ＰL -ＰLB)] ・・・・・式（１） (ＰH -ＰL )×{１-exp(-ＴW1／τ)}×{１-exp(-Ｔp ／τ)} ＝(ＰLT-ＰL )×{１-exp(-Ｔp ／τ)}+(ＰW2-ＰLT)×{１-exp(-ＴW2／τ)} ・・・・・式（２） （τ；前記光磁気ディスクの熱時定数、ＴW2；ＰW2を維
持する時間） また、本発明は、第３に、周期が２ｑＴ（ｑ；最小ラン
・レングス・リミット・ナンバーに１を加えた値、Ｔ；
書き込みクロック周期）である「高温サイクルによりマ
ークの形成を開始すべくレーザビーム強度をＰL'からＰ
L'より高い強度ＰH'に立ち上げ、ＰH'を時間ＴW1' 維持
した後、ＰL'より低いＰLB' に下げて、そのＰLB' を所
定時間Ｔoff' 維持した後、ＰL'に立ち上げ、ＰL'を所
定時間維持する指標パルス（１）」を前記光磁気ディス
クに記録し再生した場合に、再生信号のデューティ比が
５０％となるような前記指標パルス（１）のＰL'、Ｐ
H'、ＰLB' 、ＴW1' 及びＴoff'を、それぞれ前記ＰL 、
ＰH 、ＰLB、ＴW1及びＴoffとすることを特徴とする請
求項１又は請求項２記載の光磁気記録方法」を提供す
る。
可能な光磁気ディスクに照射するレーザビーム強度を、
ＰL からＰL より高い強度ＰH へ立ち上げ、ＰH を時間
ＴW1維持した後ＰH より低い強度ＰLTに立ち下げ、その
後ＰLTとＰLTより高い強度ＰW2との間で周期Ｔp で強度
変調させて前記光磁気ディスクに高温サイクルによりマ
ークを形成し、その後ＰL より低い強度ＰLBに立ち下
げ、時間Ｔoff 後ＰL に立ち上げる光磁気記録方法であ
って、前記ＰL は前記光磁気ディスク上の温度がある一
定温度Θpre となるプレヒート状態を保つレーザビーム
強度であり、かつ、高温サイクルを生じさせない強度で
ある上限と、高温サイクルにより形成されたマークを消
去できる強度である下限との間の強度から選択され、前
記各値を下記式（１）及び式（２）を満足する組合せと
して求めることを特徴とする光磁気記録方法を提供す
る。 Ｔoff ＝τ×ln[{(ＰH -ＰLB)-(ＰH -ＰL )×exp(-ＴW1/τ)}÷(ＰL -ＰLB)] ・・・・・式（１） (ＰH -ＰL )×{１-exp(-ＴW1／τ)}×{１-exp(-Ｔp ／τ)} ＝(ＰLT-ＰL )×{１-exp(-Ｔp ／τ)}+(ＰW2-ＰLT)×{１-exp(-ＴW2／τ)} ・・・・・式（２） （τ；前記光磁気ディスクの熱時定数、ＴW2；ＰW2を維
持する時間） また、本発明は、第３に、周期が２ｑＴ（ｑ；最小ラン
・レングス・リミット・ナンバーに１を加えた値、Ｔ；
書き込みクロック周期）である「高温サイクルによりマ
ークの形成を開始すべくレーザビーム強度をＰL'からＰ
L'より高い強度ＰH'に立ち上げ、ＰH'を時間ＴW1' 維持
した後、ＰL'より低いＰLB' に下げて、そのＰLB' を所
定時間Ｔoff' 維持した後、ＰL'に立ち上げ、ＰL'を所
定時間維持する指標パルス（１）」を前記光磁気ディス
クに記録し再生した場合に、再生信号のデューティ比が
５０％となるような前記指標パルス（１）のＰL'、Ｐ
H'、ＰLB' 、ＴW1' 及びＴoff'を、それぞれ前記ＰL 、
ＰH 、ＰLB、ＴW1及びＴoffとすることを特徴とする請
求項１又は請求項２記載の光磁気記録方法」を提供す
る。
【００３３】また、本発明は、第４に、「高温サイクル
によりマークの形成を開始すべくレーザビーム強度をＰ
L"からＰL"より高い強度ＰH"に立ち上げ、ＰH"を時間Ｔ
W1"維持した後ＰH"より低い強度ＰLT" に立ち下げ、そ
の後ＰLT" とＰLT" より高い強度ＰW2" との間で周期Ｔ
p"で強度変調させてマークの形成を続け、最後にマーク
の形成を終了すべくＰL"より低いＰLB" に下げて、その
ＰLB" を所定時間Ｔoff" 維持した後、ＰL"に立ち上げ
る指標パルス（２）」により、前記光磁気ディスクに
「長いマーク−短い間隔−長いマーク」であるパターン
（最密パターン）と「長い間隔−短いマーク−長い間
隔」であるパターン（最粗パターン）のそれぞれを記録
し、再生した場合に得られる再生信号のスライスレベル
が共通となるような前記指標パルス（２）のＰL"、Ｐ
H"、ＰW2" 、ＰLT" 、ＰLB" 、ＴW1" 、Ｔp"、Ｔoff"及
びＰW2" を維持する時間ＴW2" をそれぞれ前記ＰL 、Ｐ
H 、ＰW2、ＰLT、ＰLB、ＴW1、Ｔp 、Ｔoff 及びＴW2と
することを特徴とする請求項１又は請求項２記載の光磁
気記録方法を提供する。
によりマークの形成を開始すべくレーザビーム強度をＰ
L"からＰL"より高い強度ＰH"に立ち上げ、ＰH"を時間Ｔ
W1"維持した後ＰH"より低い強度ＰLT" に立ち下げ、そ
の後ＰLT" とＰLT" より高い強度ＰW2" との間で周期Ｔ
p"で強度変調させてマークの形成を続け、最後にマーク
の形成を終了すべくＰL"より低いＰLB" に下げて、その
ＰLB" を所定時間Ｔoff" 維持した後、ＰL"に立ち上げ
る指標パルス（２）」により、前記光磁気ディスクに
「長いマーク−短い間隔−長いマーク」であるパターン
（最密パターン）と「長い間隔−短いマーク−長い間
隔」であるパターン（最粗パターン）のそれぞれを記録
し、再生した場合に得られる再生信号のスライスレベル
が共通となるような前記指標パルス（２）のＰL"、Ｐ
H"、ＰW2" 、ＰLT" 、ＰLB" 、ＴW1" 、Ｔp"、Ｔoff"及
びＰW2" を維持する時間ＴW2" をそれぞれ前記ＰL 、Ｐ
H 、ＰW2、ＰLT、ＰLB、ＴW1、Ｔp 、Ｔoff 及びＴW2と
することを特徴とする請求項１又は請求項２記載の光磁
気記録方法を提供する。
【００３４】また、本発明は、第５に、周期が２ｑＴ
（ｑ；最小ラン・レングス・リミット・ナンバーに１を
加えた値、Ｔ；書き込みクロック周期）である「高温サ
イクルによりマークの形成を開始すべくレーザビーム強
度をＰL'からＰL'より高い強度ＰH'に立ち上げ、ＰH'を
時間ＴW1' 維持した後、ＰL'より低いＰLB' に下げて、
そのＰLB' を所定時間Ｔoff' 維持した後、ＰL'に立ち
上げ、ＰL'を所定時間維持する指標パルス（１）」を前
記光磁気ディスクに記録し再生した場合に、再生信号の
デューティ比が５０％となるような前記指標パルス
（１）のＰL'、ＰH'、ＰLB' 、ＴW1' 及びＴoff'を、そ
れぞれＰL"、ＰH"、ＰLB" 、ＴW1" 及びＴoff"とし、
「高温サイクルによりマークの形成を開始すべくレーザ
ビーム強度をＰL"からＰL"より高い強度ＰH"に立ち上
げ、ＰH"を時間ＴW1" 維持した後ＰH"より低い強度ＰL
T" に立ち下げ、その後ＰLT" とＰLT" より高い強度ＰW
2" との間で周期Ｔp"で強度変調させてマークの形成を
続け、最後にマークの形成を終了すべくＰL"より低いＰ
LB" に下げて、そのＰLB" を所定時間Ｔoff"維持した
後、ＰL"に立ち上げる指標パルス（３）」により、前記
光磁気ディスクに「長いマーク−短い間隔−長いマー
ク」であるパターン（最密パターン）と「長い間隔−短
いマーク−長い間隔」であるパターン（最粗パターン）
のそれぞれを記録し、再生した場合に得られる再生信号
のスライスレベルが共通となるような前記指標パルス
（３）のＰL"、ＰH"、ＰW2" 、ＰLT" 、ＰLB" 、ＴW1"
、Ｔp"、Ｔoff"及びＰW2"を維持する時間ＴW2" をそれ
ぞれ前記ＰL 、ＰH 、ＰW2、ＰLT、ＰLB、ＴW1、Ｔp 、
Ｔoff 及びＴW2とすることを特徴とする請求項１又は請
求項２記載の光磁気記録方法を提供する。
（ｑ；最小ラン・レングス・リミット・ナンバーに１を
加えた値、Ｔ；書き込みクロック周期）である「高温サ
イクルによりマークの形成を開始すべくレーザビーム強
度をＰL'からＰL'より高い強度ＰH'に立ち上げ、ＰH'を
時間ＴW1' 維持した後、ＰL'より低いＰLB' に下げて、
そのＰLB' を所定時間Ｔoff' 維持した後、ＰL'に立ち
上げ、ＰL'を所定時間維持する指標パルス（１）」を前
記光磁気ディスクに記録し再生した場合に、再生信号の
デューティ比が５０％となるような前記指標パルス
（１）のＰL'、ＰH'、ＰLB' 、ＴW1' 及びＴoff'を、そ
れぞれＰL"、ＰH"、ＰLB" 、ＴW1" 及びＴoff"とし、
「高温サイクルによりマークの形成を開始すべくレーザ
ビーム強度をＰL"からＰL"より高い強度ＰH"に立ち上
げ、ＰH"を時間ＴW1" 維持した後ＰH"より低い強度ＰL
T" に立ち下げ、その後ＰLT" とＰLT" より高い強度ＰW
2" との間で周期Ｔp"で強度変調させてマークの形成を
続け、最後にマークの形成を終了すべくＰL"より低いＰ
LB" に下げて、そのＰLB" を所定時間Ｔoff"維持した
後、ＰL"に立ち上げる指標パルス（３）」により、前記
光磁気ディスクに「長いマーク−短い間隔−長いマー
ク」であるパターン（最密パターン）と「長い間隔−短
いマーク−長い間隔」であるパターン（最粗パターン）
のそれぞれを記録し、再生した場合に得られる再生信号
のスライスレベルが共通となるような前記指標パルス
（３）のＰL"、ＰH"、ＰW2" 、ＰLT" 、ＰLB" 、ＴW1"
、Ｔp"、Ｔoff"及びＰW2"を維持する時間ＴW2" をそれ
ぞれ前記ＰL 、ＰH 、ＰW2、ＰLT、ＰLB、ＴW1、Ｔp 、
Ｔoff 及びＴW2とすることを特徴とする請求項１又は請
求項２記載の光磁気記録方法を提供する。
【００３５】また、本発明は、第６に、前記強度ＰLT
を、前記強度ＰL と等しくしたことを特徴とする請求項
１から請求項５のいずれかに記載の光磁気記録方法を提
供する。また、本発明は、第７に、前記強度ＰLTを、前
記強度ＰL より大きくしたことを特徴とする請求項１か
ら請求項５のいずれかに記載の光磁気記録方法を提供す
る。
を、前記強度ＰL と等しくしたことを特徴とする請求項
１から請求項５のいずれかに記載の光磁気記録方法を提
供する。また、本発明は、第７に、前記強度ＰLTを、前
記強度ＰL より大きくしたことを特徴とする請求項１か
ら請求項５のいずれかに記載の光磁気記録方法を提供す
る。
【００３６】また、本発明は、第８に、ＰLTとＰLTより
高い強度ＰW2との間で強度変調させる際の変調周期Ｔp
を書き込みクロック周期Ｔと等しくしたことを特徴とす
る請求項１から請求項７のいずれかに記載の光磁気記録
方法。を提供する。また、本発明は、第９に、ＰW2を維
持する時間ＴW2を、ＰLTとＰLTより高い強度ＰW2との間
で強度変調させる際の変調周期Ｔp のｍ／ｎ倍（ｍ，ｎ
は自然数、ｍ＜ｎ）としたことを特徴とする請求項１か
ら請求項８のいずれかに記載の光磁気記録方法を提供す
る。
高い強度ＰW2との間で強度変調させる際の変調周期Ｔp
を書き込みクロック周期Ｔと等しくしたことを特徴とす
る請求項１から請求項７のいずれかに記載の光磁気記録
方法。を提供する。また、本発明は、第９に、ＰW2を維
持する時間ＴW2を、ＰLTとＰLTより高い強度ＰW2との間
で強度変調させる際の変調周期Ｔp のｍ／ｎ倍（ｍ，ｎ
は自然数、ｍ＜ｎ）としたことを特徴とする請求項１か
ら請求項８のいずれかに記載の光磁気記録方法を提供す
る。
【００３７】また、本発明は、第１０に、前記時間ＴW2
を前記時間Ｔp と等しくし、前記ＰLTに維持する時間を
ゼロにすることを特徴とする請求項１から請求項８のい
ずれかに記載の光磁気記録方法を提供する。また、本発
明は、第１１に、前記強度ＰH は、所望の幅のマークを
与える値を上限とし、その上限以下から選択することを
特徴とする請求項１から請求項１０のいずれかに記載の
光磁気記録方法を提供する。
を前記時間Ｔp と等しくし、前記ＰLTに維持する時間を
ゼロにすることを特徴とする請求項１から請求項８のい
ずれかに記載の光磁気記録方法を提供する。また、本発
明は、第１１に、前記強度ＰH は、所望の幅のマークを
与える値を上限とし、その上限以下から選択することを
特徴とする請求項１から請求項１０のいずれかに記載の
光磁気記録方法を提供する。
【００３８】また、本発明は、第１２に、前記強度ＰW2
を前記強度ＰH と等しくしたことを特徴とする請求項１
から請求項１１のいずれかに記載の光磁気記録方法を提
供する。また、本発明は、第１３に、前記強度ＰW2を前
記強度ＰH より小さくしたことを特徴とする請求項１か
ら請求項１１のいずれかに記載の光磁気記録方法を提供
する。
を前記強度ＰH と等しくしたことを特徴とする請求項１
から請求項１１のいずれかに記載の光磁気記録方法を提
供する。また、本発明は、第１３に、前記強度ＰW2を前
記強度ＰH より小さくしたことを特徴とする請求項１か
ら請求項１１のいずれかに記載の光磁気記録方法を提供
する。
【００３９】また、本発明は、第１４に、前記強度ＰLB
を再生時のレーザビーム強度と等しくするか又はゼロに
することを特徴とする請求項１から請求項１３のいずれ
かに記載の光磁気記録方法を提供する。また、本発明
は、第１５に、前記時間Ｔoff を、書き込みクロック周
期Ｔのｍ／ｎ倍（ｍ，ｎは自然数）又はそれに近い値と
することを特徴とする請求項１から請求項１４のいずれ
かに記載の光磁気記録方法を提供する。
を再生時のレーザビーム強度と等しくするか又はゼロに
することを特徴とする請求項１から請求項１３のいずれ
かに記載の光磁気記録方法を提供する。また、本発明
は、第１５に、前記時間Ｔoff を、書き込みクロック周
期Ｔのｍ／ｎ倍（ｍ，ｎは自然数）又はそれに近い値と
することを特徴とする請求項１から請求項１４のいずれ
かに記載の光磁気記録方法を提供する。
【００４０】また、本発明は、第１６に、レーザビーム
を出射する光源と、前記レーザビームをオーバーライト
可能な光磁気ディスクに照射する照射手段と、前記光磁
気ディスク上の前記レーザビームの照射位置を変化させ
る移動手段と、高温サイクルによりマークを形成すべ
く、前記光磁気ディスクに照射するレーザビーム強度
を、ＰL からＰL より高い強度ＰH へ立ち上げ、ＰH を
時間ＴW1維持した後ＰH より低い強度ＰLTに立ち下げ、
その後ＰLTとＰLTより高い強度ＰW2 との間で周期Ｔp
で強度変調させる第１の変調手段と、前記光磁気ディス
クにマークを形成した後、ＰL より低い強度ＰLBに立ち
下げ、時間Ｔoff 後ＰL に立ち上げる第２の変調手段
と、前記ＰL は前記光磁気ディスク上の温度がある一定
温度Θpre となるプレヒート状態を保つレーザビーム強
度であり、かつ、高温サイクルを生じさせない強度であ
る上限と、高温サイクルにより形成されたマークを消去
できる強度である下限との間の強度から選択する条件決
定手段と、次のマークを形成すべく再度ＰH に立ち上げ
るまでの時間内にプレヒート状態となるように、前記Ｐ
L 、Ｔoff 及びＰLBのうちの少なくとも１つを制御する
第１の制御手段と、前記光磁気ディスク面上に照射され
たレーザビームのピーク温度位置又はスポット中心位置
での温度を、ＴW1経過時とＴW2経過時（ＴW2はＰW2を維
持する時間）とで等しくするように、前記ＰW2、ＰLT及
びＴW2のうちの少なくとも１つを制御する第２の制御手
段とを備えたことを特徴とする光磁気記録装置を提供す
る。
を出射する光源と、前記レーザビームをオーバーライト
可能な光磁気ディスクに照射する照射手段と、前記光磁
気ディスク上の前記レーザビームの照射位置を変化させ
る移動手段と、高温サイクルによりマークを形成すべ
く、前記光磁気ディスクに照射するレーザビーム強度
を、ＰL からＰL より高い強度ＰH へ立ち上げ、ＰH を
時間ＴW1維持した後ＰH より低い強度ＰLTに立ち下げ、
その後ＰLTとＰLTより高い強度ＰW2 との間で周期Ｔp
で強度変調させる第１の変調手段と、前記光磁気ディス
クにマークを形成した後、ＰL より低い強度ＰLBに立ち
下げ、時間Ｔoff 後ＰL に立ち上げる第２の変調手段
と、前記ＰL は前記光磁気ディスク上の温度がある一定
温度Θpre となるプレヒート状態を保つレーザビーム強
度であり、かつ、高温サイクルを生じさせない強度であ
る上限と、高温サイクルにより形成されたマークを消去
できる強度である下限との間の強度から選択する条件決
定手段と、次のマークを形成すべく再度ＰH に立ち上げ
るまでの時間内にプレヒート状態となるように、前記Ｐ
L 、Ｔoff 及びＰLBのうちの少なくとも１つを制御する
第１の制御手段と、前記光磁気ディスク面上に照射され
たレーザビームのピーク温度位置又はスポット中心位置
での温度を、ＴW1経過時とＴW2経過時（ＴW2はＰW2を維
持する時間）とで等しくするように、前記ＰW2、ＰLT及
びＴW2のうちの少なくとも１つを制御する第２の制御手
段とを備えたことを特徴とする光磁気記録装置を提供す
る。
【００４１】また、本発明は、第１７に、レーザビーム
を出射する光源と、前記レーザビームをオーバーライト
可能な光磁気ディスクに照射する照射手段と、前記光磁
気ディスク上の前記レーザビームの照射位置を変化させ
る移動手段と、高温サイクルによりマークを形成すべ
く、前記光磁気ディスクに照射するレーザビーム強度
を、ＰL からＰL より高い強度ＰH へ立ち上げ、ＰH を
時間ＴW1維持した後ＰH より低い強度ＰLTに立ち下げ、
その後ＰLTとＰLTより高い強度ＰW2 との間で周期Ｔp
で強度変調させる第１の変調手段と、前記光磁気ディス
クにマークを形成した後、ＰL より低い強度ＰLBに立ち
下げ、時間Ｔoff 後ＰL に立ち上げる第２の変調手段
と、前記ＰL は前記光磁気ディスク上の温度がある一定
温度Θpre となるプレヒート状態を保つレーザビーム強
度であり、かつ、高温サイクルを生じさせない強度であ
る上限と、高温サイクルにより形成されたマークを消去
できる強度である下限との間の強度から選択する条件決
定手段と、前記各値を下記式（１）及び式（２）を満足
する組合せとして求める条件決定手段とを備えたことを
特徴とする光磁気記録装置を提供する。 Ｔoff ＝τ×ln[{(ＰH -ＰLB)-(ＰH -ＰL )×exp(-ＴW1/τ)}÷(ＰL -ＰLB)] ・・・・・式（１） (ＰH -ＰL )×{１-exp(-ＴW1／τ)}×{１-exp(-Ｔp ／τ)} ＝(ＰLT-ＰL )×{１-exp(-Ｔp ／τ)}+(ＰW2-ＰLT)×{１-exp(-ＴW2／τ)} ・・・・・式（２） （τ；前記光磁気ディスクの熱時定数、ＴW2；ＰW2を維
持する時間） また、本発明は、第１８に、周期が２ｑＴ（ｑ；最小ラ
ン・レングス・リミット・ナンバーに１を加えた値、
Ｔ；書き込みクロック周期）である「高温サイクルによ
りマークの形成を開始すべくレーザビーム強度をＰL'か
らＰL'より高い強度ＰH'に立ち上げ、ＰH'を時間ＴW1'
維持した後、ＰL'より低いＰLB' に下げて、そのＰLB'
を所定時間Ｔoff' 維持した後、ＰL'に立ち上げ、ＰL'
を所定時間維持する指標パルス（１）」を前記光磁気デ
ィスクに記録し再生した場合に、再生信号のデューティ
比が５０％となるような前記指標パルス（１）のＰL'、
ＰH'、ＰLB' 、ＴW1' 及びＴoff'を、それぞれ前記ＰL
、ＰH 、ＰLB、ＴW1及びＴoff とすることを特徴とす
る請求項１６又は請求項１７記載の光磁気記録装置を提
供する。
を出射する光源と、前記レーザビームをオーバーライト
可能な光磁気ディスクに照射する照射手段と、前記光磁
気ディスク上の前記レーザビームの照射位置を変化させ
る移動手段と、高温サイクルによりマークを形成すべ
く、前記光磁気ディスクに照射するレーザビーム強度
を、ＰL からＰL より高い強度ＰH へ立ち上げ、ＰH を
時間ＴW1維持した後ＰH より低い強度ＰLTに立ち下げ、
その後ＰLTとＰLTより高い強度ＰW2 との間で周期Ｔp
で強度変調させる第１の変調手段と、前記光磁気ディス
クにマークを形成した後、ＰL より低い強度ＰLBに立ち
下げ、時間Ｔoff 後ＰL に立ち上げる第２の変調手段
と、前記ＰL は前記光磁気ディスク上の温度がある一定
温度Θpre となるプレヒート状態を保つレーザビーム強
度であり、かつ、高温サイクルを生じさせない強度であ
る上限と、高温サイクルにより形成されたマークを消去
できる強度である下限との間の強度から選択する条件決
定手段と、前記各値を下記式（１）及び式（２）を満足
する組合せとして求める条件決定手段とを備えたことを
特徴とする光磁気記録装置を提供する。 Ｔoff ＝τ×ln[{(ＰH -ＰLB)-(ＰH -ＰL )×exp(-ＴW1/τ)}÷(ＰL -ＰLB)] ・・・・・式（１） (ＰH -ＰL )×{１-exp(-ＴW1／τ)}×{１-exp(-Ｔp ／τ)} ＝(ＰLT-ＰL )×{１-exp(-Ｔp ／τ)}+(ＰW2-ＰLT)×{１-exp(-ＴW2／τ)} ・・・・・式（２） （τ；前記光磁気ディスクの熱時定数、ＴW2；ＰW2を維
持する時間） また、本発明は、第１８に、周期が２ｑＴ（ｑ；最小ラ
ン・レングス・リミット・ナンバーに１を加えた値、
Ｔ；書き込みクロック周期）である「高温サイクルによ
りマークの形成を開始すべくレーザビーム強度をＰL'か
らＰL'より高い強度ＰH'に立ち上げ、ＰH'を時間ＴW1'
維持した後、ＰL'より低いＰLB' に下げて、そのＰLB'
を所定時間Ｔoff' 維持した後、ＰL'に立ち上げ、ＰL'
を所定時間維持する指標パルス（１）」を前記光磁気デ
ィスクに記録し再生した場合に、再生信号のデューティ
比が５０％となるような前記指標パルス（１）のＰL'、
ＰH'、ＰLB' 、ＴW1' 及びＴoff'を、それぞれ前記ＰL
、ＰH 、ＰLB、ＴW1及びＴoff とすることを特徴とす
る請求項１６又は請求項１７記載の光磁気記録装置を提
供する。
【００４２】また、本発明は、第１９に、「高温サイク
ルによりマークの形成を開始すべくレーザビーム強度を
ＰL"からＰL"より高い強度ＰH"に立ち上げ、ＰH"を時間
ＴW1" 維持した後ＰH"より低い強度ＰLT" に立ち下げ、
その後ＰLT" とＰLT" より高い強度ＰW2" との間で周期
Ｔp で強度変調させてマークの形成を続け、最後にマー
クの形成を終了すべくＰL"より低いＰLB" に下げて、そ
のＰLB" を所定時間Ｔoff"維持した後、ＰL"に立ち上げ
る指標パルス（２）」により、前記光磁気ディスクに
「長いマーク−短い間隔−長いマーク」であるパターン
（最密パターン）と「長い間隔−短いマーク−長い間
隔」であるパターン（最粗パターン）のそれぞれを記録
し、再生した場合に得られる再生信号のスライスレベル
が共通となるような前記指標パルス（２）のＰL"、Ｐ
H"、ＰW2" 、ＰLT" 、ＰLB" 、ＴW1" 、Ｔp"、Ｔoff"及
びＰW2" を維持する時間ＴW2" をそれぞれ前記ＰL 、Ｐ
H 、ＰW2、ＰLT、ＰLB、ＴW1、Ｔp 、Ｔoff 及びＴW2と
することを特徴とする請求項１６又は請求項１７記載の
光磁気記録装置を提供する。
ルによりマークの形成を開始すべくレーザビーム強度を
ＰL"からＰL"より高い強度ＰH"に立ち上げ、ＰH"を時間
ＴW1" 維持した後ＰH"より低い強度ＰLT" に立ち下げ、
その後ＰLT" とＰLT" より高い強度ＰW2" との間で周期
Ｔp で強度変調させてマークの形成を続け、最後にマー
クの形成を終了すべくＰL"より低いＰLB" に下げて、そ
のＰLB" を所定時間Ｔoff"維持した後、ＰL"に立ち上げ
る指標パルス（２）」により、前記光磁気ディスクに
「長いマーク−短い間隔−長いマーク」であるパターン
（最密パターン）と「長い間隔−短いマーク−長い間
隔」であるパターン（最粗パターン）のそれぞれを記録
し、再生した場合に得られる再生信号のスライスレベル
が共通となるような前記指標パルス（２）のＰL"、Ｐ
H"、ＰW2" 、ＰLT" 、ＰLB" 、ＴW1" 、Ｔp"、Ｔoff"及
びＰW2" を維持する時間ＴW2" をそれぞれ前記ＰL 、Ｐ
H 、ＰW2、ＰLT、ＰLB、ＴW1、Ｔp 、Ｔoff 及びＴW2と
することを特徴とする請求項１６又は請求項１７記載の
光磁気記録装置を提供する。
【００４３】また、本発明は、第２０に、周期が２ｑＴ
（ｑ；最小ラン・レングス・リミット・ナンバーに１を
加えた値、Ｔ；書き込みクロック周期）である「高温サ
イクルによりマークの形成を開始すべくレーザビーム強
度をＰL'からＰL'より高い強度ＰH'に立ち上げ、ＰH'を
時間ＴW1' 維持した後、ＰL'より低いＰLB' に下げて、
そのＰLB' を所定時間Ｔoff' 維持した後、ＰL'に立ち
上げ、ＰL'を所定時間維持する指標パルス（１）」を前
記光磁気ディスクに記録し再生した場合に、再生信号の
デューティ比が５０％となるような前記指標パルス
（１）のＰL'、ＰH'、ＰLB' 、ＴW1' 及びＴoff'を、そ
れぞれＰL"、ＰH"、ＰLB" 、ＴW1" 及びＴoff"とし、
「高温サイクルによりマークの形成を開始すべくレーザ
ビーム強度をＰL"からＰL"より高い強度ＰH"に立ち上
げ、ＰH"を時間ＴW1" 維持した後ＰH"より低い強度ＰL
T" に立ち下げ、その後ＰLT" とＰLT" より高い強度ＰW
2" との間で周期Ｔp で強度変調させてマークの形成を
続け、最後にマークの形成を終了すべくＰL"より低いＰ
LB" に下げて、そのＰLB" を所定時間Ｔoff"維持した
後、ＰL"に立ち上げる指標パルス（３）」により、前記
光磁気ディスクに「長いマーク−短い間隔−長いマー
ク」であるパターン（最密パターン）と「長い間隔−短
いマーク−長い間隔」であるパターン（最粗パターン）
のそれぞれを記録し、再生した場合に得られる再生信号
のスライスレベルが共通となるような前記指標パルス
（３）のＰL"、ＰH"、ＰW2" 、ＰLT" 、ＰLB" 、ＴW1"
、Ｔp"、Ｔoff"及びＰW2" を維持する時間ＴW2" をそ
れぞれ前記ＰL 、ＰH 、ＰW2、ＰLT、ＰLB、ＴW1、Ｔp
、Ｔoff 及びＴW2とすることを特徴とする請求項１６
又は請求項１７記載の光磁気記録装置を提供する。
（ｑ；最小ラン・レングス・リミット・ナンバーに１を
加えた値、Ｔ；書き込みクロック周期）である「高温サ
イクルによりマークの形成を開始すべくレーザビーム強
度をＰL'からＰL'より高い強度ＰH'に立ち上げ、ＰH'を
時間ＴW1' 維持した後、ＰL'より低いＰLB' に下げて、
そのＰLB' を所定時間Ｔoff' 維持した後、ＰL'に立ち
上げ、ＰL'を所定時間維持する指標パルス（１）」を前
記光磁気ディスクに記録し再生した場合に、再生信号の
デューティ比が５０％となるような前記指標パルス
（１）のＰL'、ＰH'、ＰLB' 、ＴW1' 及びＴoff'を、そ
れぞれＰL"、ＰH"、ＰLB" 、ＴW1" 及びＴoff"とし、
「高温サイクルによりマークの形成を開始すべくレーザ
ビーム強度をＰL"からＰL"より高い強度ＰH"に立ち上
げ、ＰH"を時間ＴW1" 維持した後ＰH"より低い強度ＰL
T" に立ち下げ、その後ＰLT" とＰLT" より高い強度ＰW
2" との間で周期Ｔp で強度変調させてマークの形成を
続け、最後にマークの形成を終了すべくＰL"より低いＰ
LB" に下げて、そのＰLB" を所定時間Ｔoff"維持した
後、ＰL"に立ち上げる指標パルス（３）」により、前記
光磁気ディスクに「長いマーク−短い間隔−長いマー
ク」であるパターン（最密パターン）と「長い間隔−短
いマーク−長い間隔」であるパターン（最粗パターン）
のそれぞれを記録し、再生した場合に得られる再生信号
のスライスレベルが共通となるような前記指標パルス
（３）のＰL"、ＰH"、ＰW2" 、ＰLT" 、ＰLB" 、ＴW1"
、Ｔp"、Ｔoff"及びＰW2" を維持する時間ＴW2" をそ
れぞれ前記ＰL 、ＰH 、ＰW2、ＰLT、ＰLB、ＴW1、Ｔp
、Ｔoff 及びＴW2とすることを特徴とする請求項１６
又は請求項１７記載の光磁気記録装置を提供する。
【００４４】また、本発明は、第２１に、前記強度ＰLT
を、前記強度ＰL と等しくしたことを特徴とする請求項
１６から請求項２０のいずれかに記載の光磁気記録装置
を提供する。また、本発明は、第２２に、前記強度ＰLT
を、前記強度ＰL より大きくしたことを特徴とする請求
項１６から請求項２０のいずれかに記載の光磁気記録装
置を提供する。
を、前記強度ＰL と等しくしたことを特徴とする請求項
１６から請求項２０のいずれかに記載の光磁気記録装置
を提供する。また、本発明は、第２２に、前記強度ＰLT
を、前記強度ＰL より大きくしたことを特徴とする請求
項１６から請求項２０のいずれかに記載の光磁気記録装
置を提供する。
【００４５】また、本発明は、第２３に、ＰLTとＰLTよ
り高い強度ＰW2との間で強度変調させる際の変調周期Ｔ
p を書き込みクロック周期Ｔと等しくしたことを特徴と
する請求項１６から請求項２２のいずれかに記載の光磁
気記録装置を提供する。また、本発明は、第２４に、Ｐ
W2を維持する時間ＴW2を、ＰLTとＰLTより高い強度ＰW2
との間で強度変調させる際の変調周期Ｔp のｍ／ｎ倍
（ｍ，ｎは自然数、ｍ＜ｎ）としたことを特徴とする請
求項１６から請求項２３のいずれかに記載の光磁気記録
装置を提供する。
り高い強度ＰW2との間で強度変調させる際の変調周期Ｔ
p を書き込みクロック周期Ｔと等しくしたことを特徴と
する請求項１６から請求項２２のいずれかに記載の光磁
気記録装置を提供する。また、本発明は、第２４に、Ｐ
W2を維持する時間ＴW2を、ＰLTとＰLTより高い強度ＰW2
との間で強度変調させる際の変調周期Ｔp のｍ／ｎ倍
（ｍ，ｎは自然数、ｍ＜ｎ）としたことを特徴とする請
求項１６から請求項２３のいずれかに記載の光磁気記録
装置を提供する。
【００４６】また、本発明は、第２５に、前記時間ＴW2
を前記時間Ｔp と等しくし、前記ＰLTに維持する時間を
ゼロにすることを特徴とする請求項１６から請求項２３
のいずれかに記載の光磁気記録装置を提供する。また、
本発明は、第２６に、前記強度ＰH は、所望の幅のマー
クを与える値を上限とし、その上限以下から選択するこ
とを特徴とする請求項１６から請求項２５のいずれかに
記載の光磁気記録装置を提供する。
を前記時間Ｔp と等しくし、前記ＰLTに維持する時間を
ゼロにすることを特徴とする請求項１６から請求項２３
のいずれかに記載の光磁気記録装置を提供する。また、
本発明は、第２６に、前記強度ＰH は、所望の幅のマー
クを与える値を上限とし、その上限以下から選択するこ
とを特徴とする請求項１６から請求項２５のいずれかに
記載の光磁気記録装置を提供する。
【００４７】また、本発明は、第２７に、前記強度ＰW2
を前記強度ＰH と等しくしたことを特徴とする請求項１
６から請求項２６のいずれかに記載の光磁気記録装置を
提供する。また、本発明は、第２８に、前記強度ＰW2を
前記強度ＰH より小さくしたことを特徴とする請求項１
６から請求項２６のいずれかに記載の光磁気記録装置を
提供する。
を前記強度ＰH と等しくしたことを特徴とする請求項１
６から請求項２６のいずれかに記載の光磁気記録装置を
提供する。また、本発明は、第２８に、前記強度ＰW2を
前記強度ＰH より小さくしたことを特徴とする請求項１
６から請求項２６のいずれかに記載の光磁気記録装置を
提供する。
【００４８】また、本発明は、第２９に、前記強度ＰLB
を再生時のレーザビーム強度と等しくするか又はゼロに
することを特徴とする請求項１６から請求項２８のいず
れかに記載の光磁気記録装置を提供する。また、本発明
は、第３０に、前記時間Ｔoff を、書き込みクロック周
期Ｔのｍ／ｎ倍（ｍ，ｎは自然数）又はそれに近い値と
することを特徴とする請求項１６から請求項２９のいず
れかに記載の光磁気記録装置を提供する。
を再生時のレーザビーム強度と等しくするか又はゼロに
することを特徴とする請求項１６から請求項２８のいず
れかに記載の光磁気記録装置を提供する。また、本発明
は、第３０に、前記時間Ｔoff を、書き込みクロック周
期Ｔのｍ／ｎ倍（ｍ，ｎは自然数）又はそれに近い値と
することを特徴とする請求項１６から請求項２９のいず
れかに記載の光磁気記録装置を提供する。
【００４９】また、本発明は、第３１に、オーバーライ
ト可能な光磁気ディスクに照射するレーザビーム強度
を、ＰL からＰL より高い強度ＰH へ立ち上げ、ＰH を
時間ＴW1維持した後ＰH より低い強度ＰLTに立ち下げ、
その後ＰLTとＰLTより高い強度ＰW2との間で周期Ｔp で
強度変調させて前記光磁気ディスクに高温サイクルによ
りマークを形成し、その後ＰLより低い強度ＰLBに立ち
下げ、時間Ｔoff 後ＰLに立ち上げる光磁気記録方法の
条件を決定する方法であって、前記ＰL は前記光磁気デ
ィスク上の温度がある一定温度Θpre となるプレヒート
状態を保つレーザビーム強度であり、かつ、高温サイク
ルを生じさせない強度である上限と、高温サイクルによ
り形成されたマークを消去できる強度である下限との間
の強度から選択し、次のマークを形成すべく再度ＰH に
立ち上げるまでの時間内にプレヒート状態となるよう
な、前記ＰL 、Ｔoff 及びＰLBの組み合わせを求め、前
記光磁気ディスク面上に照射されたレーザビームのピー
ク温度位置又はスポット中心位置での温度を、ＴW1経過
時とＴW2経過時（ＴW2はＰW2を維持する時間）とで等し
くするような、前記ＰW2、ＰLT及びＴW2の組み合わせを
求めることを特徴とする光磁気記録の記録条件決定方法
を提供する。
ト可能な光磁気ディスクに照射するレーザビーム強度
を、ＰL からＰL より高い強度ＰH へ立ち上げ、ＰH を
時間ＴW1維持した後ＰH より低い強度ＰLTに立ち下げ、
その後ＰLTとＰLTより高い強度ＰW2との間で周期Ｔp で
強度変調させて前記光磁気ディスクに高温サイクルによ
りマークを形成し、その後ＰLより低い強度ＰLBに立ち
下げ、時間Ｔoff 後ＰLに立ち上げる光磁気記録方法の
条件を決定する方法であって、前記ＰL は前記光磁気デ
ィスク上の温度がある一定温度Θpre となるプレヒート
状態を保つレーザビーム強度であり、かつ、高温サイク
ルを生じさせない強度である上限と、高温サイクルによ
り形成されたマークを消去できる強度である下限との間
の強度から選択し、次のマークを形成すべく再度ＰH に
立ち上げるまでの時間内にプレヒート状態となるよう
な、前記ＰL 、Ｔoff 及びＰLBの組み合わせを求め、前
記光磁気ディスク面上に照射されたレーザビームのピー
ク温度位置又はスポット中心位置での温度を、ＴW1経過
時とＴW2経過時（ＴW2はＰW2を維持する時間）とで等し
くするような、前記ＰW2、ＰLT及びＴW2の組み合わせを
求めることを特徴とする光磁気記録の記録条件決定方法
を提供する。
【００５０】また、本発明は、第３２に、オーバーライ
ト可能な光磁気ディスクに照射するレーザビーム強度
を、ＰL からＰL より高い強度ＰH へ立ち上げ、ＰH を
時間ＴW1維持した後ＰH より低い強度ＰLTに立ち下げ、
その後ＰLTとＰLTより高い強度ＰW2との間で周期Ｔp で
強度変調させて前記光磁気ディスクに高温サイクルによ
りマークを形成し、その後ＰLより低い強度ＰLBに立ち
下げ、時間Ｔoff 後ＰLに立ち上げる光磁気記録方法の
条件を決定する方法であって、前記ＰL は前記光磁気デ
ィスク上の温度がある一定温度Θpre となるプレヒート
状態を保つレーザビーム強度であり、かつ、高温サイク
ルを生じさせない強度である上限と、高温サイクルによ
り形成されたマークを消去できる強度である下限との間
の強度から選択し、前記各値を下記式（１）及び式
（２）を満足する組合せとして求めることを特徴とする
光磁気記録の記録条件決定方法を提供する。 Ｔoff ＝τ×ln[{(ＰH -ＰLB)-(ＰH -ＰL )×exp(-ＴW1/τ)}÷(ＰL -ＰLB)] ・・・・・式（１） (ＰH -ＰL )×{１-exp(-ＴW1／τ)}×{１-exp(-Ｔp ／τ)} ＝(ＰLT-ＰL )×{１-exp(-Ｔp ／τ)}+(ＰW2-ＰLT)×{１-exp(-ＴW2／τ)} ・・・・・式（２） （τ；前記光磁気ディスクの熱時定数、ＴW2；ＰW2を維
持する時間） また、本発明は、第３３に、周期が２ｑＴ（ｑ；最小ラ
ン・レングス・リミット・ナンバーに１を加えた値、
Ｔ；書き込みクロック周期）である「高温サイクルによ
りマークの形成を開始すべくレーザビーム強度をＰL'か
らＰL'より高い強度ＰH'に立ち上げ、ＰH'を時間ＴW1'
維持した後、ＰL'より低いＰLB' に下げて、そのＰLB'
を所定時間Ｔoff' 維持した後、ＰL'に立ち上げ、ＰL'
を所定時間維持する指標パルス（１）」を前記光磁気デ
ィスクに記録し再生した場合に、再生信号のデューティ
比が５０％となるような前記指標パルス（１）のＰL'、
ＰH'、ＰLB' 、ＴW1' 及びＴoff'を、それぞれ前記ＰL
、ＰH 、ＰLB、ＴW1及びＴoff とすることを特徴とす
る請求項３１又は請求項３２記載の光磁気記録の記録条
件決定方法を提供する。
ト可能な光磁気ディスクに照射するレーザビーム強度
を、ＰL からＰL より高い強度ＰH へ立ち上げ、ＰH を
時間ＴW1維持した後ＰH より低い強度ＰLTに立ち下げ、
その後ＰLTとＰLTより高い強度ＰW2との間で周期Ｔp で
強度変調させて前記光磁気ディスクに高温サイクルによ
りマークを形成し、その後ＰLより低い強度ＰLBに立ち
下げ、時間Ｔoff 後ＰLに立ち上げる光磁気記録方法の
条件を決定する方法であって、前記ＰL は前記光磁気デ
ィスク上の温度がある一定温度Θpre となるプレヒート
状態を保つレーザビーム強度であり、かつ、高温サイク
ルを生じさせない強度である上限と、高温サイクルによ
り形成されたマークを消去できる強度である下限との間
の強度から選択し、前記各値を下記式（１）及び式
（２）を満足する組合せとして求めることを特徴とする
光磁気記録の記録条件決定方法を提供する。 Ｔoff ＝τ×ln[{(ＰH -ＰLB)-(ＰH -ＰL )×exp(-ＴW1/τ)}÷(ＰL -ＰLB)] ・・・・・式（１） (ＰH -ＰL )×{１-exp(-ＴW1／τ)}×{１-exp(-Ｔp ／τ)} ＝(ＰLT-ＰL )×{１-exp(-Ｔp ／τ)}+(ＰW2-ＰLT)×{１-exp(-ＴW2／τ)} ・・・・・式（２） （τ；前記光磁気ディスクの熱時定数、ＴW2；ＰW2を維
持する時間） また、本発明は、第３３に、周期が２ｑＴ（ｑ；最小ラ
ン・レングス・リミット・ナンバーに１を加えた値、
Ｔ；書き込みクロック周期）である「高温サイクルによ
りマークの形成を開始すべくレーザビーム強度をＰL'か
らＰL'より高い強度ＰH'に立ち上げ、ＰH'を時間ＴW1'
維持した後、ＰL'より低いＰLB' に下げて、そのＰLB'
を所定時間Ｔoff' 維持した後、ＰL'に立ち上げ、ＰL'
を所定時間維持する指標パルス（１）」を前記光磁気デ
ィスクに記録し再生した場合に、再生信号のデューティ
比が５０％となるような前記指標パルス（１）のＰL'、
ＰH'、ＰLB' 、ＴW1' 及びＴoff'を、それぞれ前記ＰL
、ＰH 、ＰLB、ＴW1及びＴoff とすることを特徴とす
る請求項３１又は請求項３２記載の光磁気記録の記録条
件決定方法を提供する。
【００５１】また、本発明は、第３４に、「高温サイク
ルによりマークの形成を開始すべくレーザビーム強度を
ＰL"からＰL"より高い強度ＰH"に立ち上げ、ＰH"を時間
ＴW1" 維持した後ＰH"より低い強度ＰLT" に立ち下げ、
その後ＰLT" とＰLT" より高い強度ＰW2" との間で周期
Ｔp で強度変調させてマークの形成を続け、最後にマー
クの形成を終了すべくＰL"より低いＰLB" に下げて、そ
のＰLB" を所定時間Ｔoff"維持した後、ＰL"に立ち上げ
る指標パルス（２）」により、前記光磁気ディスクに
「長いマーク−短い間隔−長いマーク」であるパターン
（最密パターン）と「長い間隔−短いマーク−長い間
隔」であるパターン（最粗パターン）のそれぞれを記録
し、再生した場合に得られる再生信号のスライスレベル
が共通となるような前記指標パルス（２）のＰL"、Ｐ
H"、ＰW2" 、ＰLT" 、ＰLB" 、ＴW1" 、Ｔp"、Ｔoff"及
びＰW2" を維持する時間ＴW2" をそれぞれ前記ＰL 、Ｐ
H 、ＰW2、ＰLT、ＰLB、ＴW1、Ｔp 、Ｔoff 及びＴW2と
することを特徴とする請求項３１又は請求項３２記載の
光磁気記録の記録条件決定方法を提供する。
ルによりマークの形成を開始すべくレーザビーム強度を
ＰL"からＰL"より高い強度ＰH"に立ち上げ、ＰH"を時間
ＴW1" 維持した後ＰH"より低い強度ＰLT" に立ち下げ、
その後ＰLT" とＰLT" より高い強度ＰW2" との間で周期
Ｔp で強度変調させてマークの形成を続け、最後にマー
クの形成を終了すべくＰL"より低いＰLB" に下げて、そ
のＰLB" を所定時間Ｔoff"維持した後、ＰL"に立ち上げ
る指標パルス（２）」により、前記光磁気ディスクに
「長いマーク−短い間隔−長いマーク」であるパターン
（最密パターン）と「長い間隔−短いマーク−長い間
隔」であるパターン（最粗パターン）のそれぞれを記録
し、再生した場合に得られる再生信号のスライスレベル
が共通となるような前記指標パルス（２）のＰL"、Ｐ
H"、ＰW2" 、ＰLT" 、ＰLB" 、ＴW1" 、Ｔp"、Ｔoff"及
びＰW2" を維持する時間ＴW2" をそれぞれ前記ＰL 、Ｐ
H 、ＰW2、ＰLT、ＰLB、ＴW1、Ｔp 、Ｔoff 及びＴW2と
することを特徴とする請求項３１又は請求項３２記載の
光磁気記録の記録条件決定方法を提供する。
【００５２】また、本発明は、第３５に、周期が２ｑＴ
（ｑ；最小ラン・レングス・リミット・ナンバーに１を
加えた値、Ｔ；書き込みクロック周期）である「高温サ
イクルによりマークの形成を開始すべくレーザビーム強
度をＰL'からＰL'より高い強度ＰH'に立ち上げ、ＰH'を
時間ＴW1' 維持した後、ＰL'より低いＰLB' に下げて、
そのＰLB' を所定時間Ｔoff' 維持した後、ＰL'に立ち
上げ、ＰL'を所定時間維持する指標パルス（１）」を前
記光磁気ディスクに記録し再生した場合に、再生信号の
デューティ比が５０％となるような前記指標パルス
（１）のＰL'、ＰH'、ＰLB' 、ＴW1' 及びＴoff'を、そ
れぞれＰL"、ＰH"、ＰLB" 、ＴW1" 及びＴoff"とし、
「高温サイクルによりマークの形成を開始すべくレーザ
ビーム強度をＰL"からＰL"より高い強度ＰH"に立ち上
げ、ＰH"を時間ＴW1" 維持した後ＰH"より低い強度ＰL
T" に立ち下げ、その後ＰLT" とＰLT" より高い強度ＰW
2" との間で周期Ｔp で強度変調させてマークの形成を
続け、最後にマークの形成を終了すべくＰL"より低いＰ
LB" に下げて、そのＰLB" を所定時間Ｔoff"維持した
後、ＰL"に立ち上げる指標パルス（３）」により、前記
光磁気ディスクに「長いマーク−短い間隔−長いマー
ク」であるパターン（最密パターン）と「長い間隔−短
いマーク−長い間隔」であるパターン（最粗パターン）
のそれぞれを記録し、再生した場合に得られる再生信号
のスライスレベルが共通となるような前記指標パルス
（３）のＰL"、ＰH"、ＰW2" 、ＰLT" 、ＰLB" 、ＴW1"
、Ｔp"、Ｔoff"及びＰW2" を維持する時間ＴW2" をそ
れぞれ前記ＰL 、ＰH 、ＰW2、ＰLT、ＰLB、ＴW1、Ｔp
、Ｔoff 及びＴW2とすることを特徴とする請求項３１
又は請求項３２記載の光磁気記録の記録条件決定方法を
提供する。
（ｑ；最小ラン・レングス・リミット・ナンバーに１を
加えた値、Ｔ；書き込みクロック周期）である「高温サ
イクルによりマークの形成を開始すべくレーザビーム強
度をＰL'からＰL'より高い強度ＰH'に立ち上げ、ＰH'を
時間ＴW1' 維持した後、ＰL'より低いＰLB' に下げて、
そのＰLB' を所定時間Ｔoff' 維持した後、ＰL'に立ち
上げ、ＰL'を所定時間維持する指標パルス（１）」を前
記光磁気ディスクに記録し再生した場合に、再生信号の
デューティ比が５０％となるような前記指標パルス
（１）のＰL'、ＰH'、ＰLB' 、ＴW1' 及びＴoff'を、そ
れぞれＰL"、ＰH"、ＰLB" 、ＴW1" 及びＴoff"とし、
「高温サイクルによりマークの形成を開始すべくレーザ
ビーム強度をＰL"からＰL"より高い強度ＰH"に立ち上
げ、ＰH"を時間ＴW1" 維持した後ＰH"より低い強度ＰL
T" に立ち下げ、その後ＰLT" とＰLT" より高い強度ＰW
2" との間で周期Ｔp で強度変調させてマークの形成を
続け、最後にマークの形成を終了すべくＰL"より低いＰ
LB" に下げて、そのＰLB" を所定時間Ｔoff"維持した
後、ＰL"に立ち上げる指標パルス（３）」により、前記
光磁気ディスクに「長いマーク−短い間隔−長いマー
ク」であるパターン（最密パターン）と「長い間隔−短
いマーク−長い間隔」であるパターン（最粗パターン）
のそれぞれを記録し、再生した場合に得られる再生信号
のスライスレベルが共通となるような前記指標パルス
（３）のＰL"、ＰH"、ＰW2" 、ＰLT" 、ＰLB" 、ＴW1"
、Ｔp"、Ｔoff"及びＰW2" を維持する時間ＴW2" をそ
れぞれ前記ＰL 、ＰH 、ＰW2、ＰLT、ＰLB、ＴW1、Ｔp
、Ｔoff 及びＴW2とすることを特徴とする請求項３１
又は請求項３２記載の光磁気記録の記録条件決定方法を
提供する。
【００５３】また、本発明は、第３６に、前記強度ＰLT
を、前記強度ＰL と等しく設定することを特徴とする請
求項３１から請求項３５のいずれかに記載の光磁気記録
の記録条件決定方法を提供する。また、本発明は、第３
７に、前記強度ＰLTを、前記強度ＰL より大きい値に設
定することを特徴とする請求項３１から請求項３５のい
ずれかに記載の光磁気記録の記録条件決定方法を提供す
る。
を、前記強度ＰL と等しく設定することを特徴とする請
求項３１から請求項３５のいずれかに記載の光磁気記録
の記録条件決定方法を提供する。また、本発明は、第３
７に、前記強度ＰLTを、前記強度ＰL より大きい値に設
定することを特徴とする請求項３１から請求項３５のい
ずれかに記載の光磁気記録の記録条件決定方法を提供す
る。
【００５４】また、本発明は、第３８に、ＰLTとＰLTよ
り高い強度ＰW2との間で強度変調させる際の変調周期Ｔ
p を書き込みクロック周期Ｔと等しく設定することを特
徴とする請求項３１から請求項３７のいずれかに記載の
光磁気記録の記録条件決定方法を提供する。また、本発
明は、第３９に、ＰW2を維持する時間ＴW2を、ＰLTとＰ
LTより高い強度ＰW2との間で強度変調させる際の変調周
期Ｔp のｍ／ｎ倍（ｍ，ｎは自然数、ｍ＜ｎ）とするこ
とを特徴とする請求項３１から請求項３８のいずれかに
記載の光磁気記録の記録条件決定方法を提供する。
り高い強度ＰW2との間で強度変調させる際の変調周期Ｔ
p を書き込みクロック周期Ｔと等しく設定することを特
徴とする請求項３１から請求項３７のいずれかに記載の
光磁気記録の記録条件決定方法を提供する。また、本発
明は、第３９に、ＰW2を維持する時間ＴW2を、ＰLTとＰ
LTより高い強度ＰW2との間で強度変調させる際の変調周
期Ｔp のｍ／ｎ倍（ｍ，ｎは自然数、ｍ＜ｎ）とするこ
とを特徴とする請求項３１から請求項３８のいずれかに
記載の光磁気記録の記録条件決定方法を提供する。
【００５５】また、本発明は、第４０に、前記時間ＴW2
を前記時間Ｔp と等しく設定し、前記ＰLTに維持する時
間をゼロにすることを特徴とする請求項３１から請求項
３８のいずれかに記載の光磁気記録の記録条件決定方法
を提供する。また、本発明は、第４１に、前記強度ＰH
は、所望の幅のマークを与える値を上限とし、その上限
以下から選択することを特徴とする請求項３１から請求
項４０のいずれかに記載の光磁気記録の記録条件決定方
法を提供する。
を前記時間Ｔp と等しく設定し、前記ＰLTに維持する時
間をゼロにすることを特徴とする請求項３１から請求項
３８のいずれかに記載の光磁気記録の記録条件決定方法
を提供する。また、本発明は、第４１に、前記強度ＰH
は、所望の幅のマークを与える値を上限とし、その上限
以下から選択することを特徴とする請求項３１から請求
項４０のいずれかに記載の光磁気記録の記録条件決定方
法を提供する。
【００５６】また、本発明は、第４２に、前記強度ＰW2
を前記強度ＰH と等しく設定することを特徴とする請求
項３１から請求項４１のいずれかに記載の光磁気記録の
記録条件決定方法を提供する。また、本発明は、第４３
に、前記強度ＰW2を前記強度ＰH より小さい値に設定す
ることを特徴とする請求項３１から請求項４１のいずれ
かに記載の光磁気記録の記録条件決定方法を提供する。
を前記強度ＰH と等しく設定することを特徴とする請求
項３１から請求項４１のいずれかに記載の光磁気記録の
記録条件決定方法を提供する。また、本発明は、第４３
に、前記強度ＰW2を前記強度ＰH より小さい値に設定す
ることを特徴とする請求項３１から請求項４１のいずれ
かに記載の光磁気記録の記録条件決定方法を提供する。
【００５７】また、本発明は、第４４に、前記強度ＰLB
を再生時のレーザビーム強度と等しく設定するか又はゼ
ロにすることを特徴とする請求項３１から請求項４３の
いずれかに記載の光磁気記録の記録条件決定方法を提供
する。また、本発明は、第４５に、前記時間Ｔoff を、
書き込みクロック周期Ｔのｍ／ｎ倍（ｍ，ｎは自然数）
又はそれに近い値に設定することを特徴とする請求項３
１から請求項４４のいずれかに記載の光磁気記録の記録
条件決定方法を提供する。
を再生時のレーザビーム強度と等しく設定するか又はゼ
ロにすることを特徴とする請求項３１から請求項４３の
いずれかに記載の光磁気記録の記録条件決定方法を提供
する。また、本発明は、第４５に、前記時間Ｔoff を、
書き込みクロック周期Ｔのｍ／ｎ倍（ｍ，ｎは自然数）
又はそれに近い値に設定することを特徴とする請求項３
１から請求項４４のいずれかに記載の光磁気記録の記録
条件決定方法を提供する。
【００５８】また、本発明は、第４６に、オーバーライ
ト可能な光磁気ディスクに照射するレーザビーム強度
を、ＰL からＰL より高い強度ＰH へ立ち上げ、ＰH を
時間ＴW1維持した後ＰH より低い強度ＰLTに立ち下げ、
その後ＰLTとＰLTより高い強度ＰW2との間で周期Ｔp で
強度変調させて前記光磁気ディスクに高温サイクルによ
りマークを形成し、その後ＰLより低い強度ＰLBに立ち
下げ、時間Ｔoff 後ＰLに立ち上げる光磁気記録方法の
条件を決定する装置であって、前記ＰL は前記光磁気デ
ィスク上の温度がある一定温度Θpre となるプレヒート
状態を保つレーザビーム強度であり、かつ、高温サイク
ルを生じさせない強度である上限と、高温サイクルによ
り形成されたマークを消去できる強度である下限との間
の強度から選択する第１演算部と、次のマークを形成す
べく再度ＰH に立ち上げるまでの時間内にプレヒート状
態となるように、前記ＰL 、Ｔoff 及びＰLBの組み合わ
せを求める第２演算部と、前記光磁気ディスク面上に照
射されたレーザビームのピーク温度位置又はスポット中
心位置での温度を、ＴW1経過時とＴW2経過時（ＴW2はＰ
W2を維持する時間）とで等しくするように、前記ＰW2、
ＰLT及びＴW2の組み合わせを求める第３演算部と、前記
演算部で算出された値を出力する出力部とを備えたこと
を特徴とする光磁気記録の記録条件決定装置を提供す
る。
ト可能な光磁気ディスクに照射するレーザビーム強度
を、ＰL からＰL より高い強度ＰH へ立ち上げ、ＰH を
時間ＴW1維持した後ＰH より低い強度ＰLTに立ち下げ、
その後ＰLTとＰLTより高い強度ＰW2との間で周期Ｔp で
強度変調させて前記光磁気ディスクに高温サイクルによ
りマークを形成し、その後ＰLより低い強度ＰLBに立ち
下げ、時間Ｔoff 後ＰLに立ち上げる光磁気記録方法の
条件を決定する装置であって、前記ＰL は前記光磁気デ
ィスク上の温度がある一定温度Θpre となるプレヒート
状態を保つレーザビーム強度であり、かつ、高温サイク
ルを生じさせない強度である上限と、高温サイクルによ
り形成されたマークを消去できる強度である下限との間
の強度から選択する第１演算部と、次のマークを形成す
べく再度ＰH に立ち上げるまでの時間内にプレヒート状
態となるように、前記ＰL 、Ｔoff 及びＰLBの組み合わ
せを求める第２演算部と、前記光磁気ディスク面上に照
射されたレーザビームのピーク温度位置又はスポット中
心位置での温度を、ＴW1経過時とＴW2経過時（ＴW2はＰ
W2を維持する時間）とで等しくするように、前記ＰW2、
ＰLT及びＴW2の組み合わせを求める第３演算部と、前記
演算部で算出された値を出力する出力部とを備えたこと
を特徴とする光磁気記録の記録条件決定装置を提供す
る。
【００５９】また、本発明は、第４７に、オーバーライ
ト可能な光磁気ディスクに照射するレーザビーム強度
を、ＰL からＰL より高い強度ＰH へ立ち上げ、ＰH を
時間ＴW1維持した後ＰH より低い強度ＰLTに立ち下げ、
その後ＰLTとＰLTより高い強度ＰW2との間で周期Ｔp で
強度変調させて前記光磁気ディスクに高温サイクルによ
りマークを形成し、その後ＰLより低い強度ＰLBに立ち
下げ、時間Ｔoff 後ＰLに立ち上げる光磁気記録方法の
条件を決定する装置であって、 前記ＰL は前記光磁気
ディスク上の温度がある一定温度Θpre となるプレヒー
ト状態を保つレーザビーム強度であり、かつ、高温サイ
クルを生じさせない強度である上限と、高温サイクルに
より形成されたマークを消去できる強度である下限との
間の強度から選択する第１演算部と、前記各値を下記式
（１）及び式（２）を満足する組合せとして求める第２
演算部と、前記演算部で算出された値を出力する出力部
とを備えたことを特徴とする光磁気記録の記録条件決定
装置を提供する。 Ｔoff ＝τ×ln[{(ＰH -ＰLB)-(ＰH -ＰL )×exp(-ＴW1/τ)}÷(ＰL -ＰLB)] ・・・・・式（１） (ＰH -ＰL )×{１-exp(-ＴW1／τ)}×{１-exp(-Ｔp ／τ)} ＝(ＰLT-ＰL )×{１-exp(-Ｔp ／τ)}+(ＰW2-ＰLT)×{１-exp(-ＴW2／τ)} ・・・・・式（２） （τ；前記光磁気ディスクの熱時定数、ＴW2；ＰW2を維
持する時間） また、本発明は、第４８に、周期が２ｑＴ（ｑ；最小ラ
ン・レングス・リミット・ナンバーに１を加えた値、
Ｔ；書き込みクロック周期）である「高温サイクルによ
りマークの形成を開始すべくレーザビーム強度をＰL'か
らＰL'より高い強度ＰH'に立ち上げ、ＰH'を時間ＴW1'
維持した後、ＰL'より低いＰLB' に下げて、そのＰLB'
を所定時間Ｔoff' 維持した後、ＰL'に立ち上げ、ＰL'
を所定時間維持する指標パルス（１）」を前記光磁気デ
ィスクに記録し再生した場合に、再生信号のデューティ
比が５０％となるような前記指標パルス（１）のＰL'、
ＰH'、ＰLB' 、ＴW1' 及びＴoff'を、それぞれ前記ＰL
、ＰH 、ＰLB、ＴW1及びＴoff とすることを特徴とす
る請求項４６又は請求項４７記載の光磁気記録の記録条
件決定装置を提供する。
ト可能な光磁気ディスクに照射するレーザビーム強度
を、ＰL からＰL より高い強度ＰH へ立ち上げ、ＰH を
時間ＴW1維持した後ＰH より低い強度ＰLTに立ち下げ、
その後ＰLTとＰLTより高い強度ＰW2との間で周期Ｔp で
強度変調させて前記光磁気ディスクに高温サイクルによ
りマークを形成し、その後ＰLより低い強度ＰLBに立ち
下げ、時間Ｔoff 後ＰLに立ち上げる光磁気記録方法の
条件を決定する装置であって、 前記ＰL は前記光磁気
ディスク上の温度がある一定温度Θpre となるプレヒー
ト状態を保つレーザビーム強度であり、かつ、高温サイ
クルを生じさせない強度である上限と、高温サイクルに
より形成されたマークを消去できる強度である下限との
間の強度から選択する第１演算部と、前記各値を下記式
（１）及び式（２）を満足する組合せとして求める第２
演算部と、前記演算部で算出された値を出力する出力部
とを備えたことを特徴とする光磁気記録の記録条件決定
装置を提供する。 Ｔoff ＝τ×ln[{(ＰH -ＰLB)-(ＰH -ＰL )×exp(-ＴW1/τ)}÷(ＰL -ＰLB)] ・・・・・式（１） (ＰH -ＰL )×{１-exp(-ＴW1／τ)}×{１-exp(-Ｔp ／τ)} ＝(ＰLT-ＰL )×{１-exp(-Ｔp ／τ)}+(ＰW2-ＰLT)×{１-exp(-ＴW2／τ)} ・・・・・式（２） （τ；前記光磁気ディスクの熱時定数、ＴW2；ＰW2を維
持する時間） また、本発明は、第４８に、周期が２ｑＴ（ｑ；最小ラ
ン・レングス・リミット・ナンバーに１を加えた値、
Ｔ；書き込みクロック周期）である「高温サイクルによ
りマークの形成を開始すべくレーザビーム強度をＰL'か
らＰL'より高い強度ＰH'に立ち上げ、ＰH'を時間ＴW1'
維持した後、ＰL'より低いＰLB' に下げて、そのＰLB'
を所定時間Ｔoff' 維持した後、ＰL'に立ち上げ、ＰL'
を所定時間維持する指標パルス（１）」を前記光磁気デ
ィスクに記録し再生した場合に、再生信号のデューティ
比が５０％となるような前記指標パルス（１）のＰL'、
ＰH'、ＰLB' 、ＴW1' 及びＴoff'を、それぞれ前記ＰL
、ＰH 、ＰLB、ＴW1及びＴoff とすることを特徴とす
る請求項４６又は請求項４７記載の光磁気記録の記録条
件決定装置を提供する。
【００６０】また、本発明は、第４９に、「高温サイク
ルによりマークの形成を開始すべくレーザビーム強度を
ＰL"からＰL"より高い強度ＰH"に立ち上げ、ＰH"を時間
ＴW1" 維持した後ＰH"より低い強度ＰLT" に立ち下げ、
その後ＰLT" とＰLT" より高い強度ＰW2" との間で周期
Ｔp で強度変調させてマークの形成を続け、最後にマー
クの形成を終了すべくＰL"より低いＰLB" に下げて、そ
のＰLB" を所定時間Ｔoff"維持した後、ＰL"に立ち上げ
る指標パルス（２）」により、前記光磁気ディスクに
「長いマーク−短い間隔−長いマーク」であるパターン
（最密パターン）と「長い間隔−短いマーク−長い間
隔」であるパターン（最粗パターン）のそれぞれを記録
し、再生した場合に得られる再生信号のスライスレベル
が共通となるような前記指標パルス（２）のＰL"、Ｐ
H"、ＰW2" 、ＰLT" 、ＰLB" 、ＴW1" 、Ｔp"、Ｔoff"及
びＰW2" を維持する時間ＴW2" をそれぞれ前記ＰL 、Ｐ
H 、ＰW2、ＰLT、ＰLB、ＴW1、Ｔp 、Ｔoff 及びＴW2と
することを特徴とする請求項４６又は請求項４７記載の
光磁気記録の記録条件決定装置を提供する。
ルによりマークの形成を開始すべくレーザビーム強度を
ＰL"からＰL"より高い強度ＰH"に立ち上げ、ＰH"を時間
ＴW1" 維持した後ＰH"より低い強度ＰLT" に立ち下げ、
その後ＰLT" とＰLT" より高い強度ＰW2" との間で周期
Ｔp で強度変調させてマークの形成を続け、最後にマー
クの形成を終了すべくＰL"より低いＰLB" に下げて、そ
のＰLB" を所定時間Ｔoff"維持した後、ＰL"に立ち上げ
る指標パルス（２）」により、前記光磁気ディスクに
「長いマーク−短い間隔−長いマーク」であるパターン
（最密パターン）と「長い間隔−短いマーク−長い間
隔」であるパターン（最粗パターン）のそれぞれを記録
し、再生した場合に得られる再生信号のスライスレベル
が共通となるような前記指標パルス（２）のＰL"、Ｐ
H"、ＰW2" 、ＰLT" 、ＰLB" 、ＴW1" 、Ｔp"、Ｔoff"及
びＰW2" を維持する時間ＴW2" をそれぞれ前記ＰL 、Ｐ
H 、ＰW2、ＰLT、ＰLB、ＴW1、Ｔp 、Ｔoff 及びＴW2と
することを特徴とする請求項４６又は請求項４７記載の
光磁気記録の記録条件決定装置を提供する。
【００６１】また、本発明は、第５０に、周期が２ｑＴ
（ｑ；最小ラン・レングス・リミット・ナンバーに１を
加えた値、Ｔ；書き込みクロック周期）である「高温サ
イクルによりマークの形成を開始すべくレーザビーム強
度をＰL'からＰL'より高い強度ＰH'に立ち上げ、ＰH'を
時間ＴW1' 維持した後、ＰL'より低いＰLB' に下げて、
そのＰLB' を所定時間Ｔoff' 維持した後、ＰL'に立ち
上げ、ＰL'を所定時間維持する指標パルス（１）」を前
記光磁気ディスクに記録し再生した場合に、再生信号の
デューティ比が５０％となるような前記指標パルス
（１）のＰL'、ＰH'、ＰLB' 、ＴW1' 及びＴoff'を、そ
れぞれＰL"、ＰH"、ＰLB" 、ＴW1" 及びＴoff"とし、
「高温サイクルによりマークの形成を開始すべくレーザ
ビーム強度をＰL"からＰL"より高い強度ＰH"に立ち上
げ、ＰH"を時間ＴW1" 維持した後ＰH"より低い強度ＰL
T" に立ち下げ、その後ＰLT" とＰLT" より高い強度ＰW
2" との間で周期Ｔp で強度変調させてマークの形成を
続け、最後にマークの形成を終了すべくＰL"より低いＰ
LB" に下げて、そのＰLB" を所定時間Ｔoff"維持した
後、ＰL"に立ち上げる指標パルス（３）」により、前記
光磁気ディスクに「長いマーク−短い間隔−長いマー
ク」であるパターン（最密パターン）と「長い間隔−短
いマーク−長い間隔」であるパターン（最粗パターン）
のそれぞれを記録し、再生した場合に得られる再生信号
のスライスレベルが共通となるような前記指標パルス
（３）のＰL"、ＰH"、ＰW2" 、ＰLT" 、ＰLB" 、ＴW1"
、Ｔp"、Ｔoff"及びＰW2" を維持する時間ＴW2" をそ
れぞれ前記ＰL 、ＰH 、ＰW2、ＰLT、ＰLB、ＴW1、Ｔp
、Ｔoff 及びＴW2とすることを特徴とする請求項４６
又は請求項４７記載の光磁気記録の記録条件決定装置を
提供する。
（ｑ；最小ラン・レングス・リミット・ナンバーに１を
加えた値、Ｔ；書き込みクロック周期）である「高温サ
イクルによりマークの形成を開始すべくレーザビーム強
度をＰL'からＰL'より高い強度ＰH'に立ち上げ、ＰH'を
時間ＴW1' 維持した後、ＰL'より低いＰLB' に下げて、
そのＰLB' を所定時間Ｔoff' 維持した後、ＰL'に立ち
上げ、ＰL'を所定時間維持する指標パルス（１）」を前
記光磁気ディスクに記録し再生した場合に、再生信号の
デューティ比が５０％となるような前記指標パルス
（１）のＰL'、ＰH'、ＰLB' 、ＴW1' 及びＴoff'を、そ
れぞれＰL"、ＰH"、ＰLB" 、ＴW1" 及びＴoff"とし、
「高温サイクルによりマークの形成を開始すべくレーザ
ビーム強度をＰL"からＰL"より高い強度ＰH"に立ち上
げ、ＰH"を時間ＴW1" 維持した後ＰH"より低い強度ＰL
T" に立ち下げ、その後ＰLT" とＰLT" より高い強度ＰW
2" との間で周期Ｔp で強度変調させてマークの形成を
続け、最後にマークの形成を終了すべくＰL"より低いＰ
LB" に下げて、そのＰLB" を所定時間Ｔoff"維持した
後、ＰL"に立ち上げる指標パルス（３）」により、前記
光磁気ディスクに「長いマーク−短い間隔−長いマー
ク」であるパターン（最密パターン）と「長い間隔−短
いマーク−長い間隔」であるパターン（最粗パターン）
のそれぞれを記録し、再生した場合に得られる再生信号
のスライスレベルが共通となるような前記指標パルス
（３）のＰL"、ＰH"、ＰW2" 、ＰLT" 、ＰLB" 、ＴW1"
、Ｔp"、Ｔoff"及びＰW2" を維持する時間ＴW2" をそ
れぞれ前記ＰL 、ＰH 、ＰW2、ＰLT、ＰLB、ＴW1、Ｔp
、Ｔoff 及びＴW2とすることを特徴とする請求項４６
又は請求項４７記載の光磁気記録の記録条件決定装置を
提供する。
【００６２】また、本発明は、第５１に、前記強度ＰLT
を、前記強度ＰL と等しく設定することを特徴とする請
求項４６から請求項５０のいずれかに記載の光磁気記録
の記録条件決定装置を提供する。また、本発明は、第５
２に、前記強度ＰLTを、前記強度ＰL より大きい値に設
定することを特徴とする請求項４６から請求項５０のい
ずれかに記載の光磁気記録の記録条件決定装置を提供す
る。
を、前記強度ＰL と等しく設定することを特徴とする請
求項４６から請求項５０のいずれかに記載の光磁気記録
の記録条件決定装置を提供する。また、本発明は、第５
２に、前記強度ＰLTを、前記強度ＰL より大きい値に設
定することを特徴とする請求項４６から請求項５０のい
ずれかに記載の光磁気記録の記録条件決定装置を提供す
る。
【００６３】また、本発明は、第５３に、ＰLTとＰLTよ
り高い強度ＰW2との間で強度変調させる際の変調周期Ｔ
p を書き込みクロック周期Ｔと等しく設定することを特
徴とする請求項４６から請求項５２のいずれかに記載の
光磁気記録の記録条件決定装置を提供する。また、本発
明は、第５４に、ＰW2を維持する時間ＴW2を、ＰLTとＰ
LTより高い強度ＰW2との間で強度変調させる際の変調周
期Ｔp のｍ／ｎ倍（ｍ，ｎは自然数、ｍ＜ｎ）とするこ
とを特徴とする請求項４６から請求項５３のいずれかに
記載の光磁気記録の記録条件決定装置を提供する。
り高い強度ＰW2との間で強度変調させる際の変調周期Ｔ
p を書き込みクロック周期Ｔと等しく設定することを特
徴とする請求項４６から請求項５２のいずれかに記載の
光磁気記録の記録条件決定装置を提供する。また、本発
明は、第５４に、ＰW2を維持する時間ＴW2を、ＰLTとＰ
LTより高い強度ＰW2との間で強度変調させる際の変調周
期Ｔp のｍ／ｎ倍（ｍ，ｎは自然数、ｍ＜ｎ）とするこ
とを特徴とする請求項４６から請求項５３のいずれかに
記載の光磁気記録の記録条件決定装置を提供する。
【００６４】また、本発明は、第５５に、前記時間ＴW2
を前記時間Ｔp と等しく設定し、前記ＰLTに維持する時
間をゼロにすることを特徴とする請求項４６から請求項
５３のいずれかに記載の光磁気記録の記録条件決定装置
を提供する。また、本発明は、第５６に、前記強度ＰH
は、所望の幅のマークを与える値を上限とし、その上限
以下から選択することを特徴とする請求項４６から請求
項５５のいずれかに記載の光磁気記録の記録条件決定装
置を提供する。
を前記時間Ｔp と等しく設定し、前記ＰLTに維持する時
間をゼロにすることを特徴とする請求項４６から請求項
５３のいずれかに記載の光磁気記録の記録条件決定装置
を提供する。また、本発明は、第５６に、前記強度ＰH
は、所望の幅のマークを与える値を上限とし、その上限
以下から選択することを特徴とする請求項４６から請求
項５５のいずれかに記載の光磁気記録の記録条件決定装
置を提供する。
【００６５】また、本発明は、第５７に、前記強度ＰW2
を前記強度ＰH と等しく設定することを特徴とする請求
項４６から請求項５６のいずれかに記載の光磁気記録の
記録条件決定装置を提供する。また、本発明は、第５８
に、前記強度ＰW2を前記強度ＰH より小さい値に設定す
ることを特徴とする請求項４６から請求項５６のいずれ
かに記載の光磁気記録の記録条件決定装置を提供する。
を前記強度ＰH と等しく設定することを特徴とする請求
項４６から請求項５６のいずれかに記載の光磁気記録の
記録条件決定装置を提供する。また、本発明は、第５８
に、前記強度ＰW2を前記強度ＰH より小さい値に設定す
ることを特徴とする請求項４６から請求項５６のいずれ
かに記載の光磁気記録の記録条件決定装置を提供する。
【００６６】また、本発明は、第５９に、前記強度ＰLB
を再生時のレーザビーム強度と等しく設定するか又はゼ
ロにすることを特徴とする請求項４６から請求項５８の
いずれかに記載の光磁気記録の記録条件決定装置を提供
する。また、本発明は、第６０に、前記時間Ｔoff を、
書き込みクロック周期Ｔのｍ／ｎ倍（ｍ，ｎは自然数）
又はそれに近い値に設定することを特徴とする請求項４
６から請求項５９のいずれかに記載の光磁気記録の記録
条件決定装置を提供する。
を再生時のレーザビーム強度と等しく設定するか又はゼ
ロにすることを特徴とする請求項４６から請求項５８の
いずれかに記載の光磁気記録の記録条件決定装置を提供
する。また、本発明は、第６０に、前記時間Ｔoff を、
書き込みクロック周期Ｔのｍ／ｎ倍（ｍ，ｎは自然数）
又はそれに近い値に設定することを特徴とする請求項４
６から請求項５９のいずれかに記載の光磁気記録の記録
条件決定装置を提供する。
【００６７】
【作用】まず、熱時定数τについて説明する。図５は、
記録すべきデータ信号のパターン（波形）の一例（図５
(1)）、そのときのレーザビームの発光及び消光を示す
チャート（光源へ入力する電力のチャート）（図５
(2)）、そのときのディスクの温度プロフィール（昇温
プロフィール）（図５(3)）、及び形成されるマークの
関係を示す説明図（図５(4)）である。
記録すべきデータ信号のパターン（波形）の一例（図５
(1)）、そのときのレーザビームの発光及び消光を示す
チャート（光源へ入力する電力のチャート）（図５
(2)）、そのときのディスクの温度プロフィール（昇温
プロフィール）（図５(3)）、及び形成されるマークの
関係を示す説明図（図５(4)）である。
【００６８】光ディスクに対し、記録用レーザビーム
（パルス）を用いて光記録を行なう場合、熱拡散の立場
から光ディスクを見ると、断熱的ディスクと熱拡散的デ
ィスクの２種存在する。レーザビームをデータ信号（図
５(2)）に従い、図５(2)に示すように、消光から発光へ
とステップ関数的（矩形波のように）に立ち上げるとす
る。断熱的ディスクは、熱拡散的ディスクに比べて熱が
こもり易いため、レーザビームの単位強度当たりの昇温
［℃／ｍＷ］、すなわち、式（３）に於けるＡが大き
い。つまり、同一の強度で長時間照射した場合、温度が
飽和するレベルは、断熱的ディスクの方が高い。一方、
断熱的ディスクは、昇温プロフィール又は温度プロフィ
ール〔instantaneous (elevated) temperature profil
e 〕が飽和に達するまでの所要時間が、熱拡散的ディス
クに比べて長い。図６は、温度が飽和に達するまでの所
要時間（ｔsat ）を示す温度プロフィールのグラフであ
る。すなわち、断熱的ディスクは、図６におけるｔsat
が、熱拡散的ディスクに比べて長い。このことは、土瓶
は鉄瓶よりも熱し難く冷め難いと考えれば、分かりやす
い。熱時定数τは、このｔsat に対応する。すなわち、
ｔsat の長いディスクはτが大きいといえる。
（パルス）を用いて光記録を行なう場合、熱拡散の立場
から光ディスクを見ると、断熱的ディスクと熱拡散的デ
ィスクの２種存在する。レーザビームをデータ信号（図
５(2)）に従い、図５(2)に示すように、消光から発光へ
とステップ関数的（矩形波のように）に立ち上げるとす
る。断熱的ディスクは、熱拡散的ディスクに比べて熱が
こもり易いため、レーザビームの単位強度当たりの昇温
［℃／ｍＷ］、すなわち、式（３）に於けるＡが大き
い。つまり、同一の強度で長時間照射した場合、温度が
飽和するレベルは、断熱的ディスクの方が高い。一方、
断熱的ディスクは、昇温プロフィール又は温度プロフィ
ール〔instantaneous (elevated) temperature profil
e 〕が飽和に達するまでの所要時間が、熱拡散的ディス
クに比べて長い。図６は、温度が飽和に達するまでの所
要時間（ｔsat ）を示す温度プロフィールのグラフであ
る。すなわち、断熱的ディスクは、図６におけるｔsat
が、熱拡散的ディスクに比べて長い。このことは、土瓶
は鉄瓶よりも熱し難く冷め難いと考えれば、分かりやす
い。熱時定数τは、このｔsat に対応する。すなわち、
ｔsat の長いディスクはτが大きいといえる。
【００６９】本発明者の一人は、鋭意研究の結果、先に
光ディスクそれ自体を測定することによって、ディスク
の熱時定数を測定する方法を発明した。次にこの測定方
法を説明する。 ＜熱時定数の測定方法＞被測定物である光ディスクと、
測定ツール（測定手段）である光ディスク評価用の光記
録／再生装置（以下、評価用ドライブとも言う）を用意
する。レーザビームは、N.A.＝ 0.55 、波長＝ 830 nm
であり、立ち上がり時間と立ち下がり時間は共に約 5ns
ecである。評価用ドライブに光ディスクをセットし、デ
ィスクのトラックが測定線速度（Ｖ＝11.3 ｍ／sec ）
となるようにディスクを回転させる。次に評価用ドライ
ブのレーザビームのスポットをトラック上にサーボオン
させる。つまり、フォーカシングとトラッキングのサー
ボ装置を作動させる。そして、レーザビームをパルス変
調する。レーザビームの照射によりディスクの温度は上
昇するが、パルス変調は、各パルスの加熱による熱が干
渉し合わないと見なせるに十分な時間間隔が開くような
デュティ・サイクル（duty cycle）とする。そして、様
々なパルス時間長（pulse dulation time ；以下、P.D.
T.と略す）を持つパルスをディスクに照射し、各P.D.T.
毎の「ディスクに記録を行うことのできる最小パワー
（Ｐth）」を求める。図７は、パルス時間長（P.D.T.）
を説明する波形図である。時間P.D.T.の間、「ディスク
に記録を行うことのできる最小パワー（Ｐth）」でレー
ザビームのパルスをディスクに照射することを示してい
る。図８は、Ｐthを縦軸、P.D.T.を横軸にデータをプロ
ットしたグラフである。図８に示すように、ＰthはP.D.
T.が長くなるにつれて低下し、ある一定のレベルＰ0 に
収束する。
光ディスクそれ自体を測定することによって、ディスク
の熱時定数を測定する方法を発明した。次にこの測定方
法を説明する。 ＜熱時定数の測定方法＞被測定物である光ディスクと、
測定ツール（測定手段）である光ディスク評価用の光記
録／再生装置（以下、評価用ドライブとも言う）を用意
する。レーザビームは、N.A.＝ 0.55 、波長＝ 830 nm
であり、立ち上がり時間と立ち下がり時間は共に約 5ns
ecである。評価用ドライブに光ディスクをセットし、デ
ィスクのトラックが測定線速度（Ｖ＝11.3 ｍ／sec ）
となるようにディスクを回転させる。次に評価用ドライ
ブのレーザビームのスポットをトラック上にサーボオン
させる。つまり、フォーカシングとトラッキングのサー
ボ装置を作動させる。そして、レーザビームをパルス変
調する。レーザビームの照射によりディスクの温度は上
昇するが、パルス変調は、各パルスの加熱による熱が干
渉し合わないと見なせるに十分な時間間隔が開くような
デュティ・サイクル（duty cycle）とする。そして、様
々なパルス時間長（pulse dulation time ；以下、P.D.
T.と略す）を持つパルスをディスクに照射し、各P.D.T.
毎の「ディスクに記録を行うことのできる最小パワー
（Ｐth）」を求める。図７は、パルス時間長（P.D.T.）
を説明する波形図である。時間P.D.T.の間、「ディスク
に記録を行うことのできる最小パワー（Ｐth）」でレー
ザビームのパルスをディスクに照射することを示してい
る。図８は、Ｐthを縦軸、P.D.T.を横軸にデータをプロ
ットしたグラフである。図８に示すように、ＰthはP.D.
T.が長くなるにつれて低下し、ある一定のレベルＰ0 に
収束する。
【００７０】次に、図９に示す如くに、ＰthをＰ0 で規
格化した値の逆数、すなわち、Ｐ0／Ｐthを縦軸、P.D.
T.を横軸にデータをプロットする。これは、レーザビー
ムをディスクに照射した場合の、昇温時の熱応答関数の
グラフを表す。また、図１０に示す如くに、縦軸に１−
Ｐ0 ／Ｐthをとれば、レーザビームをＯＦＦした時の、
降温時の熱応答関数のグラフを表す。図１０の熱応答関
数が指数関数 exp(−ｔ／τ)に近似できるとき、前記τ
は測定した光ディスクの、測定した線速度（Ｖ）での、
測定したレーザビームによる昇温降温の熱時定数を表
す。
格化した値の逆数、すなわち、Ｐ0／Ｐthを縦軸、P.D.
T.を横軸にデータをプロットする。これは、レーザビー
ムをディスクに照射した場合の、昇温時の熱応答関数の
グラフを表す。また、図１０に示す如くに、縦軸に１−
Ｐ0 ／Ｐthをとれば、レーザビームをＯＦＦした時の、
降温時の熱応答関数のグラフを表す。図１０の熱応答関
数が指数関数 exp(−ｔ／τ)に近似できるとき、前記τ
は測定した光ディスクの、測定した線速度（Ｖ）での、
測定したレーザビームによる昇温降温の熱時定数を表
す。
【００７１】本発明によれば、それぞれの光磁気ディス
クのτに応じて、最適な記録条件（ＰL とＰH とＴW1と
ＰW2とＴp とＴW2とＰLTとＰLBとＴoff の９者）が得ら
れる。これにより、「マークの後ろエッジ位置の記録デ
ータパターン依存性」及び「マークの前エッジ位置の記
録データパターン依存性」を最小にすることができる。
前記依存性が小さくなると、高密度記録が正確に行なう
ことができ、データの弁別性が良好となる。
クのτに応じて、最適な記録条件（ＰL とＰH とＴW1と
ＰW2とＴp とＴW2とＰLTとＰLBとＴoff の９者）が得ら
れる。これにより、「マークの後ろエッジ位置の記録デ
ータパターン依存性」及び「マークの前エッジ位置の記
録データパターン依存性」を最小にすることができる。
前記依存性が小さくなると、高密度記録が正確に行なう
ことができ、データの弁別性が良好となる。
【００７２】作成の容易さから、ＰLTとＰLTより高い強
度ＰW2との間で強度変調させる際の変調周期Ｔp を書き
込みクロック周期Ｔと等しくし、時間ＴW2を、前記変調
周期Ｔp のｍ／ｎ倍（ｍ，ｎは自然数、ｍ＜ｎ）とする
ことが好ましい。また、強度ＰLTをＰL と等しくしても
よい。更に、前記時間ＴW2を前記時間Ｔp と等しくし、
前記ＰLTに維持する時間をゼロにしてもよい。
度ＰW2との間で強度変調させる際の変調周期Ｔp を書き
込みクロック周期Ｔと等しくし、時間ＴW2を、前記変調
周期Ｔp のｍ／ｎ倍（ｍ，ｎは自然数、ｍ＜ｎ）とする
ことが好ましい。また、強度ＰLTをＰL と等しくしても
よい。更に、前記時間ＴW2を前記時間Ｔp と等しくし、
前記ＰLTに維持する時間をゼロにしてもよい。
【００７３】強度ＰH は、所望の幅のマークを与える値
を上限とし、その上限以下から選択することが好まし
い。作成の容易さから、強度ＰW2を前記強度ＰH と等し
くしてもよい。更に、作成の容易さから、ＰLBは再生時
のレーザビーム強度と等しくするか又はゼロにすること
が好ましい。また、Ｔoff は、書き込みクロック周期
（writeclock period）Ｔのｍ／ｎ倍（ｍ，ｎは自然
数）又はそれに近い値とすることが好ましい。
を上限とし、その上限以下から選択することが好まし
い。作成の容易さから、強度ＰW2を前記強度ＰH と等し
くしてもよい。更に、作成の容易さから、ＰLBは再生時
のレーザビーム強度と等しくするか又はゼロにすること
が好ましい。また、Ｔoff は、書き込みクロック周期
（writeclock period）Ｔのｍ／ｎ倍（ｍ，ｎは自然
数）又はそれに近い値とすることが好ましい。
【００７４】以下、実施例により本発明をより具体的に
説明するが、本発明はこれに限られるものではない。
説明するが、本発明はこれに限られるものではない。
【００７５】
【実施例】図１は、本実施例にかかる光磁気記録装置の
主要な構成を示す概念図である。この装置は再生装置を
兼用しており、主として、光磁気記録媒体Ｄを回転させ
るモータ（回転手段６）、レーザビーム光源２、レーザ
ビームの強度を、記録すべき２値化情報に従い、高レベ
ルと低レベルとの間でパルス変調する光源駆動回路１、
記録磁界印加手段（永久磁石１１）、パルス波形整形回
路１０、及び条件決定手段１２からなる。ここでは、パ
ルス波形整形回路１０は、パルス波形を、図２（後述）
に示すような波形に整形する。
主要な構成を示す概念図である。この装置は再生装置を
兼用しており、主として、光磁気記録媒体Ｄを回転させ
るモータ（回転手段６）、レーザビーム光源２、レーザ
ビームの強度を、記録すべき２値化情報に従い、高レベ
ルと低レベルとの間でパルス変調する光源駆動回路１、
記録磁界印加手段（永久磁石１１）、パルス波形整形回
路１０、及び条件決定手段１２からなる。ここでは、パ
ルス波形整形回路１０は、パルス波形を、図２（後述）
に示すような波形に整形する。
【００７６】条件決定手段１２は、式（１）及び式
（２）に基づいて各値（ＰL 、ＰH 、ＴW1、ＰW2、Ｔp
、ＴW2、ＰLT、ＰLB、Ｔoff ）の組合わせを決定する
演算部と、決定された値を出力する出力部を備えてい
る。演算部では、式（１）及び式（２）に基づいて各値
を決定する。そして、決定された値を出力部から出力す
る。パルス波形整形回路１０では、この出力値に基づい
てパルス波形を整形する。
（２）に基づいて各値（ＰL 、ＰH 、ＴW1、ＰW2、Ｔp
、ＴW2、ＰLT、ＰLB、Ｔoff ）の組合わせを決定する
演算部と、決定された値を出力する出力部を備えてい
る。演算部では、式（１）及び式（２）に基づいて各値
を決定する。そして、決定された値を出力部から出力す
る。パルス波形整形回路１０では、この出力値に基づい
てパルス波形を整形する。
【００７７】媒体Ｄとして、光磁気ディスクをセットす
る。回転手段６で媒体Ｄを回転させ、媒体Ｄのトラック
の線速度が所定値となるようにする。光源２からのレー
ザビームのスポットをトラック上にサーボオンさせる。
つまり、フォーカシングとトラッキングのサーボ装置
（不図示）を作動させる。そして、光源２から出射され
るレーザビームを、光源駆動回路１により記録すべき２
値化情報に従いパルス変調する。光源２から出射したビ
ームは、コリメータレンズ３を通って平行にされた後、
ビームスプリッタ４で反射される。反射されたビーム
は、対物レンズ５で集光され、媒体Ｄ上に焦点を結ぶ。
記録は、これで基本的に終わりである。
る。回転手段６で媒体Ｄを回転させ、媒体Ｄのトラック
の線速度が所定値となるようにする。光源２からのレー
ザビームのスポットをトラック上にサーボオンさせる。
つまり、フォーカシングとトラッキングのサーボ装置
（不図示）を作動させる。そして、光源２から出射され
るレーザビームを、光源駆動回路１により記録すべき２
値化情報に従いパルス変調する。光源２から出射したビ
ームは、コリメータレンズ３を通って平行にされた後、
ビームスプリッタ４で反射される。反射されたビーム
は、対物レンズ５で集光され、媒体Ｄ上に焦点を結ぶ。
記録は、これで基本的に終わりである。
【００７８】再生の場合は、強度変調をしないＤＣ点灯
のレーザビームを記録時と同様に媒体Ｄに照射する。そ
して、媒体から反射された光を対物レンズ５を通してビ
ームスプリッタ４に入射させ、そこを透過した光を集光
レンズ７で集光した上で、ディテクタ９に入射させる。
このとき、集光レンズ７とディテクタ９との間に置いた
アナライザ（偏光子）を通して、偏光面の回転状況を光
の強度変化に変換する。これにより、偏光面の回転とし
て読みとった媒体Ｄの記録情報を光の強度変化に変換す
る。光の強度変化は、ディテクタ９で電気信号の強弱に
変換される。これが再生である。
のレーザビームを記録時と同様に媒体Ｄに照射する。そ
して、媒体から反射された光を対物レンズ５を通してビ
ームスプリッタ４に入射させ、そこを透過した光を集光
レンズ７で集光した上で、ディテクタ９に入射させる。
このとき、集光レンズ７とディテクタ９との間に置いた
アナライザ（偏光子）を通して、偏光面の回転状況を光
の強度変化に変換する。これにより、偏光面の回転とし
て読みとった媒体Ｄの記録情報を光の強度変化に変換す
る。光の強度変化は、ディテクタ９で電気信号の強弱に
変換される。これが再生である。
【００７９】上記のような装置において、作用の項で説
明したτの測定法でτ＝55nsec（Ｖ＝11.3ｍ／sec ）を
有するオーバーライト可能な光磁気ディスク（Ｍ層、Ｗ
層のみ）を用意した。全面“初期化”の後、この光磁気
ディスクを測定線速度：Ｖ＝11.3ｍ／sec で回転させ、
これに対し、N.A.＝ 0.55 、波長＝ 830 nm 、レーザパ
ルスの立ち上がり、立ち下がり時間が共に約 5 nsec で
ある記録再生用レーザビームを用い、次の条件で２／３
（１，７） R.L.L., 0.56 μｍ／bit,Ｔ（write clock
period）＝33nsecの NRZI マーク長記録用ランダム信号
を記録した。マークの種類は２Ｔマーク〜８Ｔマークの
７種である。ここで、ｎＴマークとは、記録されたマー
クを再生した際に、そのマークに対応する再生パルスの
幅がクロック周期Ｔのｎ倍（例えば２Ｔマークの場合は
２倍）になるようなマークを示す。 ［比較例１］パルス波形は、図１３に示すような、従来
技術における、ＰH とＰL の２値で変調する単純な波形
を使用した。記録条件はＰH ＝11.2ｍＷ（この値は、所
望の幅のマークを与える値を上限とし、その上限以下か
ら選択した）、ＰL ＝ 4.0ｍＷ（この値は、高温サイク
ルを生じさせない強度である上限と、高温サイクルによ
り形成されたマークを消去できる強度である下限との間
の強度から選択した）とし、前記条件で記録を行って、
再生レーザビーム強度Ｐr ＝1.5 ｍＷで再生して、マー
クの前後エッジ位置の記録データパターン依存性を確認
した。
明したτの測定法でτ＝55nsec（Ｖ＝11.3ｍ／sec ）を
有するオーバーライト可能な光磁気ディスク（Ｍ層、Ｗ
層のみ）を用意した。全面“初期化”の後、この光磁気
ディスクを測定線速度：Ｖ＝11.3ｍ／sec で回転させ、
これに対し、N.A.＝ 0.55 、波長＝ 830 nm 、レーザパ
ルスの立ち上がり、立ち下がり時間が共に約 5 nsec で
ある記録再生用レーザビームを用い、次の条件で２／３
（１，７） R.L.L., 0.56 μｍ／bit,Ｔ（write clock
period）＝33nsecの NRZI マーク長記録用ランダム信号
を記録した。マークの種類は２Ｔマーク〜８Ｔマークの
７種である。ここで、ｎＴマークとは、記録されたマー
クを再生した際に、そのマークに対応する再生パルスの
幅がクロック周期Ｔのｎ倍（例えば２Ｔマークの場合は
２倍）になるようなマークを示す。 ［比較例１］パルス波形は、図１３に示すような、従来
技術における、ＰH とＰL の２値で変調する単純な波形
を使用した。記録条件はＰH ＝11.2ｍＷ（この値は、所
望の幅のマークを与える値を上限とし、その上限以下か
ら選択した）、ＰL ＝ 4.0ｍＷ（この値は、高温サイク
ルを生じさせない強度である上限と、高温サイクルによ
り形成されたマークを消去できる強度である下限との間
の強度から選択した）とし、前記条件で記録を行って、
再生レーザビーム強度Ｐr ＝1.5 ｍＷで再生して、マー
クの前後エッジ位置の記録データパターン依存性を確認
した。
【００８０】その結果、２Ｔインターバル（前のマーク
と後ろのマークとの間隔）後の次のマークの前エッジ位
置が、８Ｔインターバル後の次のマークの前エッジ位置
に比べて、約３nsec、手前にズレていた。つまり、「マ
ークの前エッジ位置の記録データパターン依存性」がま
だ残っていた。また、２Ｔのマークの後ろエッジ位置に
比べて、３Ｔ〜８Ｔマークの後ろエッジ位置が最大約５
nsec、後ろにズレていた。つまり、「マークの後ろエッ
ジ位置の記録データパターン依存性」がまだ残ってい
た。 ［比較例２］パルス波形は、図２に示すようなパルスト
レイン方式及び熱遮断方式を使用した。図２は、２Ｔマ
ーク〜８Ｔマークを形成する場合のレーザビーム強度の
波形図である。条件は、規格書 ECMA ／TC31／92／36文
書の第87頁（図１５参照）に従って、ＴW1＝50nsec（＝
Ｔ×３／２）、Ｔp ＝33nsec（＝Ｔ）、ＴW2＝16.5nsec
（＝Ｔ×１／２）、Ｔoff ＝33nsec（＝Ｔ）、ＰLB＝Ｐ
r ＝1.5 ｍＷとし、ＰH 、ＰL 及びＰW2はそれぞれ、Ｐ
H ＝11.2ｍＷ（この値は、所望の幅のマークを与える値
を上限とし、その上限以下から選択した）、ＰL ＝ 4.0
ｍＷ（この値は、高温サイクルを生じさせない強度であ
る上限と、高温サイクルにより形成されたマークを消去
できる強度である下限との間の強度から選択した）、Ｐ
W2＝11.4ｍＷ（この値は、マークの後ろエッジ位置の記
録データパターン依存性が最小になる値として設定し
た）とした。前記条件で記録を行い、再生レーザビーム
強度Ｐr ＝1.5 ｍＷで再生して、マークの前後エッジ位
置の記録データパターン依存性を確認した。
と後ろのマークとの間隔）後の次のマークの前エッジ位
置が、８Ｔインターバル後の次のマークの前エッジ位置
に比べて、約３nsec、手前にズレていた。つまり、「マ
ークの前エッジ位置の記録データパターン依存性」がま
だ残っていた。また、２Ｔのマークの後ろエッジ位置に
比べて、３Ｔ〜８Ｔマークの後ろエッジ位置が最大約５
nsec、後ろにズレていた。つまり、「マークの後ろエッ
ジ位置の記録データパターン依存性」がまだ残ってい
た。 ［比較例２］パルス波形は、図２に示すようなパルスト
レイン方式及び熱遮断方式を使用した。図２は、２Ｔマ
ーク〜８Ｔマークを形成する場合のレーザビーム強度の
波形図である。条件は、規格書 ECMA ／TC31／92／36文
書の第87頁（図１５参照）に従って、ＴW1＝50nsec（＝
Ｔ×３／２）、Ｔp ＝33nsec（＝Ｔ）、ＴW2＝16.5nsec
（＝Ｔ×１／２）、Ｔoff ＝33nsec（＝Ｔ）、ＰLB＝Ｐ
r ＝1.5 ｍＷとし、ＰH 、ＰL 及びＰW2はそれぞれ、Ｐ
H ＝11.2ｍＷ（この値は、所望の幅のマークを与える値
を上限とし、その上限以下から選択した）、ＰL ＝ 4.0
ｍＷ（この値は、高温サイクルを生じさせない強度であ
る上限と、高温サイクルにより形成されたマークを消去
できる強度である下限との間の強度から選択した）、Ｐ
W2＝11.4ｍＷ（この値は、マークの後ろエッジ位置の記
録データパターン依存性が最小になる値として設定し
た）とした。前記条件で記録を行い、再生レーザビーム
強度Ｐr ＝1.5 ｍＷで再生して、マークの前後エッジ位
置の記録データパターン依存性を確認した。
【００８１】その結果、２Ｔインターバル（前のマーク
と後ろのマークとの間隔）後の次のマークの前エッジ位
置が、８Ｔインターバル後の次のマークの前エッジ位置
に比べて、約１nsec、手前にズレていた。つまり、「マ
ークの前エッジ位置の記録データパターン依存性」がま
だ残っていた。 ［実施例］パルス波形は、［比較例２］と同様に、図２
に示すようなパルストレイン方式及び熱遮断方式を使用
した。但し、条件は次のように決定した。
と後ろのマークとの間隔）後の次のマークの前エッジ位
置が、８Ｔインターバル後の次のマークの前エッジ位置
に比べて、約１nsec、手前にズレていた。つまり、「マ
ークの前エッジ位置の記録データパターン依存性」がま
だ残っていた。 ［実施例］パルス波形は、［比較例２］と同様に、図２
に示すようなパルストレイン方式及び熱遮断方式を使用
した。但し、条件は次のように決定した。
【００８２】まず、式（１）を満足するＰH 、ＰL 、Ｐ
LB、ＴW1及びＴoff の組み合わせを複数個選択する。次
に、選択された値を用い、周期が２ｑＴ（ｑ；最小ラン
・レングス・リミット・ナンバーに１を加えた値、Ｔ；
書き込みクロック周期）である「高温サイクルによりマ
ークの形成を開始すべくレーザビーム強度をＰL からＰ
L より高い強度ＰH に立ち上げ、ＰH を時間ＴW1維持し
た後、ＰL より低いＰLBに下げて、そのＰLBを所定時間
Ｔoff 維持した後、ＰL に立ち上げ、ＰL を所定時間維
持する指標パルス（図３参照）」を光磁気ディスクに記
録、再生する。ここで、再生信号のデューティ比が５０
％となる値をとることにより、最適なＰH 、ＰL 、ＰL
B、ＴW1及びＴoff 、即ち最適な熱遮断条件が決定でき
る。前記方法で、ＰH ＝11.2ｍＷ、ＰL ＝ 4.0ｍＷ、Ｐ
LB＝ 0ｍＷ、ＴW1＝50nsec、Ｔoff＝40nsecを得た（但
し、ＰH は、所望の幅のマークを与える値を上限とし、
その上限以下の強度であり、ＰL は、高温サイクルを生
じさせない強度の上限と、高温サイクルにより形成され
たマークを消去できる強度の下限との間の強度であ
る）。
LB、ＴW1及びＴoff の組み合わせを複数個選択する。次
に、選択された値を用い、周期が２ｑＴ（ｑ；最小ラン
・レングス・リミット・ナンバーに１を加えた値、Ｔ；
書き込みクロック周期）である「高温サイクルによりマ
ークの形成を開始すべくレーザビーム強度をＰL からＰ
L より高い強度ＰH に立ち上げ、ＰH を時間ＴW1維持し
た後、ＰL より低いＰLBに下げて、そのＰLBを所定時間
Ｔoff 維持した後、ＰL に立ち上げ、ＰL を所定時間維
持する指標パルス（図３参照）」を光磁気ディスクに記
録、再生する。ここで、再生信号のデューティ比が５０
％となる値をとることにより、最適なＰH 、ＰL 、ＰL
B、ＴW1及びＴoff 、即ち最適な熱遮断条件が決定でき
る。前記方法で、ＰH ＝11.2ｍＷ、ＰL ＝ 4.0ｍＷ、Ｐ
LB＝ 0ｍＷ、ＴW1＝50nsec、Ｔoff＝40nsecを得た（但
し、ＰH は、所望の幅のマークを与える値を上限とし、
その上限以下の強度であり、ＰL は、高温サイクルを生
じさせない強度の上限と、高温サイクルにより形成され
たマークを消去できる強度の下限との間の強度であ
る）。
【００８３】次に、前記方法で得られたＰH 、ＰL 、Ｐ
LB、ＴW1及びＴoff を式（２）に代入し、式（２）を満
足するＴp 、ＴW2、ＰLT及びＰW2の組み合わせを複数個
選択する。その後、前記方法で得られた値と選択された
値を用い、図２に示すようなパルス波形で前記光磁気デ
ィスクにマークを記録する。その際、「長いマーク−短
い間隔−長いマーク」であるパターン（最密パターン）
と「長い間隔−短いマーク−長い間隔」であるパターン
（最粗パターン）のそれぞれを記録、再生し、得られる
再生信号のスライスレベルが共通となる値をとる（図４
参照）。
LB、ＴW1及びＴoff を式（２）に代入し、式（２）を満
足するＴp 、ＴW2、ＰLT及びＰW2の組み合わせを複数個
選択する。その後、前記方法で得られた値と選択された
値を用い、図２に示すようなパルス波形で前記光磁気デ
ィスクにマークを記録する。その際、「長いマーク−短
い間隔−長いマーク」であるパターン（最密パターン）
と「長い間隔−短いマーク−長い間隔」であるパターン
（最粗パターン）のそれぞれを記録、再生し、得られる
再生信号のスライスレベルが共通となる値をとる（図４
参照）。
【００８４】ここで、スライスレベルとは、再生信号を
２値化する際のしきい値のことである。このスライスレ
ベルの決め方として、たとえば、次のような方法があ
る。包絡線検波回路により、再生信号を正極性側と負極
性側でそれぞれ包絡線検波する。そして、正極性側にお
ける包絡線検波信号のレベルと負極性側における包絡線
検波信号のレベルの間のレベル（例えば中間値レベル）
をスライスレベルとする。このようにして決定されたス
ライスレベルに基づき、再生信号のレベルがそのスライ
スレベルより大きいか小さいかによって、再生信号を２
値化する。
２値化する際のしきい値のことである。このスライスレ
ベルの決め方として、たとえば、次のような方法があ
る。包絡線検波回路により、再生信号を正極性側と負極
性側でそれぞれ包絡線検波する。そして、正極性側にお
ける包絡線検波信号のレベルと負極性側における包絡線
検波信号のレベルの間のレベル（例えば中間値レベル）
をスライスレベルとする。このようにして決定されたス
ライスレベルに基づき、再生信号のレベルがそのスライ
スレベルより大きいか小さいかによって、再生信号を２
値化する。
【００８５】スライスレベルを決める場合、上記のよう
に再生信号の波形を利用して決めるのが一般的である。
そのため、再生信号の波形が異なればスライスレベルも
異なる場合が多い。本実施例においては、前述のよう
に、最密パターンの再生信号のスライスレベルと最粗パ
ターンの再生信号のスライスレベルが共通となるように
各値を選択する。
に再生信号の波形を利用して決めるのが一般的である。
そのため、再生信号の波形が異なればスライスレベルも
異なる場合が多い。本実施例においては、前述のよう
に、最密パターンの再生信号のスライスレベルと最粗パ
ターンの再生信号のスライスレベルが共通となるように
各値を選択する。
【００８６】これにより、最適なＴp 、ＴW2、ＰLT及び
ＰW2、即ち最適なパルストレイン条件が決定できる。前
記方法で、Ｔp ＝33nsec（＝Ｔ）、ＴW2＝16.5nsec（＝
Ｔ×１／２）、ＰLT＝ＰL ＝ 4.0ｍＷ、ＰW2＝11.4ｍＷ
を得た。前記条件で記録を行い、再生レーザビーム強度
Ｐr ＝1.5 ｍＷで再生して、マークの前後エッジ位置の
記録データパターン依存性を測定したところ、該依存性
は測定誤差範囲内で測定されなかった。
ＰW2、即ち最適なパルストレイン条件が決定できる。前
記方法で、Ｔp ＝33nsec（＝Ｔ）、ＴW2＝16.5nsec（＝
Ｔ×１／２）、ＰLT＝ＰL ＝ 4.0ｍＷ、ＰW2＝11.4ｍＷ
を得た。前記条件で記録を行い、再生レーザビーム強度
Ｐr ＝1.5 ｍＷで再生して、マークの前後エッジ位置の
記録データパターン依存性を測定したところ、該依存性
は測定誤差範囲内で測定されなかった。
【００８７】
【発明の効果】以上の通り、本発明によれば、光磁気デ
ィスクにオーバーライト法で記録する際に、最適な記録
条件が求められるので、これを使用して光磁気記録した
場合、どんな光磁気ディスクでも常に「マーク形成の開
始位置、つまりマークの前エッジ位置の記録データパタ
ーン依存性」及び「マーク形成の終了位置、つまりマー
クの後ろエッジ位置の、記録データパターン依存性」が
最小となる。その結果、常に高密度で記録でき、それで
いてデータの弁別性の低下が常に避けられる。
ィスクにオーバーライト法で記録する際に、最適な記録
条件が求められるので、これを使用して光磁気記録した
場合、どんな光磁気ディスクでも常に「マーク形成の開
始位置、つまりマークの前エッジ位置の記録データパタ
ーン依存性」及び「マーク形成の終了位置、つまりマー
クの後ろエッジ位置の、記録データパターン依存性」が
最小となる。その結果、常に高密度で記録でき、それで
いてデータの弁別性の低下が常に避けられる。
【図１】本発明の実施例にかかる光磁気記録装置の主要
な構成を示す概念図。
な構成を示す概念図。
【図２】実施例に使用した、２Ｔマーク〜８Ｔマークを
形成する場合のレーザビーム強度の波形図。
形成する場合のレーザビーム強度の波形図。
【図３】指標パルス（１）の波形図。
【図４】記録パターンの波形とそれを再生したときの再
生信号波形を対比して示す波形図。
生信号波形を対比して示す波形図。
【図５】記録すべきデータ信号のパターン（波形）の一
例、そのときのレーザビームの発光及び消光を示すチャ
ート（光源へ入力する電力のチャート）、そのときのデ
ィスクの温度プロフィール（昇温プロフィール）及び形
成されるマークの関係を示す説明図。
例、そのときのレーザビームの発光及び消光を示すチャ
ート（光源へ入力する電力のチャート）、そのときのデ
ィスクの温度プロフィール（昇温プロフィール）及び形
成されるマークの関係を示す説明図。
【図６】温度が飽和に達するするまでの所要時間（ｔsa
t ）を示す温度プロフィールのグラフ。
t ）を示す温度プロフィールのグラフ。
【図７】パルス時間長（P.D.T.）を説明する波形図。
【図８】Ｐthを縦軸、P.D.T.を横軸にデータをプロット
したグラフ。
したグラフ。
【図９】Ｐ0 ／Ｐthを縦軸、P.D.T.を横軸にデータをプ
ロットしたグラフ（ディスクの昇温プロフィールを表
す）。
ロットしたグラフ（ディスクの昇温プロフィールを表
す）。
【図１０】１−Ｐ0 ／Ｐthを縦軸、P.D.T.を横軸にデー
タをプロットしたグラフ（ディスクの降温プロフィール
を表す）。
タをプロットしたグラフ（ディスクの降温プロフィール
を表す）。
【図１１】熱遮断を用いて１つのマークを形成する場合
のレーザビーム強度の波形図。
のレーザビーム強度の波形図。
【図１２】熱遮断を用い、かつパルストレイン方式で１
つのマークを形成する場合のレーザビーム強度の波形
図。
つのマークを形成する場合のレーザビーム強度の波形
図。
【図１３】従来の方式で１つのマークを形成する場合の
レーザビーム強度の波形図。
レーザビーム強度の波形図。
【図１４】パルストレイン方式で１つのマークを形成す
る場合のレーザビーム強度の波形図。
る場合のレーザビーム強度の波形図。
【図１５】規格書 ECMA ／TC31／92／36文書の第87頁に
記載された波形図。
記載された波形図。
１；光源駆動回路 ２；レーザビーム光源 ３；コリメータレンズ ４；ビームスプリッタ ５；対物レンズ ６；モータ（回転手段） ７；集光レンズ ８；アナライザ（偏光子） ９；ディテクタ １０；パルス波形整形回路 １１；記録磁界印加手段（永久磁石） １２；条件決定手段 Ｄ；記録媒体
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (54)【発明の名称】 光磁気ディスクに熱遮断方式及びパルストレイン方式で オーバーライト する場合における記録条件決定方法、 同記録条件決定装置、光磁気記録 方法及び光磁気記録 装置
Claims (60)
- 【請求項１】オーバーライト可能な光磁気ディスクに照
射するレーザビーム強度を、ＰL からＰL より高い強度
ＰH へ立ち上げ、ＰH を時間ＴW1維持した後ＰH より低
い強度ＰLTに立ち下げ、その後ＰLTとＰLTより高い強度
ＰW2との間で周期Ｔp で強度変調させて前記光磁気ディ
スクに高温サイクルによりマークを形成し、その後ＰL
より低い強度ＰLBに立ち下げ、時間Ｔoff 後ＰL に立ち
上げる光磁気記録方法であって、 前記ＰL は前記光磁気ディスク上の温度がある一定温度
Θpre となるプレヒート状態を保つレーザビーム強度で
あり、かつ、高温サイクルを生じさせない強度である上
限と、高温サイクルにより形成されたマークを消去でき
る強度である下限との間の強度から選択され、 前記ＰL 、Ｔoff 及びＰLBのうちの少なくとも１つを制
御することにより、次のマークを形成すべく再度ＰH に
立ち上げるまでの時間内にプレヒート状態とし、 かつ、前記ＰW2、ＰLT及びＰW2を維持する時間ＴW2のう
ちの少なくとも１つを制御することにより、前記光磁気
ディスク面上に照射されたレーザビームのピーク温度位
置又はスポット中心位置での温度を、ＴW1経過時とＴW2
経過時とで等しくすることを特徴とする光磁気記録方
法。 - 【請求項２】オーバーライト可能な光磁気ディスクに照
射するレーザビーム強度を、ＰL からＰL より高い強度
ＰH へ立ち上げ、ＰH を時間ＴW1維持した後ＰH より低
い強度ＰLTに立ち下げ、その後ＰLTとＰLTより高い強度
ＰW2との間で周期Ｔp で強度変調させて前記光磁気ディ
スクに高温サイクルによりマークを形成し、その後ＰL
より低い強度ＰLBに立ち下げ、時間Ｔoff 後ＰL に立ち
上げる光磁気記録方法であって、 前記ＰL は前記光磁気ディスク上の温度がある一定温度
Θpre となるプレヒート状態を保つレーザビーム強度で
あり、かつ、高温サイクルを生じさせない強度である上
限と、高温サイクルにより形成されたマークを消去でき
る強度である下限との間の強度から選択され、 前記各値を下記式（１）及び式（２）を満足する組合せ
として求めることを特徴とする光磁気記録方法。 Ｔoff ＝τ×ln[{(ＰH -ＰLB)-(ＰH -ＰL )×exp(-ＴW1/τ)}÷(ＰL -ＰLB)] ・・・・・式（１） (ＰH -ＰL )×{１-exp(-ＴW1／τ)}×{１-exp(-Ｔp ／τ)} ＝(ＰLT-ＰL )×{１-exp(-Ｔp ／τ)}+(ＰW2-ＰLT)×{１-exp(-ＴW2／τ)} ・・・・・式（２） （τ；前記光磁気ディスクの熱時定数、ＴW2；ＰW2を維持する時間） - 【請求項３】周期が２ｑＴ（ｑ；最小ラン・レングス・
リミット・ナンバーに１を加えた値、Ｔ；書き込みクロ
ック周期）である「高温サイクルによりマークの形成を
開始すべくレーザビーム強度をＰL'からＰL'より高い強
度ＰH'に立ち上げ、ＰH'を時間ＴW1' 維持した後、ＰL'
より低いＰLB' に下げて、そのＰLB' を所定時間Ｔoff'
維持した後、ＰL'に立ち上げ、ＰL'を所定時間維持す
る指標パルス（１）」を前記光磁気ディスクに記録し再
生した場合に、再生信号のデューティ比が５０％となる
ような前記指標パルス（１）のＰL'、ＰH'、ＰLB' 、Ｔ
W1' 及びＴoff'を、それぞれ前記ＰL 、ＰH 、ＰLB、Ｔ
W1及びＴoff とすることを特徴とする請求項１又は請求
項２記載の光磁気記録方法。 - 【請求項４】「高温サイクルによりマークの形成を開始
すべくレーザビーム強度をＰL"からＰL"より高い強度Ｐ
H"に立ち上げ、ＰH"を時間ＴW1" 維持した後ＰH"より低
い強度ＰLT" に立ち下げ、その後ＰLT" とＰLT" より高
い強度ＰW2" との間で周期Ｔp"で強度変調させてマーク
の形成を続け、最後にマークの形成を終了すべくＰL"よ
り低いＰLB" に下げて、そのＰLB" を所定時間Ｔoff"維
持した後、ＰL"に立ち上げる指標パルス（２）」によ
り、前記光磁気ディスクに「長いマーク−短い間隔−長
いマーク」であるパターン（最密パターン）と「長い間
隔−短いマーク−長い間隔」であるパターン（最粗パタ
ーン）のそれぞれを記録し、再生した場合に得られる再
生信号のスライスレベルが共通となるような前記指標パ
ルス（２）のＰL"、ＰH"、ＰW2" 、ＰLT" 、ＰLB" 、Ｔ
W1" 、Ｔp"、Ｔoff"及びＰW2" を維持する時間ＴW2" を
それぞれ前記ＰL 、ＰH 、ＰW2、ＰLT、ＰLB、ＴW1、Ｔ
p 、Ｔoff 及びＴW2とすることを特徴とする請求項１又
は請求項２記載の光磁気記録方法。 - 【請求項５】周期が２ｑＴ（ｑ；最小ラン・レングス・
リミット・ナンバーに１を加えた値、Ｔ；書き込みクロ
ック周期）である「高温サイクルによりマークの形成を
開始すべくレーザビーム強度をＰL'からＰL'より高い強
度ＰH'に立ち上げ、ＰH'を時間ＴW1' 維持した後、ＰL'
より低いＰLB' に下げて、そのＰLB' を所定時間Ｔoff'
維持した後、ＰL'に立ち上げ、ＰL'を所定時間維持す
る指標パルス（１）」を前記光磁気ディスクに記録し再
生した場合に、再生信号のデューティ比が５０％となる
ような前記指標パルス（１）のＰL'、ＰH'、ＰLB' 、Ｔ
W1' 及びＴoff'を、それぞれＰL"、ＰH"、ＰLB" 、ＴW
1" 及びＴoff"とし、 「高温サイクルによりマークの形成を開始すべくレーザ
ビーム強度をＰL"からＰL"より高い強度ＰH"に立ち上
げ、ＰH"を時間ＴW1" 維持した後ＰH"より低い強度ＰL
T" に立ち下げ、その後ＰLT" とＰLT" より高い強度ＰW
2" との間で周期Ｔp"で強度変調させてマークの形成を
続け、最後にマークの形成を終了すべくＰL"より低いＰ
LB" に下げて、そのＰLB" を所定時間Ｔoff"維持した
後、ＰL"に立ち上げる指標パルス（３）」により、前記
光磁気ディスクに「長いマーク−短い間隔−長いマー
ク」であるパターン（最密パターン）と「長い間隔−短
いマーク−長い間隔」であるパターン（最粗パターン）
のそれぞれを記録し、再生した場合に得られる再生信号
のスライスレベルが共通となるような前記指標パルス
（３）のＰL"、ＰH"、ＰW2" 、ＰLT" 、ＰLB" 、ＴW1"
、Ｔp"、Ｔoff" 及びＰW2" を維持する時間ＴW2" をそ
れぞれ前記ＰL 、ＰH 、ＰW2、ＰLT、ＰLB、ＴW1、Ｔ
p、Ｔoff 及びＴW2とすることを特徴とする請求項１又
は請求項２記載の光磁気記録方法。 - 【請求項６】前記強度ＰLTを、前記強度ＰL と等しくし
たことを特徴とする請求項１から請求項５のいずれかに
記載の光磁気記録方法。 - 【請求項７】前記強度ＰLTを、前記強度ＰL より大きく
したことを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか
に記載の光磁気記録方法。 - 【請求項８】ＰLTとＰLTより高い強度ＰW2との間で強度
変調させる際の変調周期Ｔp を書き込みクロック周期Ｔ
と等しくしたことを特徴とする請求項１から請求項７の
いずれかに記載の光磁気記録方法。 - 【請求項９】ＰW2を維持する時間ＴW2を、ＰLTとＰLTよ
り高い強度ＰW2との間で強度変調させる際の変調周期Ｔ
p のｍ／ｎ倍（ｍ，ｎは自然数、ｍ＜ｎ）としたことを
特徴とする請求項１から請求項８のいずれかに記載の光
磁気記録方法。 - 【請求項１０】前記時間ＴW2を前記時間Ｔp と等しく
し、前記ＰLTに維持する時間をゼロにすることを特徴と
する請求項１から請求項８のいずれかに記載の光磁気記
録方法。 - 【請求項１１】前記強度ＰH は、所望の幅のマークを与
える値を上限とし、その上限以下から選択することを特
徴とする請求項１から請求項１０のいずれかに記載の光
磁気記録方法。 - 【請求項１２】前記強度ＰW2を前記強度ＰH と等しくし
たことを特徴とする請求項１から請求項１１のいずれか
に記載の光磁気記録方法。 - 【請求項１３】前記強度ＰW2を前記強度ＰH より小さく
したことを特徴とする請求項１から請求項１１のいずれ
かに記載の光磁気記録方法。 - 【請求項１４】前記強度ＰLBを再生時のレーザビーム強
度と等しくするか又はゼロにすることを特徴とする請求
項１から請求項１３のいずれかに記載の光磁気記録方
法。 - 【請求項１５】前記時間Ｔoff を、書き込みクロック周
期Ｔのｍ／ｎ倍（ｍ，ｎは自然数）又はそれに近い値と
することを特徴とする請求項１から請求項１４のいずれ
かに記載の光磁気記録方法。 - 【請求項１６】レーザビームを出射する光源と、 前記レーザビームをオーバーライト可能な光磁気ディス
クに照射する照射手段と、 前記光磁気ディスク上の前記レーザビームの照射位置を
変化させる移動手段と、 高温サイクルによりマークを形成すべく、前記光磁気デ
ィスクに照射するレーザビーム強度を、ＰL からＰL よ
り高い強度ＰH へ立ち上げ、ＰH を時間ＴW1維持した後
ＰH より低い強度ＰLTに立ち下げ、その後ＰLTとＰLTよ
り高い強度ＰW2との間で周期Ｔp で強度変調させる第１
の変調手段と、 前記光磁気ディスクにマークを形成した後、ＰL より低
い強度ＰLBに立ち下げ、時間Ｔoff 後ＰL に立ち上げる
第２の変調手段と、 前記ＰL は前記光磁気ディスク上の温度がある一定温度
Θpre となるプレヒート状態を保つレーザビーム強度で
あり、かつ、高温サイクルを生じさせない強度である上
限と、高温サイクルにより形成されたマークを消去でき
る強度である下限との間の強度から選択する条件決定手
段と、 次のマークを形成すべく再度ＰH に立ち上げるまでの時
間内にプレヒート状態となるように、前記ＰL 、Ｔoff
及びＰLBのうちの少なくとも１つを制御する第１の制御
手段と、 前記光磁気ディスク面上に照射されたレーザビームのピ
ーク温度位置又はスポット中心位置での温度を、ＴW1経
過時とＴW2経過時（ＴW2はＰW2を維持する時間）とで等
しくするように、前記ＰW2、ＰLT及びＴW2のうちの少な
くとも１つを制御する第２の制御手段と、 を備えたことを特徴とする光磁気記録装置。 - 【請求項１７】レーザビームを出射する光源と、 前記レーザビームをオーバーライト可能な光磁気ディス
クに照射する照射手段と、 前記光磁気ディスク上の前記レーザビームの照射位置を
変化させる移動手段と、 高温サイクルによりマークを形成すべく、前記光磁気デ
ィスクに照射するレーザビーム強度を、ＰL からＰL よ
り高い強度ＰH へ立ち上げ、ＰH を時間ＴW1維持した後
ＰH より低い強度ＰLTに立ち下げ、その後ＰLTとＰLTよ
り高い強度ＰW2との間で周期Ｔp で強度変調させる第１
の変調手段と、 前記光磁気ディスクにマークを形成した後、ＰL より低
い強度ＰLBに立ち下げ、時間Ｔoff 後ＰL に立ち上げる
第２の変調手段と、 前記ＰL は前記光磁気ディスク上の温度がある一定温度
Θpre となるプレヒート状態を保つレーザビーム強度で
あり、かつ、高温サイクルを生じさせない強度である上
限と、高温サイクルにより形成されたマークを消去でき
る強度である下限との間の強度から選択する条件決定手
段と、 前記各値を下記式（１）及び式（２）を満足する組合せ
として求める条件決定手段と、 を備えたことを特徴とする光磁気記録装置。 Ｔoff ＝τ×ln[{(ＰH -ＰLB)-(ＰH -ＰL )×exp(-ＴW1/τ)}÷(ＰL -ＰLB)] ・・・・・式（１） (ＰH -ＰL )×{１-exp(-ＴW1／τ)}×{１-exp(-Ｔp ／τ)} ＝(ＰLT-ＰL )×{１-exp(-Ｔp ／τ)}+(ＰW2-ＰLT)×{１-exp(-ＴW2／τ)} ・・・・・式（２） （τ；前記光磁気ディスクの熱時定数、ＴW2；ＰW2を維持する時間） - 【請求項１８】周期が２ｑＴ（ｑ；最小ラン・レングス
・リミット・ナンバーに１を加えた値、Ｔ；書き込みク
ロック周期）である「高温サイクルによりマークの形成
を開始すべくレーザビーム強度をＰL'からＰL'より高い
強度ＰH'に立ち上げ、ＰH'を時間ＴW1' 維持した後、Ｐ
L'より低いＰLB' に下げて、そのＰLB' を所定時間Ｔof
f' 維持した後、ＰL'に立ち上げ、ＰL'を所定時間維持
する指標パルス（１）」を前記光磁気ディスクに記録し
再生した場合に、再生信号のデューティ比が５０％とな
るような前記指標パルス（１）のＰL'、ＰH'、ＰLB' 、
ＴW1' 及びＴoff'を、それぞれ前記ＰL 、ＰH 、ＰLB、
ＴW1及びＴoff とすることを特徴とする請求項１６又は
請求項１７記載の光磁気記録装置。 - 【請求項１９】「高温サイクルによりマークの形成を開
始すべくレーザビーム強度をＰL"からＰL"より高い強度
ＰH"に立ち上げ、ＰH"を時間ＴW1" 維持した後ＰH"より
低い強度ＰLT" に立ち下げ、その後ＰLT" とＰLT" より
高い強度ＰW2" との間で周期Ｔp で強度変調させてマー
クの形成を続け、最後にマークの形成を終了すべくＰL"
より低いＰLB" に下げて、そのＰLB" を所定時間Ｔoff"
維持した後、ＰL"に立ち上げる指標パルス（２）」によ
り、前記光磁気ディスクに「長いマーク−短い間隔−長
いマーク」であるパターン（最密パターン）と「長い間
隔−短いマーク−長い間隔」であるパターン（最粗パタ
ーン）のそれぞれを記録し、再生した場合に得られる再
生信号のスライスレベルが共通となるような前記指標パ
ルス（２）のＰL"、ＰH"、ＰW2" 、ＰLT" 、ＰLB" 、Ｔ
W1" 、Ｔp"、Ｔoff"及びＰW2" を維持する時間ＴW2" を
それぞれ前記ＰL 、ＰH 、ＰW2、ＰLT、ＰLB、ＴW1、Ｔ
p 、Ｔoff 及びＴW2とすることを特徴とする請求項１６
又は請求項１７記載の光磁気記録装置。 - 【請求項２０】周期が２ｑＴ（ｑ；最小ラン・レングス
・リミット・ナンバーに１を加えた値、Ｔ；書き込みク
ロック周期）である「高温サイクルによりマークの形成
を開始すべくレーザビーム強度をＰL'からＰL'より高い
強度ＰH'に立ち上げ、ＰH'を時間ＴW1' 維持した後、Ｐ
L'より低いＰLB' に下げて、そのＰLB' を所定時間Ｔof
f' 維持した後、ＰL'に立ち上げ、ＰL'を所定時間維持
する指標パルス（１）」を前記光磁気ディスクに記録し
再生した場合に、再生信号のデューティ比が５０％とな
るような前記指標パルス（１）のＰL'、ＰH'、ＰLB' 、
ＴW1' 及びＴoff'を、それぞれＰL"、ＰH"、ＰLB" 、Ｔ
W1" 及びＴoff"とし、 「高温サイクルによりマークの形成を開始すべくレーザ
ビーム強度をＰL"からＰL"より高い強度ＰH"に立ち上
げ、ＰH"を時間ＴW1" 維持した後ＰH"より低い強度ＰL
T" に立ち下げ、その後ＰLT" とＰLT" より高い強度ＰW
2" との間で周期Ｔp で強度変調させてマークの形成を
続け、最後にマークの形成を終了すべくＰL"より低いＰ
LB" に下げて、そのＰLB" を所定時間Ｔoff"維持した
後、ＰL"に立ち上げる指標パルス（３）」により、前記
光磁気ディスクに「長いマーク−短い間隔−長いマー
ク」であるパターン（最密パターン）と「長い間隔−短
いマーク−長い間隔」であるパターン（最粗パターン）
のそれぞれを記録し、再生した場合に得られる再生信号
のスライスレベルが共通となるような前記指標パルス
（３）のＰL"、ＰH"、ＰW2" 、ＰLT" 、ＰLB" 、ＴW1"
、Ｔp"、Ｔoff"及びＰW2" を維持する時間ＴW2" をそ
れぞれ前記ＰL 、ＰH 、ＰW2、ＰLT、ＰLB、ＴW1、Ｔp
、Ｔoff 及びＴW2とすることを特徴とする請求項１６
又は請求項１７記載の光磁気記録装置。 - 【請求項２１】前記強度ＰLTを、前記強度ＰL と等しく
したことを特徴とする請求項１６から請求項２０のいず
れかに記載の光磁気記録装置。 - 【請求項２２】前記強度ＰLTを、前記強度ＰL より大き
くしたことを特徴とする請求項１６から請求項２０のい
ずれかに記載の光磁気記録装置。 - 【請求項２３】ＰLTとＰLTより高い強度ＰW2との間で強
度変調させる際の変調周期Ｔp を書き込みクロック周期
Ｔと等しくしたことを特徴とする請求項１６から請求項
２２のいずれかに記載の光磁気記録装置。 - 【請求項２４】ＰW2を維持する時間ＴW2を、ＰLTとＰLT
より高い強度ＰW2との間で強度変調させる際の変調周期
Ｔp のｍ／ｎ倍（ｍ，ｎは自然数、ｍ＜ｎ）としたこと
を特徴とする請求項１６から請求項２３のいずれかに記
載の光磁気記録装置。 - 【請求項２５】前記時間ＴW2を前記時間Ｔp と等しく
し、前記ＰLTに維持する時間をゼロにすることを特徴と
する請求項１６から請求項２３のいずれかに記載の光磁
気記録装置。 - 【請求項２６】前記強度ＰH は、所望の幅のマークを与
える値を上限とし、その上限以下から選択することを特
徴とする請求項１６から請求項２５のいずれかに記載の
光磁気記録装置。 - 【請求項２７】前記強度ＰW2を前記強度ＰH と等しくし
たことを特徴とする請求項１６から請求項２６のいずれ
かに記載の光磁気記録装置。 - 【請求項２８】前記強度ＰW2を前記強度ＰH より小さく
したことを特徴とする請求項１６から請求項２６のいず
れかに記載の光磁気記録装置。 - 【請求項２９】前記強度ＰLBを再生時のレーザビーム強
度と等しくするか又はゼロにすることを特徴とする請求
項１６から請求項２８のいずれかに記載の光磁気記録装
置。 - 【請求項３０】前記時間Ｔoff を、書き込みクロック周
期Ｔのｍ／ｎ倍（ｍ，ｎは自然数）又はそれに近い値と
することを特徴とする請求項１６から請求項２９のいず
れかに記載の光磁気記録装置。 - 【請求項３１】オーバーライト可能な光磁気ディスクに
照射するレーザビーム強度を、ＰL からＰL より高い強
度ＰH へ立ち上げ、ＰH を時間ＴW1維持した後ＰH より
低い強度ＰLTに立ち下げ、その後ＰLTとＰLTより高い強
度ＰW2との間で周期Ｔp で強度変調させて前記光磁気デ
ィスクに高温サイクルによりマークを形成し、その後Ｐ
Lより低い強度ＰLBに立ち下げ、時間Ｔoff 後ＰL に立
ち上げる光磁気記録方法の条件を決定する方法であっ
て、 前記ＰL は前記光磁気ディスク上の温度がある一定温度
Θpre となるプレヒート状態を保つレーザビーム強度で
あり、かつ、高温サイクルを生じさせない強度である上
限と、高温サイクルにより形成されたマークを消去でき
る強度である下限との間の強度から選択し、 次のマークを形成すべく再度ＰH に立ち上げるまでの時
間内にプレヒート状態となるような、前記ＰL 、Ｔoff
及びＰLBの組み合わせを求め、 前記光磁気ディスク面上に照射されたレーザビームのピ
ーク温度位置又はスポット中心位置での温度を、ＴW1経
過時とＴW2経過時（ＴW2はＰW2を維持する時間）とで等
しくするような、前記ＰW2、ＰLT及びＴW2の組み合わせ
を求めることを特徴とする光磁気記録の記録条件決定方
法。 - 【請求項３２】オーバーライト可能な光磁気ディスクに
照射するレーザビーム強度を、ＰL からＰL より高い強
度ＰH へ立ち上げ、ＰH を時間ＴW1維持した後ＰH より
低い強度ＰLTに立ち下げ、その後ＰLTとＰLTより高い強
度ＰW2との間で周期Ｔp で強度変調させて前記光磁気デ
ィスクに高温サイクルによりマークを形成し、その後Ｐ
Lより低い強度ＰLBに立ち下げ、時間Ｔoff 後ＰL に立
ち上げる光磁気記録方法の条件を決定する方法であっ
て、 前記ＰL は前記光磁気ディスク上の温度がある一定温度
Θpre となるプレヒート状態を保つレーザビーム強度で
あり、かつ、高温サイクルを生じさせない強度である上
限と、高温サイクルにより形成されたマークを消去でき
る強度である下限との間の強度から選択し、前記各値を
下記式（１）及び式（２）を満足する組合せとして求め
ることを特徴とする光磁気記録の記録条件決定方法。 Ｔoff ＝τ×ln[{(ＰH -ＰLB)-(ＰH -ＰL )×exp(-ＴW1/τ)}÷(ＰL -ＰLB)] ・・・・・式（１） (ＰH -ＰL )×{１-exp(-ＴW1／τ)}×{１-exp(-Ｔp ／τ)} ＝(ＰLT-ＰL )×{１-exp(-Ｔp ／τ)}+(ＰW2-ＰLT)×{１-exp(-ＴW2／τ)} ・・・・・式（２） （τ；前記光磁気ディスクの熱時定数、ＴW2；ＰW2を維持する時間） - 【請求項３３】周期が２ｑＴ（ｑ；最小ラン・レングス
・リミット・ナンバーに１を加えた値、Ｔ；書き込みク
ロック周期）である「高温サイクルによりマークの形成
を開始すべくレーザビーム強度をＰL'からＰL'より高い
強度ＰH'に立ち上げ、ＰH'を時間ＴW1' 維持した後、Ｐ
L'より低いＰLB' に下げて、そのＰLB' を所定時間Ｔof
f' 維持した後、ＰL'に立ち上げ、ＰL'を所定時間維持
する指標パルス（１）」を前記光磁気ディスクに記録し
再生した場合に、再生信号のデューティ比が５０％とな
るような前記指標パルス（１）のＰL'、ＰH'、ＰLB' 、
ＴW1' 及びＴoff'を、それぞれ前記ＰL 、ＰH 、ＰLB、
ＴW1及びＴoff とすることを特徴とする請求項３１又は
請求項３２記載の光磁気記録の記録条件決定方法。 - 【請求項３４】「高温サイクルによりマークの形成を開
始すべくレーザビーム強度をＰL"からＰL"より高い強度
ＰH"に立ち上げ、ＰH"を時間ＴW1" 維持した後ＰH"より
低い強度ＰLT" に立ち下げ、その後ＰLT" とＰLT" より
高い強度ＰW2" との間で周期Ｔp で強度変調させてマー
クの形成を続け、最後にマークの形成を終了すべくＰL"
より低いＰLB" に下げて、そのＰLB" を所定時間Ｔoff"
維持した後、ＰL"に立ち上げる指標パルス（２）」によ
り、前記光磁気ディスクに「長いマーク−短い間隔−長
いマーク」であるパターン（最密パターン）と「長い間
隔−短いマーク−長い間隔」であるパターン（最粗パタ
ーン）のそれぞれを記録し、再生した場合に得られる再
生信号のスライスレベルが共通となるような前記指標パ
ルス（２）のＰL"、ＰH"、ＰW2" 、ＰLT" 、ＰLB" 、Ｔ
W1" 、Ｔp"、Ｔoff"及びＰW2" を維持する時間ＴW2" を
それぞれ前記ＰL 、ＰH 、ＰW2、ＰLT、ＰLB、ＴW1、Ｔ
p 、Ｔoff 及びＴW2とすることを特徴とする請求項３１
又は請求項３２記載の光磁気記録の記録条件決定方法。 - 【請求項３５】周期が２ｑＴ（ｑ；最小ラン・レングス
・リミット・ナンバーに１を加えた値、Ｔ；書き込みク
ロック周期）である「高温サイクルによりマークの形成
を開始すべくレーザビーム強度をＰL'からＰL'より高い
強度ＰH'に立ち上げ、ＰH'を時間ＴW1' 維持した後、Ｐ
L'より低いＰLB' に下げて、そのＰLB' を所定時間Ｔof
f' 維持した後、ＰL'に立ち上げ、ＰL'を所定時間維持
する指標パルス（１）」を前記光磁気ディスクに記録し
再生した場合に、再生信号のデューティ比が５０％とな
るような前記指標パルス（１）のＰL'、ＰH'、ＰLB' 、
ＴW1' 及びＴoff'を、それぞれＰL"、ＰH"、ＰLB" 、Ｔ
W1" 及びＴoff"とし、 「高温サイクルによりマークの形成を開始すべくレーザ
ビーム強度をＰL"からＰL"より高い強度ＰH"に立ち上
げ、ＰH"を時間ＴW1" 維持した後ＰH"より低い強度ＰL
T" に立ち下げ、その後ＰLT" とＰLT" より高い強度ＰW
2" との間で周期Ｔp で強度変調させてマークの形成を
続け、最後にマークの形成を終了すべくＰL"より低いＰ
LB" に下げて、そのＰLB" を所定時間Ｔoff"維持した
後、ＰL"に立ち上げる指標パルス（３）」により、前記
光磁気ディスクに「長いマーク−短い間隔−長いマー
ク」であるパターン（最密パターン）と「長い間隔−短
いマーク−長い間隔」であるパターン（最粗パターン）
のそれぞれを記録し、再生した場合に得られる再生信号
のスライスレベルが共通となるような前記指標パルス
（３）のＰL"、ＰH"、ＰW2" 、ＰLT" 、ＰLB" 、ＴW1"
、Ｔp"、Ｔoff"及びＰW2" を維持する時間ＴW2" をそ
れぞれ前記ＰL 、ＰH 、ＰW2、ＰLT、ＰLB、ＴW1、Ｔp
、Ｔoff 及びＴW2とすることを特徴とする請求項３１
又は請求項３２記載の光磁気記録の記録条件決定方法。 - 【請求項３６】前記強度ＰLTを、前記強度ＰL と等しく
設定することを特徴とする請求項３１から請求項３５の
いずれかに記載の光磁気記録の記録条件決定方法。 - 【請求項３７】前記強度ＰLTを、前記強度ＰL より大き
い値に設定することを特徴とする請求項３１から請求項
３５のいずれかに記載の光磁気記録の記録条件決定方
法。 - 【請求項３８】ＰLTとＰLTより高い強度ＰW2との間で強
度変調させる際の変調周期Ｔp を書き込みクロック周期
Ｔと等しく設定することを特徴とする請求項３１から請
求項３７のいずれかに記載の光磁気記録の記録条件決定
方法。 - 【請求項３９】ＰW2を維持する時間ＴW2を、ＰLTとＰLT
より高い強度ＰW2との間で強度変調させる際の変調周期
Ｔp のｍ／ｎ倍（ｍ，ｎは自然数、ｍ＜ｎ）とすること
を特徴とする請求項３１から請求項３８のいずれかに記
載の光磁気記録の記録条件決定方法。 - 【請求項４０】前記時間ＴW2を前記時間Ｔp と等しく設
定し、前記ＰLTに維持する時間をゼロにすることを特徴
とする請求項３１から請求項３８のいずれかに記載の光
磁気記録の記録条件決定方法。 - 【請求項４１】前記強度ＰH は、所望の幅のマークを与
える値を上限とし、その上限以下から選択することを特
徴とする請求項３１から請求項４０のいずれかに記載の
光磁気記録の記録条件決定方法。 - 【請求項４２】前記強度ＰW2を前記強度ＰH と等しく設
定することを特徴とする請求項３１から請求項４１のい
ずれかに記載の光磁気記録の記録条件決定方法。 - 【請求項４３】前記強度ＰW2を前記強度ＰH より小さい
値に設定することを特徴とする請求項３１から請求項４
１のいずれかに記載の光磁気記録の記録条件決定方法。 - 【請求項４４】前記強度ＰLBを再生時のレーザビーム強
度と等しく設定するか又はゼロにすることを特徴とする
請求項３１から請求項４３のいずれかに記載の光磁気記
録の記録条件決定方法。 - 【請求項４５】前記時間Ｔoff を、書き込みクロック周
期Ｔのｍ／ｎ倍（ｍ，ｎは自然数）又はそれに近い値に
設定することを特徴とする請求項３１から請求項４４の
いずれかに記載の光磁気記録の記録条件決定方法。 - 【請求項４６】オーバーライト可能な光磁気ディスクに
照射するレーザビーム強度を、ＰL からＰL より高い強
度ＰH へ立ち上げ、ＰH を時間ＴW1維持した後ＰH より
低い強度ＰLTに立ち下げ、その後ＰLTとＰLTより高い強
度ＰW2との間で周期Ｔp で強度変調させて前記光磁気デ
ィスクに高温サイクルによりマークを形成し、その後Ｐ
Lより低い強度ＰLBに立ち下げ、時間Ｔoff 後ＰL に立
ち上げる光磁気記録方法の条件を決定する装置であっ
て、 前記ＰL は前記光磁気ディスク上の温度がある一定温度
Θpre となるプレヒート状態を保つレーザビーム強度で
あり、かつ、高温サイクルを生じさせない強度である上
限と、高温サイクルにより形成されたマークを消去でき
る強度である下限との間の強度から選択する第１演算部
と、 次のマークを形成すべく再度ＰH に立ち上げるまでの時
間内にプレヒート状態となるように、前記ＰL 、Ｔoff
及びＰLBの組み合わせを求める第２演算部と、前記光磁
気ディスク面上に照射されたレーザビームのピーク温度
位置又はスポット中心位置での温度を、ＴW1経過時とＴ
W2経過時（ＴW2はＰW2を維持する時間）とで等しくする
ように、前記ＰW2、ＰLT及びＴW2の組み合わせを求める
第３演算部と、 前記演算部で算出された値を出力する出力部とを備えた
ことを特徴とする光磁気記録の記録条件決定装置。 - 【請求項４７】オーバーライト可能な光磁気ディスクに
照射するレーザビーム強度を、ＰL からＰL より高い強
度ＰH へ立ち上げ、ＰH を時間ＴW1維持した後ＰH より
低い強度ＰLTに立ち下げ、その後ＰLTとＰLTより高い強
度ＰW2との間で周期Ｔp で強度変調させて前記光磁気デ
ィスクに高温サイクルによりマークを形成し、その後Ｐ
Lより低い強度ＰLBに立ち下げ、時間Ｔoff 後ＰL に立
ち上げる光磁気記録方法の条件を決定する装置であっ
て、 前記ＰL は前記光磁気ディスク上の温度がある一定温度
Θpre となるプレヒート状態を保つレーザビーム強度で
あり、かつ、高温サイクルを生じさせない強度である上
限と、高温サイクルにより形成されたマークを消去でき
る強度である下限との間の強度から選択する第１演算部
と、 前記各値を下記式（１）及び式（２）を満足する組合せ
として求める第２演算部と、 前記演算部で算出された値を出力する出力部とを備えた
ことを特徴とする光磁気記録の記録条件決定装置。 Ｔoff ＝τ×ln[{(ＰH -ＰLB)-(ＰH -ＰL )×exp(-ＴW1/τ)}÷(ＰL -ＰLB)] ・・・・・式（１） (ＰH -ＰL )×{１-exp(-ＴW1／τ)}×{１-exp(-Ｔp ／τ)} ＝(ＰLT-ＰL )×{１-exp(-Ｔp ／τ)}+(ＰW2-ＰLT)×{１-exp(-ＴW2／τ)} ・・・・・式（２） （τ；前記光磁気ディスクの熱時定数、ＴW2；ＰW2を維持する時間） - 【請求項４８】周期が２ｑＴ（ｑ；最小ラン・レングス
・リミット・ナンバーに１を加えた値、Ｔ；書き込みク
ロック周期）である「高温サイクルによりマークの形成
を開始すべくレーザビーム強度をＰL'からＰL'より高い
強度ＰH'に立ち上げ、ＰH'を時間ＴW1' 維持した後、Ｐ
L'より低いＰLB' に下げて、そのＰLB' を所定時間Ｔof
f' 維持した後、ＰL'に立ち上げ、ＰL'を所定時間維持
する指標パルス（１）」を前記光磁気ディスクに記録し
再生した場合に、再生信号のデューティ比が５０％とな
るような前記指標パルス（１）のＰL'、ＰH'、ＰLB' 、
ＴW1' 及びＴoff'を、それぞれ前記ＰL 、ＰH 、ＰLB、
ＴW1及びＴoff とすることを特徴とする請求項４６又は
請求項４７記載の光磁気記録の記録条件決定装置。 - 【請求項４９】「高温サイクルによりマークの形成を開
始すべくレーザビーム強度をＰL"からＰL"より高い強度
ＰH"に立ち上げ、ＰH"を時間ＴW1" 維持した後ＰH"より
低い強度ＰLT" に立ち下げ、その後ＰLT" とＰLT" より
高い強度ＰW2" との間で周期Ｔp で強度変調させてマー
クの形成を続け、最後にマークの形成を終了すべくＰL"
より低いＰLB" に下げて、そのＰLB" を所定時間Ｔoff"
維持した後、ＰL"に立ち上げる指標パルス（２）」によ
り、前記光磁気ディスクに「長いマーク−短い間隔−長
いマーク」であるパターン（最密パターン）と「長い間
隔−短いマーク−長い間隔」であるパターン（最粗パタ
ーン）のそれぞれを記録し、再生した場合に得られる再
生信号のスライスレベルが共通となるような前記指標パ
ルス（２）のＰL"、ＰH"、ＰW2" 、ＰLT" 、ＰLB" 、Ｔ
W1" 、Ｔp"、Ｔoff"及びＰW2" を維持する時間ＴW2" を
それぞれ前記ＰL 、ＰH 、ＰW2、ＰLT、ＰLB、ＴW1、Ｔ
p 、Ｔoff 及びＴW2とすることを特徴とする請求項４６
又は請求項４７記載の光磁気記録の記録条件決定装置。 - 【請求項５０】周期が２ｑＴ（ｑ；最小ラン・レングス
・リミット・ナンバーに１を加えた値、Ｔ；書き込みク
ロック周期）である「高温サイクルによりマークの形成
を開始すべくレーザビーム強度をＰL'からＰL'より高い
強度ＰH'に立ち上げ、ＰH'を時間ＴW1' 維持した後、Ｐ
L'より低いＰLB' に下げて、そのＰLB' を所定時間Ｔof
f' 維持した後、ＰL'に立ち上げ、ＰL'を所定時間維持
する指標パルス（１）」を前記光磁気ディスクに記録し
再生した場合に、再生信号のデューティ比が５０％とな
るような前記指標パルス（１）のＰL'、ＰH'、ＰLB' 、
ＴW1' 及びＴoff'を、それぞれＰL"、ＰH"、ＰLB" 、Ｔ
W1" 及びＴoff"とし、 「高温サイクルによりマークの形成を開始すべくレーザ
ビーム強度をＰL"からＰL"より高い強度ＰH"に立ち上
げ、ＰH"を時間ＴW1" 維持した後ＰH"より低い強度ＰL
T" に立ち下げ、その後ＰLT" とＰLT" より高い強度ＰW
2" との間で周期Ｔp で強度変調させてマークの形成を
続け、最後にマークの形成を終了すべくＰL"より低いＰ
LB" に下げて、そのＰLB" を所定時間Ｔoff"維持した
後、ＰL"に立ち上げる指標パルス（３）」により、前記
光磁気ディスクに「長いマーク−短い間隔−長いマー
ク」であるパターン（最密パターン）と「長い間隔−短
いマーク−長い間隔」であるパターン（最粗パターン）
のそれぞれを記録し、再生した場合に得られる再生信号
のスライスレベルが共通となるような前記指標パルス
（３）のＰL"、ＰH"、ＰW2" 、ＰLT" 、ＰLB" 、ＴW1"
、Ｔp"、Ｔoff"及びＰW2" を維持する時間ＴW2" をそ
れぞれ前記ＰL 、ＰH 、ＰW2、ＰLT、ＰLB、ＴW1、Ｔp
、Ｔoff 及びＴW2とすることを特徴とする請求項４６
又は請求項４７記載の光磁気記録の記録条件決定装置。 - 【請求項５１】前記強度ＰLTを、前記強度ＰL と等しく
設定することを特徴とする請求項４６から請求項５０の
いずれかに記載の光磁気記録の記録条件決定装置。 - 【請求項５２】前記強度ＰLTを、前記強度ＰL より大き
い値に設定することを特徴とする請求項４６から請求項
５０のいずれかに記載の光磁気記録の記録条件決定装
置。 - 【請求項５３】ＰLTとＰLTより高い強度ＰW2との間で強
度変調させる際の変調周期Ｔp を書き込みクロック周期
Ｔと等しく設定することを特徴とする請求項４６から請
求項５２のいずれかに記載の光磁気記録の記録条件決定
装置。 - 【請求項５４】ＰW2を維持する時間ＴW2を、ＰLTとＰLT
より高い強度ＰW2との間で強度変調させる際の変調周期
Ｔp のｍ／ｎ倍（ｍ，ｎは自然数、ｍ＜ｎ）とすること
を特徴とする請求項４６から請求項５３のいずれかに記
載の光磁気記録の記録条件決定装置。 - 【請求項５５】前記時間ＴW2を前記時間Ｔp と等しく設
定し、前記ＰLTに維持する時間をゼロにすることを特徴
とする請求項４６から請求項５３のいずれかに記載の光
磁気記録の記録条件決定装置。 - 【請求項５６】前記強度ＰH は、所望の幅のマークを与
える値を上限とし、その上限以下から選択することを特
徴とする請求項４６から請求項５５のいずれかに記載の
光磁気記録の記録条件決定装置。 - 【請求項５７】前記強度ＰW2を前記強度ＰH と等しく設
定することを特徴とする請求項４６から請求項５６のい
ずれかに記載の光磁気記録の記録条件決定装置。 - 【請求項５８】前記強度ＰW2を前記強度ＰH より小さい
値に設定することを特徴とする請求項４６から請求項５
６のいずれかに記載の光磁気記録の記録条件決定装置。 - 【請求項５９】前記強度ＰLBを再生時のレーザビーム強
度と等しく設定するか又はゼロにすることを特徴とする
請求項４６から請求項５８のいずれかに記載の光磁気記
録の記録条件決定装置。 - 【請求項６０】前記時間Ｔoff を、書き込みクロック周
期Ｔのｍ／ｎ倍（ｍ，ｎは自然数）又はそれに近い値に
設定することを特徴とする請求項４６から請求項５９の
いずれかに記載の光磁気記録の記録条件決定装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5255416A JPH06267123A (ja) | 1992-10-28 | 1993-10-13 | 光磁気ディスクに熱遮断方式及びパルストレイン方式で オーバーライトする場合における記録条件決定方法、 同記録条件決定装置、光磁気記録方法及び光磁気記録 装置 |
| US08/141,620 US5420837A (en) | 1992-10-28 | 1993-10-27 | Recording condition determination method and apparatus upon execution of over-write operation on magnetooptical disk by heat shut off method and pulse train method, and magnetooptical recording method and apparatus |
| EP93308583A EP0595626B1 (en) | 1992-10-28 | 1993-10-28 | Recording condition determination method and apparatus upon execution of over-write operation on magnetooptical disk by heat shut off method and pulse train method, and magnetooptical recording method and apparatus |
| DE69326211T DE69326211T2 (de) | 1992-10-28 | 1993-10-28 | Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung der Aufnahmebedingung während des Überschreibvorganges einer magnetooptischen Platte mittels der Wärmezufuhrausschaltmethode und der Impulszugmethode, sowie Verfahren und Vorrichtung zur Aufzeichnung |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP4-289165 | 1992-10-28 | ||
| JP5255416A JPH06267123A (ja) | 1992-10-28 | 1993-10-13 | 光磁気ディスクに熱遮断方式及びパルストレイン方式で オーバーライトする場合における記録条件決定方法、 同記録条件決定装置、光磁気記録方法及び光磁気記録 装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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Family
ID=26542199
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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Country Status (4)
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| EP (1) | EP0595626B1 (ja) |
| JP (1) | JPH06267123A (ja) |
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- 1993-10-28 DE DE69326211T patent/DE69326211T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1993-10-28 EP EP93308583A patent/EP0595626B1/en not_active Expired - Lifetime
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